JPH062882B2 - 微粒子製造装置 - Google Patents
微粒子製造装置Info
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- JPH062882B2 JPH062882B2 JP60135075A JP13507585A JPH062882B2 JP H062882 B2 JPH062882 B2 JP H062882B2 JP 60135075 A JP60135075 A JP 60135075A JP 13507585 A JP13507585 A JP 13507585A JP H062882 B2 JPH062882 B2 JP H062882B2
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- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
- B22F9/06—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
- B22F9/14—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes using electric discharge
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B3/00—Hearth-type furnaces, e.g. of reverberatory type; Tank furnaces
- F27B3/08—Hearth-type furnaces, e.g. of reverberatory type; Tank furnaces heated electrically, with or without any other source of heat
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- F27D99/0001—Heating elements or systems
- F27D99/0006—Electric heating elements or system
- F27D2099/0031—Plasma-torch heating
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- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/40—Details, e.g. electrodes, nozzles using applied magnetic fields, e.g. for focusing or rotating the arc
Description
【発明の詳細な説明】 本願発明は次に述べる問題点の解決を目的とする。
（産業上の利用分野） この発明は、プラズマ溶解炉に関し、尚詳しくは、金属
等の原材料がプラズマによる加熱の結果、溶湯と化し、
これから形成される金属微粒子が極めて効率的に生成か
つ捕集されるような微粒子製造装置に係わる。
等の原材料がプラズマによる加熱の結果、溶湯と化し、
これから形成される金属微粒子が極めて効率的に生成か
つ捕集されるような微粒子製造装置に係わる。
（従来の技術） 従来知られている微粒子製造装置においては金属原料が
炉体内下方に供給され、炉体内に設けられる加熱手段に
より溶融され、金属微粒子となる。
炉体内下方に供給され、炉体内に設けられる加熱手段に
より溶融され、金属微粒子となる。
（発明が解決しようとする問題点） このような従来の装置においては、金属微粒子は狭い溶
融領域において発生され、炉体に設けられる排出口から
離散的に取り出される。生成微粒子の運動は単純ではな
くしかも炉壁側面に向けられるので微粒子は、排出口に
達するまでに炉体内を漂遊する。この結果微粒子が、炉
体内壁面に付着して電気絶縁不良等のトラブルを引き起
こし、あるいは炉体内の角部に堆積して、収量の一層の
減少をもたらす。
融領域において発生され、炉体に設けられる排出口から
離散的に取り出される。生成微粒子の運動は単純ではな
くしかも炉壁側面に向けられるので微粒子は、排出口に
達するまでに炉体内を漂遊する。この結果微粒子が、炉
体内壁面に付着して電気絶縁不良等のトラブルを引き起
こし、あるいは炉体内の角部に堆積して、収量の一層の
減少をもたらす。
この発明は上記従来の問題点を除き、加熱領域が空間的
