JPH0629648A - プリント配線板およびその製造方法 - Google Patents
プリント配線板およびその製造方法Info
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- JPH0629648A JPH0629648A JP18509992A JP18509992A JPH0629648A JP H0629648 A JPH0629648 A JP H0629648A JP 18509992 A JP18509992 A JP 18509992A JP 18509992 A JP18509992 A JP 18509992A JP H0629648 A JPH0629648 A JP H0629648A
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- foot pad
- pad pattern
- copper foot
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- solder plating
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/341—Surface mounted components
- H05K3/3421—Leaded components
-
- H—ELECTRICITY
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- H05K3/3457—Solder materials or compositions; Methods of application thereof
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ICパッケージを銅フットパッドパターン上
に容易に安定して搭載することができるプリント配線板
およびその製造方法を提供する。 【構成】 ICパッケージ4が搭載される銅フットパッ
ドパターン2のICパッケージのリード4a先端部に対
応する部分にのみはんだめっき皮膜3を施す。
に容易に安定して搭載することができるプリント配線板
およびその製造方法を提供する。 【構成】 ICパッケージ4が搭載される銅フットパッ
ドパターン2のICパッケージのリード4a先端部に対
応する部分にのみはんだめっき皮膜3を施す。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、銅フットパッドパタ
ーン上にICパッケージが容易に搭載可能なプリント配
線板およびその製造方法に関するものである。
ーン上にICパッケージが容易に搭載可能なプリント配
線板およびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図11は例えば同一出願人によって開発
され出願ずみの特願平2−321183号に示された先
行技術におけるプリント配線板の製造方法のプロセスを
示すフローチャートである。先行技術における従来のプ
リント配線板は、配線パターンを形成した後、あるいは
配線パターンを形成しソルダーレジストを塗布した後
に、無電解はんだめっき液に浸漬し露出した金属銅部分
とめっき液中のスズイオンおよび鉛イオンを反応させス
ズ/鉛を主成分としたはんだ合金を銅パターン上に析出
させることによって製造されている。
され出願ずみの特願平2−321183号に示された先
行技術におけるプリント配線板の製造方法のプロセスを
示すフローチャートである。先行技術における従来のプ
リント配線板は、配線パターンを形成した後、あるいは
配線パターンを形成しソルダーレジストを塗布した後
に、無電解はんだめっき液に浸漬し露出した金属銅部分
とめっき液中のスズイオンおよび鉛イオンを反応させス
ズ/鉛を主成分としたはんだ合金を銅パターン上に析出
させることによって製造されている。
【0003】又、上記無電解はんだめっき液について
は、例えば特開平1−290774号公報等に、スズ、
鉛、有機スルホン酸、チオ尿素を主成分とする無電解は
んだめっき液が記載されている。これらの無電解はんだ
めっき液は上記したように金属銅上にスズ/鉛を主成分
とするはんだ合金を析出させることができる。一般に、
これらの無電解はんだめっきは、めっき浴中のスズ/鉛
イオンと金属銅とが反応することにより、次のような置
換反応ではんだ合金を析出させている。 0.74Sn2++0.26Pb2++2Cu →Sn−Pb(74at%Sn)+2Cu+ 上記反応式によれば、1モルのはんだ合金(74ato
mic%Sn)を析出させると、2モルの銅がめっき浴
中に溶解することになる。これは、はんだ合金(74a
tomic%Sn)1μmに対して銅0.85μmに相
当することになる。
は、例えば特開平1−290774号公報等に、スズ、
鉛、有機スルホン酸、チオ尿素を主成分とする無電解は
んだめっき液が記載されている。これらの無電解はんだ
めっき液は上記したように金属銅上にスズ/鉛を主成分
とするはんだ合金を析出させることができる。一般に、
これらの無電解はんだめっきは、めっき浴中のスズ/鉛
イオンと金属銅とが反応することにより、次のような置
換反応ではんだ合金を析出させている。 0.74Sn2++0.26Pb2++2Cu →Sn−Pb(74at%Sn)+2Cu+ 上記反応式によれば、1モルのはんだ合金(74ato
