JPH06256306A - Ｎ−アルケニルピロリドンの製造方法 - Google Patents
Ｎ−アルケニルピロリドンの製造方法Info
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- JPH06256306A JPH06256306A JP6006402A JP640294A JPH06256306A JP H06256306 A JPH06256306 A JP H06256306A JP 6006402 A JP6006402 A JP 6006402A JP 640294 A JP640294 A JP 640294A JP H06256306 A JPH06256306 A JP H06256306A
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- C07D207/26—2-Pyrrolidones
- C07D207/263—2-Pyrrolidones with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｎ−アルキルピロリドンを２００〜６００℃
の温度範囲で、０．１〜５バールの圧力範囲で反応させ
ることによる、一般式Ｉ： 【化１】 ［式中、Ｒは水素原子又はＣ1〜Ｃ20−アルキル基を表
す］のＮ−アルケニルピロリドンの新規製造方法を提供
する。 【構成】 該方法は、ＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、ＩＶｂ族
及びＶＩｂ族の金属の酸化物を除いた酸性不均質触媒の
存在下で行うことよりなる。
の温度範囲で、０．１〜５バールの圧力範囲で反応させ
ることによる、一般式Ｉ： 【化１】 ［式中、Ｒは水素原子又はＣ1〜Ｃ20−アルキル基を表
す］のＮ−アルケニルピロリドンの新規製造方法を提供
する。 【構成】 該方法は、ＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、ＩＶｂ族
及びＶＩｂ族の金属の酸化物を除いた酸性不均質触媒の
存在下で行うことよりなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｎ−アルキルピロリド
ンを高温で、ＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、ＩＶｂ族及びＶＩ
ｂ族の金属の酸化物以外の酸性不均質触媒上で反応させ
ることによりＮ−アルケニルピロリドンを製造する方法
に関する。
ンを高温で、ＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、ＩＶｂ族及びＶＩ
ｂ族の金属の酸化物以外の酸性不均質触媒上で反応させ
ることによりＮ−アルケニルピロリドンを製造する方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ドイツ国特許出願公開第２１３５２１１
号明細書には、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピ
ロリドンを、ＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、ＩＶｂ族及びＶＩ
ｂ族の金属の酸化物の触媒と接触させて、大気圧及び２
５０〜５００℃の温度範囲で気相内で反応させることに
よる、Ｎ−ビニルピロリドンの製造方法が記載されてい
る。該方法の欠点は、相当大量な２−ピロリドンの生成
の原因となる副反応である。
号明細書には、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピ
ロリドンを、ＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、ＩＶｂ族及びＶＩ
ｂ族の金属の酸化物の触媒と接触させて、大気圧及び２
５０〜５００℃の温度範囲で気相内で反応させることに
よる、Ｎ−ビニルピロリドンの製造方法が記載されてい
る。該方法の欠点は、相当大量な２−ピロリドンの生成
の原因となる副反応である。
【０００３】米国特許第２６６９５７０号明細書によれ
ば、Ｎ−ビニルピロリドンは、塩基性又は中性の酸化ア
ルミニルムを用いて、２９０〜３３５℃の温度範囲で、
気相内で、１００ｍｍＨｇ未満の圧力で脱水することに
より、Ｎ−（２−ヒドロキシ）−ビニルピロリドンから
製造することができ、更に、Ｎ−ヒドロキシエチルピロ
リドンからの水の除去は、気相内でブロンステッド酸触
媒、特に燐酸触媒上では、出発物質の著しい分解を伴っ
て実施可能であるにすぎないことが記載されている。
ば、Ｎ−ビニルピロリドンは、塩基性又は中性の酸化ア
ルミニルムを用いて、２９０〜３３５℃の温度範囲で、
気相内で、１００ｍｍＨｇ未満の圧力で脱水することに
より、Ｎ−（２−ヒドロキシ）−ビニルピロリドンから
製造することができ、更に、Ｎ−ヒドロキシエチルピロ
リドンからの水の除去は、気相内でブロンステッド酸触
媒、特に燐酸触媒上では、出発物質の著しい分解を伴っ
て実施可能であるにすぎないことが記載されている。
【０００４】Izv.Akad.SSSR,（1961）901〜905に記載さ
れたＮ−（２−アセトキシエチル）−ピロリドンの非触
媒酢酸熱分解は、これらの条件下で中程度の収率が得ら
れるに過ぎないことが明らかである。
れたＮ−（２−アセトキシエチル）−ピロリドンの非触
媒酢酸熱分解は、これらの条件下で中程度の収率が得ら
