JPH06295418A - 複合型磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 - Google Patents
複合型磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置Info
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- JPH06295418A JPH06295418A JP10599293A JP10599293A JPH06295418A JP H06295418 A JPH06295418 A JP H06295418A JP 10599293 A JP10599293 A JP 10599293A JP 10599293 A JP10599293 A JP 10599293A JP H06295418 A JPH06295418 A JP H06295418A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3967—Composite structural arrangements of transducers, e.g. inductive write and magnetoresistive read
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 複合型の磁気ヘッドにおいて、磁気記録再生
時の再生出力を向上させる。 【構成】 スライダー上に記録用ヘッドを形成し、その
上にＭＲヘッドを形成する構成とする。 【効果】 記録用ヘッドの磁気コアに飽和磁化の大きい
熱処理を必要とする軟磁性材の使用が可能となる。ま
た、再生ヘッドと媒体との距離が最も少なくなり、再生
時のスペーシングロスが小さくなる。
時の再生出力を向上させる。 【構成】 スライダー上に記録用ヘッドを形成し、その
上にＭＲヘッドを形成する構成とする。 【効果】 記録用ヘッドの磁気コアに飽和磁化の大きい
熱処理を必要とする軟磁性材の使用が可能となる。ま
た、再生ヘッドと媒体との距離が最も少なくなり、再生
時のスペーシングロスが小さくなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は複合型磁気ヘッドおよび
該磁気ヘッドを用いた磁気記録再生装置に関し、特に高
密度な磁気記録再生を行うための複合型磁気ヘッドおよ
び磁気記録再生装置に関する。
該磁気ヘッドを用いた磁気記録再生装置に関し、特に高
密度な磁気記録再生を行うための複合型磁気ヘッドおよ
び磁気記録再生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】磁気
記録再生装置の小型大容量化、ＶＴＲの高画質化など磁
気記録再生技術の高密度化に対応するために、磁気記録
媒体の高保磁力化、磁気ヘッドの高効率化、媒体とヘッ
ドとの距離の短縮化が進展している。磁気ヘッドにおい
ては、高保磁力媒体に効率良く記録するために飽和磁化
の大きい磁気コア材料を用いたインダクティブヘッド
が、また大きい再生出力を確保するために磁気抵抗効果
（ＭＲ）を用いたＭＲヘッドが開発されている。また、
特に、磁気記録再生装置においては、スライダーに形成
された磁気ヘッドと媒体との距離を短縮し、再生時のス
ペーシングロスを低減することが大きな課題である。従
来の磁気記録再生装置の磁気ヘッドは、図６に示すよう
なスライダー２１と記録媒体２３との構成において、Ａ
の円内に示される端面に図７（ａ）または図７（ｂ）に
示す構成で記録用ヘッド３６である薄膜ヘッドと再生用
ヘッドであるＭＲヘッド３５とが形成されている。スラ
イダーの浮上特性は、図６に示すようにヘッドの形成さ
れた端面が磁気ディスク表面に接近することから、図７
のヘッド構成の場合、再生ヘッド３５と媒体面との距離
は記録ヘッドのある分だけ長くなる。そのため再生時の
スペーシングロスが増大し、再生出力が減少するといっ
た問題を生じている。さらに、図７に示す従来の構成で
は、記録用ヘッドの磁気コア３２にセンダスト膜やＦｅ
ＭＮ膜（ＭはＴａ，Ｈｆ，Ｚｒ，ＮｂおよびＴｉよりな
る群から選択された少なくとも一種類の元素、Ｎは窒
素）などの飽和磁化の大きい材料を採用しようとした場
合、ＭＲヘッド３５が予め形成されているために、これ
らの材料を軟磁性化するための５００℃程度の高温の熱
処理ができないという欠点があった。本発明の目的はこ
のような従来の問題点を解決することにある。
記録再生装置の小型大容量化、ＶＴＲの高画質化など磁
気記録再生技術の高密度化に対応するために、磁気記録
媒体の高保磁力化、磁気ヘッドの高効率化、媒体とヘッ
ドとの距離の短縮化が進展している。磁気ヘッドにおい
ては、高保磁力媒体に効率良く記録するために飽和磁化
の大きい磁気コア材料を用いたインダクティブヘッド
が、また大きい再生出力を確保するために磁気抵抗効果
（ＭＲ）を用いたＭＲヘッドが開発されている。また、
特に、磁気記録再生装置においては、スライダーに形成
された磁気ヘッドと媒体との距離を短縮し、再生時のス
ペーシングロスを低減することが大きな課題である。従
来の磁気記録再生装置の磁気ヘッドは、図６に示すよう
なスライダー２１と記録媒体２３との構成において、Ａ
の円内に示される端面に図７（ａ）または図７（ｂ）に
示す構成で記録用ヘッド３６である薄膜ヘッドと再生用
ヘッドであるＭＲヘッド３５とが形成されている。スラ
イダーの浮上特性は、図６に示すようにヘッドの形成さ
れた端面が磁気ディスク表面に接近することから、図７
のヘッド構成の場合、再生ヘッド３５と媒体面との距離
は記録ヘッドのある分だけ長くなる。そのため再生時の
スペーシングロスが増大し、再生出力が減少するといっ
た問題を生じている。さらに、図７に示す従来の構成で
