JPH06293565A - Si−SiC複合セラミックスの製造方法 - Google Patents
Si−SiC複合セラミックスの製造方法Info
- Publication number
- JPH06293565A JPH06293565A JP5100239A JP10023993A JPH06293565A JP H06293565 A JPH06293565 A JP H06293565A JP 5100239 A JP5100239 A JP 5100239A JP 10023993 A JP10023993 A JP 10023993A JP H06293565 A JPH06293565 A JP H06293565A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sic
- mesophase
- containing pitch
- density
- strength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高強度で、高密度、均質な緻密質Si−Si
C材の提供。 【構成】 原料にメソフェーズ含有ピッチが被覆されて
なるSiC粉末を用いて成形体を形成し、得られた成形
体を非酸化性雰囲気下に加熱処理してSiC−C焼成体
とし、そのSiC−C焼成体にSiを含浸することを特
徴とするSi−SiC複合セラミックスの製造方法。
C材の提供。 【構成】 原料にメソフェーズ含有ピッチが被覆されて
なるSiC粉末を用いて成形体を形成し、得られた成形
体を非酸化性雰囲気下に加熱処理してSiC−C焼成体
とし、そのSiC−C焼成体にSiを含浸することを特
徴とするSi−SiC複合セラミックスの製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、Si−SiC複合セラ
ミックスの製造方法に関し、更に、詳しくは高密度、高
強度の緻密質Si−SiC複合セラミックスの製造方法
に関する。
ミックスの製造方法に関し、更に、詳しくは高密度、高
強度の緻密質Si−SiC複合セラミックスの製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】珪素(Si)と炭化珪素(SiC)とか
らなるSi−SiC複合セラミックスは、緻密性及び強
度に優れ、半導体拡散炉の構造部材等の各種構造材料と
して用いられている。上記Si−SiC複合セラミック
スの製造方法としては、従来から、SiCとカーボン質
性化合物とからなる成形体から得られるSiC−C体
に、更にSiを含浸させてSi−SiC複合セラミック
スとする方法が知られている。この場合、SiCとカー
ボン質とから形成されるSiC−C体は、例えば、Si
C粉末とフェノール樹脂とからなる造粒粉を用い成形し
て得た成形体を、非酸化性雰囲気下で焼成しフェノール
樹脂をカーボン化してSiC−C焼成体とする方法や、
SiC粉末とカーボンブラックとを分散剤及び結合剤と
共に分散、混合して得たスラリーを吸水型に鋳込みスリ
ップキャスト法で成形して、その成形体を焼成する方法
等で形成されている。
らなるSi−SiC複合セラミックスは、緻密性及び強
度に優れ、半導体拡散炉の構造部材等の各種構造材料と
して用いられている。上記Si−SiC複合セラミック
スの製造方法としては、従来から、SiCとカーボン質
性化合物とからなる成形体から得られるSiC−C体
に、更にSiを含浸させてSi−SiC複合セラミック
スとする方法が知られている。この場合、SiCとカー
ボン質とから形成されるSiC−C体は、例えば、Si
C粉末とフェノール樹脂とからなる造粒粉を用い成形し
て得た成形体を、非酸化性雰囲気下で焼成しフェノール
樹脂をカーボン化してSiC−C焼成体とする方法や、
SiC粉末とカーボンブラックとを分散剤及び結合剤と
共に分散、混合して得たスラリーを吸水型に鋳込みスリ
ップキャスト法で成形して、その成形体を焼成する方法
等で形成されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記カ
ーボン質源にフェノール樹脂を用いる場合には、フェノ
ール樹脂の炭化率は高々50%前後であり、また、焼成
による揮発成分が大きいため、得られるSiC−C焼成
体の密度が低下し、高緻密度のSiC材を得ることが困
難である。また、フェノール樹脂とSiC粉末とを均一
