JPH06295804A - 電子デバイスの作製法 - Google Patents

電子デバイスの作製法

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Publication number
JPH06295804A
JPH06295804A JP5039330A JP3933093A JPH06295804A JP H06295804 A JPH06295804 A JP H06295804A JP 5039330 A JP5039330 A JP 5039330A JP 3933093 A JP3933093 A JP 3933093A JP H06295804 A JPH06295804 A JP H06295804A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
forming
peripheral part
electronic device
electrodes
Prior art date
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Pending
Application number
JP5039330A
Other languages
English (en)
Inventor
Ayumi Fujisawa
安由美 藤沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tama Electric Co Ltd
Original Assignee
Tama Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tama Electric Co Ltd filed Critical Tama Electric Co Ltd
Priority to JP5039330A priority Critical patent/JPH06295804A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】従来の電子デバイス作製方法と比較し、短波形
の高電流が印加されても電極円周部の電流密度集中を緩
和し、且つ素子沿面の絶縁性が確保されることを特徴と
する電子デバイス作製方法。 【構成】従来は短波形の高電流が印加された時、電極円
周部の電流密度が大きくなることで、電気的特性の劣化
に結びつく場合があった。その直接の劣化要因は主に、
素子沿面の短絡路形成、電極円周部分における素子
内部の負荷集中、の2点である。このとき、電極を任意
の電極面積内で比抵抗を一定にするのではなく、電極円
周部分に比抵抗の大きい電極を形成し、更にその電極円
周部分に絶縁性の高い皮膜を形成することにより、短波
形の高電流が印加されても、電極円周部の電流集中を緩
和し、且つ素子沿面の絶縁性を確保する。このことによ
り、電子デバイスの電気的特性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は通信機機や電源回路に発
生する異常電圧、ノイズ、静電気等から機器の半導体、
及び回路を保護する為のコンデンサ特性とバリスタ特性
を有するデバイスの作製方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の素子の両面には、電極が図1の様
に素子片面の面積に対してひと回り小さい面積で形成さ
れており、その電極は任意の電極面積内において一定の
比抵抗を有する。電極の形成方法はペースト状の電極材
を印刷後、500〜800℃で焼成して形成するか、導
電材料を蒸着法等で形成するかの2種類の方法が主にな
っている。尚、電極形成後は素子にリードを配してリー
ドと電極間の電気的コンタクトを十分にした後、絶縁材
でコートし、電子デバイスを作製している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の電極形成方法に
おける問題点は、短波形の高電流印加によって電極円周
部の電流密度が増大し、素子沿面方向に電流が放射状に
広がった後、素子沿面部分に短絡路を形成し特性劣化を
もたらす場合がある、というものである。素子表面と電
極材との電気的コンタクトを優先に考え、素子表面の絶
縁性が十分に得られていない場合は特にその可能性が大
きい。
【0004】また、第2の問題点として、電極円周部に
電流密度が集中する点から、電極円周部における素子内
部の劣化が早くなってしまうということが挙げられる。
【0005】
【課題を解決するための手段】上述した問題点を補う為
の電子デバイスの作製方法として、まず、従来と同様の
特性が保証されている比抵抗の電極材で図2の様に素子
片面の面積に対してひと回り小さい面積で電極(一次電
極とする)を形成する。次に一次電極よりも比抵抗が大
きい電極材を、図3の様に一次電極よりも円周部分が大
きく、且つ、リードが一次電極と電気的コンタクトが充
分にとれる様、ドーナツ状に電極(二次電極とする)を
形成する。更に絶縁性の高い皮膜を図4の様に図3と同
様な条件でドーナツ状に形成する。断面図では図5のよ
うに示される。
【0006】
【作 用】上述した電子デバイスの作製方法によって
電極周辺部の絶縁性を確保し、短波形の高電流が印加さ
れた際、電極円周部に電流密度が集中し電流が放射状に
広がった後、素子沿面に短絡路を形成する、という電気
特性劣化を防止する。また、二次電極によって電極円周
部分の比抵抗を上げることにより、電極円周部における
素子内部の早期劣化を防止する。
【0007】
【実施例1】直径10mmの円盤状のバリスタ素子に銀
電極ペーストを、図2の様に直径7mmの円状に印刷す
る。次に、比抵抗の大きい銀電極ペーストを図3の様に
直径8mmの円から直径6mmの円をくり抜いたドーナ
ツ状に印刷する。更に、ガラスペーストを図4の様に直
径10mmの円から直径7mmの円をくり抜いたドーナ
ツ状に印刷後、500〜800℃の大気中で焼成する。
その後、リードを配して半田付を行い、樹脂コートして
電子デバイスを得る。
【0008】
【発明の効果】得られたバリスタに波形8×20μs、
電流値2500Aの高電流を50回印加したところ、素
子沿面の短絡不良数は20個中0個であり、従来品の2
0個中16個の不良数と比較してはるかに少ない。これ
は本発明によって優れた特性が得られていることを示
す。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来の、電極を施した素子を示す図である。
【図2】 素子に一次電極を施した図である。
【図3】 素子に二次電極を施した図である。
【図4】 素子に絶縁皮膜を施した図である。
【図5】 本発明による、電極を施した素子の断面図で
ある。
【符号の説明】
1 素子 2 電極 3 一次電極 4 二次電極 5 絶縁皮膜

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 円盤状の電子素子(以下、素子という)
    の両面に電極を形成することによって電子デバイスを得
    る製造方法において、電極を形成する際、任意の電極面
    積内の電極を一定の比抵抗にするのではなく、電極円周
    部分に更に比抵抗の大きい電極を形成し、且つ、その電
    極円周部分に絶縁性の高い皮膜を形成することにより、
    短波形の高電流が印加されても電極円周部の電流密度集
    中を緩和し、素子沿面の絶縁性が確保されることを特徴
    とする電子デバイスの作製方法
JP5039330A 1993-02-03 1993-02-03 電子デバイスの作製法 Pending JPH06295804A (ja)

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JPH06295804A true JPH06295804A (ja) 1994-10-21

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