は、記録用ヘッドの磁気コア３２にセンダスト膜やＦｅ
ＭＮ膜（ＭはＴａ，Ｈｆ，Ｚｒ，ＮｂおよびＴｉよりな
る群から選択された少なくとも一種類の元素、Ｎは窒
素）などの飽和磁化の大きい材料を採用しようとした場
合、ＭＲヘッド３５が予め形成されているために、これ
らの材料を軟磁性化するための５００℃程度の高温の熱
処理ができないという欠点があった。本発明の目的はこ
のような従来の問題点を解決することにある。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明は、記録用ヘッド
と再生用ヘッドとが相互に独立であり、かつ記録用ヘッ
ドと再生用ヘッドとが同一の基体上に形成された複合型
磁気ヘッドであって、記録用ヘッドの記録媒体への記録
磁束の流出端の基体からの距離Ｌ1と、再生用ヘッドの
記録媒体からの漏洩磁束の流入端の基体からの距離Ｌ2
とがＬ1＜Ｌ2なる関係を有することを特徴とする複合型
磁気ヘッド、および、該複合型磁気ヘッドを用いた磁気
記録再生装置であって、記録用ヘッドの記録媒体への記
録磁束の流出端部と記録媒体表面との間の距離Ｒ1と、
記録媒体の漏洩磁束の再生ヘッド流入端部と記録媒体表
面との距離Ｒ2とがＲ1≧Ｒ2なる関係を有することを特
徴とする磁気記録再生装置である。
と再生用ヘッドとが相互に独立であり、かつ記録用ヘッ
ドと再生用ヘッドとが同一の基体上に形成された複合型
磁気ヘッドであって、記録用ヘッドの記録媒体への記録
磁束の流出端の基体からの距離Ｌ1と、再生用ヘッドの
記録媒体からの漏洩磁束の流入端の基体からの距離Ｌ2
とがＬ1＜Ｌ2なる関係を有することを特徴とする複合型
磁気ヘッド、および、該複合型磁気ヘッドを用いた磁気
記録再生装置であって、記録用ヘッドの記録媒体への記
録磁束の流出端部と記録媒体表面との間の距離Ｒ1と、
記録媒体の漏洩磁束の再生ヘッド流入端部と記録媒体表
面との距離Ｒ2とがＲ1≧Ｒ2なる関係を有することを特
徴とする磁気記録再生装置である。
【０００４】
【作用】本発明による複合型磁気ヘッドの構成は、例え
ば図１〜図５に例示されるようなものがあり、スライダ
ー１１の端部において記録用ヘッド１７がスライダー本
体近くに形成され、その次に再生用ヘッド（ＭＲヘッ
ド）１５が形成されるため、磁気記録再生時には、再生
ヘッドはスライダー面で最も媒体近くに位置する。その
ため、再生時のスペーシングロスが小さくなり、再生出
力が高くなる。記録用ヘッド１７は軟磁性体を磁性コア
１２として電磁誘導による軟磁性膜からの磁束により磁
気記録媒体に記録し、再生用ヘッドは磁気抵抗効果型ヘ
ッド（ＭＲヘッド）とすることにより、ＭＲヘッドの高
出力性能を生かした高密度記録再生が可能となる。さら
に本発明の複合ヘッド構造によって、記録ヘッドのコア
材料が飽和磁化が大きく硬度の高いＦｅとＳｉとＡｌを
主成分とした合金（センダスト）、あるいはＦｅとＭ
（ＭはＴａ，Ｈｆ，Ｚｒ，ＮｂおよびＴｉよりなる群か
ら選択された少なくとも一種類の元素）とＱ（Ｑは窒
素，炭素およびボロンよりなる群から選択された少なく
とも一種類の元素）を主成分とした合金、あるいはＦｅ
とＭ（ＭはＴａ，Ｈｆ，Ｚｒ，ＮｂおよびＴｉよりなる
群から選択された少なくとも一種類の元素）とＱ（Ｑは
窒素，炭素およびボロンよりなる群から選択された少な
くとも一種類の元素）とＬ（ＬはＣｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｐ
ｄおよびＰｔよりなる群から選択された少なくとも一種
類の元素）を主成分とした合金などであっても、ＭＲヘ
ッドを形成する前に記録ヘッドを形成することから、こ
れらの材料の軟磁性を導出するための５００℃程度の熱
処理が可能となる。また、高温熱処理を必要としないＮ
ｉとＦｅを主成分とした合金、ＦｅとＮ（Ｎは窒素）を
主成分とするもの、ＦｅＳｉとＮｉＦｅなどの二種類以
上の膜を積層した構造のもの、あるいはＣｏＴａＺｒな
どのアモルファス合金は問題なく使用できる。
ば図１〜図５に例示されるようなものがあり、スライダ
ー１１の端部において記録用ヘッド１７がスライダー本
体近くに形成され、その次に再生用ヘッド（ＭＲヘッ
ド）１５が形成されるため、磁気記録再生時には、再生
ヘッドはスライダー面で最も媒体近くに位置する。その
ため、再生時のスペーシングロスが小さくなり、再生出
力が高くなる。記録用ヘッド１７は軟磁性体を磁性コア
１２として電磁誘導による軟磁性膜からの磁束により磁
気記録媒体に記録し、再生用ヘッドは磁気抵抗効果型ヘ
ッド（ＭＲヘッド）とすることにより、ＭＲヘッドの高
出力性能を生かした高密度記録再生が可能となる。さら
に本発明の複合ヘッド構造によって、記録ヘッドのコア
材料が飽和磁化が大きく硬度の高いＦｅとＳｉとＡｌを
主成分とした合金（センダスト）、あるいはＦｅとＭ
（ＭはＴａ，Ｈｆ，Ｚｒ，ＮｂおよびＴｉよりなる群か
ら選択された少なくとも一種類の元素）とＱ（Ｑは窒
素，炭素およびボロンよりなる群から選択された少なく
とも一種類の元素）を主成分とした合金、あるいはＦｅ
とＭ（ＭはＴａ，Ｈｆ，Ｚｒ，ＮｂおよびＴｉよりなる
群から選択された少なくとも一種類の元素）とＱ（Ｑは
窒素，炭素およびボロンよりなる群から選択された少な
くとも一種類の元素）とＬ（ＬはＣｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｐ
ｄおよびＰｔよりなる群から選択された少なくとも一種
類の元素）を主成分とした合金などであっても、ＭＲヘ
ッドを形成する前に記録ヘッドを形成することから、こ
れらの材料の軟磁性を導出するための５００℃程度の熱
処理が可能となる。また、高温熱処理を必要としないＮ
ｉとＦｅを主成分とした合金、ＦｅとＮ（Ｎは窒素）を
主成分とするもの、ＦｅＳｉとＮｉＦｅなどの二種類以