に混合することが難しく、均質なSi−SiC材を得る
ことが困難であった。一方、カーボン質源として、カー
ボンブラックを用いる場合は、カーボンブラックが微粉
であるため、カーボン量を増加させようとするとスラリ
ー粘度が上昇し鋳込成形が困難となり、逆に、鋳込成形
が容易な粘度を有するスラリーを形成した場合にはカー
ボン量に限界があり、得られるSi−SiC材の密度に
も限界がある。また、上記フェノール樹脂は、結合剤と
して作用するのに対し、カーボンブラックは結合剤とし
て機能することがないため、水ガラスやアクリル系のバ
インダーを添加する必要がある。
ーボン質源にフェノール樹脂を用いる場合には、フェノ
ール樹脂の炭化率は高々50%前後であり、また、焼成
による揮発成分が大きいため、得られるSiC−C焼成
体の密度が低下し、高緻密度のSiC材を得ることが困
難である。また、フェノール樹脂とSiC粉末とを均一
に混合することが難しく、均質なSi−SiC材を得る
ことが困難であった。一方、カーボン質源として、カー
ボンブラックを用いる場合は、カーボンブラックが微粉
であるため、カーボン量を増加させようとするとスラリ
ー粘度が上昇し鋳込成形が困難となり、逆に、鋳込成形
が容易な粘度を有するスラリーを形成した場合にはカー
ボン量に限界があり、得られるSi−SiC材の密度に
も限界がある。また、上記フェノール樹脂は、結合剤と
して作用するのに対し、カーボンブラックは結合剤とし
て機能することがないため、水ガラスやアクリル系のバ
インダーを添加する必要がある。
【0004】上記のように、従来の方法によっては、高
密度で均質なSi−SiC材を得ることが容易でなかっ
た。本発明は、上記現況に鑑み、高密度で均質な緻密質
のSi−SiC材を得ること目的に、その前駆体とし
て、パッキング密度が低下することなく、且つ、カーボ
ン質成分が均一に分散されたSiC−C体を得ることに
ついて鋭意検討した結果、本発明に到った。
密度で均質なSi−SiC材を得ることが容易でなかっ
た。本発明は、上記現況に鑑み、高密度で均質な緻密質
のSi−SiC材を得ること目的に、その前駆体とし
て、パッキング密度が低下することなく、且つ、カーボ
ン質成分が均一に分散されたSiC−C体を得ることに
ついて鋭意検討した結果、本発明に到った。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、メソフ
ェーズ含有ピッチが被覆されてなるSiC粉末を原料と
して成形体を形成し、該成形体を非酸化性雰囲気下に加
熱処理して得られる加熱処理焼成体にSiを含浸するこ
とを特徴とするSi−SiC複合セラミックスの製造方
法が提供される。
ェーズ含有ピッチが被覆されてなるSiC粉末を原料と
して成形体を形成し、該成形体を非酸化性雰囲気下に加
熱処理して得られる加熱処理焼成体にSiを含浸するこ
とを特徴とするSi−SiC複合セラミックスの製造方
法が提供される。
【0006】
【作用】本発明は上記のように構成され、原料にメソフ
ェーズ含有ピッチにより被覆されたSiC粉末を用いる
ため、成形体において、各SiC粉末粒子が最密に接触
密着し、且つ、カーボン質成分は各SiC粒子間に均質
に配されることになる。従って、焼成によりSiC粒子
の結合はカーボン質を介して緊密となり、骨格の強固な
SiC−C焼成体を得ることができると共に、SiC中
にカーボンが均一に分散された状態となる。また、焼成
体中のカーボン量が増大するため、Siを含浸させるこ
とによりSiC成分を増大させることができ、高密度
で、高強度のSi−SiC複合セラミックスを得ること
ができる。
ェーズ含有ピッチにより被覆されたSiC粉末を用いる
ため、成形体において、各SiC粉末粒子が最密に接触
密着し、且つ、カーボン質成分は各SiC粒子間に均質
に配されることになる。従って、焼成によりSiC粒子
の結合はカーボン質を介して緊密となり、骨格の強固な
SiC−C焼成体を得ることができると共に、SiC中
にカーボンが均一に分散された状態となる。また、焼成
体中のカーボン量が増大するため、Siを含浸させるこ
とによりSiC成分を増大させることができ、高密度
で、高強度のSi−SiC複合セラミックスを得ること
ができる。
【0007】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明において、メソフェーズ含有ピッチで被覆されたS
