JPH06287308A - ケイ素系高分子及びその製造方法 - Google Patents

ケイ素系高分子及びその製造方法

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JPH06287308A
JPH06287308A JP9383193A JP9383193A JPH06287308A JP H06287308 A JPH06287308 A JP H06287308A JP 9383193 A JP9383193 A JP 9383193A JP 9383193 A JP9383193 A JP 9383193A JP H06287308 A JPH06287308 A JP H06287308A
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JP
Japan
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silicon
group
sil
component
formula
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JP9383193A
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English (en)
Inventor
Noriyoshi Ando
紀芳 安藤
Jun Kotani
準 小谷
Takanao Iwahara
孝尚 岩原
Kazuya Yonezawa
和弥 米沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】1分子中に2つ以上のSiH結合を有する化合
物と1分子中に2つ以上のアルケニルシリル基を有する
化合物とを反応させて得られる、主鎖にシル−パラ−フ
ェニレンユニットを有することを特徴とする分子量50
00以上の耐熱性ケイ素系高分子及びその製造方法。 【効果】耐熱性軽量構造材料として用いることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、主鎖にシル−パラ−フ
ェニレンユニットを有することを特徴とする数平均分子
量5000以上の耐熱性ケイ素系高分子及びその製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、ケイ素系高分子材料であるポリカ
ルボシランの実用化は、炭化ケイ素セラミックス類の前
駆体として利用されているのみであり、高分子材料とし
てはほとんど利用されていないのが実情である。従って
多種多様な構造のポリカルボシランの合成はあまり行な
われていない。また、その材料としての特性についても
ほとんど検討されていない。ヒドロシリル化反応を用い
たポリカルボシランの合成法では、従来分子量の低いポ
リマーしか得られていない〔J. W. Curry, J. Am. Che
m. Soc., 78. 1686 (1956), J. Org. Chem., 26, 1308
(1961), B. B. Robert, R. J. P. Corriu, D.Leclercq,
P. H. Mutin, J-M. Planeix, A. Vioux, Organometall
ics, 10, 1457 (1991)〕。また、そのポリマーの熱的特
性については検討されていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
のヒドロシリル化反応で得られるポリカルボシランより
も分子量が大きく、耐熱性に優れたケイ素系高分子及び
その製造方法を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、主鎖にシル−パラ−フェニレンユニットが導入さ
れたことにより、数平均分子量が5000以上で耐熱性
に優れたケイ素系高分子が得られたことを見いだし、こ
の知見に基づいて本発明をなすに至った。即ち、本発明
は、(A)1分子中に少なくとも2つ以上のSiH結合
を有するケイ素化合物、(B)1分子中に少なくとも2
つ以上のアルケニルシリル基を有するケイ素化合物、の
両成分の内、少なくとも1成分、好ましくは両成分とも
シル−パラ−フェニレンユニットを有し、この(A)
(B)両成分をモノマーとしたヒドロシリル化反応によ
って合成される、主鎖にシル−パラ−フェニレンユニッ
トを有することを特徴とする数平均分子量5000以上
の耐熱性ケイ素系高分子、及び(A)(B)両成分のヒ
ドロシリル化反応による該ケイ素系高分子の製造方法で
ある。ここに記載のシル−パラ−フェニレンユニットの
例としては、一般式(1)、で示されるものが挙げられ
るが、そのベンゼン環上に有機基及び/又は官能基を有
していてもよい。
【0005】
【化2】