上の膜を積層した構造のもの、あるいはＣｏＴａＺｒな
どのアモルファス合金は問題なく使用できる。
【０００５】
【実施例】次に本発明の実施例について説明する。 実施例１ 図６に示すスライダー２１を有する磁気ヘッドにおい
て、スライダー２１をＡｌ2Ｏ3とＴｉＣよりなる焼結体
で作製し、その媒体進行方向に対して後端部（図６でＡ
に示す。）に図２に示す構成で、スライダー１１面より
記録用インダクティブヘッド１７、再生用ＭＲヘッド１
５を形成した複合型磁気ヘッドを作製した。インダクテ
ィブヘッド１７の磁気コア１２には飽和磁化が１０ｋＧ
のＮｉＦｅメッキ膜を用い、磁界中メッキにより、ヘッ
ド内の磁束の方向が磁化困難軸となるように膜面内に一
軸異方性を形成した。異方性磁界は２０ｅ程度である。
ＮｉＦｅメッキ膜の膜厚は２μｍとした。トラック幅を
５μｍ、ギャップ長を０．４５μｍ、薄膜コイル１３の
巻数を１６Ｔとした。さらにＭＲヘッド１５をアルミナ
膜による絶縁層１６を介して形成した。ＭＲヘッド１５
は、膜厚１μｍのＮｉＦｅ膜をシールド１４としたシー
ルド型とし、ＭＲ素子は図８に示す構成とした。図８に
おいて、４１は膜厚４０ｎｍのＣｏＺｒＭｏ膜、４２は
膜厚１０ｎｍのＴａ膜、４３は膜厚３０ｎｍのＮｉＦｅ
膜、４４は膜厚２０ｎｍのＦｅＭｎ膜である。さらにＡ
ｕ膜により電極４５を形成した。トラック幅は４μｍと
した。また、図７（ｂ）に示す従来のＭＲヘッドおよび
インダクティブヘッド構成による複合ヘッドを上記と同
様にして作製した。
て、スライダー２１をＡｌ2Ｏ3とＴｉＣよりなる焼結体
で作製し、その媒体進行方向に対して後端部（図６でＡ
に示す。）に図２に示す構成で、スライダー１１面より
記録用インダクティブヘッド１７、再生用ＭＲヘッド１
５を形成した複合型磁気ヘッドを作製した。インダクテ
ィブヘッド１７の磁気コア１２には飽和磁化が１０ｋＧ
のＮｉＦｅメッキ膜を用い、磁界中メッキにより、ヘッ
ド内の磁束の方向が磁化困難軸となるように膜面内に一
軸異方性を形成した。異方性磁界は２０ｅ程度である。
ＮｉＦｅメッキ膜の膜厚は２μｍとした。トラック幅を
５μｍ、ギャップ長を０．４５μｍ、薄膜コイル１３の
巻数を１６Ｔとした。さらにＭＲヘッド１５をアルミナ
膜による絶縁層１６を介して形成した。ＭＲヘッド１５
は、膜厚１μｍのＮｉＦｅ膜をシールド１４としたシー
ルド型とし、ＭＲ素子は図８に示す構成とした。図８に
おいて、４１は膜厚４０ｎｍのＣｏＺｒＭｏ膜、４２は
膜厚１０ｎｍのＴａ膜、４３は膜厚３０ｎｍのＮｉＦｅ
膜、４４は膜厚２０ｎｍのＦｅＭｎ膜である。さらにＡ
ｕ膜により電極４５を形成した。トラック幅は４μｍと
した。また、図７（ｂ）に示す従来のＭＲヘッドおよび
インダクティブヘッド構成による複合ヘッドを上記と同
様にして作製した。
【０００６】以上の複合型磁気ヘッドの記録再生特性を
評価した。記録媒体は保磁力が２２０００ｅのスパッタ
ディスク、ディスクとヘッドの相対速度は９．２４ｍ／
ｓｅｃ、ヘッドのフライングハイトは０．１μｍとし
た。図９に本発明によるヘッドと従来ヘッドとによる記
録密度特性を示す。本発明のヘッドによる再生出力（図
中、９−１で示す。）は、従来ヘッドによる再生出力
（図中、９−２で示す。）よりも高く、特に、高密度域
でその差は拡大する。これは本発明ヘッドでは、図６に
示す媒体とヘッドとの位置関係において、再生ヘッドが
記録ヘッドよりも媒体進行方向に対して後側にあるた
め、再生ヘッドと媒体との距離が短くなり、スペーシン
グロスが小さくなったことによる。スペーシングロスは
高密度になるほど影響が顕著になることから、高密度域
ほど本発明の効果が現れる。
評価した。記録媒体は保磁力が２２０００ｅのスパッタ
ディスク、ディスクとヘッドの相対速度は９．２４ｍ／
ｓｅｃ、ヘッドのフライングハイトは０．１μｍとし
た。図９に本発明によるヘッドと従来ヘッドとによる記
録密度特性を示す。本発明のヘッドによる再生出力（図
中、９−１で示す。）は、従来ヘッドによる再生出力
（図中、９−２で示す。）よりも高く、特に、高密度域
でその差は拡大する。これは本発明ヘッドでは、図６に
示す媒体とヘッドとの位置関係において、再生ヘッドが
記録ヘッドよりも媒体進行方向に対して後側にあるた
め、再生ヘッドと媒体との距離が短くなり、スペーシン
グロスが小さくなったことによる。スペーシングロスは
高密度になるほど影響が顕著になることから、高密度域
ほど本発明の効果が現れる。
【０００７】実施例２ 図６に示すスライダー２１を有する磁気ヘッドにおい
て、スライダーをＡｌ2Ｏ3とＴｉＣよりなる焼結体で作
製し、その媒体進行方向に対して後端部に図２に示す構
成で、スライダー１１面より記録用インダクティブヘッ
ド１７、再生用ＭＲヘッド１５を形成した複合型磁気ヘ
ッドを作製した。インダクティブヘッドの磁気コア１２
には飽和磁化が１６ｋＧのＦｅＴａＮスパッタ膜を用
い、磁界中熱処理により、ヘッド内の磁束の方向が磁化
困難軸となるように膜面内に一軸異方性を形成した。異
方性磁界は２０ｅ程度である。本発明の構成ではＦｅＴ
ａＮ膜のように、軟磁性を発生させるために５００℃程
度の熱処理を要する材料であっても問題なく形成でき
る。ＦｅＴａＮ膜の膜厚は１．５μｍとした。トラック
幅を５μｍ、ギャップ長を０．４５μｍ、薄膜コイル１
３の巻数を１６Ｔとした。さらにＭＲヘッド１５をアル
ミナ膜による絶縁層１６を介して形成した。ＭＲヘッド
１５は、膜厚１μｍのＮｉＦｅ膜をシールド１４とした
シールド型とし、ＭＲ素子は図８に示す構成とした。図
８において、４１は膜厚４０ｎｍのＣｏＺｒＭｏ膜、４
２は膜厚１０ｎｍのＴａ膜、４３は膜厚３０ｎｍのＮｉ
Ｆｅ膜、４４は膜厚２０ｎｍのＦｅＭｎ膜である。さら
にＡｕ膜により電極４５を形成した。トラック幅は４μ
ｍとした。
て、スライダーをＡｌ2Ｏ3とＴｉＣよりなる焼結体で作
