JPH06298584A - 施釉製品の製造方法 - Google Patents

施釉製品の製造方法

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JPH06298584A
JPH06298584A JP10737293A JP10737293A JPH06298584A JP H06298584 A JPH06298584 A JP H06298584A JP 10737293 A JP10737293 A JP 10737293A JP 10737293 A JP10737293 A JP 10737293A JP H06298584 A JPH06298584 A JP H06298584A
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glaze
chamotte
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Tomoaki Shibachi
智明 柴地
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Abstract

(57)【要約】 【目的】シャモットの新規な利用方法として、これを釉
層成分として用いる方法を提供する。 【構成】シャモットを粒径が50μm以下となるように
微粉砕した状態でこれをマトリックス成分として釉薬中
に且つその全量に対して3〜40重量%の範囲で分散含
有させる。そしてシャモット含有釉薬を素地表面に施し
た上、所定温度で焼成して釉薬中に含有させたシャモッ
トを他成分とともに実質上溶融・固化させて素地表面に
釉層を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は施釉製品の製造方法に
関し、詳しくは釉薬の原料成分としてシャモットを用い
た施釉製品の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】タイル
工場等窯業製品の製造工場においては、製品不良等の理
由で焼成品を粉砕してなるシャモットが多く発生する。
このシャモットは多くは産業廃棄物となるもので、従来
このシャモットの利用方法について各種研究が行われて
いる。
【0003】シャモット利用の一態様として、タイル等
陶磁器品の素地マトリックスの構成成分としてシャモッ
トを用いることが行われており、また他の利用形態とし
て、図1に一例を示しているようにタイル素地マトリッ
クス100中にマトリックス100とは別に粒径の大き
な(0.1〜1.0mm)シャモット粗粒102を混在
させる一方、一部を素地表面に突出させ、そしてそのシ
ャモット粗粒102を釉層104表面に突出させるよう
に、素地表面に薄い釉層104を形成して、かかるシャ
モット粗粒102の滑止め粒子として機能させることが
提案されている(特開平2−153885号)。
【0004】一方かかるシャモットを釉のマトリックス
成分として、即ち釉自体の組成原料として用いることに
ついては従来その報告はなされていない。
【0005】これは、釉薬の場合焼成時に溶融してガラ
ス化することが必要であり、従ってその耐火度は素地に
較べて低いことが要求されるのに対し、シャモットは既
に一旦焼成された後のものであって耐火度が高く、釉薬
の成分として用いるには不向きとみなされることが原因
であると考えられる。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような課題
を解決するためになされたものであり、その要旨は、シ
ャモットを粒径が50μm以下となるように微粉砕した
状態でこれをマトリックス成分として釉薬中に且つ該釉
薬の全量に対して3〜40重量%の範囲で分散含有さ
せ、該釉薬を素地表面に施した上、所定温度で焼成して
該釉薬中に含有させたシャモットを他成分とともに実質
上溶融・固化させて該素地表面に釉層を形成することに
ある。
【0007】
【作用及び発明の効果】本発明は、既に一旦焼成された
後の硬く,高耐火度のシャモットであっても一定の条件
の下で用いるならばこれを釉薬の成分原料として用い得
るとの知見の下に完成されたもので、かかる本発明によ
れば産業廃棄物として捨てられるシャモットを有効に利
用でき、ひいては施釉製品のコストを効果的に低減でき
る。
【0008】本発明においては、シャモットを粒径が5
0μm以下となるまで微粉砕して用いることが必要であ
る。これより粒度の大きい状態で用いた場合、焼成時に
シャモットが溶融せずに残ってしまい、釉のマトリック
ス成分とならないで残ってしまうからである。
【0009】換言すれば、本発明はシャモットの原形状
を残さないように用いるものであり、そのためには粒径
を50μm以下に調製しておくことが必要である。但し
望ましい粒径は10〜20μmの範囲である。このよう
に粒径をより細かくすることで焼成時にこれを溶融させ
易くなる。但しこれよりも小さくする場合には粉砕・微
粉化自体が難しくなり、コスト増大の要因となる。
【0010】本発明では、更にシャモットを釉薬全量に
対して3〜40重量%の範囲で釉薬中に含有させる。3
%より少ない場合には釉薬中にシャモットを含有させる
ことの意味が失われ、また逆に40重量%よりも多く含
有させた場合には、焼成時にこれを溶融化させてマトリ
ックス化させることが難しくなる。
【0011】釉薬中にシャモットを含有させることの他
の利点として、釉薬原料として石灰石を用いる場合にお
いて、CaOを含有するシャモットを用いることで石灰
石の調合量を少なくできる利点がある。
【0012】釉薬原料として石灰石を用いることの意味
は釉中にCaO成分を与えるためであるが、この石灰石
(CaCO3)は焼成時にCO2ガスを発生させて、これ
が釉面の面状を悪くする問題がある。
【0013】しかるにシャモットは既に焼成したもので
あって石灰分はCaOの形で含有されているため、こう
した不具合を防止ないし抑制することができる。
【0014】
【実施例】次に本発明の特徴を更に明確にすべく以下に
その実施例を詳述する。
【0015】<シャモット組成> SiO2 50〜90重量% Al23 3〜30重量% CaO 1〜15重量% KNaO 5重量%以下 上記組成のシャモットを下記に示す割合で釉薬原料とし
て添加し、これらを共に粉砕した。このときのシャモッ
トの粒径は10〜20μmであった。
【0016】<釉薬組成(ブライト釉)> 長石 40.0重量% 石灰石 11.0重量% 亜鉛華 9.0重量% 蛙目粘土 3.0重量% 乳白剤 12.0重量% フリット 15.0重量% シャモット 10.0重量%
【0017】この釉薬をタイル素地の表面に施して焼成
したところ、表面に美麗なブライト釉層を有するタイル
が得られた。この施釉タイルにおいては、釉層のシャモ
ットが実質上溶融・ガラス化して他の成分と共に均一な
釉マトリックスを形成していた。
【0018】次に同様の組成からなるシャモットを下記
の割合で上例とは別の釉薬中に混合し、これらを上記と
同様に微粉砕した。
【0019】<釉薬組成(マット釉)> 長石 40.0重量% 石灰石 11.0重量% 亜鉛華 3.0重量% 蛙目粘土 3.0重量% 乳白剤 12.0重量% フリット 15.0重量% アルミナ 6.0重量% シャモット 10.0重量%
【0020】この釉薬をタイル素地の上に施して焼成し
たところ、素地表面にマット釉層を有する施釉タイルが
得られた。この実施例においても、シャモットは良好に
溶融して釉層のマトリックスを構成していた。
【0021】以上本発明の実施例を詳述したが、これは
あくまで一例示であり、本発明はその主旨を逸脱しない
範囲において、当業者の知識に基づき様々な変更を加え
た態様で実施可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の背景説明のための説明図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 シャモットを粒径が50μm以下となる
    ように微粉砕した状態でこれをマトリックス成分として
    釉薬中に且つ該釉薬の全量に対して3〜40重量%の範
    囲で分散含有させ、該釉薬を素地表面に施した上、所定
    温度で焼成して該釉薬中に含有させたシャモットを他成
    分とともに実質上溶融・固化させて該素地表面に釉層を
    形成することを特徴とする施釉製品の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0941409A (ja) * 1995-07-28 1997-02-10 Maeda Seikan Kk マンホール蓋の装飾用リング及びその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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