JPH06289378A - ラビング処理方法 - Google Patents
ラビング処理方法Info
- Publication number
- JPH06289378A JPH06289378A JP7240393A JP7240393A JPH06289378A JP H06289378 A JPH06289378 A JP H06289378A JP 7240393 A JP7240393 A JP 7240393A JP 7240393 A JP7240393 A JP 7240393A JP H06289378 A JPH06289378 A JP H06289378A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- substrate
- rubbing
- treatment
- alignment film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ラビング処理時の処理ムラを低減する。
【構成】 基板２１上には透明電極２２が全面に形成さ
れ、電極２２上にはトップコート膜２３と配向膜２４と
がこの順に形成される。前記配向膜２４は、下層のトッ
プコート膜２３領域よりも大きく形成される。配向膜２
４の表面はローラによって一方向にラビング処理され
る。
れ、電極２２上にはトップコート膜２３と配向膜２４と
がこの順に形成される。前記配向膜２４は、下層のトッ
プコート膜２３領域よりも大きく形成される。配向膜２
４の表面はローラによって一方向にラビング処理され
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置などの配
向膜を形成する際に好適に用いられるラビング処理方法
に関する。
向膜を形成する際に好適に用いられるラビング処理方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は、従来のラビング処理方法が実施
される基板１を示す断面図および斜視図である。たとえ
ば、ガラスで実現される基板１上には、透明電極２がそ
の全面に形成される。該電極２は、たとえばＩＴＯ（In
dium Tin Oxide）で実現され、所望とする電極形状にパ
ターン形成することができる。透明電極２上には、Ｓｉ
Ｏ2などの無機膜から成るトップコート膜３と、ポリイ
ミド樹脂などから成る配向膜４とがこの順に形成されて
いる。トップコート膜３は、基板１に形成される電極２
と対向基板に形成される電極とが、たとえば導電性を有
する異物によってリークすることを防止するためのもの
である。配向膜４は、基板間に配置される液晶分子を配
向させるものであり、その表面は後述するラビング処理
によって配向処理されている。
される基板１を示す断面図および斜視図である。たとえ
ば、ガラスで実現される基板１上には、透明電極２がそ
の全面に形成される。該電極２は、たとえばＩＴＯ（In
dium Tin Oxide）で実現され、所望とする電極形状にパ
ターン形成することができる。透明電極２上には、Ｓｉ
Ｏ2などの無機膜から成るトップコート膜３と、ポリイ
ミド樹脂などから成る配向膜４とがこの順に形成されて
いる。トップコート膜３は、基板１に形成される電極２
と対向基板に形成される電極とが、たとえば導電性を有
する異物によってリークすることを防止するためのもの
である。配向膜４は、基板間に配置される液晶分子を配
向させるものであり、その表面は後述するラビング処理
によって配向処理されている。
【０００３】図５は、配向膜４のラビング処理を説明す
るための斜視図である。基板１は、支持板１１に形成さ
れる、基板１の厚み分だけの深さを有する凹所１１ａに
嵌め込まれる。支持板１１上には、たとえば基板１の角
部１ｂと図示しない角部とを結ぶ対角線に対して垂直と
なるようにローラ１２を配置する。このローラ１２を、
たとえば矢符Ａ方向に１秒間に数千回転という速度で回
転させながら、支持板１１を矢符Ｂ方向に、あるいはロ
ーラ１２を矢符Ｃ方向に移動させることによって、配向
膜４の表面がラビング処理される。前記ローラ１２の表
面は、たとえばガーゼ、フェルト、ラバーあるいは刷毛
で覆われている。このようなラビング処理によって配向
膜４を削り取ることなく、均一にラビングするために、
最適な圧力や回数などのラビング条件が設定されてい
る。
るための斜視図である。基板１は、支持板１１に形成さ
れる、基板１の厚み分だけの深さを有する凹所１１ａに
嵌め込まれる。支持板１１上には、たとえば基板１の角
部１ｂと図示しない角部とを結ぶ対角線に対して垂直と
なるようにローラ１２を配置する。このローラ１２を、
たとえば矢符Ａ方向に１秒間に数千回転という速度で回