製し、その媒体進行方向に対して後端部に図２に示す構
成で、スライダー１１面より記録用インダクティブヘッ
ド１７、再生用ＭＲヘッド１５を形成した複合型磁気ヘ
ッドを作製した。インダクティブヘッドの磁気コア１２
には飽和磁化が１６ｋＧのＦｅＴａＮスパッタ膜を用
い、磁界中熱処理により、ヘッド内の磁束の方向が磁化
困難軸となるように膜面内に一軸異方性を形成した。異
方性磁界は２０ｅ程度である。本発明の構成ではＦｅＴ
ａＮ膜のように、軟磁性を発生させるために５００℃程
度の熱処理を要する材料であっても問題なく形成でき
る。ＦｅＴａＮ膜の膜厚は１．５μｍとした。トラック
幅を５μｍ、ギャップ長を０．４５μｍ、薄膜コイル１
３の巻数を１６Ｔとした。さらにＭＲヘッド１５をアル
ミナ膜による絶縁層１６を介して形成した。ＭＲヘッド
１５は、膜厚１μｍのＮｉＦｅ膜をシールド１４とした
シールド型とし、ＭＲ素子は図８に示す構成とした。図
８において、４１は膜厚４０ｎｍのＣｏＺｒＭｏ膜、４
２は膜厚１０ｎｍのＴａ膜、４３は膜厚３０ｎｍのＮｉ
Ｆｅ膜、４４は膜厚２０ｎｍのＦｅＭｎ膜である。さら
にＡｕ膜により電極４５を形成した。トラック幅は４μ
ｍとした。
【０００８】以上の複合型磁気ヘッドの記録再生特性を
評価した。比較のために、実施例１に示したＮｉＦｅメ
ッキ膜を磁極とした図２の構造の複合型磁気ヘッドの特
性も評価した。評価に用いた記録媒体は保磁力が２２０
００ｅのスパッタディスク、ディスクとヘッドの相対速
度は９．２４ｍ／ｓｅｃ、ヘッドのフライングハイトは
０．１μｍとした。図１０に評価結果を示す。ＦｅＴａ
Ｎ膜を記録ヘッドに用いた複合型磁気ヘッドの出力（図
中、１０−１で示す。）は、ＮｉＦｅ膜を記録ヘッドに
用いた場合（図中、１０−２で示す。）に比べて、高い
再生出力を示す。これはＦｅＴａＮ膜の高飽和磁化特性
を反映して記録磁界が急峻となり、媒体上の磁化遷移幅
が減少し、媒体からの漏れ磁束が増大したことによると
考えられる。ＦｅＴａＮ膜を用いた場合に、ＮｉＦｅ膜
の場合に比べて高出力が安定に得られるもう一つの要因
として、ＦｅＴａＮ膜の硬度が高いことが挙げられる。
ＦｅＴａＮ膜のビッカース硬度は１０００であり、Ｎｉ
Ｆｅ膜の２００に比べ大幅に高い。そのため、製造工程
において、ヘッドギャップ面をラップする際に膜だれな
どの問題を起こし難い。インダクティブヘッドの膜だれ
はその上に形成されたＭＲヘッドの形状を不安定にし、
出力を低下させる。ＮｉＦｅ膜を用いた場合この問題が
発生するが、ＦｅＴａＮ膜を用いることによってこの問
題は解決する。図１１にオーバーライト特性を示す。Ｆ
ｅＴａＮ膜を用いた複合型磁気ヘッドのオーバーライト
特性（図中、１１−１で示す。）は、ＮｉＦｅ膜を用い
た場合（図中、１１−２で示す。）に比べて大幅に改善
され、更に保磁力の大きい媒体を使用できることが分か
った。
評価した。比較のために、実施例１に示したＮｉＦｅメ
ッキ膜を磁極とした図２の構造の複合型磁気ヘッドの特
性も評価した。評価に用いた記録媒体は保磁力が２２０
００ｅのスパッタディスク、ディスクとヘッドの相対速
度は９．２４ｍ／ｓｅｃ、ヘッドのフライングハイトは
０．１μｍとした。図１０に評価結果を示す。ＦｅＴａ
Ｎ膜を記録ヘッドに用いた複合型磁気ヘッドの出力（図
中、１０−１で示す。）は、ＮｉＦｅ膜を記録ヘッドに
用いた場合（図中、１０−２で示す。）に比べて、高い
再生出力を示す。これはＦｅＴａＮ膜の高飽和磁化特性
を反映して記録磁界が急峻となり、媒体上の磁化遷移幅
が減少し、媒体からの漏れ磁束が増大したことによると
考えられる。ＦｅＴａＮ膜を用いた場合に、ＮｉＦｅ膜
の場合に比べて高出力が安定に得られるもう一つの要因
として、ＦｅＴａＮ膜の硬度が高いことが挙げられる。
ＦｅＴａＮ膜のビッカース硬度は１０００であり、Ｎｉ
Ｆｅ膜の２００に比べ大幅に高い。そのため、製造工程
において、ヘッドギャップ面をラップする際に膜だれな
どの問題を起こし難い。インダクティブヘッドの膜だれ
はその上に形成されたＭＲヘッドの形状を不安定にし、
出力を低下させる。ＮｉＦｅ膜を用いた場合この問題が
発生するが、ＦｅＴａＮ膜を用いることによってこの問
題は解決する。図１１にオーバーライト特性を示す。Ｆ
ｅＴａＮ膜を用いた複合型磁気ヘッドのオーバーライト
特性（図中、１１−１で示す。）は、ＮｉＦｅ膜を用い
た場合（図中、１１−２で示す。）に比べて大幅に改善
され、更に保磁力の大きい媒体を使用できることが分か
った。
【０００９】実施例３ 図６に示すスライダー２１を有する磁気ヘッドにおい
て、スライダーをＡｌ2Ｏ3とＴｉＣよりなる焼結体で作
製し、その媒体進行方向に対して後端部に図５に示す構
成で、スライダー１１面より記録用インダクティブヘッ
ド１７、再生用ＭＲヘッド１５を形成した複合型磁気ヘ
ッドを作製した。インダクティブヘッドの磁気コア１２
には飽和磁化が１６ｋＧのＦｅＴａＮスパッタ膜を用
い、磁界中熱処理により、ヘッド内の磁束の方向が磁化
困難軸となるように膜面内に一軸異方性を形成した。異
方性磁界は２０ｅ程度である。本発明の構成ではＦｅＴ
ａＮ膜のように、軟磁性を発生させるために５００℃程
度の熱処理を要する材料であっても問題なく形成でき
る。ＦｅＴａＮ膜の膜厚は１．５μｍとした。トラック
幅を５μｍ、ギャップ長を０．４５μｍ、薄膜コイル１
３の巻数を１６Ｔとした。さらにＭＲヘッド１５をアル
ミナ膜による絶縁層１６を介して形成した。ＭＲヘッド
１５は、膜厚１μｍのＮｉＦｅ膜をシールド１４とした
シールド型とし、ＭＲ素子は図８に示す構成とした。図
８において、４１は膜厚４０ｎｍのＣｏＺｒＭｏ膜、４
２は膜厚１０ｎｍのＴａ膜、４３は膜厚３０ｎｍのＮｉ
Ｆｅ膜、４４は膜厚２０ｎｍのＦｅＭｎ膜である。さら
にＡｕ膜により電極４５を形成した。トラック幅は４μ
ｍとした。