に移動して、実効的に広い加熱領域が得られ、微粒子の
高い収量と高品質が保証される微粒子製造装置を提供し
ようとするものである。
に移動して、実効的に広い加熱領域が得られ、微粒子の
高い収量と高品質が保証される微粒子製造装置を提供し
ようとするものである。
本願発明の構成は次の通りである。
（問題点を解決する為の手段） 本願発明は、炉体内下方に滞留させる微粒子原料を環状
に形成し、上記環状の原料表面に向けられる回転プラズ
マアークを形成する為の環状の陰極とそれらのプラズマ
アークを伸長させる為のプラズマ化用ガスを噴出させる
環状のノズル口とから構成されるリングプラズマトーチ
を上記環状の原料の上方同軸位置に配設し、上記リング
プラズマトーチのノズル口における環状の直径は、上記
微粒子原料の環状の直径よりも大きな直径であって、し
かもノズル口の環状の中心線と陰極下部縁とを結ぶ直線
が上記微粒子原料における半径方向の幅寸法のほぼ中心
部となるように設定してあり、さらに上記原料の環状の
主軸部分には上記原料から生成される微粒子をプラズマ
トーチのプラズマ化用中性ガスと共に捕集するための排
出口を設けたものである。
に形成し、上記環状の原料表面に向けられる回転プラズ
マアークを形成する為の環状の陰極とそれらのプラズマ
アークを伸長させる為のプラズマ化用ガスを噴出させる
環状のノズル口とから構成されるリングプラズマトーチ
を上記環状の原料の上方同軸位置に配設し、上記リング
プラズマトーチのノズル口における環状の直径は、上記
微粒子原料の環状の直径よりも大きな直径であって、し
かもノズル口の環状の中心線と陰極下部縁とを結ぶ直線
が上記微粒子原料における半径方向の幅寸法のほぼ中心
部となるように設定してあり、さらに上記原料の環状の
主軸部分には上記原料から生成される微粒子をプラズマ
トーチのプラズマ化用中性ガスと共に捕集するための排
出口を設けたものである。
（作用） 炉体下部に設けられた環状の原料に対して、炉体上部で
これと事実上同軸位置に設けられたリングプラズマトー
チにより発生されるプラズマアークが斜下方に向けられ
る。このプラズマアークは装置の主軸のまわりを円周方
向に駆動され、上記環状の原料の任意部分を均等に一定
の周期でもって加熱する。即ち、実効的に広い環状の加
熱領域が得られると共にプラズマーが向けられていない
非加熱領域では、微粒子が同時的に生成される。一方プ
ラズマトーチの動作ガスは環状原料の主軸部分に設けら
れた排出口に向かって半径方向内向きに流れ、これに運
ばれる生成微粒子が効率よく捕集される。
これと事実上同軸位置に設けられたリングプラズマトー
チにより発生されるプラズマアークが斜下方に向けられ
る。このプラズマアークは装置の主軸のまわりを円周方
向に駆動され、上記環状の原料の任意部分を均等に一定
の周期でもって加熱する。即ち、実効的に広い環状の加
熱領域が得られると共にプラズマーが向けられていない
非加熱領域では、微粒子が同時的に生成される。一方プ
ラズマトーチの動作ガスは環状原料の主軸部分に設けら
れた排出口に向かって半径方向内向きに流れ、これに運
ばれる生成微粒子が効率よく捕集される。
（実施例） 以下本願の実施例を示す図面について説明する。環状の
基体１に取り付けられた環状のルツボ２は原料溜り３を
区画形成し、中央部には排出口４が具備されている。こ
のルツボ２は通水路５、給水口６、排水口７からなる水
冷システムを備える。排出管８はその上端においてルツ
ボ２の排出口４に連通されており、通水路９、給水口1
0、排水口11からなる水冷システムを備える。排出管８
の他端は図に示されない周知の微粒子捕集装置に連通さ
れている。電気絶縁環１４、リングプラズマトーチ15、
もう一つの電気絶縁環16、蓋体17はすべてルツボ２の上
方で装置主軸のまわりに同軸位置に配置され、締付ボル
ト18により一体化され、かつ上記基体１に対して固定さ
れている。中空の炉体は主に上記基体１、ルツボ２、プ
ラズマトーチ15、蓋体17により区画形成されている。プ
ラズマトーチ15は一対の環状ノズル要素20,21、環状の
陰極23からなる。環状のノズル口22が、ノズル要素20,2
1の対向する下縁の間に形成される。このノズル口22の
直径は上記原料溜り３の平均値径よりもやや大きく定め
られており、ノズル要素20,21の間に位置する陰極23か
ら伸長するプラズマアーク40がこのノズル口22を通し
て、斜下方へ原料溜り３に正しく向けられるようになっ
ている。陰極23の下部縁は高耐熱性金属からなる耐弧部
材24として形成されている。ノズル要素20,21、陰極23