れるに過ぎないことが明らかである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、上記の欠点を排除することであった。
は、上記の欠点を排除することであった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題は、式Ｉ：
【０００７】
【化３】
【０００８】［式中、Ｒは水素原子又はＣ1〜Ｃ20−ア
ルキル基を表す］のＮ−アルケニルピロリドンを、一般
式ＩＩ：
ルキル基を表す］のＮ−アルケニルピロリドンを、一般
式ＩＩ：
【０００９】
【化４】
【００１０】［式中、Ｒは上記のものを表し、Ｘ及びＹ
はＯＨ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシ基又はＣ2〜Ｃ20−アル
コキシカルボニル基を表すが、但し、２つの基Ｘ及びＹ
の１つは水素原子を表す］のＮ−アルキルピロリドン
を、２００〜６００℃の温度範囲で、０．１〜５バール
の圧力範囲で反応させることにより製造する方法におい
て、該方法をＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、ＩＶｂ族及びＶＩ
ｂ族の金属の酸化物以外の酸性不均質触媒の存在下で行
うことを特徴とする、新規及び改良されたＮ−アルケニ
ルピロリドンの製造方法により解決される。
はＯＨ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシ基又はＣ2〜Ｃ20−アル
コキシカルボニル基を表すが、但し、２つの基Ｘ及びＹ
の１つは水素原子を表す］のＮ−アルキルピロリドン
を、２００〜６００℃の温度範囲で、０．１〜５バール
の圧力範囲で反応させることにより製造する方法におい
て、該方法をＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、ＩＶｂ族及びＶＩ
ｂ族の金属の酸化物以外の酸性不均質触媒の存在下で行
うことを特徴とする、新規及び改良されたＮ−アルケニ
ルピロリドンの製造方法により解決される。
【００１１】本発明の方法は、以下のように実施するこ
とができる：Ｎ−アルキルピロリドンＩＩは、２００〜
６００℃、有利には２５０〜５００℃、更に有利には２
８０〜４８０℃の温度範囲で、０．１〜５バール、有利
には０．２〜２．５バール、更に有利には０．５〜１．
５バールの圧力範囲で、ＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、ＩＶｂ
族及びＶＩｂ族の金属の酸化物以外の酸性不均質触媒と
接触させることができる。Ｎ−アルキルピロリドンＩＩ
は、一般的には蒸気状態中で触媒上を通過させる。その
際、不活性ガス、例えば水素、窒素及び水蒸気の添加又
は不活性有機溶剤の添加又は減圧を用いるのが有利であ
る。
とができる：Ｎ−アルキルピロリドンＩＩは、２００〜
６００℃、有利には２５０〜５００℃、更に有利には２
８０〜４８０℃の温度範囲で、０．１〜５バール、有利
には０．２〜２．５バール、更に有利には０．５〜１．
５バールの圧力範囲で、ＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、ＩＶｂ
族及びＶＩｂ族の金属の酸化物以外の酸性不均質触媒と
接触させることができる。Ｎ−アルキルピロリドンＩＩ
は、一般的には蒸気状態中で触媒上を通過させる。その
際、不活性ガス、例えば水素、窒素及び水蒸気の添加又
は不活性有機溶剤の添加又は減圧を用いるのが有利であ
る。
【００１２】ＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、ＩＶｂ族及びＶＩ
ｂ族の金属の酸化物以外の適当な酸性不均質触媒は、担
体及び／又はモレキュラーシーブ上のＩＩＩａ族及びＩ
Ｖａ族の金属の酸化物及び／又は燐含有化合物である。
ｂ族の金属の酸化物以外の適当な酸性不均質触媒は、担
体及び／又はモレキュラーシーブ上のＩＩＩａ族及びＩ
Ｖａ族の金属の酸化物及び／又は燐含有化合物である。
【００１３】適当なモレキュラーシーブは、層構造を有
するもの、例えばモンモリロナイト、カオリナイト及び
ベントナイト又は中空構造を有するもの、例えばゼオラ
イト、有利にはＨ型である。
するもの、例えばモンモリロナイト、カオリナイト及び
ベントナイト又は中空構造を有するもの、例えばゼオラ
イト、有利にはＨ型である。
【００１４】適当なＩＩＩａ族及びＩＶａ族の元素の適
当な酸化物は、酸化硼素、酸化アルミニウム、酸化ガリ
ウム、酸化インジウム、酸化珪素、酸化ゲルマニウム、
酸化スズ及び酸化鉛である。
当な酸化物は、酸化硼素、酸化アルミニウム、酸化ガリ
ウム、酸化インジウム、酸化珪素、酸化ゲルマニウム、
酸化スズ及び酸化鉛である。
【００１５】適当な燐含有化合物は、亜燐酸、例えばオ
ルト亜燐酸、燐酸、例えばオルト燐酸、ピロ燐酸、メタ
燐酸及び縮合燐酸、例えばポリ燐酸、それらの無水物及
びそれらのＩａ族、ＩＩａ族、ＩＩＩａ族、ＩＶａ族及
びＶａ族の元素、又はＩｂ族、ＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、
Ｖｂ族、ＶＩｂ族、ＶＩＩｂ族及びＶＩＩＩｂ族の元
素、又はランタノイドの塩、例えば燐酸塩、ピロ燐酸
塩、燐酸一水素塩及び有利には不活性担体上の燐酸二水
素塩、燐酸又は亜燐酸のアルキルエステル又はアリール
エステル、又はアルキル置換された又はアリール置換さ