て、スライダーをＡｌ2Ｏ3とＴｉＣよりなる焼結体で作
製し、その媒体進行方向に対して後端部に図５に示す構
成で、スライダー１１面より記録用インダクティブヘッ
ド１７、再生用ＭＲヘッド１５を形成した複合型磁気ヘ
ッドを作製した。インダクティブヘッドの磁気コア１２
には飽和磁化が１６ｋＧのＦｅＴａＮスパッタ膜を用
い、磁界中熱処理により、ヘッド内の磁束の方向が磁化
困難軸となるように膜面内に一軸異方性を形成した。異
方性磁界は２０ｅ程度である。本発明の構成ではＦｅＴ
ａＮ膜のように、軟磁性を発生させるために５００℃程
度の熱処理を要する材料であっても問題なく形成でき
る。ＦｅＴａＮ膜の膜厚は１．５μｍとした。トラック
幅を５μｍ、ギャップ長を０．４５μｍ、薄膜コイル１
３の巻数を１６Ｔとした。さらにＭＲヘッド１５をアル
ミナ膜による絶縁層１６を介して形成した。ＭＲヘッド
１５は、膜厚１μｍのＮｉＦｅ膜をシールド１４とした
シールド型とし、ＭＲ素子は図８に示す構成とした。図
８において、４１は膜厚４０ｎｍのＣｏＺｒＭｏ膜、４
２は膜厚１０ｎｍのＴａ膜、４３は膜厚３０ｎｍのＮｉ
Ｆｅ膜、４４は膜厚２０ｎｍのＦｅＭｎ膜である。さら
にＡｕ膜により電極４５を形成した。トラック幅は４μ
ｍとした。
【００１０】以上の複合型磁気ヘッドの記録再生特性を
評価した。比較のために、実施例１に示したＮｉＦｅメ
ッキ膜を磁極とした図５の構造の複合型磁気ヘッドの特
性も評価した。評価に用いた記録媒体は保磁力が２２０
００ｅのスパッタディスク、ディスクとヘッドの相対速
度は９．２４ｍ／ｓｅｃ、ヘッドのフライングハイトは
０．１μｍとした。図１２に評価結果を示す。ＦｅＴａ
Ｎ膜を記録ヘッドに用いた複合型磁気ヘッドの出力（図
中、１２−１で示す。）は、ＮｉＦｅ膜を記録ヘッドに
用いた場合（図中、１２−２で示す。）に比べて、高い
再生出力を示す。これはＦｅＴａＮ膜の高飽和磁化特性
を反映して記録磁界が急峻となり、媒体上の磁化遷移幅
が減少し、媒体からの漏れ磁束が増大したことによると
考えられる。ＦｅＴａＮ膜を用いた場合に、ＮｉＦｅ膜
の場合に比べて高出力が安定に得られるもう一つの要因
として、ＦｅＴａＮ膜の硬度が高いことが挙げられる。
ＦｅＴａＮ膜のビッカース硬度は１０００であり、Ｎｉ
Ｆｅ膜の２００に比べ大幅に高い。そのため、製造工程
において、ヘッドギャップ面をラップする際に膜だれな
どの問題を起こし難い。インダクティブヘッドの膜だれ
はその上に形成されたＭＲヘッドの形状を不安定にし、
出力を低下させる。ＮｉＦｅ膜を用いた場合この問題が
発生するが、ＦｅＴａＮ膜を用いることによってこの問
題は解決する。また、図５の構造は図２の構造に対し
て、インダクティブヘッドを基板内に埋め込む構造であ
ることから、ＭＲヘッドが平坦部に形成でき、ＭＲヘッ
ドの出力の安定化に有利である。
評価した。比較のために、実施例１に示したＮｉＦｅメ
ッキ膜を磁極とした図５の構造の複合型磁気ヘッドの特
性も評価した。評価に用いた記録媒体は保磁力が２２０
００ｅのスパッタディスク、ディスクとヘッドの相対速
度は９．２４ｍ／ｓｅｃ、ヘッドのフライングハイトは
０．１μｍとした。図１２に評価結果を示す。ＦｅＴａ
Ｎ膜を記録ヘッドに用いた複合型磁気ヘッドの出力（図
中、１２−１で示す。）は、ＮｉＦｅ膜を記録ヘッドに
用いた場合（図中、１２−２で示す。）に比べて、高い
再生出力を示す。これはＦｅＴａＮ膜の高飽和磁化特性
を反映して記録磁界が急峻となり、媒体上の磁化遷移幅
が減少し、媒体からの漏れ磁束が増大したことによると
考えられる。ＦｅＴａＮ膜を用いた場合に、ＮｉＦｅ膜
の場合に比べて高出力が安定に得られるもう一つの要因
として、ＦｅＴａＮ膜の硬度が高いことが挙げられる。
ＦｅＴａＮ膜のビッカース硬度は１０００であり、Ｎｉ
Ｆｅ膜の２００に比べ大幅に高い。そのため、製造工程
において、ヘッドギャップ面をラップする際に膜だれな
どの問題を起こし難い。インダクティブヘッドの膜だれ
はその上に形成されたＭＲヘッドの形状を不安定にし、
出力を低下させる。ＮｉＦｅ膜を用いた場合この問題が
発生するが、ＦｅＴａＮ膜を用いることによってこの問
題は解決する。また、図５の構造は図２の構造に対し
て、インダクティブヘッドを基板内に埋め込む構造であ
ることから、ＭＲヘッドが平坦部に形成でき、ＭＲヘッ
ドの出力の安定化に有利である。
【００１１】実施例４ 図６に示すスライダー２１を有する磁気ヘッドと磁気デ
ィスクの系からなる磁気記録再生装置において、スライ
ダーをＡｌ2Ｏ3とＴｉＣよりなる焼結体で作製し、その
媒体進行方向に対して後端部に図５に示す構成で、スラ
イダー１１面より記録用インダクティブヘッド１７、再
生用ＭＲヘッド１５を形成した複合型磁気ヘッドを有す
る磁気記録再生装置を作製した。インダクティブヘッド
の磁気コア１２には飽和磁化が１０ｋＧのＮｉＦｅメッ
キ膜を用い、磁界中メッキにより、ヘッド内の磁束の方
向が磁化困難軸となるように膜面内に一軸異方性を形成
した。異方性磁界は２０ｅ程度である。ＮｉＦｅメッキ
膜の膜厚は２μｍとした。トラック幅を５μｍ、ギャッ
プ長を０．４５μｍ、薄膜コイル１３の巻数を１６Ｔと
した。さらにＭＲヘッド１５をアルミナ膜による絶縁層
１６を介して形成した。ＭＲヘッド１５は、膜厚１μｍ
のＮｉＦｅ膜をシールド１４としたシールド型とし、Ｍ
Ｒ素子は図８に示す構成とした。図８において、４１は
膜厚４０ｎｍのＣｏＺｒＭｏ膜、４２は膜厚１０ｎｍの
Ｔａ膜、４３は膜厚３０ｎｍのＮｉＦｅ膜、４４は膜厚
２０ｎｍのＦｅＭｎ膜である。さらにＡｕ膜により電極
４５を形成した。トラック幅は４μｍとした。また、比
較のために、図７（ｂ）に示す従来のＭＲヘッドおよび
インダクテイブヘッド構成による複合型磁気ヘッドを上
記と同様にして作製した。
ィスクの系からなる磁気記録再生装置において、スライ