mic%Sn)を析出させると、2モルの銅がめっき浴
中に溶解することになる。これは、はんだ合金(74a
tomic%Sn)1μmに対して銅0.85μmに相
当することになる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のプリント配線板
は以上のような方法で製造されているので、銅とスズ、
鉛との置換反応過程で、はんだめっき皮膜中にボイドを
発生し、ICパッケージが搭載される銅フットパッドパ
ターンと、はんだめっき皮膜との間の密着性が悪くなる
場合がある。このため、図11にも示すように、無電解
はんだめっきを施した後で、後熱処理を施してはんだめ
っき皮膜を溶融、凝固させることにより、ボイドを消滅
させる方法が採られている。
は以上のような方法で製造されているので、銅とスズ、
鉛との置換反応過程で、はんだめっき皮膜中にボイドを
発生し、ICパッケージが搭載される銅フットパッドパ
ターンと、はんだめっき皮膜との間の密着性が悪くなる
場合がある。このため、図11にも示すように、無電解
はんだめっきを施した後で、後熱処理を施してはんだめ
っき皮膜を溶融、凝固させることにより、ボイドを消滅
させる方法が採られている。
【0005】しかしながら、このように無電解はんだめ
っき後に後熱処理を施すと、図12に示すように溶融時
のはんだの表面張力で、基板1上に形成された銅フット
パッドパターン2の表面が、はんだめっき皮膜3のため
に丸くなるため、この上に、図13に示すようにICパ
ッケージ4を搭載しようとすると、ICパッケージ4の
リード4aが銅フットパッドパターン2上から滑りずれ
てしまうので、図示はしないが、隣接した銅フットパッ
ドパターン2間でリード4a同士が接触し、電気的な短
絡をひきおこすという問題点があった。
っき後に後熱処理を施すと、図12に示すように溶融時
のはんだの表面張力で、基板1上に形成された銅フット
パッドパターン2の表面が、はんだめっき皮膜3のため
に丸くなるため、この上に、図13に示すようにICパ
ッケージ4を搭載しようとすると、ICパッケージ4の
リード4aが銅フットパッドパターン2上から滑りずれ
てしまうので、図示はしないが、隣接した銅フットパッ
ドパターン2間でリード4a同士が接触し、電気的な短
絡をひきおこすという問題点があった。
【0006】又、無電解はんだめっきは上記したよう
に、銅とスズ、鉛との置換反応によってはんだめっき皮
膜3を形成するため、銅フットパッドパターン2の銅が
めっき浴中に溶解するので、銅フットパッドパターン2
のパターン幅が減少するという問題点があった。
に、銅とスズ、鉛との置換反応によってはんだめっき皮
膜3を形成するため、銅フットパッドパターン2の銅が
めっき浴中に溶解するので、銅フットパッドパターン2
のパターン幅が減少するという問題点があった。
【0007】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、ICパッケージを銅フットパッ
ドパターン上に容易に安定して搭載することができるプ
リント配線板およびその製造方法を提供することを目的
とするものである。
ためになされたもので、ICパッケージを銅フットパッ
ドパターン上に容易に安定して搭載することができるプ
リント配線板およびその製造方法を提供することを目的
とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明に係る請求項1
のプリント配線板は、ICパッケージが搭載される銅フ
ットパッドパターンのICパッケージのリード先端部に
対応する部分にのみはんだめっき皮膜が形成されたもの
であり、又、請求項2のプリント配線板の製造方法は、
ICパッケージが搭載される銅フットパッドパターンの
ICパッケージのリード先端部に対応する部分を除く他
の部分にマスキングを施してはんだめっきを行うように
したものであり、又、請求項3のプリント配線板の製造
方法は、ICパッケージが搭載される銅フットパッドパ
ターンのICパッケージのリード先端部に対応する部分
を除く他の部分にマスキングを施して厚付け無電解はん
だめっきを行い、マスキングを剥離した後に薄付け無電
解はんだめっきを行うようにしたものであり、さらに
又、請求項4のプリント配線板の製造方法は、ICパッ
ケージが搭載される銅フットパッドパターンに薄付け無
電解はんだめっきを施した後、銅フットパッドパターン
のICパッケージのリード先端部に対応する部分を除く
他の部分にマスキングを施して厚付け無電解はんだめっ
きを行うようにしたものである。
のプリント配線板は、ICパッケージが搭載される銅フ
ットパッドパターンのICパッケージのリード先端部に
対応する部分にのみはんだめっき皮膜が形成されたもの
であり、又、請求項2のプリント配線板の製造方法は、
ICパッケージが搭載される銅フットパッドパターンの
ICパッケージのリード先端部に対応する部分を除く他
の部分にマスキングを施してはんだめっきを行うように
したものであり、又、請求項3のプリント配線板の製造
方法は、ICパッケージが搭載される銅フットパッドパ
ターンのICパッケージのリード先端部に対応する部分
を除く他の部分にマスキングを施して厚付け無電解はん
だめっきを行い、マスキングを剥離した後に薄付け無電
解はんだめっきを行うようにしたものであり、さらに