の相互の電気絶縁および位置決めは、電気絶縁環25,26
により実現されている。プラズマ化用中性ガス供給口27
は絶縁環25,26を通して形成されている。この中性ガス
としては、水素、アルゴン、窒素、ヘリウム等の種々の
ガスが目的に応じて選択される。28,29は電気絶縁性の
耐火構造部材である。搬送ガス供給筒33は、蓋体17の中
心を貫通してこれに固定され、装置の主軸に沿って垂直
に設けられている。搬送ガス供給筒33の下端として形成
された搬送ガス吹出口34は上記排出口４に近く対向させ
てある。この供給筒33はまた、通水路35、給水口36、排
水口37からなる水冷システムにより取り囲まれている。
プラズマ回転用磁界発生装置38はプラズマトーチ15と同
軸位置に炉体上方に設けられた円形コイルからなり、ノ
ズル口22の近傍において、矢印Ｈで示されるように、軸
方向および主半径方向の成分を有する磁界を発生するよ
うになっている。この磁界は、特開昭５５−４６２６６
号公報に開示されているようにノズル口22から噴出する
プラズマアーク40に対して垂直な成分を有し、プラズマ
アークを環状の耐弧部材24に沿って円周方向に電磁的に
駆動するに適した分布を有している。
基体１に取り付けられた環状のルツボ２は原料溜り３を
区画形成し、中央部には排出口４が具備されている。こ
のルツボ２は通水路５、給水口６、排水口７からなる水
冷システムを備える。排出管８はその上端においてルツ
ボ２の排出口４に連通されており、通水路９、給水口1
0、排水口11からなる水冷システムを備える。排出管８
の他端は図に示されない周知の微粒子捕集装置に連通さ
れている。電気絶縁環１４、リングプラズマトーチ15、
もう一つの電気絶縁環16、蓋体17はすべてルツボ２の上
方で装置主軸のまわりに同軸位置に配置され、締付ボル
ト18により一体化され、かつ上記基体１に対して固定さ
れている。中空の炉体は主に上記基体１、ルツボ２、プ
ラズマトーチ15、蓋体17により区画形成されている。プ
ラズマトーチ15は一対の環状ノズル要素20,21、環状の
陰極23からなる。環状のノズル口22が、ノズル要素20,2
1の対向する下縁の間に形成される。このノズル口22の
直径は上記原料溜り３の平均値径よりもやや大きく定め
られており、ノズル要素20,21の間に位置する陰極23か
ら伸長するプラズマアーク40がこのノズル口22を通し
て、斜下方へ原料溜り３に正しく向けられるようになっ
ている。陰極23の下部縁は高耐熱性金属からなる耐弧部
材24として形成されている。ノズル要素20,21、陰極23
の相互の電気絶縁および位置決めは、電気絶縁環25,26
により実現されている。プラズマ化用中性ガス供給口27
は絶縁環25,26を通して形成されている。この中性ガス
としては、水素、アルゴン、窒素、ヘリウム等の種々の
ガスが目的に応じて選択される。28,29は電気絶縁性の
耐火構造部材である。搬送ガス供給筒33は、蓋体17の中
心を貫通してこれに固定され、装置の主軸に沿って垂直
に設けられている。搬送ガス供給筒33の下端として形成
された搬送ガス吹出口34は上記排出口４に近く対向させ
てある。この供給筒33はまた、通水路35、給水口36、排
水口37からなる水冷システムにより取り囲まれている。
プラズマ回転用磁界発生装置38はプラズマトーチ15と同
軸位置に炉体上方に設けられた円形コイルからなり、ノ
ズル口22の近傍において、矢印Ｈで示されるように、軸
方向および主半径方向の成分を有する磁界を発生するよ
うになっている。この磁界は、特開昭５５−４６２６６
号公報に開示されているようにノズル口22から噴出する
プラズマアーク40に対して垂直な成分を有し、プラズマ
アークを環状の耐弧部材24に沿って円周方向に電磁的に
駆動するに適した分布を有している。
上記構成のものにあってはすべての通水路に冷却水が流
通され、搬送ガスが搬送ガス供給筒33を通して、排出口
４に向けて吹出口34から噴出される。この搬送ガスはプ
ラズマ化用中性ガスと同一種類であることが好ましい
が、製造微粒子の純度を損なわない限りにおいて、他の
種類のガスであってもよい。原料供給装置32は原料供給
路31を通して製品微粒子の原料である粉体を原料溜り３
に供給する。上記原料は一般に導電性で、例えば、鉄、
ニッケル、クロム、銅あるいはこれらの合金等の金属材
料あるいは炭化硅素、炭化タングステン等の非金属材料
である。プラズマ化用中性ガスはガス供給口27からノズ
ル口22を通して、原料溜り３に向けて供給され、周知の
手順によりプラズマトーチ15が点弧され、ノズル口22か