ダーをＡｌ2Ｏ3とＴｉＣよりなる焼結体で作製し、その
媒体進行方向に対して後端部に図５に示す構成で、スラ
イダー１１面より記録用インダクティブヘッド１７、再
生用ＭＲヘッド１５を形成した複合型磁気ヘッドを有す
る磁気記録再生装置を作製した。インダクティブヘッド
の磁気コア１２には飽和磁化が１０ｋＧのＮｉＦｅメッ
キ膜を用い、磁界中メッキにより、ヘッド内の磁束の方
向が磁化困難軸となるように膜面内に一軸異方性を形成
した。異方性磁界は２０ｅ程度である。ＮｉＦｅメッキ
膜の膜厚は２μｍとした。トラック幅を５μｍ、ギャッ
プ長を０．４５μｍ、薄膜コイル１３の巻数を１６Ｔと
した。さらにＭＲヘッド１５をアルミナ膜による絶縁層
１６を介して形成した。ＭＲヘッド１５は、膜厚１μｍ
のＮｉＦｅ膜をシールド１４としたシールド型とし、Ｍ
Ｒ素子は図８に示す構成とした。図８において、４１は
膜厚４０ｎｍのＣｏＺｒＭｏ膜、４２は膜厚１０ｎｍの
Ｔａ膜、４３は膜厚３０ｎｍのＮｉＦｅ膜、４４は膜厚
２０ｎｍのＦｅＭｎ膜である。さらにＡｕ膜により電極
４５を形成した。トラック幅は４μｍとした。また、比
較のために、図７（ｂ）に示す従来のＭＲヘッドおよび
インダクテイブヘッド構成による複合型磁気ヘッドを上
記と同様にして作製した。
【００１２】以上の複合型磁気ヘッドの記録再生特性
は、図９に示したように、本発明ヘッドによる再生出力
が従来よりも高く、特に高密度域でその差は拡大する。
この特長が磁気記録再生装置の性能に直接反映し、従来
の磁気記録再生装置に比べて記録容量の大きい装置が実
現した。
は、図９に示したように、本発明ヘッドによる再生出力
が従来よりも高く、特に高密度域でその差は拡大する。
この特長が磁気記録再生装置の性能に直接反映し、従来
の磁気記録再生装置に比べて記録容量の大きい装置が実
現した。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の構造の複
合型磁気ヘッドによって、磁気記録再生時の再生出力を
向上させることができる。さらに、記録ヘッドの磁気コ
アに飽和磁化の大きい熱処理を必要とする軟磁性材料を
使用することができる。そして、記録ヘッドの磁気コア
材料に飽和磁化の大きい軟磁性膜を用いることによっ
て、更なる再生出力の向上がなされる。飽和磁化の大き
い軟磁性膜としては、例えば、ＦｅとＭ（ＭはＴａ，Ｈ
ｆ，Ｚｒ，ＮｂおよびＴｉよりなる群から選択された少
なくとも一種類の元素）とＱ（Ｑは窒素，炭素およびボ
ロンよりなる群から選択された少なくとも一種類の元
素）を主成分とした合金、あるいはＦｅとＭ（ＭはＴ
ａ，Ｈｆ，Ｚｒ，ＮｂおよびＴｉよりなる群から選択さ
れた少なくとも一種類の元素）とＱ（Ｑは窒素，炭素お
よびボロンよりなる群から選択された少なくとも一種類
の元素）とＬ（ＬはＣｕ，Ａｇ，Ａｕ，ＰｄおよびＰｔ
よりなる群から選択された少なくとも一種類の元素）を
主成分とした合金、あるいはＦｅとＮ （Ｎは窒素）を
主成分とするもの、あるいはＦｅＳｉとＮｉＦｅなどの
二種類以上の膜を積層した構造であるもの、あるいはＣ
ｏＴａＺｒなどのアモルファス構造の合金などであれば
同様の効果が得られる。また、記録用インダクティブヘ
ッドの磁気コア材料を硬度の高い材料とすることによっ
て、ヘッド加工工程中の媒体対向面のラップの際の膜だ
れを防止でき、ヘッドの加工歩留りが向上する。硬度の
高い軟磁性材料としては、ＦｅＴａＮ膜の他にも、セン
ダスト、ＦｅとＭ（ＭはＴａ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂおよび
Ｔｉよりなる群から選択された少なくとも一種類の元
素）とＱ（Ｑは窒素，炭素およびボロンよりなる群から
選択された少なくとも一種類の元素）を主成分とした合
金、あるいはＦｅとＭ（ＭはＴａ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂお
よびＴｉよりなる群から選択された少なくとも一種類の
元素）とＱ（Ｑは窒素，炭素およびボロンよりなる群か
ら選択された少なくとも一種類の元素）とＬ（ＬはＣ
ｕ，Ａｇ，Ａｕ，ＰｄおよびＰｔよりなる群から選択さ
れた少なくとも一種類の元素）を主成分とした合金、あ
るいはＦｅとＮ（Ｎは窒素）を主成分とするもの、ある
いはＣｏＴａＺｒなどのアモルファス構造の合金などで
あれば同様の効果が得られる。さらに、本発明の構造の
複合型磁気ヘッドを用いることによって、従来よりも大
容量の磁気記録再生装置が実現する。
合型磁気ヘッドによって、磁気記録再生時の再生出力を
向上させることができる。さらに、記録ヘッドの磁気コ
アに飽和磁化の大きい熱処理を必要とする軟磁性材料を
使用することができる。そして、記録ヘッドの磁気コア
材料に飽和磁化の大きい軟磁性膜を用いることによっ
て、更なる再生出力の向上がなされる。飽和磁化の大き
い軟磁性膜としては、例えば、ＦｅとＭ（ＭはＴａ，Ｈ
ｆ，Ｚｒ，ＮｂおよびＴｉよりなる群から選択された少
なくとも一種類の元素）とＱ（Ｑは窒素，炭素およびボ
ロンよりなる群から選択された少なくとも一種類の元
素）を主成分とした合金、あるいはＦｅとＭ（ＭはＴ
ａ，Ｈｆ，Ｚｒ，ＮｂおよびＴｉよりなる群から選択さ
れた少なくとも一種類の元素）とＱ（Ｑは窒素，炭素お
よびボロンよりなる群から選択された少なくとも一種類
の元素）とＬ（ＬはＣｕ，Ａｇ，Ａｕ，ＰｄおよびＰｔ
よりなる群から選択された少なくとも一種類の元素）を
主成分とした合金、あるいはＦｅとＮ （Ｎは窒素）を
主成分とするもの、あるいはＦｅＳｉとＮｉＦｅなどの
二種類以上の膜を積層した構造であるもの、あるいはＣ
ｏＴａＺｒなどのアモルファス構造の合金などであれば
同様の効果が得られる。また、記録用インダクティブヘ
ッドの磁気コア材料を硬度の高い材料とすることによっ
て、ヘッド加工工程中の媒体対向面のラップの際の膜だ
