JPH0629970B2

JPH0629970B2 - マスク層を有する製版用静電記録材料

Info

Publication number: JPH0629970B2
Application number: JP23211583A
Authority: JP
Inventors: 達三谷先
Original assignee: Kimoto Co Ltd
Current assignee: Kimoto Co Ltd
Priority date: 1983-12-08
Filing date: 1983-12-08
Publication date: 1994-04-20
Anticipated expiration: 2009-04-20
Also published as: JPS60123847A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、マスク層を有する製版用静電記録材料に係
り、特に（１）のせ文字、抜き文字、（２）写真の切り抜き合成、おぼび（３）毛抜き合せ等
に有効なマスク層を有する製版用静電記録材料に関する
ものである。

従来、写真印刷の製版作業に於いて文字やカラー写真を
含む貼込み原稿からＰＳ刷版のための分版されたフィル
ム原稿を作成する過程で、銀塩その他の反転感光材料、
或いはマスキング材料といわれる原稿の不要部分を選択
的に感光材料の感光波長域、言い換えれば感光材料を露
光する際使用する光源が照射する活性光線に対して遮光
する材料等が使用されている。

そして前記のマスキング材料としては、活性光線遮光性
の着色剤をプラスチックスや紙に添加せしめた着色プラ
スチックフィルムや着色紙、或いは透明プラスチックフ
ィルムの片面に、活性光線を遮光する能力のある剥離性
皮膜を設けたものが知られている。

前者のマスキング材料は、材料自体を切り抜いてパター
ン化して使用し、後者のマスキング材料は、プラスチッ
クフィルム支持体上の着色皮膜のみをカッターナイフな
どで切り、不要部分だけを支持体から剥離して遮光性皮
膜のパターンを形成するものである。

このようなパターン化の作業は、通常貼込み原稿または
撮影したリス原稿と重ねて行ない、パターン化されたマ
スク材料は銀塩等の写真材料と透明粘着テープで貼り合
せて次の工程の原稿とされている。

前記した従来のマスキング作業に於いては、ナイフ等に
よるカッティング作業中に原稿の位置ズレを起こし易
く、また感光性フィルムとマスク材が重なるため、感光
乳剤面と遮光性皮膜との間のベース厚が増し、焼きボケ
が生ずる欠陥があった。

また銀塩材料に於いては、露光、現像工程を暗室内で処
理しなければならず、作業能率が悪く、露光および現像
等に伴う装置が必要である。

一方、ジアゾニウム感光材料においては現像時にアンモ
ニアを使用するため、臭いの問題があった。前記のジア
ゾ感光材料は銀塩材料に比べてある程度、明室化するこ
とができるもののそれでも安全光を必要とした。

更に銀塩材料、ジアゾニウム感光材料ともに貯蔵安定性
の問題があり、特にジアゾニウム感光材料はシェルフラ
イフが１年前後と短く、またその保存には、冷暗所また
は装置を要した。

そしてまた、前記の銀塩材料、ジアゾニウム感光材料と
もに、オリジナル原稿より光学的に第二原図を得るた
め、経時変更修正を行なうに伴い、一定期間オリジナル
原稿を保管する必要があり、保管中のオリジナル原稿の
温湿度変化による寸法安定法に問題があり、経時変更に
伴う修正時に、オリジナル原稿と修正図面との間に、位
置ずれを起こし、オリジナル原稿と修正図面とのトンボ
合わせによる位置決めが困難となるものであった。

一方、紙質のマスク材料は温湿度の影響を受けて反り易
く、ネガ原稿の大面積をマスクして使用する場合など、
寸法精度が特に悪く、精密製版には問題があった。

これに対して本発明は前記従来の製版材料の欠陥を解消
したものである。

第１の発明は、透明支持体の片面に剥離性低抵抗マスク
層を介して誘電体層を設けて成ることを特徴とするマス
ク層を有する製版用静電記録材料である。

第２の発明は、透明支持体の表面抵抗値が１０^１〜１０
¹⁸Ω／cm²、好ましくは１０^４〜１０^９Ω／cm²、体積抵
抗値が１０^１〜１０²⁰Ωcm、好ましくは１０^４〜１０¹⁰
Ωcmである透明支持体の表面に直接剥離性誘電体マスク
層を設けて成ることを特徴とするマスク層を有する製版
用静電記録材料である。