又、請求項4のプリント配線板の製造方法は、ICパッ
ケージが搭載される銅フットパッドパターンに薄付け無
電解はんだめっきを施した後、銅フットパッドパターン
のICパッケージのリード先端部に対応する部分を除く
他の部分にマスキングを施して厚付け無電解はんだめっ
きを行うようにしたものである。
【0009】
【作用】この発明におけるプリント配線板の銅フットパ
ッドパターンのICパッケージのリード先端部に対応す
る部分に形成されたはんだめっき皮膜は、後熱処理によ
って溶融し、はんだは毛細管現象によって銅フットパッ
ドパターンとICパッケージのリードとの間をぬらすの
で、銅フットパッドパターン表面が丸く膨らむことなく
はんだ接合が行える。
ッドパターンのICパッケージのリード先端部に対応す
る部分に形成されたはんだめっき皮膜は、後熱処理によ
って溶融し、はんだは毛細管現象によって銅フットパッ
ドパターンとICパッケージのリードとの間をぬらすの
で、銅フットパッドパターン表面が丸く膨らむことなく
はんだ接合が行える。
【0010】
【実施例】実施例1.以下、この発明の実施例を図につ
いて説明する。図1はこの発明の実施例1におけるプリ
ント配線板の銅フットパッドパターン部の形状を示す
図、図2は図1における銅フットパッドパターン上にI
Cパッケージを搭載した場合の状態を示す図である。一
般に図1に示すように、パターン幅150μm、パター
ン間隔150μmの銅フットパッドパターン2の場合、
L1=2600μm、L2=150μmである。
いて説明する。図1はこの発明の実施例1におけるプリ
ント配線板の銅フットパッドパターン部の形状を示す
図、図2は図1における銅フットパッドパターン上にI
Cパッケージを搭載した場合の状態を示す図である。一
般に図1に示すように、パターン幅150μm、パター
ン間隔150μmの銅フットパッドパターン2の場合、
L1=2600μm、L2=150μmである。
【0011】このような寸法の銅フットパッドパターン
2上に、図2に示すようにICパッケージ(図示せず)
を搭載して、そのリード4aをはんだ接合する際に必要
とされるはんだめっき皮膜の膜厚は、銅フットパッドパ
ターン表面全体で約10〜15μmとされており、又、
リード4aの銅フットパッドパターン2に対する寸法関
係は一般に、L5=1400μm、L6=800μmに設
定した場合にはんだ接合が良好に行えるとされているの
で、部分的にはんだめっき皮膜3を形成する寸法量は、
L3=1400〜1600μmで、1500μmが適
正、又、L4=10〜25μmで20μmが適正であ
る。
2上に、図2に示すようにICパッケージ(図示せず)
を搭載して、そのリード4aをはんだ接合する際に必要
とされるはんだめっき皮膜の膜厚は、銅フットパッドパ
ターン表面全体で約10〜15μmとされており、又、
リード4aの銅フットパッドパターン2に対する寸法関
係は一般に、L5=1400μm、L6=800μmに設
定した場合にはんだ接合が良好に行えるとされているの
で、部分的にはんだめっき皮膜3を形成する寸法量は、
L3=1400〜1600μmで、1500μmが適
正、又、L4=10〜25μmで20μmが適正であ
る。
【0012】以上のような観点から、各部の寸法を、L
1=2600μm、L2=150μm、L3=50μm、
L4=20μm、L5=1400μm、L6=80μmに
それぞれ設定し、図2−(A)、(B)に示すように、
リード4aを銅フットパッドパターン2上に装着した
後、次の各はんだ付条件でそれぞれはんだ接合を行っ
た。 (1)パルスヒート方式 350℃・・・・・10秒 (2)リフロー方式 予備加熱 180℃・・・・・3分 本加熱 245℃・・・・・1分 (3)レーザ加熱 レーザの種類・・・・・Nd:YAG 出力 ・・・・・15W スポット径 ・・・・・φ100μm 照射時間 ・・・・・10ミリ秒 レーザ走査方向・・・・リード先端部から肩口へ
1=2600μm、L2=150μm、L3=50μm、
L4=20μm、L5=1400μm、L6=80μmに
それぞれ設定し、図2−(A)、(B)に示すように、
リード4aを銅フットパッドパターン2上に装着した
後、次の各はんだ付条件でそれぞれはんだ接合を行っ
た。 (1)パルスヒート方式 350℃・・・・・10秒 (2)リフロー方式 予備加熱 180℃・・・・・3分 本加熱 245℃・・・・・1分 (3)レーザ加熱 レーザの種類・・・・・Nd:YAG 出力 ・・・・・15W スポット径 ・・・・・φ100μm 照射時間 ・・・・・10ミリ秒 レーザ走査方向・・・・リード先端部から肩口へ
【0013】以上のような各条件ではんだ付を行った結
果、銅フットパッドパターン2の先端、すなわち、リー
ド4aの先端に対応する部分に供給されたはんだは溶解
することによって、毛細管現象によりリード4aをぬら
し、図2−(C)、(D)に示すように銅フットパッド
パターン2とリード4aとは接合される。このようにし
て接合された接合部の強度を測定したところ、接合部よ
りも先にリード4aが破断し、良好なはんだ接合強度が
得られているのが明かとなった。
果、銅フットパッドパターン2の先端、すなわち、リー
ド4aの先端に対応する部分に供給されたはんだは溶解
することによって、毛細管現象によりリード4aをぬら
し、図2−(C)、(D)に示すように銅フットパッド
パターン2とリード4aとは接合される。このようにし