れを防止でき、ヘッドの加工歩留りが向上する。硬度の
高い軟磁性材料としては、ＦｅＴａＮ膜の他にも、セン
ダスト、ＦｅとＭ（ＭはＴａ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂおよび
Ｔｉよりなる群から選択された少なくとも一種類の元
素）とＱ（Ｑは窒素，炭素およびボロンよりなる群から
選択された少なくとも一種類の元素）を主成分とした合
金、あるいはＦｅとＭ（ＭはＴａ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂお
よびＴｉよりなる群から選択された少なくとも一種類の
元素）とＱ（Ｑは窒素，炭素およびボロンよりなる群か
ら選択された少なくとも一種類の元素）とＬ（ＬはＣ
ｕ，Ａｇ，Ａｕ，ＰｄおよびＰｔよりなる群から選択さ
れた少なくとも一種類の元素）を主成分とした合金、あ
るいはＦｅとＮ（Ｎは窒素）を主成分とするもの、ある
いはＣｏＴａＺｒなどのアモルファス構造の合金などで
あれば同様の効果が得られる。さらに、本発明の構造の
複合型磁気ヘッドを用いることによって、従来よりも大
容量の磁気記録再生装置が実現する。
【図１】本発明による複合型磁気ヘッドの一例の概略断
面図である。
面図である。
【図２】本発明による複合型磁気ヘッドの一例の概略断
面図である。
面図である。
【図３】本発明による複合型磁気ヘッドの一例の概略断
面図である。
面図である。
【図４】本発明による複合型磁気ヘッドの一例の概略断
面図である。
面図である。
【図５】本発明による複合型磁気ヘッドの一例の概略断
面図である。
面図である。
【図６】磁気ヘッドと磁気ディスク媒体の構成図であ
る。
る。
【図７】従来の複合型磁気ヘッドの一例の概略断面図で
ある。
ある。
【図８】ＭＲヘッドの媒体対向面から見た断面図であ
る。
る。
【図９】記録ヘッド用磁気コアにＮｉＦｅ膜を用いた時
の本発明による複合型磁気ヘッドの再生出力を従来技術
による複合型磁気ヘッドの再生出力と比較して示した図
である。
の本発明による複合型磁気ヘッドの再生出力を従来技術
による複合型磁気ヘッドの再生出力と比較して示した図
である。
【図１０】本発明による複合型磁気ヘッドの記録ヘッド
磁気コア部にＦｅＴａＮ膜を用いた時の再生出力とＮｉ
Ｆｅ膜を用いた時の再生出力を比較して示した図であ
る。
磁気コア部にＦｅＴａＮ膜を用いた時の再生出力とＮｉ
Ｆｅ膜を用いた時の再生出力を比較して示した図であ
る。
【図１１】本発明による複合型磁気ヘッドの記録ヘッド
磁気コア部にＦｅＴａＮ膜を用いた時のオーバーライト
特性とＮｉＦｅ膜を用いた時のオーバーライト特性を比
較して示した図である。
磁気コア部にＦｅＴａＮ膜を用いた時のオーバーライト
特性とＮｉＦｅ膜を用いた時のオーバーライト特性を比
較して示した図である。
【図１２】本発明による複合型磁気ヘッドの記録ヘッド
磁気コア部にＦｅＴａＮ膜を用いた時の再生出力とＮｉ
Ｆｅ膜を用いた時の再生出力を比較して示した図であ
る。
磁気コア部にＦｅＴａＮ膜を用いた時の再生出力とＮｉ
Ｆｅ膜を用いた時の再生出力を比較して示した図であ
る。
１１ スライダー １２ 磁気コア １３ コイル １４ ＭＲシールド １５ ＭＲヘッド １６ 絶縁層 １７ 記録用ヘッド ２１ スライダー ２３ 記録媒体 ３１ スライダー ３２ 磁気コア ３３ コイル ３４ ＭＲシールド ３５ ＭＲヘッド ３６ 記録用ヘッド ４１ ＣｏＺｒＭｏ膜 ４２ Ｔａ膜 ４３ ＮｉＦｅ膜 ４４ ＦｅＭｎ膜 ４５ 電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/39
Claims (11)
- 【請求項１】 記録用ヘッドと再生用ヘッドとが相互に
独立であり、かつ記録用ヘッドと再生用ヘッドとが同一
の基体上に形成された複合型磁気ヘッドであって、記録
用ヘッドの記録媒体への記録磁束の流出端の基体からの
距離Ｌ1と、再生用ヘッドの記録媒体からの漏洩磁束の
流入端の基体からの距離Ｌ2とがＬ1＜Ｌ2なる関係を有
することを特徴とする複合型磁気ヘッド。 - 【請求項２】 記録用ヘッドが、軟磁性体を磁気コアと
し、電磁誘導による磁気コアからの磁束により磁気記録
媒体を磁化するものであり、再生用ヘッドが磁気抵抗効
果により再生するものである請求項１記載の複合型磁気
ヘッド。 - 【請求項３】 記録用ヘッドの磁気コア用軟磁性体の飽
和磁化が１０ｋＧ以上である請求項２記載の複合型磁気
ヘッド。 - 【請求項４】 記録用ヘッドの磁気コア用軟磁性体がＦ
ｅとＮｉを主成分とした合金である請求項２記載の複合
型磁気ヘッド。 - 【請求項５】 記録用ヘッドの磁気コア用軟磁性体がＦ
ｅとＳｉとＡｌを主成分とした合金である請求項２記載
の複合型磁気ヘッド。 - 【請求項６】 記録用ヘッドの磁気コア用軟磁性体がＦ
ｅとＭ（ＭはＴａ，Ｈｆ，Ｚｒ，ＮｂおよびＴｉよりな
る群から選択された少なくとも一種類の元素）とＱ（Ｑ
は窒素，炭素およびボロンよりなる群から選択された少
なくとも一種類の元素）を主成分とした合金である請求
項２記載の複合型磁気ヘッド。 - 【請求項７】 記録用ヘッドの磁気コア用軟磁性体がＦ
ｅとＭ（ＭはＴａ，Ｈｆ，Ｚｒ，ＮｂおよびＴｉよりな
る群から選択された少なくとも一種類の元素）とＱ（Ｑ
は窒素，炭素およびボロンよりなる群から選択された少
なくとも一種類の元素）とＬ（ＬはＣｕ，Ａｇ，Ａｕ，
ＰｄおよびＰｔよりなる群から選択された少なくとも一
種類の元素）を主成分とした合金である請求項２記載の
複合型磁気ヘッド。 - 【請求項８】 記録用ヘッドの磁気コア用軟磁性体がＦ
ｅとＮ（Ｎは窒素）を主成分とする請求項２記載の複合
型磁気ヘッド。 - 【請求項９】 記録用ヘッドの磁気コア用軟磁性体が二
種類以上の膜を積層した構造である請求項２記載の複合