第３の発明は、透明支持体上の片面に剥離層を設け、更
にその上に表面抵抗値が１０^１〜１０¹⁰Ω／cm²なる低
抵抗層を介して誘電体層を積層して成るマスク層を有す
る製版用静電記録材料である。

以下、本発明を図面を基に説明する。

第１図は第１の発明を示すもので、透明支持体１の一方
の面に剥離可能な剥離性低抵抗マスク層２が設けてあ
り、更にその上に誘電体層３が重層してあり、前記透明
支持体１の他方の面には低抵抗層４を設けて構成してあ
る。

前記の低抵抗層４は透明または半透明であることが望ま
しい。そして低抵抗層４は場合によっては設けなくても
よく、また剥離性があってもよい。

本発明で使用する透明支持体１は、表面抵抗値１０^１〜
１０²⁰Ω／cm²、体積抵抗値１０^１〜１０²⁰Ωcmならば
よく、第２図のように表面抵抗値が１０_１〜１０¹⁰Ω／
cm²、体積抵抗値が１０^１〜１０¹⁵Ωcmならば、低抵抗
透明支持体上に、直接剥離性誘電体マスク層を設けるこ
とができる。

本発明に於いて使用される透明支持体としては例えば、
ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル
樹脂、塩化ブニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹
脂、ポリスチレン樹脂、ポリサルフィン樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂を成膜したフィルムま
たはシート状のもの等が挙げられる。

剥離性低抵抗マスク層２は、活性光線、特に紫外線に対
して遮光性効果のある顔料または染料を分散若しくは溶
解せしめた可とう性の熱可塑性高分子物質、合成ゴム及
び天然ゴム等から成る。

具体的には、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、ポリビ
ニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリ
アミド樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルア
ルコール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ア
クリロニトリル樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、
ＡＢＳ樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等の合成樹
脂、ネオプレンゴム、ブタジエンゴム、ニトリルゴム、
イソプレンゴム、および天然ゴム等が挙げられる。

また前記の合成樹脂及びゴムに配合される遮光性効果を
有する染顔料としては、例えば、アゾ系染顔料、アント
ラキノン系染顔料、フタロシアニン系染顔料、キナクリ
ドン系染顔料、ベンガラ、カーボンブラック、酸化チタ
ン等が挙げられる。

そして前記の染顔料は合成樹脂またはゴムに配合され、
更にこの配合物を有機溶媒中に溶解または分散すること
によって塗工液とされる。

なお、この塗工液を調製する際、必要に応じ界面活性
剤、帯電防止剤、金属粉末が配合される。

前記の塗工液を透明支持体１の片面にハケ塗り、ナイフ
コーター、ロールコーター等によって塗布し、乾燥する
ことによって剥離性低抵抗マスク層２が設けられる。剥
離性低抵抗マスク層２の膜厚は５〜５０μ、好ましくは
１０〜３０μであり、その光線透過率はラッテン１８Ａ
フィルターで、２．０以上必要であり、また体積抵抗値
は、１０^１〜１０¹⁵Ωcm、好ましくは１０^５〜１０¹³Ω
cmである。

体積抵抗値は他層の抵抗値との兼ね合いで、低すぎて
も、高すぎても画像濃度の低下をきたす。

また、剥離性低抵抗マスク層２の透明支持体１に対する
接着強度は、通常の作業で剥離し易い範囲内であればよ
い。

１８０°剥離による接着力が１cm幅当たり、１０〜５００ｇに設定するのがよい。

１０ｇ以下では皮膜が脱落し易く、また５００ｇ以上で
は皮膜が破断したり、剥離作業が困難となる。

次に誘電体層３に使用される樹脂としては、帯電し易
く、減衰しにくい樹脂がよく、具体的には、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、アクリル酸エステル樹脂、ポリ
ビニルアセタール樹脂、酢酸ビニル−クロトン酸共重合
体、メタクリル酸エステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポ
リビニルブチラール樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン
共重合体、ポリビニルアセタール樹脂、シリコーン樹
脂、硝化綿およびセルロースエステル誘導体が挙げられ
る。