て接合された接合部の強度を測定したところ、接合部よ
りも先にリード4aが破断し、良好なはんだ接合強度が
得られているのが明かとなった。
【0014】次に図1に示すはんだめっき皮膜3の形成
方法について説明する。図3ははんだめっき皮膜の形成
方法のプロセスを示すフローチャート、図4は図3に示
す各プロセスにおける銅フットパッドパターンの各状態
をそれぞれ模式的に示す図である。まず、図4(A)、
(B)に示すように、L2=150μmの銅フットパッ
ドパターン2に対して、図4(C)、(D)に示すよう
に、レジスト5を銅フットパッドパターン2の先端から
L3=150μmだけ露出させ残りの部分に塗布する。
方法について説明する。図3ははんだめっき皮膜の形成
方法のプロセスを示すフローチャート、図4は図3に示
す各プロセスにおける銅フットパッドパターンの各状態
をそれぞれ模式的に示す図である。まず、図4(A)、
(B)に示すように、L2=150μmの銅フットパッ
ドパターン2に対して、図4(C)、(D)に示すよう
に、レジスト5を銅フットパッドパターン2の先端から
L3=150μmだけ露出させ残りの部分に塗布する。
【0015】この場合、レジスト5の厚みはレジスト5
と銅フットパッドパターン2との密着性の点から、10
〜20μmは必要で15μm位が適切と考えられる。
又、はんだめっき反応が銅フットパッドパターン2の側
面で進行しないようにするため、液状の光硬化型耐酸性
のレジストを使用し、露光後現像を行った。
と銅フットパッドパターン2との密着性の点から、10
〜20μmは必要で15μm位が適切と考えられる。
又、はんだめっき反応が銅フットパッドパターン2の側
面で進行しないようにするため、液状の光硬化型耐酸性
のレジストを使用し、露光後現像を行った。
【0016】次に、以下の条件で図4(E)、(F)に
示すように無電解はんだめっきを行った。 めっき液 ・・・・・無電解はんだめっき液 めっき液温度・・・・・70℃ めっき時間 ・・・・・10〜60分(40分が適切) めっき厚さ ・・・・・10〜25μm(20μmが適
切) その後レジスト5を剥離すると、図4(G)、(H)に
示すように銅フットパッドパターンの先端部、すなわ
ち、リード4aと対応する部分に、はんだめっき皮膜3
を形成することができる。
示すように無電解はんだめっきを行った。 めっき液 ・・・・・無電解はんだめっき液 めっき液温度・・・・・70℃ めっき時間 ・・・・・10〜60分(40分が適切) めっき厚さ ・・・・・10〜25μm(20μmが適
切) その後レジスト5を剥離すると、図4(G)、(H)に
示すように銅フットパッドパターンの先端部、すなわ
ち、リード4aと対応する部分に、はんだめっき皮膜3
を形成することができる。
【0017】実施例2.図5はこの発明の実施例2にお
けるプリント配線板の銅フットパッドパターン部の形状
を示す図、図6は図5における銅フットパッドパターン
上にICパッケージを搭載した場合の状態を示す図であ
る。この場合も図1に示す実施例1の場合と同様に、パ
ターン幅150μm、パターン間隔150μm、L1=
2600μm、L2=150μmの銅フットパッドパタ
ーン2に適用した場合について説明する。
けるプリント配線板の銅フットパッドパターン部の形状
を示す図、図6は図5における銅フットパッドパターン
上にICパッケージを搭載した場合の状態を示す図であ
る。この場合も図1に示す実施例1の場合と同様に、パ
ターン幅150μm、パターン間隔150μm、L1=
2600μm、L2=150μmの銅フットパッドパタ
ーン2に適用した場合について説明する。
【0018】このような寸法の銅フットパッドパターン
2上の先端部には、図5に示すように厚みL4=10〜
25μm(20μmが適切)の厚はんだめっき皮膜6
が、他の残部には厚みL7=1〜7μm(5μmが適
切)の薄はんだめっき皮膜7がそれぞれ形成されてい
る。そして、これら各皮膜6、7上に図6(A)、
(B)に示すように、リード4aを装着した後、上記実
施例1と同様のはんだ付条件、(1)パルスヒート方
式、(2)リフロー方式、(3)レーザ加熱でそれぞれ
はんだ接合を行った。
2上の先端部には、図5に示すように厚みL4=10〜
25μm(20μmが適切)の厚はんだめっき皮膜6
が、他の残部には厚みL7=1〜7μm(5μmが適
切)の薄はんだめっき皮膜7がそれぞれ形成されてい
る。そして、これら各皮膜6、7上に図6(A)、
(B)に示すように、リード4aを装着した後、上記実
施例1と同様のはんだ付条件、(1)パルスヒート方
式、(2)リフロー方式、(3)レーザ加熱でそれぞれ
はんだ接合を行った。
【0019】以上のような各条件ではんだ付を行った結
果、銅フットパッドパターン2の先端、すなわち、リー
ド4aの先端に対応する部分に供給された厚はんだめっ
き皮膜6のはんだが溶解することによって、毛細管現象
によりリード4aをぬらし、図6(C)、(D)に示す
ように銅フットパッドパターン2とリード4aとは接合
される。又、銅フットパッドパターン2上には薄はんだ
めっき皮膜7が形成されているため、はんだの初期ぬれ
性が非常に良好となり、このようにして接合された接合
部の強度を測定したところ、接合部よりも先にリード4
aが破断し、良好なはんだ接合強度が得られているのが
明かとなった。
果、銅フットパッドパターン2の先端、すなわち、リー