型磁気ヘッド。 - 【請求項１０】 記録用ヘッドの磁気コア用軟磁性体が
アモルファス構造である請求項２記載の複合型磁気ヘッ
ド。 - 【請求項１１】 請求項１〜１０のいずれかに記載の複
合型磁気ヘッドを用いた磁気記録再生装置であって、記
録用ヘッドの記録媒体への記録磁束の流出端部と記録媒
体表面との間の距離Ｒ1と、記録媒体の漏洩磁束の再生
ヘッド流入端部と記録媒体表面との間の距離Ｒ2とがＲ1
≧Ｒ2なる関係を有することを特徴とする磁気記録再生
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10599293A JPH06295418A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 複合型磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10599293A JPH06295418A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 複合型磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06295418A true JPH06295418A (ja) | 1994-10-21 |
Family
ID=14422225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10599293A Pending JPH06295418A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 複合型磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06295418A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6407891B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-06-18 | International Business Machines Corporation | Magnetic read/write head having electromagnetic field cancellation element |
| US7969683B2 (en) | 2003-05-06 | 2011-06-28 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Write first design for a perpendicular thin film head |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63299219A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Sony Corp | 軟磁性薄膜 |
| JPH0196814A (ja) * | 1987-10-09 | 1989-04-14 | Hitachi Ltd | 複合型薄膜磁気ヘッド |
| JPH02275605A (ja) * | 1989-01-26 | 1990-11-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 軟磁性薄膜 |
| JPH03263306A (ja) * | 1990-02-02 | 1991-11-22 | Nec Corp | 磁性体膜および磁気ヘッド |
| JPH04216311A (ja) * | 1990-12-18 | 1992-08-06 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH04341910A (ja) * | 1991-05-17 | 1992-11-27 | Hitachi Metals Ltd | 記録再生分離型薄膜ヘッド |
| JPH04366407A (ja) * | 1991-06-12 | 1992-12-18 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH056821A (ja) * | 1990-11-16 | 1993-01-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 軟磁性薄膜 |
| JPH0546943A (ja) * | 1991-08-12 | 1993-02-26 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘツド |
-
1993
- 1993-04-09 JP JP10599293A patent/JPH06295418A/ja active Pending
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS63299219A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Sony Corp | 軟磁性薄膜 |
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| US7969683B2 (en) | 2003-05-06 | 2011-06-28 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Write first design for a perpendicular thin film head |
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