らプラズマアーク40が伸長すると共にプラズマ化用中性
ガスの一部、その解離ガス、電離ガスからなる混合気体
のプラズマ動作ガスとして噴出する。この結果、ノズル
口22から原料溜り３に向かって斜下方にプラズマアーク
が伸長される。このプラズマアークは、よく知られてい
るように、即ち第３図の参照符号40で示されるように、
環状のノズル口22から突出し、プラズマ回転用磁界発生
装置38が生ずる磁界のアーク40に垂直な部分によって駆
動され円周方向に回転し続ける。この回転プラズマアー
ク40は原料溜り３に堆積している粒状の原料を加熱して
溶湯41と化す。溶湯41の任意部分は上記回転アークプラ
ズマ40により、一定周期で間欠的に加熱される。この様
な加熱の過程と同時に、溶湯表面より微粒子が生成され
る。即ち、溶湯41のある一定の部分は、そこにプラズマ
アーク40が向けられている加熱過程と、プラズマアーク
40がそこから外れている非加熱過程とを必ず受ける。加
熱過程においては溶湯表面の温度は相対的に高くなり、
例えば鉄の溶湯の場合には２０００℃程度に達する。こ
の結果、プラズマアーク40の動作ガスが溶湯41中へ活発
に吸蔵される。プラズマ動作ガスを構成する電離粒子お
よび解離粒子は、付着、親和等の点で活性化されてお
り、プラズマアーク動作ガスの吸蔵を一層助長する。一
方非加熱過程にあっては、溶湯41の温度は水冷ルツボへ
の熱伝導のために相対的に低下し、例えば鉄の溶湯の場
合1350℃程度となる。この結果、加熱過程で吸蔵された
ガスは、溶湯41内で過飽和の状態になり、従ってこの過
飽和を解消するに必要なガス量が溶湯41上方の空間に放
出される。放出ガスと共に溶湯41内溶融原料も空間に放
出され、急冷却のために、微粒子の形に凝固される。
通され、搬送ガスが搬送ガス供給筒33を通して、排出口
４に向けて吹出口34から噴出される。この搬送ガスはプ
ラズマ化用中性ガスと同一種類であることが好ましい
が、製造微粒子の純度を損なわない限りにおいて、他の
種類のガスであってもよい。原料供給装置32は原料供給
路31を通して製品微粒子の原料である粉体を原料溜り３
に供給する。上記原料は一般に導電性で、例えば、鉄、
ニッケル、クロム、銅あるいはこれらの合金等の金属材
料あるいは炭化硅素、炭化タングステン等の非金属材料
である。プラズマ化用中性ガスはガス供給口27からノズ
ル口22を通して、原料溜り３に向けて供給され、周知の
手順によりプラズマトーチ15が点弧され、ノズル口22か
らプラズマアーク40が伸長すると共にプラズマ化用中性
ガスの一部、その解離ガス、電離ガスからなる混合気体
のプラズマ動作ガスとして噴出する。この結果、ノズル
口22から原料溜り３に向かって斜下方にプラズマアーク
が伸長される。このプラズマアークは、よく知られてい
るように、即ち第３図の参照符号40で示されるように、
環状のノズル口22から突出し、プラズマ回転用磁界発生
装置38が生ずる磁界のアーク40に垂直な部分によって駆
動され円周方向に回転し続ける。この回転プラズマアー
ク40は原料溜り３に堆積している粒状の原料を加熱して
溶湯41と化す。溶湯41の任意部分は上記回転アークプラ
ズマ40により、一定周期で間欠的に加熱される。この様
な加熱の過程と同時に、溶湯表面より微粒子が生成され
る。即ち、溶湯41のある一定の部分は、そこにプラズマ
アーク40が向けられている加熱過程と、プラズマアーク
40がそこから外れている非加熱過程とを必ず受ける。加
熱過程においては溶湯表面の温度は相対的に高くなり、
例えば鉄の溶湯の場合には２０００℃程度に達する。こ
の結果、プラズマアーク40の動作ガスが溶湯41中へ活発
に吸蔵される。プラズマ動作ガスを構成する電離粒子お
よび解離粒子は、付着、親和等の点で活性化されてお
り、プラズマアーク動作ガスの吸蔵を一層助長する。一
方非加熱過程にあっては、溶湯41の温度は水冷ルツボへ
の熱伝導のために相対的に低下し、例えば鉄の溶湯の場
合1350℃程度となる。この結果、加熱過程で吸蔵された
ガスは、溶湯41内で過飽和の状態になり、従ってこの過
飽和を解消するに必要なガス量が溶湯41上方の空間に放
出される。放出ガスと共に溶湯41内溶融原料も空間に放
出され、急冷却のために、微粒子の形に凝固される。
搬送ガスは搬送ガス供給筒33の吹出口34から排出口４に
向けて圧送されており、搬送ガスの流速のため排出口近
傍の静圧が溶湯41上方の静圧より低くなり、いわゆるサ
クション効果が生ずる。加えて、環状のノズル口22の全
周からは、プラズマ化用中性ガスが定常的に溶湯41の表
面に向けて噴出され、その後排出口４に流れる。溶湯41