れた燐酸又は亜燐酸である。
ルト亜燐酸、燐酸、例えばオルト燐酸、ピロ燐酸、メタ
燐酸及び縮合燐酸、例えばポリ燐酸、それらの無水物及
びそれらのＩａ族、ＩＩａ族、ＩＩＩａ族、ＩＶａ族及
びＶａ族の元素、又はＩｂ族、ＩＩｂ族、ＩＩＩｂ族、
Ｖｂ族、ＶＩｂ族、ＶＩＩｂ族及びＶＩＩＩｂ族の元
素、又はランタノイドの塩、例えば燐酸塩、ピロ燐酸
塩、燐酸一水素塩及び有利には不活性担体上の燐酸二水
素塩、燐酸又は亜燐酸のアルキルエステル又はアリール
エステル、又はアルキル置換された又はアリール置換さ
れた燐酸又は亜燐酸である。
【００１６】Ｉａ族の元素の塩としては、リチウム、ナ
トリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムの塩、Ｉ
Ｉａ族の元素の塩としてはベリリウム、マグネシウム、
カルシウム、ストロンチウム及びバリウムの塩、ＩＩＩ
ａ族の元素の塩としては硼素、アルミニウム、ガリウ
ム、インジウム及びタリウムの塩、ＩＶａ族の元素の塩
としてはチタニウム、ジルコニウム及びハフニウムの
塩、Ｖａ族の元素の塩としてはアンモニウム、アンチモ
ン及びビスマスの塩、Ｉｂ族の塩としては銅の塩、ＩＩ
ｂ族の塩としては亜鉛、カドミウム及び水銀の塩、ＩＩ
Ｉｂ族の元素の塩としてはスカンジウム、イットリウム
及びランタンの塩、Ｖｂ族の元素の塩としてはバナジウ
ム、ニオブ及びタンタルの塩、ＶＩｂ族の元素の塩とし
てはクロムの塩、ＶＩＩｂ族の元素の塩としてはマンガ
ンの塩、ＶＩＩＩ族の元素の塩としては鉄、コバルト及
びニッケルの塩、ランタノイドの塩としてはセリウム、
プラゼオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、
ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロジ
ウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビ
ウム及びルテチウムの塩が挙げられ、これらの塩は、燐
酸塩、ピロ燐酸塩、燐酸一水素塩、有利には燐酸二水素
塩である。
トリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムの塩、Ｉ
Ｉａ族の元素の塩としてはベリリウム、マグネシウム、
カルシウム、ストロンチウム及びバリウムの塩、ＩＩＩ
ａ族の元素の塩としては硼素、アルミニウム、ガリウ
ム、インジウム及びタリウムの塩、ＩＶａ族の元素の塩
としてはチタニウム、ジルコニウム及びハフニウムの
塩、Ｖａ族の元素の塩としてはアンモニウム、アンチモ
ン及びビスマスの塩、Ｉｂ族の塩としては銅の塩、ＩＩ
ｂ族の塩としては亜鉛、カドミウム及び水銀の塩、ＩＩ
Ｉｂ族の元素の塩としてはスカンジウム、イットリウム
及びランタンの塩、Ｖｂ族の元素の塩としてはバナジウ
ム、ニオブ及びタンタルの塩、ＶＩｂ族の元素の塩とし
てはクロムの塩、ＶＩＩｂ族の元素の塩としてはマンガ
ンの塩、ＶＩＩＩ族の元素の塩としては鉄、コバルト及
びニッケルの塩、ランタノイドの塩としてはセリウム、
プラゼオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、
ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロジ
ウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビ
ウム及びルテチウムの塩が挙げられ、これらの塩は、燐
酸塩、ピロ燐酸塩、燐酸一水素塩、有利には燐酸二水素
塩である。
【００１７】燐酸又は亜燐酸の適当なアルキルエステル
又はアリールエステルは、１つのアルキル基に対して１
〜８個の炭素原子を有するモノ−、ジ−又はトリエステ
ル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチ
ル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｓ−ペンチル、ネオ
ペンチル、１，２−ジメチルプロピル及びｎ−ヘキシル
又はアリール基、例えばフェニル、１−ナフチル、２−
ナフチル、１−アントリル、２−アントリル及び９−ア
ントリル、有利にはフェニル、１−ナフチル及び２−ナ
フチル、更に有利にはフェニル又はＣ1〜Ｃ8−アルキル
置換されたフェニル、例えばチエニルホスフェート、フ
ェニルホスフェート又はフェニルホスフィトである。
又はアリールエステルは、１つのアルキル基に対して１
〜８個の炭素原子を有するモノ−、ジ−又はトリエステ
ル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチ
ル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｓ−ペンチル、ネオ
ペンチル、１，２−ジメチルプロピル及びｎ−ヘキシル
又はアリール基、例えばフェニル、１−ナフチル、２−
ナフチル、１−アントリル、２−アントリル及び９−ア
ントリル、有利にはフェニル、１−ナフチル及び２−ナ
フチル、更に有利にはフェニル又はＣ1〜Ｃ8−アルキル
置換されたフェニル、例えばチエニルホスフェート、フ
ェニルホスフェート又はフェニルホスフィトである。
【００１８】適当な、アルキル置換された又はアリール
置換された燐酸又は亜燐酸は、置換基として、Ｃ1〜Ｃ8
−アルキル基、有利にはＣ1〜Ｃ4−アルキル基、例えば
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、イソブチル、ｓ−ブチル及びｔ−ブチル又はアリ
ール基、例えばフェニル、１−ナフチル及び２−ナフチ
ル、１−アントリル、２−アントリル及び９−アントリ
ル及び有利にはフェニル、１−ナフチル及び２−ナフチ
ル、更に有利にはフェニル、例えばフェニルホスフィン
酸、エチルホスフィン酸、フェニルホスホン酸及びナフ
チルホスホン酸を含有する。
置換された燐酸又は亜燐酸は、置換基として、Ｃ1〜Ｃ8
−アルキル基、有利にはＣ1〜Ｃ4−アルキル基、例えば
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、イソブチル、ｓ−ブチル及びｔ−ブチル又はアリ
ール基、例えばフェニル、１−ナフチル及び２−ナフチ
ル、１−アントリル、２−アントリル及び９−アントリ
ル及び有利にはフェニル、１−ナフチル及び２−ナフチ
ル、更に有利にはフェニル、例えばフェニルホスフィン
酸、エチルホスフィン酸、フェニルホスホン酸及びナフ
チルホスホン酸を含有する。
【００１９】上記燐含有化合物の特に好ましい代表物
は、燐酸二水素塩、ＩＩａ族の元素の燐酸水素塩、バナ
ジウムの燐酸塩及びランタノイドである。
は、燐酸二水素塩、ＩＩａ族の元素の燐酸水素塩、バナ
ジウムの燐酸塩及びランタノイドである。
【００２０】適当な不活性担体は、例えば酸化アルミニ
ウム、二酸化珪素、二酸化チタン及びゼオライト及びそ
れらの混合物及びクレーである。
ウム、二酸化珪素、二酸化チタン及びゼオライト及びそ
れらの混合物及びクレーである。
【００２１】化合物Ｉ及びＩＩ中の置換基Ｒ，Ｘ及びＹ
は以下のものを表す：Ｒは、水素原子又はＣ1〜Ｃ20−
アルキル基、有利にはＣ1〜Ｃ8−アルキル基、例えばメ
チル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、イソペンチル、ｓ−ペンチル、ネオペンチル、１，
２−ジメチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、
ｓ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、ｎ−オク
チル、イソオクチル、更に有利にはＣ1〜Ｃ4−アルキル
基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル及びｔ−ブチ
ル、Ｘ及びＹは、ヒドロキシ基、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキ
シ基及び有利にはＣ1〜Ｃ8−アルコキシ基、例えばメト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔ−ブトキ
シ、ｎ−ペントキシ、イソペントキシ、ｓ−ペントキ
シ、ネオペントキシ、１，２−ジメチルプロポキシ、ｎ
−ヘキソキシ、イソヘキソキシ、ｓ−ヘキソキシ、ｎ−
ヘプトキシ、イソヘプトキシ、ｎ−オクトキシ、イソオ
クトキシ、更に有利にはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基、例え
ばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキ
シ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ及びｔ
−ブトキシ、又はＣ2〜Ｃ20−アルコキシカルボニル
基、有利にはＣ2〜Ｃ9−アルコキシカルボニル基、例え
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブ
トキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓ−ブト
キシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−ペント
キシカルボニル、イソペントキシカルボニル、ｓ−ペン
トキシカルボニル、ネオペントキシカルボニル、１，２
−ジメチルプロポキシカルボニル、ｎ−ヘキソキシカル
ボニル、イソヘキソキシカルボニル、ｓ−ヘキソキシカ
ルボニル、ｎ−ヘプトキシカルボニル、イソヘプトキシ
カルボニル、ｎ−オクトキシカルボニル、イソオクトキ
シカルボニル、更に有利にはＣ2〜Ｃ5−アルコキシカル
ボニル、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、ｎ−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、ｎ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカニル、
ｓ−ブトキシカルボニル及びｔ−ブトキシカルボニル、
但し、２つの基Ｘ及びＹの１つは水素原子を表す。
は以下のものを表す：Ｒは、水素原子又はＣ1〜Ｃ20−
アルキル基、有利にはＣ1〜Ｃ8−アルキル基、例えばメ
チル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、イソペンチル、ｓ−ペンチル、ネオペンチル、１，
２−ジメチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、
ｓ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、ｎ−オク
チル、イソオクチル、更に有利にはＣ1〜Ｃ4−アルキル
基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル及びｔ−ブチ
ル、Ｘ及びＹは、ヒドロキシ基、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキ
シ基及び有利にはＣ1〜Ｃ8−アルコキシ基、例えばメト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔ−ブトキ
シ、ｎ−ペントキシ、イソペントキシ、ｓ−ペントキ
シ、ネオペントキシ、１，２−ジメチルプロポキシ、ｎ
−ヘキソキシ、イソヘキソキシ、ｓ−ヘキソキシ、ｎ−
ヘプトキシ、イソヘプトキシ、ｎ−オクトキシ、イソオ
クトキシ、更に有利にはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基、例え
ばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキ
シ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ及びｔ
−ブトキシ、又はＣ2〜Ｃ20−アルコキシカルボニル
基、有利にはＣ2〜Ｃ9−アルコキシカルボニル基、例え
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブ
トキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓ−ブト
キシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−ペント
キシカルボニル、イソペントキシカルボニル、ｓ−ペン
トキシカルボニル、ネオペントキシカルボニル、１，２
−ジメチルプロポキシカルボニル、ｎ−ヘキソキシカル
ボニル、イソヘキソキシカルボニル、ｓ−ヘキソキシカ
ルボニル、ｎ−ヘプトキシカルボニル、イソヘプトキシ
カルボニル、ｎ−オクトキシカルボニル、イソオクトキ
シカルボニル、更に有利にはＣ2〜Ｃ5−アルコキシカル
ボニル、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、ｎ−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、ｎ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカニル、
ｓ−ブトキシカルボニル及びｔ−ブトキシカルボニル、
但し、２つの基Ｘ及びＹの１つは水素原子を表す。
【００２２】本発明の特別な利点は、簡単でかつ経済的
な触媒の製造方法並びに該触媒の容易な再活性化にあ
る。
な触媒の製造方法並びに該触媒の容易な再活性化にあ
る。
【００２３】Ｎ−アルケニルピロリドンＩは中間体とし
て好適である。
て好適である。
【００２４】
【実施例】次に、本発明を以下の実施例につき詳細に説
明する。
明する。
【００２５】例１ 燐酸を含浸させたＳｉＯ2の製造 ７５％の燐酸３３０ｇを、該混合物の総容量が８６０ｍ
ｌになるまで水と一緒に充填した。次いで該溶液をＳｉ
Ｏ2 ４９０ｇに加え、この懸濁液をドラム中で１５分
間混合した。濾過した後、残留物をまず１２０℃で６４
時間熱処理し、引続き２５０℃で３時間焼成した。
ｌになるまで水と一緒に充填した。次いで該溶液をＳｉ
Ｏ2 ４９０ｇに加え、この懸濁液をドラム中で１５分
間混合した。濾過した後、残留物をまず１２０℃で６４
時間熱処理し、引続き２５０℃で３時間焼成した。
【００２６】例２ 触媒／Ｌａ（Ｈ2ＰＯ4）3の製造 珪藻土１６８ｇ及び燐酸二水素アンモニウムの２０％水
溶液４４９．５ｇを、水３００ｍｌ中に溶解させた硝酸
ランタン・６Ｈ2Ｏ １１２．８ｇに撹拌しながら加え
た。該溶液を加熱し、水を蒸発させ、残留物を１２０℃
で３時間乾燥し、次いで４００℃の温度に３時間加熱し
た。
溶液４４９．５ｇを、水３００ｍｌ中に溶解させた硝酸
ランタン・６Ｈ2Ｏ １１２．８ｇに撹拌しながら加え
た。該溶液を加熱し、水を蒸発させ、残留物を１２０℃
で３時間乾燥し、次いで４００℃の温度に３時間加熱し
た。
【００２７】例３ 長さ１５０ｃｍ及び内径３０ｍｍを有する電気加熱した
石英管を反応器として使用し、その下方部分に触媒２２
５ｍｌを充填した。反応器中の温度は、長手軸方向で移
動可能な熱電対を用いて測定することができた。カラム
の搭頂部にエダクトＩＩの滴下漏斗を接続した。流出す
る熱ガス混合物を凝縮させるために、炉の下端部を、還
流冷却器を備えたフラスコに接続した。易揮発性成分を
ガス流から分離するために、ドライアイス／アセトンで
冷却した冷却トラップを下流に備え付けた。該操作及び
収率並びに選択率を、以下第１表に示す。
石英管を反応器として使用し、その下方部分に触媒２２
５ｍｌを充填した。反応器中の温度は、長手軸方向で移
動可能な熱電対を用いて測定することができた。カラム
の搭頂部にエダクトＩＩの滴下漏斗を接続した。流出す
る熱ガス混合物を凝縮させるために、炉の下端部を、還
流冷却器を備えたフラスコに接続した。易揮発性成分を
ガス流から分離するために、ドライアイス／アセトンで
冷却した冷却トラップを下流に備え付けた。該操作及び
収率並びに選択率を、以下第１表に示す。
【００２８】
【表１】
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式Ｉ： 【化１】 ［式中、Ｒは水素原子又はＣ1〜Ｃ20−アルキル基を表
す］のＮ−アルケニルピロリドンを、一般式ＩＩ： 【化２】 ［式中、Ｒは上記のものを表し、Ｘ及びＹはＯＨ、Ｃ1
〜Ｃ20−アルコキシ基又はＣ2〜Ｃ20−アルコキシカル
ボニル基を表す、但し、２つの基Ｘ及びＹの１つは水素
原子である］のＮ−アルキルピロリドンを、２００〜６
００℃の温度範囲で、０．１〜５バールの圧力範囲で反
応させることにより製造する方法において、該方法をＩ
Ｉｂ族、ＩＩＩｂ族、ＩＶｂ族及びＶＩｂ族の金属の酸
化物以外の酸性不均質触媒の存在下で行うことを特徴と
する、Ｎ−アルケニルピロリドンの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4302325.8 | 1993-01-28 | ||
| DE4302325A DE4302325A1 (de) | 1993-01-28 | 1993-01-28 | Verfahren zur Herstellung von N-Alkenylpyrrolidonen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06256306A true JPH06256306A (ja) | 1994-09-13 |
| JP3272527B2 JP3272527B2 (ja) | 2002-04-08 |
Family
ID=6479103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00640294A Expired - Fee Related JP3272527B2 (ja) | 1993-01-28 | 1994-01-25 | Ｎ−アルケニルピロリドンの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5410070A (ja) |
| EP (1) | EP0608690B1 (ja) |
| JP (1) | JP3272527B2 (ja) |
| DE (2) | DE4302325A1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0701998A1 (en) * | 1994-09-19 | 1996-03-20 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Catalyst for production of tertiary n-alkenyl carboxylic acid amide, and process for production of tertiary n-alkenyl carboxylic acid amide using said catalyst |
| US5700946A (en) * | 1995-04-18 | 1997-12-23 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Process for production of N-vinyl compound |
| US5801252A (en) * | 1996-03-18 | 1998-09-01 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Process for production of cyclic N-vinyl carboxylic acid amide |
| JP2011251920A (ja) * | 2010-06-01 | 2011-12-15 | Ube Industries Ltd | Ｎ−ビニルアミドの製造方法およびそれに用いられるアパタイト |
| US9054399B2 (en) | 2010-05-11 | 2015-06-09 | Suzuki Motor Corporation | Cooling device of vehicle battery |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW325471B (en) * | 1994-08-31 | 1998-01-21 | Shinetsu Sakusan Vinyl Kk | Method for the preparation of an n-vinyl compound |
| US5608057A (en) * | 1994-08-31 | 1997-03-04 | Shin-Etsu Vinyl Acetate Co., Ltd. | N-(alpha-acyloxyethyl) compound and method for the preparation thereof |
| DE19801549A1 (de) * | 1998-01-16 | 1999-07-22 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von N-Alkenylcarbonsäureamiden |
| US6982337B1 (en) | 2004-07-28 | 2006-01-03 | Lyondell Chemical Technology, L.P. | Process for making N-vinyl-2-pyrrolidone |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2669570A (en) * | 1951-08-24 | 1954-02-16 | Celanese Corp | Production of n-vinyl pyrrolidone |
| FR1421336A (fr) * | 1963-07-20 | 1965-12-17 | Hoechst Ag | Procédé de préparation de n-vinyl-amides |
| DE1445737A1 (de) * | 1963-07-20 | 1969-03-13 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von N-Vinylverbindungen |
| US3526620A (en) * | 1966-08-26 | 1970-09-01 | Hoechst Ag | Process for the preparation of n-vinyl-carboxylic acid amides |
| DE2135211A1 (de) * | 1970-07-17 | 1972-01-20 | Mitsubishi Petrochemical Co , Ltd , Tokio | Verfahren zur Herstellung von N Vinylpyrrolidon |
| JPS5421330B2 (ja) * | 1971-10-14 | 1979-07-30 |
-
1993
- 1993-01-28 DE DE4302325A patent/DE4302325A1/de not_active Withdrawn
-
1994
- 1994-01-08 EP EP94100211A patent/EP0608690B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-01-08 DE DE59407416T patent/DE59407416D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-01-25 JP JP00640294A patent/JP3272527B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-01-27 US US08/188,206 patent/US5410070A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0701998A1 (en) * | 1994-09-19 | 1996-03-20 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Catalyst for production of tertiary n-alkenyl carboxylic acid amide, and process for production of tertiary n-alkenyl carboxylic acid amide using said catalyst |
| US5625076A (en) * | 1994-09-19 | 1997-04-29 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Catalyst for production of tertiary N-alkenyl carboxylic acid amide, and process for production of tertiary N-alkenyl carboxylic acid amide using said catalyst |
| US5700946A (en) * | 1995-04-18 | 1997-12-23 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Process for production of N-vinyl compound |
| US5801252A (en) * | 1996-03-18 | 1998-09-01 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Process for production of cyclic N-vinyl carboxylic acid amide |
| US9054399B2 (en) | 2010-05-11 | 2015-06-09 | Suzuki Motor Corporation | Cooling device of vehicle battery |
| JP2011251920A (ja) * | 2010-06-01 | 2011-12-15 | Ube Industries Ltd | Ｎ−ビニルアミドの製造方法およびそれに用いられるアパタイト |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4302325A1 (de) | 1994-08-04 |
| US5410070A (en) | 1995-04-25 |
| DE59407416D1 (de) | 1999-01-21 |
| JP3272527B2 (ja) | 2002-04-08 |
| EP0608690B1 (de) | 1998-12-09 |
| EP0608690A1 (de) | 1994-08-03 |
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