Henniker摩擦帯電序列における中性領域に位置する樹
脂、例えばメラミンホルムアルデヒド樹脂、セルロース
アセテート樹脂、ポリウレタン樹脂、スチレンアクリロ
ニトリル樹脂、スチレンブタジエン樹脂、エポキシ樹脂
等が静電気カブリを起こしにくいので適している。

前記誘電体層用の樹脂には、炭酸カルシウム、酸化チタ
ン、酸化亜鉛、微粉末シリカ、チタン酸バリウム等が
０．０１〜２５０重量％、好ましくは０．５〜５０重量
％配合され、更にこの配合物は有機溶媒に溶解または分
散することにより塗工液とされる。

この塗工液は、剥離性低抵抗層上に０．１〜５０μ、好
ましくは２〜１５μ塗布し、表面粗さが０．０１〜３０
μになるように調製される。

表面粗さが０．０１μ以下ではトナーの定着及び画像の
流れによるゴーストの発生がひどく、また３０μ以上で
は電荷の注入が不十分になり、画像濃度が低下する。

次に低抵抗層４は、透明支持体１に対して接着の良い樹
脂と帯電防止剤または帯電防止樹脂との混合物にブロッ
キング防止剤としてシリカ、澱粉などを０．０１〜５０
重量％配合される。

前記の低抵抗層４を形成するための接着性のよい樹脂と
しては塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニリデン−アクリロ
ニトリル共重合体、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂
などがあるが、特にポリエステル樹脂が好ましい。

また帯電防止剤としては、ポリエチレンイミンハイドロ
クロライド、２−アクリロイルエチルトリメチルアンモ
ニウムクロライドとビニルスルホンとの共重合体、ポリ
（Ｎ−メチルビニルピリジニウムクロライド）、ポリビ
ニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、４級
化アンモニウム塩−アクリル共重合体、４級化アンモニ
ウム塩−エポキシ共重合体等が使用され、その配合量は
２〜３０重量％である。

次に第２図に示す本発明の第２の発明における低抵抗透
明支持体１０とは、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリ
アミドイミド、ポリエステル等の高分子重合体にポリエ
チレンイミン、ハイドロクロライド、２−アクリロイル
エチルトリメチルアンモニウムクロライドとニビルスル
ホンとの共重合体、ポリ（Ｎ−メチル−４−ビニルピリ
ジニウムクロライド）、ポリビニルベンジルトリメチル
アンモニウムクロライド等を２〜３０重量％混練せし
め、成膜した厚さ１０〜２００μのフィルムであり、そ
の体積抵抗値は１０^１〜１０²⁰Ωcm、好ましくは１０^４
〜１０¹⁰Ωcmである。

第２図における低抵抗層３０は、第１図における低抵抗
層４と同一のものである。

剥離性誘電体マスク層２０は、第１の発明の剥離性低抵
抗マスク層２に使用した剥離性を有する樹脂と第１図の
誘電体層３に使用した樹脂の１種または２種以上の混合
物よりなる。但し、帯電防止剤や帯電防止性樹脂を含有
しない。

前記の剥離性誘電体マスク層２０は、遮光性のある染顔
料が配合され、必要に応じてトナーの付着向上剤とし
て、シリカ、澱粉等のマット剤を添加することもでき
る。

また本発明の第２図における低抵抗透明支持体１０の代
わりに、第３図に示すように透明支持体４１上にスパッ
タリング皮膜４２を設けたものも使用される。

スパッタリング皮膜を形成せしめるには、主としてポリ
エステルフィルム基材表面に、金、パラジウム、アルミ
ニウムなどの金属薄膜を設けるもの、In₂O₃(Sn)、SnO₂(S
b)、SnO₂(F)、TiO₂、 ZrO₂、Cd₂SnO₄、CuIなどの半導体薄膜を設けるもの、TiOx
/Ag/TiOx（Ｘ≦２）などの多層薄膜を設けるもの、ポリ
ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、オ
リゴ（ポリ）スチレンスルホン酸塩を設けたものなどが
ある。

前記のスパッタリング皮膜は、その厚さが１０〜２００
ｍμ、表面抵抗値１０^１〜１０¹⁰ Ω／cm²、好ましくは１０^４〜１０^９Ω／cm²、光線透過
率３０〜９５％のものがよい。