の上方空間に形成された微粒子は、上記サクション効果
とプラズマ化用中性ガス流とにより、排出口４に向けて
装置の半径方向に沿って、積極的に移動され、さらに排
出管８を介して捕集装置に送られる。このように生成微
粒子の移動が迅速かつ積極的であるので、微粒子は二次
的な相互結合、焼結を受けたり、炉内へ堆積する時間的
余裕を持たない。このように生成微粒子の捕集は極めて
効率的である。
向けて圧送されており、搬送ガスの流速のため排出口近
傍の静圧が溶湯41上方の静圧より低くなり、いわゆるサ
クション効果が生ずる。加えて、環状のノズル口22の全
周からは、プラズマ化用中性ガスが定常的に溶湯41の表
面に向けて噴出され、その後排出口４に流れる。溶湯41
の上方空間に形成された微粒子は、上記サクション効果
とプラズマ化用中性ガス流とにより、排出口４に向けて
装置の半径方向に沿って、積極的に移動され、さらに排
出管８を介して捕集装置に送られる。このように生成微
粒子の移動が迅速かつ積極的であるので、微粒子は二次
的な相互結合、焼結を受けたり、炉内へ堆積する時間的
余裕を持たない。このように生成微粒子の捕集は極めて
効率的である。
プラズマアーク40が磁界Ｈによりノズル口22に沿って円
周方向に駆動されているので、微粒子は溶湯41の任意部
分から一定の周期で反復して放出され、溶湯各部からの
微粒子の生成割合は、環状の溶湯全体にわたり均一とな
る。プラズマアーク40は磁界Ｈに起因する電磁力により
滑らかに駆動されるので、溶湯表面のアークスポットは
滑らかに移動する。これも微粒子の生成速度およびその
粒径の均一性に大いに寄与する。プラズマアーク40が回
動しているので、プラズマアーク40により加熱されて高
温になっている溶湯のある領域がガスを吸蔵している期
間に、溶湯41の他の部分ではガスの放出が行われる。ガ
スのこのような同時的な吸蔵と放出とは、溶湯41全体に
わたる微粒子の生成を連続的かつ多量にする。
周方向に駆動されているので、微粒子は溶湯41の任意部
分から一定の周期で反復して放出され、溶湯各部からの
微粒子の生成割合は、環状の溶湯全体にわたり均一とな
る。プラズマアーク40は磁界Ｈに起因する電磁力により
滑らかに駆動されるので、溶湯表面のアークスポットは
滑らかに移動する。これも微粒子の生成速度およびその
粒径の均一性に大いに寄与する。プラズマアーク40が回
動しているので、プラズマアーク40により加熱されて高
温になっている溶湯のある領域がガスを吸蔵している期
間に、溶湯41の他の部分ではガスの放出が行われる。ガ
スのこのような同時的な吸蔵と放出とは、溶湯41全体に
わたる微粒子の生成を連続的かつ多量にする。
この種の装置においては、プラズマアーク40は一般的に
毎秒0.1〜100回の回転速度で回転でき、微粒子生成にと
っては、毎秒１〜20回の回転速度が望ましい。実際には
この回転速度は次のような要求を満足するように決定さ
れる。微粒子原料の熱伝導率、アークパワー、水冷ルツ
ボ２の溶湯41への冷却能力に対して、アーク40の回転速
度が溶湯の加熱領域ではプラズマアークの活性化粒子が
多量に溶湯41中に吸蔵されるような原料の融点以上の温
度を与え、一方非加熱領域では、溶湯41から十分な吸蔵
ガスと共に多量の微粒子が放出されるような原料の凝固
点近くの温度を与えるべきである。
毎秒0.1〜100回の回転速度で回転でき、微粒子生成にと
っては、毎秒１〜20回の回転速度が望ましい。実際には
この回転速度は次のような要求を満足するように決定さ
れる。微粒子原料の熱伝導率、アークパワー、水冷ルツ
ボ２の溶湯41への冷却能力に対して、アーク40の回転速
度が溶湯の加熱領域ではプラズマアークの活性化粒子が
多量に溶湯41中に吸蔵されるような原料の融点以上の温
度を与え、一方非加熱領域では、溶湯41から十分な吸蔵
ガスと共に多量の微粒子が放出されるような原料の凝固
点近くの温度を与えるべきである。
効率的な微粒子生成の目的からは、プラズマトーチ15の
ノズル口22はルツボ２に対して次のように位置決めされ
るのが望ましい。陰極23の下縁とノズル口22の中心を結
ぶ直線22aが、溶湯表面のほぼ中心部と、溶湯表面に対
してα≒60゜の角度で交叉する。αが１５°〜７５°の
範囲にあれば、微粒子の生成そのものは可能である。
ノズル口22はルツボ２に対して次のように位置決めされ
るのが望ましい。陰極23の下縁とノズル口22の中心を結
ぶ直線22aが、溶湯表面のほぼ中心部と、溶湯表面に対
してα≒60゜の角度で交叉する。αが１５°〜７５°の
範囲にあれば、微粒子の生成そのものは可能である。