【0006】式中、Rは炭素数1から20までの1価の
有機基及び1価の有機ケイ素基もしくは1価の官能基
で、同一であっても異なっていてもよく、また有機基は
官能基を含んでいてもよい。また、(B)成分に記載の
アルケニルシリル基とはアルケニル基とケイ素原子が同
一基上に存在する基を示し、好ましくは一般式(2)で
示されるものである。
【0007】
【化3】
【0008】R′はHもしくは炭素数1から10までの
1価の有機基及び1価の有機ケイ素基もしくは1価の官
能基で、同一であっても異なっていてもよく、また有機
基は官能基を含んでいてもよい。(A)(B)の各々の
成分は1種類でも2種類以上用いてもよい。(A)
(B)成分が各々2種類以上である場合、少なくとも1
種類がシル−パラ−フェニレンユニットを有していれば
よい。(A)成分として用いられるモノマーは、一般式
(3)で表されるカルボシラン、及びシロキサンもしく
は一般式(4)で表されるジヒドロシランが好ましい。
(B)成分として用いられるモノマーは、一般式
(5)、(6)で表わされる末端アルケニル化合物が好
ましい。
【0009】
【化4】
【0010】Rは上述と同じで、具体的に例示すれば、
メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブ
チル、t−ブチル、イソアミル、n−オクチル、n−ノ
ニル、フェニル基、クロル基、トリメチルシロキシ基な
どが挙げられる。Rは好ましくはメチル基及びフェニル
基である。これらのうちの1種類だけ用いてもよくまた
2種類以上を併用してもよい。
【0011】X及びYは少なくとも一方がパラ−フェニ
レンであれば、もう一方は炭素数1から50までの2価
の有機基、2価の有機ケイ素基もしくは酸素原子であっ
てもよく、また官能基を含んでいてもよい。官能基とし
てはSiH結合もしくはオレフィン結合を含んでいても
よい。また、X及びYは少なくとも一方のうちの1種が
パラ−フェニレンであれば、各々2種以上であってもよ
い。X及びYを具体的に例示すれば、下記に示す構造が
挙げられる。
【0012】
【化5】
【0013】X及びYとしては、
【0014】
【化6】
【0015】が好ましい。さらには、
【0016】
【化7】
【0017】が特に好ましい。R′は上述と同じで、具
体的に例示すれば、H、メチル、エチル、フェニル、ト
リメチルシロキシ基などである。R′としてはHが特に
好ましい。従って、合成されるケイ素系高分子の構造は
一般式(7)〜(9)で表わされる。R、R′、X、Y
は上述と同じである。
【0018】
【化8】
【0019】合成されるケイ素系高分子は、シル−パラ
−フェニレンユニットを有しているので、一般式(10)
もしくは(11)のように書ける。Zは上述のX、Yと同
じである。
【0020】
【化9】
【0021】Zは1種類でも2種類以上でも良い。Zと
してはp−C6 4 、(CH22が好ましい。ケイ素系
高分子は、耐熱性の点から、シル−パラ−フェニレンユ
ニットは重量で20〜70%が好ましく、40〜60%
がより好ましく、50〜60%がさらに好ましい。即
ち、合成されるケイ素系高分子の構造は一般式(12)が
好ましい。
【0022】
【化10】
【0023】式中、Rはメチル基が好ましい。mは3以
下が好ましい。ケイ素系高分子は、耐熱性の点から、数
平均分子量が10000〜500000が好ましく、1
5000〜200000がさらに好ましい。分子量分布
は5以下が好ましく、3以下がさらに好ましい。
【0024】重合方法は、(A)(B)両成分と触媒を
用いるが、溶媒は用いても用いなくてもよい。反応温度
は−50℃から150℃が好ましいが、さらには0℃か
ら100℃が好ましい。
【0025】重合は、各種触媒を用いてその反応速度を
制御することができる。モノマーの組合せの違いによっ
て、反応を促進する触媒の種類は若干異なるが、いわゆ
るヒドロシリル化反応に用いられる触媒としては、白金
の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラックなどの単
体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金
酸とアルコール、アルデヒド、ケトンなどとの錯体、白
金−オレフィン錯体(例えば、Pt(CH2=CH22
(PPh32Pt(CH2=CH22Cl2);白金−ビ
ニルシロキサン錯体(例えば、Ptn(ViMe2SiO
SiMe2Vi)m、Pt[(MeViSiO)4m)、
白金−ホスフィン錯体(例えば、Pt(PPh34、P
(PBu)4)、白金−ホスファイト錯体(例えば、P
t[P(OPh)34)(式中、Meはメチル基、Bu
はブチル基、Viはビニル基、Phはフェニル基を表
し、m,nは整数を表す)、ジカルボニルジクロロ白
金、また、アシュビー(Ashby)の米国特許第31