第３図に示す低抵抗層４４は第１図の低抵抗層４と同一
のものが用いられる。但し、支持体の裏面にもスパッタ
リング皮膜が施され、その表面抵抗値が１０^７Ω／cm²
以下の場合には低抵抗層４４は設けなくてもよい。

また、剥離性誘電体マスク層４３は、第２図の剥離性誘
導体マスク層２０と同一のものが用いられる。

第４図は本発明における第３の発明を示すものであり、
透明支持体５１の上に剥離層５２が設けられてあり、更
に低抵抗層５３を介して誘電体層５４が設けられてい
る。

前記透明支持体５１の他方の面には、低抵抗層５５が設
けられ構成されている。

前記の透明支持体５１としては第１図の透明支持体１と
同一のものが使用される。

低抵抗層５３、５５および誘電体層５４は第１図のもの
と同一のものが用いられる。

剥離層５２は第１図の剥離性低抵抗層２と同一のもので
あってもよい。

第５図乃至第８図は片面または両面にサンディング処理
を施し、筆記性を持たせた透明支持体を使用したもので
ある。

第５図は、透明支持体の片面をサンディング処理するこ
とにより得られたサンディングフィルム６１のマット面
６２上に第１図の低抵抗層４と同一の組成の低抵抗層６
６を設け、サンディングフィルム６１のもう一方の面に
第４図と同一の剥離層６３、低抵抗層６４、及び誘電体
層６５を設けたものである。またサンディングマットの
表面粗さのために低抵抗層６６の上からもサンディング
マットの機能を損なわずに、鉛筆、ボールペン等による
加筆、消去ができる。

第６図は、片面がサンディング処理された透明支持体７
１の該マット面７２上に、第１図と同一の低抵抗層７５
を設け、次にサンディング面のもう一方の面上に第１図
と同一の剥離性低抵抗マスク層７３、誘電体層７４を順
次設けたものである。

第５図と同様サンディングマットの表面粗さのために低
抵抗層７５の上からもサンディングマットの機能を損な
わずに鉛筆、ボールペン等による加筆、消去ができる。

第７図は第４図と対応するものであり、透明支持体の両
面にサンディング処理を行なったものである。この場合
透明支持体は、帯電防止剤練込フィルムをサンディング
処理したものを使用してもさしつかえない。

サンディングマット表面８２の上に第４図と同一の剥離
層８３を設け、更に低抵抗層８４、誘電体層８５を設
け、次いでもう一方のサンディングマット表面８２′上
に低抵抗層８６を設けたものである。

剥離層８３をサンディングマット面８２から剥離したサ
ンディングマット面上に、鉛筆、ボールペン等による加
筆、消去が可能である。また、低抵抗層８６上にも鉛
筆、ボールペンによる加筆、消去が可能である。

第８図は、透明支持体９１の一方の面をサンディング処
理してサンディングマット面９２を形成せしめ、更にそ
の上に剥離性低抵抗マスク層９３および誘電体層９４を
設け、もう一方の透明支持体の面上に第１図と同じ低抵
抗層９５を形成する。