iCとしては、例えば、特開昭61−136906号や
同64−75566号公報に記載され方法等により、所
定粒径のSiC粒子とメソフェーズピッチ前駆体とを処
理して製造されるものを用いることができる。この場
合、SiC粒子表面に被覆されるメソフェーズ含有ピッ
チは、通常、SiCに対し0.1〜5重量が被覆され
る。これらSiC粒子に被覆されたメソフェーズ含有ピ
ッチは、用いるメソフェーズピッチ前駆体を選択するこ
とにより、焼成工程等において重金属やアルカリ成分を
放出することがなく、炭化収率を高くすることができ
る。また、SiC粒子との密着性がよく、且つ、各Si
C粒子表面をほぼ均一に被覆される。また、SiC粒子
径及び処理条件等を適宜選択することにより、メソフェ
ーズ含有ピッチの被覆層の厚さを所定に制御することも
できることが知られている。
発明において、メソフェーズ含有ピッチで被覆されたS
iCとしては、例えば、特開昭61−136906号や
同64−75566号公報に記載され方法等により、所
定粒径のSiC粒子とメソフェーズピッチ前駆体とを処
理して製造されるものを用いることができる。この場
合、SiC粒子表面に被覆されるメソフェーズ含有ピッ
チは、通常、SiCに対し0.1〜5重量が被覆され
る。これらSiC粒子に被覆されたメソフェーズ含有ピ
ッチは、用いるメソフェーズピッチ前駆体を選択するこ
とにより、焼成工程等において重金属やアルカリ成分を
放出することがなく、炭化収率を高くすることができ
る。また、SiC粒子との密着性がよく、且つ、各Si
C粒子表面をほぼ均一に被覆される。また、SiC粒子
径及び処理条件等を適宜選択することにより、メソフェ
ーズ含有ピッチの被覆層の厚さを所定に制御することも
できることが知られている。
【0008】上記した公知の方法により生成されるメソ
フェーズ含有ピッチで被覆されたSiCにおいて、本発
明で用いられるメソフェーズ含有ピッチを被覆するため
の原料SiC粉末は、その平均粒径が0.1〜100μ
m、好ましくは1〜50 μmのものが用いられる。平
均粒径が0.1μm未満であるとメソフェーズ含有ピッ
チの被覆が困難となり、また100μmを超えると成
形、焼成して得られるSiC材においてSiC粒子同士
の結合が減少し、強度が低下するため好ましくない。ま
た、上記原料SiC粉末に被覆されるメソフェーズ含有
ピッチの含有量は、10〜80重量%、好ましくは15
〜50重量%とするのがよい。メソフェーズ含有ピッチ
の含有量が10重量%未満では、C分を介したSiC粒
子同士の結合が弱くなり、80重量%以上ではC分が必
要量より多くなりすぎ、Si含浸時に未反応 カーボン
が残存することとなり不都合を生じるためである。
フェーズ含有ピッチで被覆されたSiCにおいて、本発
明で用いられるメソフェーズ含有ピッチを被覆するため
の原料SiC粉末は、その平均粒径が0.1〜100μ
m、好ましくは1〜50 μmのものが用いられる。平
均粒径が0.1μm未満であるとメソフェーズ含有ピッ
チの被覆が困難となり、また100μmを超えると成
形、焼成して得られるSiC材においてSiC粒子同士
の結合が減少し、強度が低下するため好ましくない。ま
た、上記原料SiC粉末に被覆されるメソフェーズ含有
ピッチの含有量は、10〜80重量%、好ましくは15
〜50重量%とするのがよい。メソフェーズ含有ピッチ
の含有量が10重量%未満では、C分を介したSiC粒
子同士の結合が弱くなり、80重量%以上ではC分が必
要量より多くなりすぎ、Si含浸時に未反応 カーボン
が残存することとなり不都合を生じるためである。
【0009】本発明の上記メソフェーズ含有ピッチが被
覆されたSiC粉末は、所定の形状に成形される。成形
方法は、特に制限されることなく、例えば、加圧成形、
鋳込成形等公知のセラミック成形方法を用いることがで
きる。また、本発明のメソフェーズ含有ピッチが被覆さ
れたSiC粉末の成形に際して、要すればバインダーを
添加したり、造粒して用いることができる。本発明の加
熱処理は、上記メソフェーズ含有ピッチが被覆されたS
iC粉末により成形された成形体を、乾燥後、要すれば
脱脂処理等をした後、アルゴン、窒素 等の非酸化性ガ
ス雰囲気下で、約900〜1800℃で処理して、Si
C表面のメソフェーズ含有ピッチをカーボン化する。本
発明において、メソフェーズ含有ピッチは加熱処理によ
り通常、約90%以上がカーボン化される。従って、メ