転させながら、支持板１１を矢符Ｂ方向に、あるいはロ
ーラ１２を矢符Ｃ方向に移動させることによって、配向
膜４の表面がラビング処理される。前記ローラ１２の表
面は、たとえばガーゼ、フェルト、ラバーあるいは刷毛
で覆われている。このようなラビング処理によって配向
膜４を削り取ることなく、均一にラビングするために、
最適な圧力や回数などのラビング条件が設定されてい
る。
【０００４】図６は、前記基板１を用いた従来の液晶表
示装置１３の構成を示す断面図である。前述したように
透明電極２、トップコート膜３および配向膜４が形成さ
れた基板１の表面１ａと、同様にして透明電極６、トッ
プコート膜７および配向膜８が形成された基板５の表面
５ａとが対向するように配置され、紫外線硬化型の接着
剤１０によって貼合わされている。また、基板１，５間
には液晶層９が配置されている。
示装置１３の構成を示す断面図である。前述したように
透明電極２、トップコート膜３および配向膜４が形成さ
れた基板１の表面１ａと、同様にして透明電極６、トッ
プコート膜７および配向膜８が形成された基板５の表面
５ａとが対向するように配置され、紫外線硬化型の接着
剤１０によって貼合わされている。また、基板１，５間
には液晶層９が配置されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】トップコート膜３，７
は、前述したように基板１，５に形成される透明電極
２，６のリークを防止するためのものであり、その面積
はできる限り大きい方が望ましい。このため従来では、
駆動用ＩＣ（Integrated Circuit）などが接続される領
域を除く領域に、すなわち図４に示されるように、基板
１の端部からトップコート膜３の端部までの長さＬ１
が、０．４ｍｍ〜１．０ｍｍ程度となるように形成され
る。また、配向膜４は液晶層９に接する部分に形成され
ていればよく、このため従来では図４に示されるよう
に、基板１の端部から配向膜４の端部までの長さＬ２
が、２ｍｍ程度となるように形成される。したがって、
基板１とトップコート膜３との段差およびトップコート
膜３と配向膜４との段差の２段の段差が生じる。このよ
うな段差は、トップコート膜３と配向膜４との大きさが
一致するようにして形成しようとしても、精度上の問題
によって生じることとなる。
は、前述したように基板１，５に形成される透明電極
２，６のリークを防止するためのものであり、その面積
はできる限り大きい方が望ましい。このため従来では、
駆動用ＩＣ（Integrated Circuit）などが接続される領
域を除く領域に、すなわち図４に示されるように、基板
１の端部からトップコート膜３の端部までの長さＬ１
が、０．４ｍｍ〜１．０ｍｍ程度となるように形成され
る。また、配向膜４は液晶層９に接する部分に形成され
ていればよく、このため従来では図４に示されるよう
に、基板１の端部から配向膜４の端部までの長さＬ２
が、２ｍｍ程度となるように形成される。したがって、
基板１とトップコート膜３との段差およびトップコート
膜３と配向膜４との段差の２段の段差が生じる。このよ
うな段差は、トップコート膜３と配向膜４との大きさが
一致するようにして形成しようとしても、精度上の問題
によって生じることとなる。
【０００６】ラビング処理時において、図５に示される
支持板１１上に配置されたローラ１２が基板１上のトッ
プコート膜３および配向膜４の段差部分３ａ，４ａを通
過すると、ローラ１２表面の細かい毛の整列方向が不揃
いとなる。すなわち、トップコート膜３の段差部分３ａ
である角部によって、細かい毛の整列方向が２方向に振
り分けられる。同様に配向膜４の段差部分４ａによって
も整列方向が２方向に振り分けられる。このようなロー
ラ１２でラビング処理を行うと、配向膜４表面に図５に
示されるようなＬ型の処理ムラ１４が生じる。
支持板１１上に配置されたローラ１２が基板１上のトッ
プコート膜３および配向膜４の段差部分３ａ，４ａを通
過すると、ローラ１２表面の細かい毛の整列方向が不揃
いとなる。すなわち、トップコート膜３の段差部分３ａ
である角部によって、細かい毛の整列方向が２方向に振
り分けられる。同様に配向膜４の段差部分４ａによって
も整列方向が２方向に振り分けられる。このようなロー
ラ１２でラビング処理を行うと、配向膜４表面に図５に
示されるようなＬ型の処理ムラ１４が生じる。
【０００７】また、たとえばオフセット印刷によって形
成されるトップコート膜３や配向膜４の縁部の厚みは、
中心部と比較して厚く形成される傾向がある。このた
め、縁部のトップコート膜３や配向膜４がラビング時に
おいてローラ１２によって削り取られてしまい、生じた
削り屑がローラ１２に付着したままラビング処理される