剥離性低抵抗マスク層９３が剥離されたサンディングマ
ット面９２上は鉛筆、ボールペン等による加筆、消去が
可能である。

以下、実施例により本発明を具体的に説明する。

処方例１．剥離性低抵抗マスク層用塗工液の調製ポリアミド樹脂７重量部（商品名：ウルトラミドバスフ社製品）メトキシメチロール化ナイロン３重量部帯電防止剤１０重量部（商品名：ＳＴＨ５５三菱油化社製品）染料１．０重量部（商品名：スピロンレッドＢＥＨ）染料０．５重量部（商品名：スピロンイエロー３ＲＨ）界面活性剤０．１重量部メタノール６０重量部トルオール２０重量部水１０重量部処方例２．剥離性誘電体マスク層用塗工液の調製塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体１４０重量部アクリロニトリルゴム５０重量部（ＡＮ含有量３３％）スチレン樹脂２０重量部染料１２重量部（商品名：ネオザポンレッドGEバスフ社製品）染料４重量部（商品名：ネオザポンオレンジREバスフ社製品）微粉末二酸化ケイ素１６重量部（商品名：サイロイド308富士デビソン社製品）微粉末二酸化ケイ素１６重量部（商品名：エアロジルＯＫ412デグサ社製品）メチルエチルケトン５００重量部トリオール５００重量部処方例３．低抵抗層用塗工液の調製導電性樹脂１０重量部（商品名：ケミスタット6300H三洋化成社製品）メトキシメチロール化ポリアミド５重量部水溶性ポリエステル樹脂５重量部（商品名：ＭＤ1200東洋紡社製品）微粉末シリカ０．１重量部（商品名：サイロイド308富士デビソン社製品）微粉末シリカ０．１重量部（商品名：サイロイド244) カルボキシル化澱粉０．０５重量部メタノール２０重量部水７０重量部メチルセロソルブ１０重量部処方例４．誘電体層用塗工液の調製スチレン樹脂５重量部ポリビニルブチラール樹脂１０重量部エチルセルロース５重量部微粉末シリカ１．０重量部（商品名：サイロイド308富士デビソン社製品）微粉末シリカ１．０重量部（商品名：エアロジルＯＫ412デグサ社製品）カルボキシル化澱粉２．０重量部メチルエチルケトン６０重量部トリオール２０重量部処方例５．低抵抗透明支持体の製造ポリエチレンテレフタレートペレット９０重量部に、２
−アクリロイルエチルトリメチルアンモニウムクロライ
ドとビニルスルホンとの共重合体１０重量部を加え、こ
の配合物を４０ｍ／ｍ押出成形機によりＴダイを用いて
２９０℃でフィルム状に押出成形した。

次いでフィルム延伸機で９７℃において、二軸延伸
（２．５倍）を行ない膜厚７５μの低抵抗ポリエチレン
テレフタレートフィルム支持体を得た。

実施例１．ポリエチレンテレフタレートフィルム（以下ポリエステ
ルフィルムという）支持体１の片面に処方例１によって
得た剥離製低抵抗マスク層用塗工液をリバースロールコ
ーターにより膜厚２５μの剥離性低抵抗マスク層２を設
けた。

次いで処方例４で得た誘電体層用塗工液をリバースロー
ルコーターで重層し、５μの誘電体層３を得た。

次いでポリエステルフィルム支持体１のもう一方の面に
処方例３で得た低抵抗層用塗工液をコーティングバー＃
１５にて厚さ４μの低抵抗層４を設け、マスク層を有す
る製版用静電記録材料を得た。

このマスク層を有する製版用静電記録材料を静電記録装
置バーサテックＶ−８０により速度１．２インチ／se
c.、帯電圧７８０Ｖで電荷を印加して静電画像を形成
し、現像定着したところ、バックグラウンドにはにじみ
現象がなく、鮮明な画像が得られた。また、剥離性低抵
抗マスク層の剥離性も良好であった。そしてマスク版と
しての性能も十分であった。またその性能の測定結果を
第１表に示す。

実施例２．処方例５によって製造した厚さ７５μの低抵抗透明支持
体１０上に処方例２によって得た剥離性誘電体マスク層
用塗工液をコーティングバー＃６０にて、膜厚１８μの
剥離性誘電体マスク層２０を設けた。

さらに前記低抵抗透明支持体１０の他方の面に処方例３
で得た低抵抗層用塗工液を塗布し、低抵抗層３０を設け
ることによってマスク層を有する製版用静電記録材料を
得た。

このマスク層を有する製版用静電記録材料を静電記録装
置バーサテックＶ−８０により速度１．２インチ／se
c.、帯電圧６３０Ｖで電荷を印加して静電画像を形成
し、現像定着したところ、バックグラウンドにはにじみ
現象がなく、鮮明な画像が得られた。また、剥離性誘電
体マスク層の剥離性も良好であった。そしてマスク版と
しての性能も十分であった。またその性能の測定結果を
第１表に示す。

実施例３透明ポリエステルフィルム支持体４１の片面にパラジウ
ムのスパッタリング皮膜４２を設けた。その上に処方例
２によって得た塗工液をコーティングバー＃６０にて、
膜厚１８μの剥離性誘電体マスク層４３を設けた。