ド4aの先端に対応する部分に供給された厚はんだめっ
き皮膜6のはんだが溶解することによって、毛細管現象
によりリード4aをぬらし、図6(C)、(D)に示す
ように銅フットパッドパターン2とリード4aとは接合
される。又、銅フットパッドパターン2上には薄はんだ
めっき皮膜7が形成されているため、はんだの初期ぬれ
性が非常に良好となり、このようにして接合された接合
部の強度を測定したところ、接合部よりも先にリード4
aが破断し、良好なはんだ接合強度が得られているのが
明かとなった。
【0020】次に図5に示すはんだめっき皮膜6、7の
形成方法について説明する。図7ははんだめっき皮膜の
形成方法のプロセスを示すフローチャート、図8は図7
に示す各プロセスにおける銅フットパッドパターンの各
状態をそれぞれ模式的に示す図である。まず、図8
(A)、(B)に示すように、L2=150μmの銅フ
ットパッドパターン2に対して、図8(C)、(D)に
示すように、レジスト5を銅フットパッドパターン2の
先端からL3=150μmだけ露出させ残りの部分に塗
布する。
形成方法について説明する。図7ははんだめっき皮膜の
形成方法のプロセスを示すフローチャート、図8は図7
に示す各プロセスにおける銅フットパッドパターンの各
状態をそれぞれ模式的に示す図である。まず、図8
(A)、(B)に示すように、L2=150μmの銅フ
ットパッドパターン2に対して、図8(C)、(D)に
示すように、レジスト5を銅フットパッドパターン2の
先端からL3=150μmだけ露出させ残りの部分に塗
布する。
【0021】この場合、レジスト5の厚みはレジスト5
と銅フットパッドパターン2との密着性の点から、10
〜20μmは必要で15μm位が適切と考えられる。
又、はんだめっき反応が銅フットパッドパターン2の側
面で進行しないようにするため、液状の光硬化型耐酸性
のレジストを使用し、露光後現像を行った。
と銅フットパッドパターン2との密着性の点から、10
〜20μmは必要で15μm位が適切と考えられる。
又、はんだめっき反応が銅フットパッドパターン2の側
面で進行しないようにするため、液状の光硬化型耐酸性
のレジストを使用し、露光後現像を行った。
【0022】次に、以下の条件で図8(E)、(F)に
示すように無電解はんだめっきを行った。 めっき液 ・・・・・無電解はんだめっき液 めっき液温度・・・・・70℃ めっき時間 ・・・・・10〜60分(40分が適切) めっき厚さ ・・・・・10〜25μm(20μmが適
切) その後レジスト5を剥離すると、図8(G)、(H)に
示すように銅フットパッドパターン2の先端部、すなわ
ち、リード4aの先端と対応する部分に、厚はんだめっ
き皮膜6を形成することができる。
示すように無電解はんだめっきを行った。 めっき液 ・・・・・無電解はんだめっき液 めっき液温度・・・・・70℃ めっき時間 ・・・・・10〜60分(40分が適切) めっき厚さ ・・・・・10〜25μm(20μmが適
切) その後レジスト5を剥離すると、図8(G)、(H)に
示すように銅フットパッドパターン2の先端部、すなわ
ち、リード4aの先端と対応する部分に、厚はんだめっ
き皮膜6を形成することができる。
【0023】そして最後に、厚はんだめっき皮膜6の形
成された銅フットパッドパターン上に、以下の条件で図
8(I)、(J)に示すように無電解はんだめっきを行
った。 めっき液 ・・・・・無電解はんだめっき液 めっき液温度・・・・・70℃ めっき時間 ・・・・・1〜8分(5分が適切) めっき厚さ ・・・・・1〜7μm(5μmが適切) このようにして、銅フットパッドパターン2の先端部、
すなわち、リード4aの先端と対応する部分に厚はんだ
めっき皮膜6を、又、残りの他の部分には薄はんだめっ
き皮膜7をそれぞれ形成する。
成された銅フットパッドパターン上に、以下の条件で図
8(I)、(J)に示すように無電解はんだめっきを行
った。 めっき液 ・・・・・無電解はんだめっき液 めっき液温度・・・・・70℃ めっき時間 ・・・・・1〜8分(5分が適切) めっき厚さ ・・・・・1〜7μm(5μmが適切) このようにして、銅フットパッドパターン2の先端部、
すなわち、リード4aの先端と対応する部分に厚はんだ
めっき皮膜6を、又、残りの他の部分には薄はんだめっ
き皮膜7をそれぞれ形成する。
【0024】実施例3.図9はこの発明の実施例3にお
けるプリント配線板の製造方法のはんだめっき皮膜形成
プロセスを示すフローチャート、図10は図9に示す各
プロセスにおける銅フットパッドパターンの各状態をそ
れぞれ模式的に示す図である。まず、図10(A)、
(B)に示すようなL2=150μmの銅フットパッド
パターン2に対して、以下の条件で図10(C)、
(D)に示すように無電解はんだめっきを行い、薄はん
だめっき皮膜6を形成した。 めっき液 ・・・・・無電解はんだめっき液 めっき液温度・・・・・70℃ めっき時間 ・・・・・1〜8分(5分が適切) めっき厚さ ・・・・・1〜7μm(5μmが適切)
けるプリント配線板の製造方法のはんだめっき皮膜形成
プロセスを示すフローチャート、図10は図9に示す各
プロセスにおける銅フットパッドパターンの各状態をそ
れぞれ模式的に示す図である。まず、図10(A)、
(B)に示すようなL2=150μmの銅フットパッド
パターン2に対して、以下の条件で図10(C)、
(D)に示すように無電解はんだめっきを行い、薄はん