と、配向膜４の表面に削り屑による処理ムラが生じる。
成されるトップコート膜３や配向膜４の縁部の厚みは、
中心部と比較して厚く形成される傾向がある。このた
め、縁部のトップコート膜３や配向膜４がラビング時に
おいてローラ１２によって削り取られてしまい、生じた
削り屑がローラ１２に付着したままラビング処理される
と、配向膜４の表面に削り屑による処理ムラが生じる。
【０００８】このような処理ムラは、図６に示される液
晶表示装置１３の液晶分子の配向ムラの原因となり、表
示装置１３に画像を表示した際にコントラストが不均一
になるなど表示の均一性に悪影響を与える。
晶表示装置１３の液晶分子の配向ムラの原因となり、表
示装置１３に画像を表示した際にコントラストが不均一
になるなど表示の均一性に悪影響を与える。
【０００９】本発明の目的は、処理ムラの発生が低減さ
れるラビング処理方法を提供することである。
れるラビング処理方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に膜を
２枚以上形成して最上層の膜表面をラビングするラビン
グ処理方法において、前記最上層の膜は、その下層の膜
領域よりも大きく形成されていることを特徴とするラビ
ング処理方法である。
２枚以上形成して最上層の膜表面をラビングするラビン
グ処理方法において、前記最上層の膜は、その下層の膜
領域よりも大きく形成されていることを特徴とするラビ
ング処理方法である。
【００１１】
【作用】本発明に従えば、基板上に形成される膜の最上
層の膜が下層の膜領域よりも大きく形成され、その最上
層の膜の表面がラビング処理される。ラビング処理と
は、布などを用いて膜表面を一方向にこすることであ
り、このとき布表面の細かい毛の整列方向が乱れている
とラビング処理の方向が不均一となる。本発明によれば
基板上の段差は１段となり、布表面の細かい毛の整列方
向が段差によって不揃いになることが低減される。たと
えば、段差部分の角部を布が通過したときに、布表面の
細かい毛の整列方向が段差部分の角部によって異なる方
向に振り分けられることが低減する。したがって、ラビ
ング処理時の処理ムラが低減する。
層の膜が下層の膜領域よりも大きく形成され、その最上
層の膜の表面がラビング処理される。ラビング処理と
は、布などを用いて膜表面を一方向にこすることであ
り、このとき布表面の細かい毛の整列方向が乱れている
とラビング処理の方向が不均一となる。本発明によれば
基板上の段差は１段となり、布表面の細かい毛の整列方
向が段差によって不揃いになることが低減される。たと
えば、段差部分の角部を布が通過したときに、布表面の
細かい毛の整列方向が段差部分の角部によって異なる方
向に振り分けられることが低減する。したがって、ラビ
ング処理時の処理ムラが低減する。
【００１２】また、下層の膜の縁部に生じる膜厚のばら
つきが最上層の膜によって緩和されるので、ラビング処
理時に布によって削り取られて生じる膜の屑が減少し、
屑によって生じる処理ムラが低減する。
つきが最上層の膜によって緩和されるので、ラビング処
理時に布によって削り取られて生じる膜の屑が減少し、
屑によって生じる処理ムラが低減する。
【００１３】このようなラビング処理方法は、たとえば
液晶表示装置の配向膜の形成時において用いると、配向
膜の処理ムラが減少し、液晶分子の配向ムラが低減して
表示の均一性が向上する。
液晶表示装置の配向膜の形成時において用いると、配向
膜の処理ムラが減少し、液晶分子の配向ムラが低減して
表示の均一性が向上する。
【００１４】
【実施例】図１は、本発明の一実施例であるラビング処
理方法が実施される基板２１を示す断面図および斜視図
である。たとえば、ガラスで実現される基板２１上には
その全面に透明電極２２が形成される。該電極２２は、
たとえばＩＴＯで実現され、所望の電極形状にパターン
形成することができる。透明電極２２上には、ＳｉＯ2
などの無機膜から成るトップコート膜２３が、たとえば
オフセット印刷によって形成される。該トップコート膜
２３は、基板２１上の電極２２と、図３に示される基板
２５の電極２６とが導電性を有する異物によってリーク
することを防止するためのものであり、その面積はでき
る限り大きく形成することが望ましい。トップコート膜
２３上には、さらにポリイミド樹脂などから成る配向膜
２４が、たとえばオフセット印刷によって形成される。
該配向膜２４は、下層に形成される前記トップコート膜
２３領域よりも大きく形成される。また、配向膜２４は
透明電極２２の駆動用ＩＣなどが接続される領域を除く
領域に形成される。配向膜２４の表面は、液晶分子を配
向させるために、後述するラビング処理によって配向処
理されている。
理方法が実施される基板２１を示す断面図および斜視図