59601及び、3159662号明細書中に記載され
た白金−炭化水素複合体、並びに、ラモロー(Lamo
reaux)の米国特許第3220972号明細書中に
記載された白金アルコラート触媒も挙げられる。さら
に、モディック(Modic)の米国特許第35169
46号明細書中に記載された塩化白金−オレフィン複合
体も本発明において有用である。
【0026】また、白金化合物以外の触媒の例としては
RhCl(PPh33、RhCl3、RhAl23、R
uCl3、IrCl3、FeCl3、AlCl3、PdCl
22H2O、NiCl2、TiCl4などが挙げられる。こ
れらの触媒は単独で使用してもよく、2種以上併用して
も構わない。触媒活性の点から、塩化白金酸、白金−オ
レフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、白金アセ
チルアセトナートが好ましい。触媒量としては特に制限
はないが、一般式(3)もしくは一般式(4)のヒドロ
シリル基1molに対して、10-1〜10-8molの範
囲で用いるのがよい。さらには10-3〜10-6molが
好ましい。
【0027】重合に用いる溶媒は、具体的に例示すれ
ば、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素系溶媒、テトラ
ヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどのエーテル系溶
媒、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエ
タンなどのハロゲン系溶媒を好適に用いることができ
る。溶媒は2種類以上の混合溶媒として用いることもで
きる。溶媒としては、トルエン、クロロホルムが好まし
い。また、その量はモノマーの合計1molに対して0
〜50L使用するのが好ましい。
【0028】
【実施例】以下実施例をあげて本発明を具体的に説明す
るが、本発明の内容はこれに限定されるものではない。 実施例1 (HSiMe22p−C64486mg(2.5mmo
l)及び(CH2=CHSiMe22p−C64616
mg(2.5mmol)を乾燥トルエン5mLに溶解さ
せた溶液に白金ビニルシロキサン錯体1wt%キシレン
溶液6μL(5×10-4mmol、 [SiH基1mol
に対し、触媒1×10-4molの割合で使用] )を室温
で添加した。添加直後に系は黄色に変色し激しい発熱が
起こった。10分後に系が白濁し粘度が上昇し、最終的
に系全体が固化した。6日後に該反応溶液の揮発成分を
エバポレートして得た粗ポリマーをクロロホルム/ヘキ
サンで再沈澱により精製し、減圧乾燥後、下記構造式を
有するポリカルボシラン高分子約0.94g(約85%
収率)を得た。
【0029】
【化11】
【0030】1H−NMRのデータを以下に示す。 δ(CDCl3) 0.23(s,SiC 3),0.68(s,
SiC 2 2Si),7.46(s,C 6 4) また、G
PC測定、熱重量分析の結果を表1に示す。
【0031】実施例2 (HSiMe22p−C64486mg(2.5mmo
l)及び(CH2=CH)2SiMe2281mg(2.
5mmol)を乾燥トルエン5mLに溶解させた溶液に
白金ビニルシロキサン錯体1wt%キシレン溶液6μL
(5×10-4mmol、 [SiH基1molに対し、触
媒1×10-4molの割合で使用] )を室温で添加し
た。添加直後に系は黄色に変色し激しい発熱が起こっ
た。15分後に系が白濁し粘度が上昇した。反応溶液を
6日室温で攪拌した。該反応溶液の揮発成分をエバポレ
ートして得た粗ポリマーをクロロホルム/アセトンで再
沈澱により精製し、減圧乾燥後、下記構造式を有するポ
リカルボシラン高分子約0.67g(約88%収率)を
得た。
【0032】
【化12】
【0033】1H−NMRのデータを以下に示す。 δ(CDCl3) -0.07(s,CH2Si(C 32
2),0.24(s,p−C64SiC 3),0.39〜0.47
(m,CH2SiMe2 2),0.56〜0.65(m,p−
64SiMe2 2),7.49(s,C 6 4) GPC測定、熱重量分析の結果を表1に示す。
【0034】実施例3 (HSiMe2CH22367mg(2.5mmol)
及び(CH2=CHSiMe22p−C64616mg
(2.5mmol)を乾燥トルエン2mLに溶解させた
溶液に白金ビニルシロキサン錯体1wt%キシレン溶液
6μL(5×10-4mmol、 [SiH基1molに対
し、触媒1×10-4molの割合で使用])を室温で添
加した。添加直後に系は黄色に変色し激しい発熱が起こ
った。10分後に系が白濁し粘度が上昇した。反応溶液
を6日室温で攪拌した。該反応溶液の揮発成分をエバポ
レートして得た粗ポリマーをクロロホルム/アセトンで
再沈澱により精製し、減圧乾燥後、下記構造式を有する