だめっき皮膜6を形成した。 めっき液 ・・・・・無電解はんだめっき液 めっき液温度・・・・・70℃ めっき時間 ・・・・・1〜8分(5分が適切) めっき厚さ ・・・・・1〜7μm(5μmが適切)
【0025】次に、図10(E)、(F)に示すよう
に、銅フットパッドパターン2の先端からL3=150
μmだけ薄はんだめっき皮膜6を露出させ、残りの部分
にレジスト5を塗布した。この場合、レジスト5の厚み
はレジスト5と銅フットパッドパターン2との密着性の
点から、10〜20μmは必要で15μm位が適切と考
えられる。又、はんだめっき反応が銅フットパッドパタ
ーン2の側面で進行しないようにするため、液状の光硬
化型耐酸性のレジストを使用し、露光後現像を行った。
に、銅フットパッドパターン2の先端からL3=150
μmだけ薄はんだめっき皮膜6を露出させ、残りの部分
にレジスト5を塗布した。この場合、レジスト5の厚み
はレジスト5と銅フットパッドパターン2との密着性の
点から、10〜20μmは必要で15μm位が適切と考
えられる。又、はんだめっき反応が銅フットパッドパタ
ーン2の側面で進行しないようにするため、液状の光硬
化型耐酸性のレジストを使用し、露光後現像を行った。
【0026】さらに、これら薄はんだめっき皮膜6およ
びレジスト5の上から無電解はんだめっきを行い、その
後、図10(G)、(H)に示すようにレジスト5を剥
離すると、銅フットパッドパターン2の先端部、すなわ
ち、リード4aの先端部と対応する部分に、厚はんだめ
っき皮膜7を形成することができる。 めっき液 ・・・・・無電解はんだめっき液 めっき液温度・・・・・70℃ めっき時間 ・・・・・10〜60分(40分が適切) めっき厚さ ・・・・・10〜25μm(20μmが適
切)
びレジスト5の上から無電解はんだめっきを行い、その
後、図10(G)、(H)に示すようにレジスト5を剥
離すると、銅フットパッドパターン2の先端部、すなわ
ち、リード4aの先端部と対応する部分に、厚はんだめ
っき皮膜7を形成することができる。 めっき液 ・・・・・無電解はんだめっき液 めっき液温度・・・・・70℃ めっき時間 ・・・・・10〜60分(40分が適切) めっき厚さ ・・・・・10〜25μm(20μmが適
切)
【0027】このように、上記実施例2においては、は
んだめっき皮膜を厚はんだめっき皮膜6、薄はんだめっ
き皮膜7の順に形成しているのに対し、この実施例3で
は薄はんだめっき皮膜7、厚はんだめっき皮膜6の順に
形成するようにしたものであり、上記各実施例と同様の
効果を奏することは勿論である。
んだめっき皮膜を厚はんだめっき皮膜6、薄はんだめっ
き皮膜7の順に形成しているのに対し、この実施例3で
は薄はんだめっき皮膜7、厚はんだめっき皮膜6の順に
形成するようにしたものであり、上記各実施例と同様の
効果を奏することは勿論である。
【0028】
【発明の効果】以上のように、この発明によればICパ
ッケージが搭載される銅フットパッドパターンのICパ
ッケージのリード先端部に対応する部分にのみはんだめ
っき皮膜を施すようにしたことにより、又、ICパッケ
ージが搭載される銅フットパッドパターンのICパッケ
ージのリード先端部に対応する部分には厚はんだめっき
皮膜を、その他の残りの部分には薄はんだめっき皮膜を
それぞれ施すようにしたことにより、ICパッケージを
銅フットパッドパターン上に容易に安定して搭載するこ
とができるプリント配線板およびその製造方法を提供す
ることが可能になる。
ッケージが搭載される銅フットパッドパターンのICパ
ッケージのリード先端部に対応する部分にのみはんだめ
っき皮膜を施すようにしたことにより、又、ICパッケ
ージが搭載される銅フットパッドパターンのICパッケ
ージのリード先端部に対応する部分には厚はんだめっき
皮膜を、その他の残りの部分には薄はんだめっき皮膜を
それぞれ施すようにしたことにより、ICパッケージを
銅フットパッドパターン上に容易に安定して搭載するこ
とができるプリント配線板およびその製造方法を提供す
ることが可能になる。
【図1】この発明の実施例1におけるプリント配線板の
銅フットパッドパターン部の形状を示す図である。
銅フットパッドパターン部の形状を示す図である。
【図2】図1における銅フットパッドパターン上にIC
パッケージを搭載した場合の状態を示す図である。
パッケージを搭載した場合の状態を示す図である。
【図3】図1におけるプリント配線板のはんだめっき皮
膜形成プロセスを示すフローチャートである。
膜形成プロセスを示すフローチャートである。
【図4】図3に示す各プロセスにおける銅フットパッド
パターンの各状態をそれぞれ模式的に示す図である。
パターンの各状態をそれぞれ模式的に示す図である。
【図5】この発明の実施例2におけるプリント配線板の
銅フットパッドパターン部の形状を示す図である。
銅フットパッドパターン部の形状を示す図である。
【図6】図5における銅フットパッドパターン上にIC
パッケージを搭載した場合の状態を示す図である。
パッケージを搭載した場合の状態を示す図である。
【図7】図5におけるプリント配線板のはんだめっき皮
膜形成プロセスを示すフローチャートである。
膜形成プロセスを示すフローチャートである。
【図8】図7に示す各プロセスにおける銅フットパッド
パターンの各状態をそれぞれ模式的に示す図である。
パターンの各状態をそれぞれ模式的に示す図である。