前述のサクション効果と吹出口34からの高速の大量搬送
ガス流とによって、微粒子は少しも停滞することなく、
排出管８中を輸送される。しかしながら、ノズル口から
比較的多量のプラズマ化用中性ガスが噴出される場合に
は、排出口８の下端に連通された任意の吸引装置によ
り、搬送ガスとプラズマ化用中性ガスとの混合流の代わ
りに、プラズマ化用中性ガス流のみに乗って輸送される
こともできる。
ガス流とによって、微粒子は少しも停滞することなく、
排出管８中を輸送される。しかしながら、ノズル口から
比較的多量のプラズマ化用中性ガスが噴出される場合に
は、排出口８の下端に連通された任意の吸引装置によ
り、搬送ガスとプラズマ化用中性ガスとの混合流の代わ
りに、プラズマ化用中性ガス流のみに乗って輸送される
こともできる。
（発明の効果） 以上のように本発明にあっては、炉体内で微粒子原料が
広い表面のある環状に溜められ、かつプラズマアーク40
がこの表面上を円周方向に回動するから、微粒子の生成
領域が実効的に広くなり、微粒子の生産性が高められ
る。
広い表面のある環状に溜められ、かつプラズマアーク40
がこの表面上を円周方向に回動するから、微粒子の生成
領域が実効的に広くなり、微粒子の生産性が高められ
る。
また、環状の原料とプラズマトーチ15の原料に対応する
環状のノズル口22との間で円周方向に連続的に回動する
プラズマアーク40は、原料の一定部分に対しては加熱と
非加熱との過程を交互かつ周期的に達成し、原料全体に
対してはこれらの両過程同時に可能にしているので、微
粒子の発生は一層促進されると共に、生成微粒子の均一
性が高められる。
環状のノズル口22との間で円周方向に連続的に回動する
プラズマアーク40は、原料の一定部分に対しては加熱と
非加熱との過程を交互かつ周期的に達成し、原料全体に
対してはこれらの両過程同時に可能にしているので、微
粒子の発生は一層促進されると共に、生成微粒子の均一
性が高められる。
さらに、本願発明にあっては上記リングプラズマトーチ
のノズル口22の環状の直径は、上記微粒子原料の環状の
直径よりも大きな直径であって、しかもノズル口22の環
状の中心線と陰極下部縁24とを結ぶ直線22aが上記微粒
子原料における半径方向の幅寸法のほぼ中心部となるよ
うに設定してあるから、上記のように環状の原料の広い
表面から生成される多量の微粒子は、環状の原料よりも
外周に位置する環状のノズル口22の全周から装置中心部
に向かうプラズマ化用ガスの単純な径方向流によって炉
壁側面から離れ、全周から装置中心部に向けて運ばれる
ので、微粒子は不用意に散逸したり、炉壁内面に付着す
ることを妨げられ、微粒子収率がさらに向上する効果が
ある。
のノズル口22の環状の直径は、上記微粒子原料の環状の
直径よりも大きな直径であって、しかもノズル口22の環
状の中心線と陰極下部縁24とを結ぶ直線22aが上記微粒
子原料における半径方向の幅寸法のほぼ中心部となるよ
うに設定してあるから、上記のように環状の原料の広い
表面から生成される多量の微粒子は、環状の原料よりも
外周に位置する環状のノズル口22の全周から装置中心部
に向かうプラズマ化用ガスの単純な径方向流によって炉
壁側面から離れ、全周から装置中心部に向けて運ばれる
ので、微粒子は不用意に散逸したり、炉壁内面に付着す
ることを妨げられ、微粒子収率がさらに向上する効果が
ある。
図面は本願の実施例を示すもので、第１図は微粒子製造
装置の縦断面図、第２図は第１図における線ＩＩ−ＩＩ
に沿う水平断面図、第３図は溶湯、リングプラズマトー
チおよびプラズマアークとの関係を示す一部破断の部分
斜視図である。 15・・・リングプラズマトーチ、40・・・プラズマアー
ク、４・・・排出口。
装置の縦断面図、第２図は第１図における線ＩＩ−ＩＩ
に沿う水平断面図、第３図は溶湯、リングプラズマトー
チおよびプラズマアークとの関係を示す一部破断の部分
斜視図である。 15・・・リングプラズマトーチ、40・・・プラズマアー
ク、４・・・排出口。
Claims (1)
- 【請求項１】炉体内下方に滞留させる微粒子原料を環状
に形成し、上記環状の原料表面に向けられる回転プラズ
マアークを形成する為の環状の陰極とそれからのプラズ
マアークを伸長させる為のプラズマ化用ガスを噴出させ
る環状のノズル口とから構成されるリングプラズマトー
チを上記環状の原料の上方同軸位置に配設し、上記リン
グプラズマトーチのノズル口における環状の直径は、上
記微粒子原料の環状の直径よりも大きな直径であって、
しかもノズル口の環状の中心線と陰極下部縁とを結ぶ直