ポリカルボシラン高分子約0.89g(約90%収率)
を得た。
【0035】
【化13】
【0036】1H−NMRのデータを以下に示す。 δ(CDCl3) -0.07(s,CH2Si(C 32
2),0.25(s,p−C64SiC 3),0.35(s,
p−C64SiMe224SiMe2 2),0.38〜
0.47(m,p−C64SiMe2CH2 2),0.58〜
0.67(m,p−C64SiMe2 2),7.50(s,C
6 4) GPC測定、熱重量分析の結果を表1に示す。
【0037】比較例 (HSiMe2CH22732mg(5mmol)及び
1,5−ヘキサジエン411mg(5mmol)を混合
し、塩化白金酸1wt%ジメトキシエタン、イソプロパ
ノール(9:1)混合溶液5.2μL(10-4mmo
l、 [SiH基1molに対し、触媒1×10-3mol
の割合で使用] )を室温で添加した。添加数分後から穏
やかな発熱が観察された。反応溶液を2日室温で攪拌し
た。該反応溶液の揮発成分をエバポレートして、下記構
造式を有するポリカルボシラン高分子約1.03g(約
90%収率)を得た。
【0038】
【化14】
【0039】1H−NMRのデータを以下に示す。 δ(CDCl3) -0.06(s,CH2Si(C 32
2),0.07(m,CH2Si(C 32H),0.35
(s,SiC 2 2Si),0.48(m,SiC
2(CH24 2Si),1.30(br,SiCH2(C
24),3.81, 3.85(dm,SiH) GPC測定、熱重量分析の結果を表1に示す。
【0040】
【表1】
【0041】表1より、実施例1〜3で得られたケイ素
系高分子は比較例で得られたものよりも分子量が大き
く、熱に対する変化も少ないことがわかる。
【0042】
【発明の効果】本発明により提供されるケイ素系高分子
を用いて、耐熱性軽量構造材料を製造することができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米沢 和弥 兵庫県神戸市垂水区つつじが丘5−12−11

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)1分子中に少なくとも2つ以上のS
    iH結合を有するケイ素化合物、(B)1分子中に少な
    くとも2つ以上のアルケニルシリル基を有するケイ素化
    合物、の両成分の内、少なくとも1成分がシル−パラ−
    フェニレンユニットを有し、この(A)成分と(B)成
    分とのヒドロシリル化反応によって合成される、主鎖に
    シル−パラ−フェニレンユニットを有することを特徴と
    する数平均分子量5000以上の耐熱性ケイ素系高分
    子。
  2. 【請求項2】 シル−パラ−フェニレンユニットが一般
    式(1)で示されるものである請求項1記載の耐熱性ケ
    イ素系高分子。 【化1】 (式中、Rは炭素数1から20までの1価の有機基及び
    1価の有機ケイ素基もしくは1価の官能基で、同一であ
    っても異なっていてもよく、また有機基は官能基を含ん
    でいてもよい。)
  3. 【請求項3】 請求項1に示す(A)(B)両成分のヒ
    ドロシリル化反応を用いることを特徴とする、数平均分
    子量5000以上の耐熱性ケイ素系高分子の製造方法。
JP9383193A 1993-03-30 1993-03-30 ケイ素系高分子及びその製造方法 Pending JPH06287308A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07233260A (ja) * 1993-12-28 1995-09-05 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 反応性ケイ素系高分子、及びそれを用いた硬化性組成物
US20150137172A1 (en) * 2012-08-02 2015-05-21 Henkel Ag & Co. Kgaa Polycarbosilane and curable compositions for led encapsulants comprising same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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US20150137172A1 (en) * 2012-08-02 2015-05-21 Henkel Ag & Co. Kgaa Polycarbosilane and curable compositions for led encapsulants comprising same
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