【図9】この発明の実施例3におけるプリント配線板の
製造方法のはんだめっき皮膜形成プロセスを示すフロー
チャートである。
製造方法のはんだめっき皮膜形成プロセスを示すフロー
チャートである。
【図10】図9に示す各プロセスにおける銅フットパッ
ドパターンの各状態をそれぞれ模式的に示す図である。
ドパターンの各状態をそれぞれ模式的に示す図である。
【図11】先行技術におけるプリント配線板の製造方法
のプロセスを示すフローチャートである。
のプロセスを示すフローチャートである。
【図12】図11に示す製造方法によって形成されたは
んだめっき皮膜の状態を模式的に示す図である。
んだめっき皮膜の状態を模式的に示す図である。
【図13】図12に示すはんだめっき皮膜上にICパッ
ケージを搭載してリードを接合した状態を示す図であ
る。
ケージを搭載してリードを接合した状態を示す図であ
る。
1 基板 2 銅フットパッドパターン 3 はんだめっき皮膜 4 ICパッケージ 4a リード 5 レジスト(マスキング) 6 厚はんだめっき皮膜 7 薄はんだめっき皮膜
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年6月4日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0012
【補正方法】変更
【補正内容】
【0012】以上のような観点から、各部の寸法を、L
1=2600μm、L2=150μm、L3=1500μ
m、L4=20μm、L5=1400μm、L6=800
μmにそれぞれ設定し、図2−(A)、(B)に示すよ
うに、リード4aを銅フットパッドパターン2上に装着
した後、次の各はんだ付条件でそれぞれはんだ接合を行
った。 (1)パルスヒート方式 350℃・・・・・10秒 (2)リフロー方式 予備加熱 180℃・・・・・3分 本加熱 245℃・・・・・1分 (3)レーザ加熱 レーザの種類・・・・・Nd:YAG 出力 ・・・・・15W スポット径 ・・・・・φ100μm 照射時間 ・・・・・10ミリ秒 レーザ走査方向・・・・リード先端部から肩口へ
1=2600μm、L2=150μm、L3=1500μ
m、L4=20μm、L5=1400μm、L6=800
μmにそれぞれ設定し、図2−(A)、(B)に示すよ
うに、リード4aを銅フットパッドパターン2上に装着
した後、次の各はんだ付条件でそれぞれはんだ接合を行
った。 (1)パルスヒート方式 350℃・・・・・10秒 (2)リフロー方式 予備加熱 180℃・・・・・3分 本加熱 245℃・・・・・1分 (3)レーザ加熱 レーザの種類・・・・・Nd:YAG 出力 ・・・・・15W スポット径 ・・・・・φ100μm 照射時間 ・・・・・10ミリ秒 レーザ走査方向・・・・リード先端部から肩口へ
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0014
【補正方法】変更
【補正内容】
【0014】次に図1に示すはんだめっき皮膜3の形成
方法について説明する。図3ははんだめっき皮膜の形成
方法のプロセスを示すフローチャート、図4は図3に示
す各プロセスにおける銅フットパッドパターンの各状態
をそれぞれ模式的に示す図である。まず、図4(A)、
(B)に示すように、L2=150μmの銅フットパッ
ドパターン2に対して、図4(C)、(D)に示すよう
に、レジスト5を銅フットパッドパターン2の先端から
L3=1500μmだけ露出させ残りの部分に塗布す
る。
方法について説明する。図3ははんだめっき皮膜の形成
方法のプロセスを示すフローチャート、図4は図3に示
す各プロセスにおける銅フットパッドパターンの各状態
をそれぞれ模式的に示す図である。まず、図4(A)、
(B)に示すように、L2=150μmの銅フットパッ
ドパターン2に対して、図4(C)、(D)に示すよう
に、レジスト5を銅フットパッドパターン2の先端から
L3=1500μmだけ露出させ残りの部分に塗布す
る。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0020
【補正方法】変更
【補正内容】
【0020】次に図5に示すはんだめっき皮膜6、7の
形成方法について説明する。図7ははんだめっき皮膜の
形成方法のプロセスを示すフローチャート、図8は図7
に示す各プロセスにおける銅フットパッドパターンの各
状態をそれぞれ模式的に示す図である。まず、図8
(A)、(B)に示すように、L2=150μmの銅フ
ットパッドパターン2に対して、図8(C)、(D)に
示すように、レジスト5を銅フットパッドパターン2の
先端からL3=1500μmだけ露出させ残りの部分に
塗布する。
形成方法について説明する。図7ははんだめっき皮膜の
形成方法のプロセスを示すフローチャート、図8は図7
に示す各プロセスにおける銅フットパッドパターンの各
状態をそれぞれ模式的に示す図である。まず、図8
(A)、(B)に示すように、L2=150μmの銅フ
ットパッドパターン2に対して、図8(C)、(D)に
示すように、レジスト5を銅フットパッドパターン2の
先端からL3=1500μmだけ露出させ残りの部分に
塗布する。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】変更
【補正内容】
【0025】次に、図10(E)、(F)に示すよう