さらに透明ポリエステルフィルム支持体４１のもう一方
の面に処方例３によって得た低抵抗層用塗工液をコーテ
ィングバー＃１５にて塗布し、膜厚４μの低抵抗層４４
を得た。

このマスク層を有する製版用静電記録材料を、静電記録
装置バーサテックＶ−８０により速度１．２インチ／se
c.、帯電圧７２０Ｖで電荷を印加して静電画像を形成
し、現像定着したところ、バックグラウンドにはにじみ
現象がなく、鮮明な画像が得られた。また、剥離性誘電
体マスク層の剥離性も良好であった。そしてマスク版と
しての性能も十分であった。またその性能の測定結果を
第１表に示す。

実施例４透明ポリエステルフィルム支持体５１の片面に処方例２
によって得た剥離性誘電体マスク層用塗工液をコーティ
ングバー＃７５にて塗布し、膜厚２０μの剥離層５２を
設ける。

さらにその上に処方例３によって得た低抵抗層塗工液を
リバースロールコーターにより塗工し、膜厚が３μの底
抵抗層５３を得た。

さらにその上に処方例４で得た誘電体層用塗工液を塗布
し、誘電体層５４を設けた。

次いで前記透明ポリエステルフィルム支持体５１のもう
一方の面に処方例３によって得た低抵抗層用塗工液をコ
ーティングバー＃１５にて塗布し、厚さ４μの低抵抗層
５５を設けることによってマスク層を有する製版用静電
記録材料を得た。

このマスク層を有する製版用静電記録材料を静電記録装
置バーサテックＶ−８０により速度１．２インチ／se
c.、帯電圧７１０Ｖで電荷を印加して静電画像を形成
し、現像定着したところ、バックグラウンドにはにじみ
現象がなく、鮮明な画像が得られた。また、剥離層の剥
離性も良好であった。そしてマスク版としての性能も十
分であった。またその性能の測定結果を第１表に示す。

実施例５ポリエステルフィルム支持体の片面にサンドブラストマ
シーンによりケイ砂をぶつけてその表面に１〜１０μの
凹凸を設けたサンディング処理ポリエステルフィルム支
持体６１のサンディングマット面６２の上に処方例３に
よって得た低抵抗層用塗工液をコーティングバー＃１０
にて塗布し、膜厚４μの低抵抗層６６を設けた。さら
に、前記のサンディング処理ポリエステルフィルム支持
体６１のもう一方の面に処方例２によって得た剥離性誘
電体マスク層用塗工液をリバースロールコーターにて塗
布し、膜厚２５μの剥離層６３を設け、その上に処方例
３によって得た低抵抗層用塗工液をコーティングバー＃
１５にて塗布して膜厚４μの低抵抗層６４を設けた。

さらにその上に処方例４によって得た誘電体層用の塗工
液をコーティングバー＃１５にて塗布し、膜厚５μの誘
電体層６５を設けることによってマスク層を有する製版
用静電記録材料を得た。