線が上記微粒子原料における半径方向の幅寸法のほぼ中
心部となるように設定してあり、さらに上記原料の環状
の主軸部分には上記原料から生成される微粒子をプラズ
マトーチのプラズマ化用中性ガスと共に捕集するための
排出口を設けている微粒子製造装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60135075A JPH062882B2 (ja) | 1985-06-20 | 1985-06-20 | 微粒子製造装置 |
| GB8519242A GB2176582B (en) | 1985-06-20 | 1985-07-31 | Apparatus for producing fine grains |
| DE19853529233 DE3529233A1 (de) | 1985-06-20 | 1985-08-14 | Vorrichtung zum herstellen feinkoernigen materials |
| US06/767,245 US4638488A (en) | 1985-06-20 | 1985-08-20 | Fine grains producing apparatus |
| FR858512671A FR2583663B1 (fr) | 1985-06-20 | 1985-08-23 | Appareil de production de grains fins |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60135075A JPH062882B2 (ja) | 1985-06-20 | 1985-06-20 | 微粒子製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61291907A JPS61291907A (ja) | 1986-12-22 |
| JPH062882B2 true JPH062882B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=15143256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60135075A Expired - Lifetime JPH062882B2 (ja) | 1985-06-20 | 1985-06-20 | 微粒子製造装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4638488A (ja) |
| JP (1) | JPH062882B2 (ja) |
| DE (1) | DE3529233A1 (ja) |
| FR (1) | FR2583663B1 (ja) |
| GB (1) | GB2176582B (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4882465A (en) * | 1987-10-01 | 1989-11-21 | Olin Corporation | Arcjet thruster with improved arc attachment for enhancement of efficiency |
| CH676681A5 (ja) * | 1988-06-13 | 1991-02-28 | Battelle Memorial Institute | |
| GB2365876A (en) * | 2000-08-15 | 2002-02-27 | Tetronics Ltd | Making nano-sized powder using a plasma arc reactor |
| DE60101840T2 (de) * | 2000-02-10 | 2004-11-18 | Tetronics Ltd., Faringdon | Plasmareaktor zur herstellung von feinem pulver |
| GB0004845D0 (en) | 2000-02-29 | 2000-04-19 | Tetronics Ltd | A method and apparatus for packaging ultra fine powders into containers |
| WO2001078471A1 (en) | 2000-04-10 | 2001-10-18 | Tetronics Limited | Twin plasma torch apparatus |