に、銅フットパッドパターン2の先端からL3=150
0μmだけ薄はんだめっき皮膜6を露出させ、残りの部
分にレジスト5を塗布した。この場合、レジスト5の厚
みはレジスト5と銅フットパッドパターン2との密着性
の点から、10〜20μmは必要で15μm位が適切と
考えられる。又、はんだめっき反応が銅フットパッドパ
ターン2の側面で進行しないようにするため、液状の光
硬化型耐酸性のレジストを使用し、露光後現像を行っ
た。
に、銅フットパッドパターン2の先端からL3=150
0μmだけ薄はんだめっき皮膜6を露出させ、残りの部
分にレジスト5を塗布した。この場合、レジスト5の厚
みはレジスト5と銅フットパッドパターン2との密着性
の点から、10〜20μmは必要で15μm位が適切と
考えられる。又、はんだめっき反応が銅フットパッドパ
ターン2の側面で進行しないようにするため、液状の光
硬化型耐酸性のレジストを使用し、露光後現像を行っ
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森田 毅 尼崎市塚口本町8丁目1番1号 三菱電機 株式会社生産技術研究所内 (72)発明者 高浜 隆 尼崎市塚口本町8丁目1番1号 三菱電機 株式会社生産技術研究所内 (72)発明者 林 修 尼崎市塚口本町8丁目1番1号 三菱電機 株式会社生産技術研究所内 (72)発明者 宇崎 俊介 相模原市宮下一丁目1番57号 三菱電機株 式会社相模製作所内 (72)発明者 須藤 俊英 相模原市宮下一丁目1番57号 三菱電機株 式会社相模製作所内
Claims (4)
- 【請求項1】 ICパッケージが搭載される銅フットパ
ッドパターンの上記ICパッケージのリード先端部に対
応する部分にのみはんだめっき皮膜が形成されているこ
とを特徴とするプリント配線板。 - 【請求項2】 ICパッケージが搭載される銅フットパ
ッドパターンの上記ICパッケージのリード先端部に対
応する部分を除く他の部分にマスキングを施してはんだ
めっきを行うことを特徴とするプリント配線板の製造方
法。 - 【請求項3】 ICパッケージが搭載される銅フットパ
ッドパターンの上記ICパッケージのリード先端部に対
応する部分を除く他の部分にマスキングを施して厚付け
無電解はんだめっきを行い、上記マスキングを剥離した
後に薄付け無電解はんだめっきを行うことを特徴とする
プリント配線板の製造方法。 - 【請求項4】 ICパッケージが搭載される銅フットパ
ッドパターンに薄付け無電解はんだめっきを施した後、
上記銅フットパッドパターンの上記ICパッケージのリ
ード先端部に対応する部分を除く他の部分にマスキング
を施して厚付け無電解はんだめっきを行うことを特徴と
するプリント配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18509992A JPH0629648A (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | プリント配線板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18509992A JPH0629648A (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | プリント配線板およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0629648A true JPH0629648A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16164838
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18509992A Pending JPH0629648A (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | プリント配線板およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0629648A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01163505A (ja) * | 1987-12-21 | 1989-06-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 蒸気発生装置 |
CN100449752C (zh) * | 2005-01-31 | 2009-01-07 | 三洋电机株式会社 | 电路装置及其制造方法 |
-
1992
- 1992-07-13 JP JP18509992A patent/JPH0629648A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01163505A (ja) * | 1987-12-21 | 1989-06-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 蒸気発生装置 |
CN100449752C (zh) * | 2005-01-31 | 2009-01-07 | 三洋电机株式会社 | 电路装置及其制造方法 |
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