このマスク層を有する製版用静電記録材料を、静電記録
装置バーサテックＶ−８０により速度１．２インチ／se
c.、帯電圧７８０Ｖで電荷を印加して静電画像を形成
し、現像定着したところ、バックグラウンドにはにじみ
現象がなく鮮明な画像が得られた。また、剥離層の剥離
性も良好であった。そしてマスク版としての性能も十分
であった。またその性能の測定結果を第１表に示す。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の発明のマスク層を有する製版用
静電記録材料の断面図、第２図及び第３図は、第２の発
明に係るマスク層を有する製版用静電記録材料の断面
図、第４図は、第３の発明のマスク層を有する製版用静
電記録材料の断面図、第５図乃至第８図は、サイディン
グ処理等を施したマスク層を有する製版用静電記録材料
の断面図。１……透明支持体２……剥離性低抵抗マスク層３……誘電体層４……低抵抗層１０……低抵抗透明支持体２０……剥離性誘電体マスク層３０……低抵抗層４１……透明支持体４２……スパッタリング皮膜４３……剥離性誘電体マスク層４４……低抵抗層５１……透明支持体５２……剥離層５３……低抵抗層５４……誘電体層５５……低抵抗層６１……サンディング処理透明支持体６２……サンディングマット面６３……剥離層６４……低抵抗層６５……誘電体層６６……低抵抗層７１……サンディング処理透明支持体７２……サンディングマット面７３……剥離性低抵抗マスク層７４……誘電体層７５……低抵抗層８１……両面サンディングフィルム支持体８２，８２′……サンディングマット面８３……剥離層８４……低抵抗層８５……誘電体層８６……低抵抗層９１……サンディング処理フィルム支持体９２……サンディングマット面９３……剥離性低抵抗マスク層９４……誘電体層９５……低抵抗層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明支持体の片面に表面抵抗値が１０^１〜
１０¹⁰Ω／cm²、体積抵抗値が１０^１〜１０¹⁵Ω・cmで
ある剥離性マスク層を介して誘電体層を設けて成ること
を特徴とするマスク層を有する製版用静電記録材料。
【請求項２】剥離性マスク層あるいは誘電体層のいずれ
かの一層に、感光材料の感光波長域に対して遮光性効果
を有する染顔料を該層を構成するバインダーに対して
０．５〜３００重量％含有させたことを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載のマスク層を有する製版用静電記
録材料。
【請求項３】透明支持体の片面若しくは両面をサンディ
ング処理によりマット化し、加筆及び消去を可能とした
特許請求の範囲第１項記載のマスク層を有する製版用静
電記録材料。
【請求項４】透明支持体のもう一方の面に表面抵抗値が
１０^１〜１０¹⁰／cm²の低抵抗層を設けて成る特許請求
の範囲第１項記載のマスク層を有する製版用静電記録材
料。
【請求項５】スパッタリングにより、表面抵抗値が１０
^１〜１０¹⁰Ω／cm²、体積抵抗値が１０^１〜１０¹⁵Ω・c
mである皮膜が施された透明支持体の表面に、感光材料
の感光波長域に対して遮光性効果を有する染顔料をバイ
ンダーに対して０．５〜３００重量％含有させた、剥離
性を有する誘電体層を直接設けたことを特徴とするマス
ク層を有する製版用静電記録材料。
【請求項６】透明支持体の片面若しくは両面をサンディ
ング処理によりマット化し、加筆及び消去を可能とした
特許請求の範囲第５項記載のマスク層を有する製版用静
電記録材料。
【請求項７】透明支持体のもう一方の面に表面抵抗値が
１０^１〜１０¹⁰Ω／cm²の低抵抗層を設けて成る特許請
求の範囲第５項記載のマスク層を有する製版用静電記録
材料。
【請求項８】帯電防止剤を２〜３０重量％含有し、体積
抵抗値が１０^５〜１０¹³Ω・cmである透明支持体の表面
に、感光材料の感光波長域に対して遮光性効果を有する
染顔料をバインダーに対して０．５〜３００重量％含有
させた剥離性を有する誘電体層を直接設けたことを特徴
とするマスク層を有する製版用静電記録材料。
【請求項９】透明支持体の片面若しくは両面をサンディ
ング処理によりマット化し、加筆及び消去を可能とした
特許請求の範囲第８項記載のマスク層を有する製版用静
電記録材料。
【請求項１０】透明支持体のもう一方の面に表面抵抗値
が１０^１〜１０¹⁰Ω／cm²の低抵抗層を設けて成る特許
請求の範囲第８項記載のマスク層を有する製版用静電記
録材料。
【請求項１１】透明支持体の片面に剥離層、表面抵抗値
が１０^１〜１０¹⁰Ω／cm²の低抵抗層、誘電体層を順次
積層してなるマスク層を有する製版用静電記録材料。
【請求項１２】剥離層、低抵抗層、誘電体層のいずれか
の一層に、感光材料の感光波長域に対して遮光性効果を
有する染顔料をバインダーに対して０．５〜３００重量
％含有させた特許請求の範囲第１１項記載のマスク層を
有する製版用静電記録材料。
【請求項１３】透明支持体の片面若しくは両面をサンデ
ィング処理によりマット化し、加筆及び消去を可能とし
た特許請求の範囲第１１項記載のマスク層を有する製版
用静電記録材料。
【請求項１４】透明支持体のもう一方の面に表面抵抗値
が１０^１〜１０¹⁰Ω／cm²の低抵抗層を設けて成る特許
請求の範囲第１１項記載のマスク層を有する製版用静電
記録材料。