| GB2364875A (en) * | 2000-07-10 | 2002-02-06 | Tetronics Ltd | A plasma torch electrode |
| JP5940441B2 (ja) * | 2012-02-16 | 2016-06-29 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 微粒子生成装置および微粒子生成方法 |
| DE102012016225A1 (de) | 2012-08-14 | 2014-03-13 | Jürgen Blum | Elektro-Feldenergie auf der Basis von zweidimensionalen Elektronensystemen, mit der Energiemasse in dem koaxialen Leitungs- und Spulensystem des koaxialen Generators und Transformators |
| CN105565655A (zh) * | 2015-04-29 | 2016-05-11 | 四川点石玄武纤维科技有限公司 | 玄武岩等离子体熔化炉 |
| JP2021518490A (ja) * | 2018-03-17 | 2021-08-02 | パイロジェネシス・カナダ・インコーポレーテッド | 溶融原料から高純度球状金属粉末を製造する方法および装置 |
| DE102020202484A1 (de) | 2020-02-26 | 2021-08-26 | Technische Universität Bergakademie Freiberg | Vorrichtung zum Schmelzen von Metallen |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1136732A (en) * | 1966-04-29 | 1968-12-18 | Brunswick Corp | Method and apparatus for producinginorganic non glass-former filaments or shot |
| US3975184A (en) * | 1974-07-08 | 1976-08-17 | Westinghouse Electric Corporation | Method and apparatus for production of high quality powders |
| JPS5546266A (en) * | 1978-09-28 | 1980-03-31 | Daido Steel Co Ltd | Plasma torch |
-
1985
- 1985-06-20 JP JP60135075A patent/JPH062882B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1985-07-31 GB GB8519242A patent/GB2176582B/en not_active Expired
- 1985-08-14 DE DE19853529233 patent/DE3529233A1/de active Granted
- 1985-08-20 US US06/767,245 patent/US4638488A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-08-23 FR FR858512671A patent/FR2583663B1/fr not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2583663A1 (fr) | 1986-12-26 |
| GB8519242D0 (en) | 1985-09-04 |
| GB2176582B (en) | 1989-07-12 |
| GB2176582A (en) | 1986-12-31 |
| DE3529233A1 (de) | 1987-01-02 |
| JPS61291907A (ja) | 1986-12-22 |
| FR2583663B1 (fr) | 1990-01-19 |
| DE3529233C2 (ja) | 1992-06-04 |
| US4638488A (en) | 1987-01-20 |
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