である。たとえば、ガラスで実現される基板２１上には
その全面に透明電極２２が形成される。該電極２２は、
たとえばＩＴＯで実現され、所望の電極形状にパターン
形成することができる。透明電極２２上には、ＳｉＯ2
などの無機膜から成るトップコート膜２３が、たとえば
オフセット印刷によって形成される。該トップコート膜
２３は、基板２１上の電極２２と、図３に示される基板
２５の電極２６とが導電性を有する異物によってリーク
することを防止するためのものであり、その面積はでき
る限り大きく形成することが望ましい。トップコート膜
２３上には、さらにポリイミド樹脂などから成る配向膜
２４が、たとえばオフセット印刷によって形成される。
該配向膜２４は、下層に形成される前記トップコート膜
２３領域よりも大きく形成される。また、配向膜２４は
透明電極２２の駆動用ＩＣなどが接続される領域を除く
領域に形成される。配向膜２４の表面は、液晶分子を配
向させるために、後述するラビング処理によって配向処
理されている。
【００１５】図２は、配向膜２４のラビング処理を説明
するための斜視図である。基板２１は、支持板３１に形
成される、基板２１の厚み分だけの深さを有する凹所３
１ａに嵌め込まれる。支持板３１上には、たとえば基板
２１の角部２１ｂと図示しない角部とを結ぶ対角線に対
して垂直となるようにローラ３２を配置する。このロー
ラ３２をたとえば矢符Ａ方向に１秒間に数千回転という
速度で回転させながら、支持板３１を矢符Ｂ方向に、あ
るいはローラ３２を矢符Ｃ方向に移動させることによっ
て、配向膜２４の表面がラビング処理される。前記ロー
ラ３２の表面は、たとえばガーゼ、フェルト、ラバーあ
るいは刷毛で覆われている。このようなラビング処理に
よって配向膜２４を削り取ることなく、均一にラビング
するために、最適な圧力や回数などのラビング条件が設
定されている。
するための斜視図である。基板２１は、支持板３１に形
成される、基板２１の厚み分だけの深さを有する凹所３
１ａに嵌め込まれる。支持板３１上には、たとえば基板
２１の角部２１ｂと図示しない角部とを結ぶ対角線に対
して垂直となるようにローラ３２を配置する。このロー
ラ３２をたとえば矢符Ａ方向に１秒間に数千回転という
速度で回転させながら、支持板３１を矢符Ｂ方向に、あ
るいはローラ３２を矢符Ｃ方向に移動させることによっ
て、配向膜２４の表面がラビング処理される。前記ロー
ラ３２の表面は、たとえばガーゼ、フェルト、ラバーあ
るいは刷毛で覆われている。このようなラビング処理に
よって配向膜２４を削り取ることなく、均一にラビング
するために、最適な圧力や回数などのラビング条件が設
定されている。
【００１６】図３は、前記基板２１を用いた液晶表示装
置３３の構成を示す断面図である。前述したように透明
電極２２、トップコート膜２３および配向膜２４が形成
された基板２１の表面２１ａと、同様にして透明電極２
６、トップコート膜２７および配向膜２８が形成された
基板２５の表面２５ａとが対向するように配置され、紫
外線硬化型の接着剤３０によって貼合わされている。こ
のとき接着剤３０は配向膜２４および配向膜２８上に配
置されている。また、基板２１，２５間には、液晶層２
９が配置されている。
置３３の構成を示す断面図である。前述したように透明
電極２２、トップコート膜２３および配向膜２４が形成
された基板２１の表面２１ａと、同様にして透明電極２
６、トップコート膜２７および配向膜２８が形成された
基板２５の表面２５ａとが対向するように配置され、紫
外線硬化型の接着剤３０によって貼合わされている。こ
のとき接着剤３０は配向膜２４および配向膜２８上に配
置されている。また、基板２１，２５間には、液晶層２
９が配置されている。
【００１７】本実施例のように配向膜２４を形成する
と、トップコート膜２３によって生じる段差がなくなっ
て段差は配向膜２４による１段のみとなる。このため、
ラビング処理時においてローラ３２表面の細かい毛の整
列方向が不揃いになる部分が、従来と比較すると約半分
に減少する。したがって、図２に示されるように配向膜
２４表面に生じるＬ型の処理ムラ３４が減少する。この
ため液晶表示装置３３の液晶分子の配向ムラが減少し、
表示の均一性が向上する。
と、トップコート膜２３によって生じる段差がなくなっ
て段差は配向膜２４による１段のみとなる。このため、
ラビング処理時においてローラ３２表面の細かい毛の整
列方向が不揃いになる部分が、従来と比較すると約半分
に減少する。したがって、図２に示されるように配向膜
２４表面に生じるＬ型の処理ムラ３４が減少する。この
ため液晶表示装置３３の液晶分子の配向ムラが減少し、
表示の均一性が向上する。
【００１８】また、トップコート膜２３の縁部と中心部