ソフェーズ含有ピッチが被覆されたSiC粉末を用いて
成形した成形体は、各SiC粒子はカーボンを介して緊
密に接合されたSiC−Cの加熱処理焼成体が形成され
る。
覆されたSiC粉末は、所定の形状に成形される。成形
方法は、特に制限されることなく、例えば、加圧成形、
鋳込成形等公知のセラミック成形方法を用いることがで
きる。また、本発明のメソフェーズ含有ピッチが被覆さ
れたSiC粉末の成形に際して、要すればバインダーを
添加したり、造粒して用いることができる。本発明の加
熱処理は、上記メソフェーズ含有ピッチが被覆されたS
iC粉末により成形された成形体を、乾燥後、要すれば
脱脂処理等をした後、アルゴン、窒素 等の非酸化性ガ
ス雰囲気下で、約900〜1800℃で処理して、Si
C表面のメソフェーズ含有ピッチをカーボン化する。本
発明において、メソフェーズ含有ピッチは加熱処理によ
り通常、約90%以上がカーボン化される。従って、メ
ソフェーズ含有ピッチが被覆されたSiC粉末を用いて
成形した成形体は、各SiC粒子はカーボンを介して緊
密に接合されたSiC−Cの加熱処理焼成体が形成され
る。
【0010】加熱処理により得られるSiC−C加熱処
理焼成体は、加熱によりメソフェーズ含有ピッチがカー
ボンに変化し、SiC粉末粒子表面がカーボンで被覆さ
れた形態となる。本発明において、SiC−C加熱処理
焼成体は、次いで、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲
気中または真空中、約1450℃以上の温度、好ましく
は1450〜1700℃で、Siが含浸させられる。S
iの含浸は、通常、溶融Siと接触することにより行わ
れ、例えば、粉末状金属Si中に加熱処理体を埋没させ
た状態で昇温溶融する方法、バインダーと共にペースト
状とした金属Si粉末で加熱処理体表面を覆い昇温溶融
する方法、金属Siシートを用いて加熱処理体を包囲し
て昇温溶融する方法等がある。
理焼成体は、加熱によりメソフェーズ含有ピッチがカー
ボンに変化し、SiC粉末粒子表面がカーボンで被覆さ
れた形態となる。本発明において、SiC−C加熱処理
焼成体は、次いで、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲
気中または真空中、約1450℃以上の温度、好ましく
は1450〜1700℃で、Siが含浸させられる。S
iの含浸は、通常、溶融Siと接触することにより行わ
れ、例えば、粉末状金属Si中に加熱処理体を埋没させ
た状態で昇温溶融する方法、バインダーと共にペースト
状とした金属Si粉末で加熱処理体表面を覆い昇温溶融
する方法、金属Siシートを用いて加熱処理体を包囲し
て昇温溶融する方法等がある。
【0011】本発明のSi−SiC材は、上記方法等に
より加熱処理体にSiを含浸させ、SiC−C加熱処理
体の残留気孔から溶融Siを処理体中に侵入させること
により、Siが、SiC粒子表面を包囲しつつ各SiC
粒子間を緊密に結合しているカーボンと反応し新たにS
iCを形成し、形成されたSiC及び未反応Siが、原
料SiC粉末と一体化され、高密度で緻密質、高強度と
なる。本発明において、上記Si含浸処理のSi含浸量
により、加熱処理体中、即ち、Si−SiC材中の未反
応カーボン及び未反応Siの含有量が変化する。従っ
て、目的に応じてSi含浸量を調整することにより、そ
れぞれの含有量を制御してもよい。また、未反応Si
は、苛性ソーダ、フッ化水素等のSi可溶液で処理して
溶解除去することもできる。
より加熱処理体にSiを含浸させ、SiC−C加熱処理
体の残留気孔から溶融Siを処理体中に侵入させること
により、Siが、SiC粒子表面を包囲しつつ各SiC
粒子間を緊密に結合しているカーボンと反応し新たにS
iCを形成し、形成されたSiC及び未反応Siが、原
料SiC粉末と一体化され、高密度で緻密質、高強度と
なる。本発明において、上記Si含浸処理のSi含浸量
により、加熱処理体中、即ち、Si−SiC材中の未反
応カーボン及び未反応Siの含有量が変化する。従っ
て、目的に応じてSi含浸量を調整することにより、そ
れぞれの含有量を制御してもよい。また、未反応Si
は、苛性ソーダ、フッ化水素等のSi可溶液で処理して
溶解除去することもできる。
【0012】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づき詳細に説明す
る。但し、本発明は下記実施例により制限されるもので
ない。 [メソフェーズ含有ピッチで被覆されたSiC粉末の調
製例]それぞれメソフェーズ含有ピッチの含有量が20
重量%及び30重量%となるように、平均粒径80μm
(#180)(No.1及び2)、25μm(#500)
(No.3及び4)、12μm(#1000)(No.5及び
6)及び1.2μm(#8000)(No.7及び8)の
各SiC粉末(昭和電工(株)製)を、エチレンヘビー
エンドタールのメソフェーズピッチ前駆体で処理し、そ
れぞれメソフェーズ含有ピッチで被覆されたSiC粉末
を得た。
る。但し、本発明は下記実施例により制限されるもので
ない。 [メソフェーズ含有ピッチで被覆されたSiC粉末の調
製例]それぞれメソフェーズ含有ピッチの含有量が20
重量%及び30重量%となるように、平均粒径80μm
(#180)(No.1及び2)、25μm(#500)
(No.3及び4)、12μm(#1000)(No.5及び
6)及び1.2μm(#8000)(No.7及び8)の
各SiC粉末(昭和電工(株)製)を、エチレンヘビー
エンドタールのメソフェーズピッチ前駆体で処理し、そ
れぞれメソフェーズ含有ピッチで被覆されたSiC粉末
を得た。
【0013】実施例1 上記で調製されたメソフェーズ含有ピッチで被覆された
SiC粉末のうちの、メソフェーズ含有ピッチを20重
量%含有被覆させたNo. 1のSiC粉末と、No. 5の
SiC粉末とを、各々50重量%ずつアセトンに混入さ
せ、バインダーとして固形分に対し2重量%のポリビニ
ルアセテート(PVAc)添加して、アセトン中で24
時間ボールミルにて混合した。次いで、エバポレーター
でアセトンを除去して乾燥し、その後100メッシュの
篩を用い造粒した。得られた造粒粉を用い、1t/cm
2の圧力で金型成形して50×50(mm)で厚さ7
(mm)の板状成形体を得た。得られた板状成形体を窒
素ガス雰囲気中で、600℃で1時間保持しバインダー
を離散させて脱脂した。脱脂後、アルゴンガス雰囲気
中、1800℃で1時間加熱処理して焼成体を得た。得
られた焼成体の、密度をアルキメデス法で、強度を3点
曲げ試験法で、また、カーボン量を空気中で800℃、
3時間処理後の減量値からの算出によりそれぞれ測定し
た。その結果、密度が2.00g/cm3、強度が1
4.8MPa、カーボン量が17.5重量%であった。
SiC粉末のうちの、メソフェーズ含有ピッチを20重
量%含有被覆させたNo. 1のSiC粉末と、No. 5の
SiC粉末とを、各々50重量%ずつアセトンに混入さ
せ、バインダーとして固形分に対し2重量%のポリビニ
ルアセテート(PVAc)添加して、アセトン中で24
時間ボールミルにて混合した。次いで、エバポレーター
でアセトンを除去して乾燥し、その後100メッシュの
篩を用い造粒した。得られた造粒粉を用い、1t/cm
2の圧力で金型成形して50×50(mm)で厚さ7
(mm)の板状成形体を得た。得られた板状成形体を窒
素ガス雰囲気中で、600℃で1時間保持しバインダー
を離散させて脱脂した。脱脂後、アルゴンガス雰囲気
中、1800℃で1時間加熱処理して焼成体を得た。得
られた焼成体の、密度をアルキメデス法で、強度を3点
曲げ試験法で、また、カーボン量を空気中で800℃、
3時間処理後の減量値からの算出によりそれぞれ測定し
た。その結果、密度が2.00g/cm3、強度が1
4.8MPa、カーボン量が17.5重量%であった。
【0014】上記の加熱処理して得た焼成体を、更に、
1500℃アルゴンガス気圧下で、溶融Siに浸漬して
Siを含浸処理した。得られたSi含浸のSiCセラミ
ックス、即ち、Si−SiC複合セラミックスを得た。
このSi−SiC複合セラミックスの密度及び強度を、
上記と同様に測定した。その結果、密度は3.100g
/cm3、強度は423MPaであった。密度から算出
したSiの含浸度は、99.6%であった。
1500℃アルゴンガス気圧下で、溶融Siに浸漬して
Siを含浸処理した。得られたSi含浸のSiCセラミ
ックス、即ち、Si−SiC複合セラミックスを得た。
このSi−SiC複合セラミックスの密度及び強度を、
上記と同様に測定した。その結果、密度は3.100g
/cm3、強度は423MPaであった。密度から算出
したSiの含浸度は、99.6%であった。
【0015】比較例1 実施例1において、No.1及び5のメソフェーズ含有ピ
ッチで被覆されたSiC粉末の代わりに、上記調製例で
用いた#180SiC粉末を32重量%、#1000S
iC粉末を32重量%、フェノール樹脂(残炭率約50
%)36重量%を用い、バインダーを用いることなく、
アセトン中で混合した以外は、実施例1と同様にして、
加熱処理後の焼成体、及び、焼成体をSi含浸処理して
得るSi含浸SiC複合セラミックスを得た。焼成体の
密度、強度及びカーボン量を同様に測定した結果、それ
ぞれ1.96g/cm3、4.5MPa、カーボン量が
17.2重量%であった。また、Si含浸SiC複合セ
ラミックスの密度及び強度を、同様に測定した結果、密
度は3.082g/cm3、強度は315MPaであっ
た。Siの含浸度は99.6%となる。
ッチで被覆されたSiC粉末の代わりに、上記調製例で
用いた#180SiC粉末を32重量%、#1000S
iC粉末を32重量%、フェノール樹脂(残炭率約50
%)36重量%を用い、バインダーを用いることなく、
アセトン中で混合した以外は、実施例1と同様にして、
加熱処理後の焼成体、及び、焼成体をSi含浸処理して
得るSi含浸SiC複合セラミックスを得た。焼成体の
密度、強度及びカーボン量を同様に測定した結果、それ
ぞれ1.96g/cm3、4.5MPa、カーボン量が
17.2重量%であった。また、Si含浸SiC複合セ
ラミックスの密度及び強度を、同様に測定した結果、密
度は3.082g/cm3、強度は315MPaであっ
た。Siの含浸度は99.6%となる。
【0016】上記実施例及び比較例から明らかなよう
に、メソフェーズ含有ピッチで被覆されたSiCを用い
て加熱処理して得た焼成体は、従来と同様にしてカーボ
ン質源としてフェノール樹脂を用いて得た焼成体とは、
密度及びカーボン量は大差ないにも拘わらず、強度は著
しく増大することが分かる。この焼成体での強度増大
は、そのままSi含浸体においても強度増大を保持され
ることも明らかである。
に、メソフェーズ含有ピッチで被覆されたSiCを用い
て加熱処理して得た焼成体は、従来と同様にしてカーボ
ン質源としてフェノール樹脂を用いて得た焼成体とは、
密度及びカーボン量は大差ないにも拘わらず、強度は著
しく増大することが分かる。この焼成体での強度増大
は、そのままSi含浸体においても強度増大を保持され
ることも明らかである。
【0017】実施例2 上記調製例で得たメソフェーズ含有ピッチで被覆された
SiC粉末のうちの、メソフェーズ含有ピッチを30重
量%含有被覆させたNo. 4のSiC粉末を75重量%及
びNo. 8のSiC粉末を25重量%混合して、外配で2
5重量%の水分に添加し、更に、分散剤としてナフタリ
ンスルホン酸ホルマリン縮合物のアンモニウム塩(商品
名:PWA−40、サンノプコ(株)製)、バインダー
としてアクリル系エマルジョン(商品名:WA−32
0、三井東圧(株)製)を添加し24時間攪拌分散しス
リップキャスト用スラリーを調製した。50×50(m
m)で厚さ7(mm)の板状成形体が得られる石膏型
に、上記で調製したスラリーを鋳込み成形した。その
後、乾燥、加熱処理焼成、Si含浸を実施例1と同様に
行い、焼成体の密度、強度及びカーボン量、Si含浸S
iC複合セラミックス体の密度及び強度を同様に測定し
た。その結果、焼成体の密度が1.80g/cm3 、強
度が12.3MPa、カーボン量が26.2重量%であ
った。Si含浸SiC複合セラミックスの密度は3.1
19g/cm3 、強度は589MPaであった。Siの
含浸度は99.6%である。
SiC粉末のうちの、メソフェーズ含有ピッチを30重
量%含有被覆させたNo. 4のSiC粉末を75重量%及
びNo. 8のSiC粉末を25重量%混合して、外配で2
5重量%の水分に添加し、更に、分散剤としてナフタリ
ンスルホン酸ホルマリン縮合物のアンモニウム塩(商品
名:PWA−40、サンノプコ(株)製)、バインダー
としてアクリル系エマルジョン(商品名:WA−32
0、三井東圧(株)製)を添加し24時間攪拌分散しス
リップキャスト用スラリーを調製した。50×50(m
m)で厚さ7(mm)の板状成形体が得られる石膏型
に、上記で調製したスラリーを鋳込み成形した。その
後、乾燥、加熱処理焼成、Si含浸を実施例1と同様に
行い、焼成体の密度、強度及びカーボン量、Si含浸S
iC複合セラミックス体の密度及び強度を同様に測定し
た。その結果、焼成体の密度が1.80g/cm3 、強
度が12.3MPa、カーボン量が26.2重量%であ
った。Si含浸SiC複合セラミックスの密度は3.1
19g/cm3 、強度は589MPaであった。Siの
含浸度は99.6%である。
【0018】比較例2 上記調製例で用いた#500SiC粉末を54重量%、
#800SiC粉末を18重量%、#30のカーボンブ
ラック粉末(三菱化成(株)製)を28重量%を用いた
以外は、実施例2と同様にしてスラリーを調製を行っ
た。しかし、全く流動化しなかったため、更に水分を固
形分に対し外配で10重量%添加して、鋳込み可能なス
ラリーを得た。得られたスラリーを用い、実施例2と同
様に板状成形体を作製し、乾燥、加熱処理焼成、Si含
浸を行い、焼成体の密度、強度及びカーボン量、Si含
浸SiC複合セラミックス体の密度及び強度を同様に測
定した。その結果、焼成体の密度が1.72g/cm
3 、強度が2.6MPa、カーボン量が25.8重量%
であった。Si含浸SiC複合セラミックスの密度は
3.082g/cm3 、強度は422MPaであった。
Siの含浸度は99.2%である。
#800SiC粉末を18重量%、#30のカーボンブ
ラック粉末(三菱化成(株)製)を28重量%を用いた
以外は、実施例2と同様にしてスラリーを調製を行っ
た。しかし、全く流動化しなかったため、更に水分を固
形分に対し外配で10重量%添加して、鋳込み可能なス
ラリーを得た。得られたスラリーを用い、実施例2と同
様に板状成形体を作製し、乾燥、加熱処理焼成、Si含
浸を行い、焼成体の密度、強度及びカーボン量、Si含
浸SiC複合セラミックス体の密度及び強度を同様に測
定した。その結果、焼成体の密度が1.72g/cm
3 、強度が2.6MPa、カーボン量が25.8重量%
であった。Si含浸SiC複合セラミックスの密度は
3.082g/cm3 、強度は422MPaであった。
Siの含浸度は99.2%である。
【0019】上記の比較例において、炭素源としてのカ
ーボンブラックを多量に用いると、固形分を高濃度に保
持するスラリー調製が困難であり、鋳込み可能とするた
めには固形分濃度を低下させることになり、結果的に焼
成体の密度が低下することが分かる。一方、メソフェー
ズ含有ピッチで被覆されたSiCを用いる場合には、固
形分の高濃度のスラリーを調製することができ、鋳込み
成形においても、高密度で、高強度のSi含浸SiC複
合セラミックスを得ることができることが明らかであ
る。
ーボンブラックを多量に用いると、固形分を高濃度に保
持するスラリー調製が困難であり、鋳込み可能とするた
めには固形分濃度を低下させることになり、結果的に焼
成体の密度が低下することが分かる。一方、メソフェー
ズ含有ピッチで被覆されたSiCを用いる場合には、固
形分の高濃度のスラリーを調製することができ、鋳込み
成形においても、高密度で、高強度のSi含浸SiC複
合セラミックスを得ることができることが明らかであ
る。
【0020】
【発明の効果】本発明は、メソフェーズ含有ピッチで被
覆されたSiCを用いてSi−SiC複合セラミックス
を製造することにより、成形体中に均一且つ均質にカー
ボン質化合物を配することができ、加熱処理により得ら
れる焼成体のカーボン質が増加すると同時に強度も増大
し、高密度、且つ高強度の緻密質Si−SiC複合セラ
ミックスを得ることができる。
覆されたSiCを用いてSi−SiC複合セラミックス
を製造することにより、成形体中に均一且つ均質にカー
ボン質化合物を配することができ、加熱処理により得ら
れる焼成体のカーボン質が増加すると同時に強度も増大
し、高密度、且つ高強度の緻密質Si−SiC複合セラ
ミックスを得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉田 久仁恵 神奈川県秦野市曽屋30 東芝セラミックス 株式会社開発研究所内
Claims (1)
- 【請求項1】 メソフェーズ含有ピッチが被覆されてな
るSiC粉末を原料として成形体を形成し、該成形体を
非酸化性雰囲気下で加熱処理して得られる加熱処理焼成
体にSiを含浸することを特徴とするSi−SiC複合
セラミックスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5100239A JPH06293565A (ja) | 1993-04-02 | 1993-04-02 | Si−SiC複合セラミックスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5100239A JPH06293565A (ja) | 1993-04-02 | 1993-04-02 | Si−SiC複合セラミックスの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06293565A true JPH06293565A (ja) | 1994-10-21 |
Family
ID=14268706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5100239A Pending JPH06293565A (ja) | 1993-04-02 | 1993-04-02 | Si−SiC複合セラミックスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06293565A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018020928A (ja) * | 2016-08-03 | 2018-02-08 | 品川リフラクトリーズ株式会社 | 高炉主樋スラグライン用流し込み耐火物 |
-
1993
- 1993-04-02 JP JP5100239A patent/JPH06293565A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018020928A (ja) * | 2016-08-03 | 2018-02-08 | 品川リフラクトリーズ株式会社 | 高炉主樋スラグライン用流し込み耐火物 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20070032371A1 (en) | Silicon carbide based, porous structural material being heat-resistant and super-lightweight | |
JPH08506563A (ja) | 高密度の自己焼結炭化ケイ素/炭素−黒鉛複合体及びその製造方法 | |
JPH0768066B2 (ja) | 耐熱性複合体及びその製造方法 | |
EP0079903B1 (en) | Making silicon carbide bodies | |
JPH06293565A (ja) | Si−SiC複合セラミックスの製造方法 | |
JP2686628B2 (ja) | 多孔質導電性材料 | |
JP3450875B2 (ja) | 多孔質炭化珪素材の製造方法 | |
JPH0736381B2 (ja) | 耐熱性治具とその製造方法 | |
JP2004131318A (ja) | 炭化ケイ素系部材の接合体及びその製造方法 | |
JPS63242969A (ja) | 炭化珪素系セラミツクス | |
JPH0662348B2 (ja) | 多孔質セラミックス複合材料およびその製造方法 | |
JPH11171671A (ja) | 板状SiC−Si系複合セラミックスの製造方法 | |
JPS61163180A (ja) | 寸法精度および耐摩耗性の優れた炭化珪素質複合体の製造方法 | |
JPH0224789B2 (ja) | ||
JPS6212191B2 (ja) | ||
JPS5891027A (ja) | 炭化ケイ素粉末の製造方法 | |
JPS60131862A (ja) | 高強度炭化けい素基焼結体 | |
JP4217279B2 (ja) | 金属−セラミックス複合材料の製造方法 | |
JP2003081682A (ja) | シリコン含浸炭化ケイ素セラミックスの製造方法 | |
JP2000026177A (ja) | 珪素・炭化珪素セラミックスの製造方法 | |
JPH0818886B2 (ja) | 多孔質炭化ケイ素質材料の製造法 | |
JPH08119741A (ja) | 炭素−炭化ホウ素焼結体及び炭素−炭化ホウ素−炭化ケイ素焼結体 | |
JPH02102177A (ja) | 多孔質耐食性材料およびその製造法 | |
JPH02129071A (ja) | 炭化硅素系セラミックスの製造方法 | |
JPS60186473A (ja) | 窒化珪素焼結体の製造方法 |