との不均一な膜厚が緩和されて、全体的な膜厚均一性が
向上する。このため、ラビング処理時においてトップコ
ート膜２３の縁部がローラ３２によって削り取られるこ
とがなくなり、生じる削り屑が減少して配向膜２４表面
に生じる処理ムラが減少する。したがって、液晶表示装
置３３の液晶分子の配向ムラが減少し、表示の均一性が
向上する。
との不均一な膜厚が緩和されて、全体的な膜厚均一性が
向上する。このため、ラビング処理時においてトップコ
ート膜２３の縁部がローラ３２によって削り取られるこ
とがなくなり、生じる削り屑が減少して配向膜２４表面
に生じる処理ムラが減少する。したがって、液晶表示装
置３３の液晶分子の配向ムラが減少し、表示の均一性が
向上する。
【００１９】なお、前記トップコート膜２３の不均一な
膜厚を緩和して膜厚均一性を向上するためには、図１に
示されるトップコート膜２３の端部から配向膜２４の端
部までの長さＬ３を、０．４ｍｍ〜０．５ｍｍ程度とす
るのが好ましい。
膜厚を緩和して膜厚均一性を向上するためには、図１に
示されるトップコート膜２３の端部から配向膜２４の端
部までの長さＬ３を、０．４ｍｍ〜０．５ｍｍ程度とす
るのが好ましい。
【００２０】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、最上層の
膜が下層の膜領域よりも大きく形成されるので、基板上
の段差が減少する。また、下層の膜の膜厚のばらつきが
最上層の膜によって緩和される。
膜が下層の膜領域よりも大きく形成されるので、基板上
の段差が減少する。また、下層の膜の膜厚のばらつきが
最上層の膜によって緩和される。
【００２１】したがって、ラビング処理時に布表面の細
かい毛の整列方向が段差によって不揃いになることが低
減され、処理ムラが低減する。また、布によって削り取
られて生じる膜の屑が減少し、該屑によって生じる処理
ムラが減少する。
かい毛の整列方向が段差によって不揃いになることが低
減され、処理ムラが低減する。また、布によって削り取
られて生じる膜の屑が減少し、該屑によって生じる処理
ムラが減少する。
【図１】本発明の一実施例であるラビング処理方法が実
施される基板２１を示す断面図および斜視図である。
施される基板２１を示す断面図および斜視図である。
【図２】配向膜２４のラビング処理を説明するための斜
視図である。
視図である。
【図３】前記基板２１を用いた液晶表示装置３３の構成
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図４】従来のラビング処理方法が実施される基板１を
示す断面図および斜視図である。
示す断面図および斜視図である。
【図５】配向膜４のラビング処理を説明するための斜視
図である。
図である。
【図６】前記基板１を用いた液晶表示装置１３の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
２１ 基板 ２２ 透明電極 ２３ トップコート膜 ２４ 配向膜
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上に膜を２枚以上形成して最上層の
膜表面をラビングするラビング処理方法において、 前記最上層の膜は、その下層の膜領域よりも大きく形成
されていることを特徴とするラビング処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7240393A JP3249626B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | ラビング処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7240393A JP3249626B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | ラビング処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06289378A true JPH06289378A (ja) | 1994-10-18 |
| JP3249626B2 JP3249626B2 (ja) | 2002-01-21 |
Family
ID=13488286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7240393A Expired - Fee Related JP3249626B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | ラビング処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3249626B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6894758B1 (en) | 1999-03-08 | 2005-05-17 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device and manufacturing method thereof |
-
1993
- 1993-03-30 JP JP7240393A patent/JP3249626B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6894758B1 (en) | 1999-03-08 | 2005-05-17 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device and manufacturing method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3249626B2 (ja) | 2002-01-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20030103185A1 (en) | Liquid crystal display panel and method for fabricating the same | |
| US20030112405A1 (en) | Liquid crystal display panel and method for fabricating the same | |
| JPH11174467A (ja) | 液晶表示素子およびその製造方法 | |
| JP2002341354A (ja) | 液晶表示素子 | |
| US20050088603A1 (en) | Seal pattern for liquid crystal display device | |
| JPH06289378A (ja) | ラビング処理方法 | |
| JPH04115225A (ja) | 液晶表示素子配向膜用ラビング装置 | |
| JPH0720472A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH10333150A (ja) | 液晶表示装置とその製造方法 | |
| JP2004195601A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法 | |
| JP2002350857A (ja) | 液晶表示素子およびその製造方法 | |
| KR20010025773A (ko) | 액정 표시장치의 씰 패턴 형성방법 | |
| JPH05323302A (ja) | 液晶表示素子用基板 | |
| KR100687352B1 (ko) | 스페이서 패턴을 갖는 액정표시장치 | |
| JP3864738B2 (ja) | 液晶装置の製造装置及び製造方法 | |
| JPH0682784A (ja) | 液晶パネルの製造方法 | |
| KR100749482B1 (ko) | 정전기 방지 구조를 가진 액정표시장치 | |
| JP3067314B2 (ja) | 配向処理方法 | |
| JPH0695120A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP2861510B2 (ja) | 基体表面の平滑化法及び平滑化物 | |
| JPH0527243A (ja) | 液晶表示素子 | |
| JP2002350867A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JPH0534694A (ja) | ラビング装置及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置 | |
| JPH08160432A (ja) | 液晶パネル及びその製造方法 | |
| JPH03208018A (ja) | 液晶表示素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081109 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091109 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091109 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |