JPH06254390A - 新規な複合体およびその製造方法、ならびに該複合体よりなる酸素吸着剤 - Google Patents
新規な複合体およびその製造方法、ならびに該複合体よりなる酸素吸着剤Info
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- JPH06254390A JPH06254390A JP5076389A JP7638993A JPH06254390A JP H06254390 A JPH06254390 A JP H06254390A JP 5076389 A JP5076389 A JP 5076389A JP 7638993 A JP7638993 A JP 7638993A JP H06254390 A JPH06254390 A JP H06254390A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、酸素含有混合気体からの酸素の分
離、空気の酸素富化などに有用な酸素吸着剤としての用
途を有する新規な複合体を提供することを目的とする。 【構成】 本発明の複合体は、コバルト(II)、イミダゾ
ール又はその誘導体、およびＮ，Ｎ'-ジサリチリデンジ
アミンよりなる３成分系錯体をシリカゲルに吸着担持し
てなり、該複合体は、コバルト(II)塩およびイミダゾー
ル又はその誘導体より形成される２成分系錯体の溶液を
シリカゲルと接触させて、まず２成分系錯体−シリカゲ
ル複合体を得、次にＮ，Ｎ'-ジサリチリデンジアミンの
溶液を加えて反応させるか、或いは、イミダゾール又は
その誘導体を均一にシリカゲルに担持した後に、Ｎ，
Ｎ'−ジサリチリデンジアミナートコバルト(II)を加え
て反応させることにより有利に製造することができる。
離、空気の酸素富化などに有用な酸素吸着剤としての用
途を有する新規な複合体を提供することを目的とする。 【構成】 本発明の複合体は、コバルト(II)、イミダゾ
ール又はその誘導体、およびＮ，Ｎ'-ジサリチリデンジ
アミンよりなる３成分系錯体をシリカゲルに吸着担持し
てなり、該複合体は、コバルト(II)塩およびイミダゾー
ル又はその誘導体より形成される２成分系錯体の溶液を
シリカゲルと接触させて、まず２成分系錯体−シリカゲ
ル複合体を得、次にＮ，Ｎ'-ジサリチリデンジアミンの
溶液を加えて反応させるか、或いは、イミダゾール又は
その誘導体を均一にシリカゲルに担持した後に、Ｎ，
Ｎ'−ジサリチリデンジアミナートコバルト(II)を加え
て反応させることにより有利に製造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な複合体およびそ
の製造方法、ならびに該複合体よりなる酸素吸着剤に関
する。更に詳しくは、本発明は、コバルト(II)、イミダ
ゾール又はその誘導体、およびＮ，Ｎ'−ジサリチリデ
ンジアミンよりなる３成分系錯体をシリカゲルに担持し
てなる複合体に関する。本発明の新規な複合体は、コバ
ルト(II)塩の溶液およびイミダゾール又はその誘導体の
溶液をシリカゲルに接触させることにより、コバルト(I
I)塩およびイミダゾール又はその誘導体から形成される
２成分系錯体をシリカゲルに吸着させ、得られる２成分
系錯体−シリカゲル複合体に、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデ
ンジアミンの溶液を接触させて反応させるか、或いはイ
ミダゾール又はその誘導体の溶液をシリカゲルに接触さ
せてイミダゾール又はその誘導体をシリカゲルに吸着さ
せ、得られるイミダゾール又はその誘導体−シリカゲル
複合体に、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミナートコバ
ルト(II)の溶液を接触させて反応させることによって製
造することができる。本発明はまた、この新規な複合体
よりなる酸素吸着剤にも関し、この酸素吸着剤を用い
て、酸素を含む混合気体より酸素を吸着分離することが
できるのみならず、酸素濃度の高い混合気体を得ること
ができる。
の製造方法、ならびに該複合体よりなる酸素吸着剤に関
する。更に詳しくは、本発明は、コバルト(II)、イミダ
ゾール又はその誘導体、およびＮ，Ｎ'−ジサリチリデ
ンジアミンよりなる３成分系錯体をシリカゲルに担持し
てなる複合体に関する。本発明の新規な複合体は、コバ
ルト(II)塩の溶液およびイミダゾール又はその誘導体の
溶液をシリカゲルに接触させることにより、コバルト(I
I)塩およびイミダゾール又はその誘導体から形成される
２成分系錯体をシリカゲルに吸着させ、得られる２成分
系錯体−シリカゲル複合体に、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデ
ンジアミンの溶液を接触させて反応させるか、或いはイ
ミダゾール又はその誘導体の溶液をシリカゲルに接触さ
せてイミダゾール又はその誘導体をシリカゲルに吸着さ
せ、得られるイミダゾール又はその誘導体−シリカゲル
複合体に、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミナートコバ
ルト(II)の溶液を接触させて反応させることによって製
造することができる。本発明はまた、この新規な複合体
よりなる酸素吸着剤にも関し、この酸素吸着剤を用い
て、酸素を含む混合気体より酸素を吸着分離することが
できるのみならず、酸素濃度の高い混合気体を得ること
ができる。
【０００２】酸素は高炉、転炉、および電炉などの金属
製錬業、各種化学工業、焼却炉、発酵、製紙工業、医療
に用いられるほか、酸素富化空気は燃焼用に用いて燃焼
の効率を高める技術として注目されている。本発明で用
いているコバルト(II)を含有する３成分系錯体は、酸素
吸着能を有することで知られるポルフィリン錯体と比べ
て、比較的安価であり、高い合成収率で得られる。担体
であるシリカゲルおよび本製造法で用いる溶媒もまた安
価であるため、大量の酸素富化空気を得るための酸素富
化剤としての利用に適している。
製錬業、各種化学工業、焼却炉、発酵、製紙工業、医療
に用いられるほか、酸素富化空気は燃焼用に用いて燃焼
の効率を高める技術として注目されている。本発明で用
いているコバルト(II)を含有する３成分系錯体は、酸素
吸着能を有することで知られるポルフィリン錯体と比べ
て、比較的安価であり、高い合成収率で得られる。担体
であるシリカゲルおよび本製造法で用いる溶媒もまた安
価であるため、大量の酸素富化空気を得るための酸素富
化剤としての利用に適している。
【０００３】
【従来の技術】従来、酸素は空気から分離して製造され
ているが、これまでは深冷分離法又は物理吸着分離法が
行なわれている。深冷分離法は空気を液化分留するもの
で、大規模の高価な設備を必要とし、また運転に大量の
エネルギーを消費している。物理吸着分離法はゼオライ
トあるいは分子ふるいカーボンを吸着剤として用いて行
なわれている。ゼオライトを用いる方法は、ゼオライト
が四重極子をもつ窒素分子が酸素分子よりも強く吸着す
ることを利用している。また、分子ふるいカーボンは直
径0.3〜0.4nmの細孔を有し、分子径0.38nmの酸素分子が
分子径0.40nmの窒素分子よりも早い速度で細孔内へ拡散
して吸着することを利用して酸素を窒素より分離してい
る。しかし、これらの窒素分子と酸素分子の物理吸着性
の差は小さいので、分離効率は小さく多量の吸着剤が必
要となり、また、運転に多くのエネルギーを必要として
いる。このため、最近、酸素の化学吸着が研究されるよ
うになった。
ているが、これまでは深冷分離法又は物理吸着分離法が
行なわれている。深冷分離法は空気を液化分留するもの
で、大規模の高価な設備を必要とし、また運転に大量の
エネルギーを消費している。物理吸着分離法はゼオライ
トあるいは分子ふるいカーボンを吸着剤として用いて行
なわれている。ゼオライトを用いる方法は、ゼオライト
が四重極子をもつ窒素分子が酸素分子よりも強く吸着す
ることを利用している。また、分子ふるいカーボンは直
径0.3〜0.4nmの細孔を有し、分子径0.38nmの酸素分子が
分子径0.40nmの窒素分子よりも早い速度で細孔内へ拡散
して吸着することを利用して酸素を窒素より分離してい
る。しかし、これらの窒素分子と酸素分子の物理吸着性
の差は小さいので、分離効率は小さく多量の吸着剤が必
要となり、また、運転に多くのエネルギーを必要として
いる。このため、最近、酸素の化学吸着が研究されるよ
うになった。
【０００４】Norman Herron、"Inorganic Chemistry、
第25巻、4714-4717頁、1986年"の報告によれば、細孔径
が0.8nmのゼオライトＹの細孔内でコバルト(II)イオン
をイオン交換し、これに、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエ
チレンジアミンの溶液を添加し、径0.8nm以下の細孔内
にＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバ
ルト(II)を生成させた後、ピリジンで処理することによ
り、酸素を吸着できるゼオライトＹが得られることが報
告されている。しかし、コバルト(II)イオンのゼオライ
トＹ中のアルミニウム原子に対するモル比は０．０１で
あり、ゼオライト１ｇあたりのコバルト(II)イオンの量
は5.5×10-2mmol以下と推定され、したがって、担持さ
れたコバルト(II)錯体に酸素分子が100%配位したとして
も、吸着する酸素量は5.5×10-2mmol以下と計算され
る。また、O.Leal, D.L.Anderson, R.G.Bowman, F.Baso
lo、および R.L.Burwell,Jr.、"Journal of the Americ
an Chemical Society,第97巻、18号、5125〜5129頁、19
75年"の報告によれば、Davison grade 59 silicagel
(細孔径14nm、比表面積340m2、細孔体積1.1cm3/g)を用
い、3-クロロプロピルトリメトキシシランを反応させ、
これにイミダゾールを反応させて結合し、さらに鉄(II)
テトラフェニルポルフィリンを結合させたシリカゲルが
0℃で弱く、-78℃で強く酸素を化学吸着することが述べ
られている。しかしながら、担持量は最高で0.0324mmol
/gであり、酸素吸収量は-127℃で0.0164mmol/gであると
記載されている。
第25巻、4714-4717頁、1986年"の報告によれば、細孔径
が0.8nmのゼオライトＹの細孔内でコバルト(II)イオン
をイオン交換し、これに、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエ
チレンジアミンの溶液を添加し、径0.8nm以下の細孔内
にＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバ
ルト(II)を生成させた後、ピリジンで処理することによ
り、酸素を吸着できるゼオライトＹが得られることが報
告されている。しかし、コバルト(II)イオンのゼオライ
トＹ中のアルミニウム原子に対するモル比は０．０１で
あり、ゼオライト１ｇあたりのコバルト(II)イオンの量
は5.5×10-2mmol以下と推定され、したがって、担持さ
れたコバルト(II)錯体に酸素分子が100%配位したとして
も、吸着する酸素量は5.5×10-2mmol以下と計算され
る。また、O.Leal, D.L.Anderson, R.G.Bowman, F.Baso
lo、および R.L.Burwell,Jr.、"Journal of the Americ
an Chemical Society,第97巻、18号、5125〜5129頁、19
75年"の報告によれば、Davison grade 59 silicagel
(細孔径14nm、比表面積340m2、細孔体積1.1cm3/g)を用
い、3-クロロプロピルトリメトキシシランを反応させ、
これにイミダゾールを反応させて結合し、さらに鉄(II)
テトラフェニルポルフィリンを結合させたシリカゲルが
0℃で弱く、-78℃で強く酸素を化学吸着することが述べ
られている。しかしながら、担持量は最高で0.0324mmol
/gであり、酸素吸収量は-127℃で0.0164mmol/gであると
記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の方
法では、ゼオライトの特定の細孔のみを用いるイオン交
換やカップリング剤処理などの特殊な且つ化学的な処理
を必要とするなど、その製造方法が複雑であり、また、
吸着剤単位重量当りの酸素吸着能が小さい欠点があっ
た。
法では、ゼオライトの特定の細孔のみを用いるイオン交
換やカップリング剤処理などの特殊な且つ化学的な処理
を必要とするなど、その製造方法が複雑であり、また、
吸着剤単位重量当りの酸素吸着能が小さい欠点があっ
た。
【０００６】本発明者らは初め、Ｎ，Ｎ'-ジサリチリデ
ンエチレンジアミナートコバルト(II)を、イミダゾール
又はその誘導体の共存下で、溶液系から吸着固定する方
法を検討したが、形成される錯体の溶媒への溶解度が小
さいため多量の溶媒を必要とするという欠点があった。
参考例に示すように、イミダゾール共存下、Ｎ，Ｎ'-ジ
サリチリデンエチレンジアミナートコバルト(II)の溶解
度の大きいＮ−メチル-2-ピロリドンの飽和溶液(35mmol
/1)30mlから5gのシリカゲルに吸着固定した場合、担持
量はシリカゲル1gあたり、0.1mmolと小さく、酸素吸着
剤としての実用に耐える酸素吸着能は得られなかった。
ンエチレンジアミナートコバルト(II)を、イミダゾール
又はその誘導体の共存下で、溶液系から吸着固定する方
法を検討したが、形成される錯体の溶媒への溶解度が小
さいため多量の溶媒を必要とするという欠点があった。
参考例に示すように、イミダゾール共存下、Ｎ，Ｎ'-ジ
サリチリデンエチレンジアミナートコバルト(II)の溶解
度の大きいＮ−メチル-2-ピロリドンの飽和溶液(35mmol
/1)30mlから5gのシリカゲルに吸着固定した場合、担持
量はシリカゲル1gあたり、0.1mmolと小さく、酸素吸着
剤としての実用に耐える酸素吸着能は得られなかった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、コバルト
(II)を含有する所望の３成分系錯体を、シリカゲルへ担
持する方法について鋭意研究を行なった結果、シリカゲ
ルにコバルト(II)塩溶液及びイミダゾール又はその誘導
体の溶液を加えると、コバルト(II)塩およびイミダゾー
ル又はその誘導体よりなる２成分系錯体が生成し、該２
成分系錯体がシリカゲルに吸着され、その後にＮ，Ｎ'
−ジサリチリデンジアミン溶液に接触させるか、或いは
シリカゲルにイミダゾール又はその誘導体の溶液を加え
ると、イミダゾール又はその誘導体がシリカゲルに吸着
され、その後に、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミナー
トコバルト(II)の溶液に接触させると、コバルト(II)、
イミダゾール又はその誘導体、およびＮ，Ｎ'−ジサリ
チリデンジアミンよりなる３成分系錯体の十分の量をシ
リカゲルに担持してなる複合体が得られ、この複合体が
優れた酸素吸着能を有することを知見した。また、その
際、コバルト(II)塩あるいはイミダゾール又はその誘導
体の溶液の濃度を高めることにより担持量を容易に増加
することができることを知見した。本発明はこれらの知
見に基づいてなされたものである。
(II)を含有する所望の３成分系錯体を、シリカゲルへ担
持する方法について鋭意研究を行なった結果、シリカゲ
ルにコバルト(II)塩溶液及びイミダゾール又はその誘導
体の溶液を加えると、コバルト(II)塩およびイミダゾー
ル又はその誘導体よりなる２成分系錯体が生成し、該２
成分系錯体がシリカゲルに吸着され、その後にＮ，Ｎ'
−ジサリチリデンジアミン溶液に接触させるか、或いは
シリカゲルにイミダゾール又はその誘導体の溶液を加え
ると、イミダゾール又はその誘導体がシリカゲルに吸着
され、その後に、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミナー
トコバルト(II)の溶液に接触させると、コバルト(II)、
イミダゾール又はその誘導体、およびＮ，Ｎ'−ジサリ
チリデンジアミンよりなる３成分系錯体の十分の量をシ
リカゲルに担持してなる複合体が得られ、この複合体が
優れた酸素吸着能を有することを知見した。また、その
際、コバルト(II)塩あるいはイミダゾール又はその誘導
体の溶液の濃度を高めることにより担持量を容易に増加
することができることを知見した。本発明はこれらの知
見に基づいてなされたものである。
【０００８】すなわち、本発明の１つの態様によれば、
コバルト(II)、イミダゾール又はその誘導体、および
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンよりなる３成分系錯
体をシリカゲルに吸着担持してなる複合体が提供され
る。また、本発明の他の態様によれば、コバルト(II)塩
の溶液およびイミダゾール又はその誘導体の溶液をシリ
カゲルに接触させることにより、コバルト(II)塩および
イミダゾール又はその誘導体から形成される２成分系錯
体をシリカゲルに吸着させ、得られる２成分系錯体−シ
リカゲル複合体にＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンの
溶液を接触させて反応させるか、或いはイミダゾール又
はその誘導体の溶液をシリカゲルに接触させてイミダゾ
ール又はその誘導体をシリカゲルに吸着させ、得られる
イミダゾール又はその誘導体−シリカゲル複合体に、
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミナートコバルト(II)の
溶液を接触させて反応させることを特徴とするコバルト
(II)、イミダゾール又はその誘導体、およびＮ，Ｎ'−
ジサリチリデンジアミンよりなる３成分系錯体をシリカ
ゲルに担持してなる複合体の製造方法が提供される。
コバルト(II)、イミダゾール又はその誘導体、および
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンよりなる３成分系錯
体をシリカゲルに吸着担持してなる複合体が提供され
る。また、本発明の他の態様によれば、コバルト(II)塩
の溶液およびイミダゾール又はその誘導体の溶液をシリ
カゲルに接触させることにより、コバルト(II)塩および
イミダゾール又はその誘導体から形成される２成分系錯
体をシリカゲルに吸着させ、得られる２成分系錯体−シ
リカゲル複合体にＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンの
溶液を接触させて反応させるか、或いはイミダゾール又
はその誘導体の溶液をシリカゲルに接触させてイミダゾ
ール又はその誘導体をシリカゲルに吸着させ、得られる
イミダゾール又はその誘導体−シリカゲル複合体に、
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミナートコバルト(II)の
溶液を接触させて反応させることを特徴とするコバルト
(II)、イミダゾール又はその誘導体、およびＮ，Ｎ'−
ジサリチリデンジアミンよりなる３成分系錯体をシリカ
ゲルに担持してなる複合体の製造方法が提供される。
【０００９】本発明で用いられるコバルト(II)塩として
は、たとえば酢酸コバルト(II)、硝酸コバルト(II)およ
び塩化コバルト(II)、チオシアン酸コバルト(II)などが
挙げられる。また、本発明においてはイミダゾール又は
その誘導体が用いられるが、イミダゾール誘導体の例と
しては、イミダゾール、1−メチルイミダゾール、２−
メチルイミダゾールなどを挙げることができる。本発明
に用いるＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンは、
は、たとえば酢酸コバルト(II)、硝酸コバルト(II)およ
び塩化コバルト(II)、チオシアン酸コバルト(II)などが
挙げられる。また、本発明においてはイミダゾール又は
その誘導体が用いられるが、イミダゾール誘導体の例と
しては、イミダゾール、1−メチルイミダゾール、２−
メチルイミダゾールなどを挙げることができる。本発明
に用いるＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンは、
（式中、Ｒ1〜Ｒ8は各々独立に水素原子、炭素原子数１
〜５のアルキル基または炭素数１〜５のアルコキシ基を
意味し、Ｘは炭素数２〜４のアルキレン基または炭素数
６〜８の置換もしくは非置換のアリーレンを意味す
る。）で表わされる。その例としては、Ｎ，Ｎ'−ジサ
リチリデンエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデ
ン-o-フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデント
リメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデン-2,2'-
ビフェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス(3-メチルサリチ
リデン)エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス(3-メトキシ
サリチリデン)エチレンジアミンなどを挙げることがで
きる。シリカゲルとしては、天然品および合成品が用い
られるが、合成品が好ましく、その内キセロゲル(Xerog
e1)型のものが適当である。Xeroge1型のうち、破砕粒状
シリカゲルおよび球状シリカゲルが用いられる。比表面
積50〜800m2/g、平均細孔径2〜70nm、粒度3〜50meshの
ものが用いられる。耐水性のあるシリカゲルが好ましく
用いられる。
〜５のアルキル基または炭素数１〜５のアルコキシ基を
意味し、Ｘは炭素数２〜４のアルキレン基または炭素数
６〜８の置換もしくは非置換のアリーレンを意味す
る。）で表わされる。その例としては、Ｎ，Ｎ'−ジサ
リチリデンエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデ
ン-o-フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデント
リメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデン-2,2'-
ビフェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス(3-メチルサリチ
リデン)エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス(3-メトキシ
サリチリデン)エチレンジアミンなどを挙げることがで
きる。シリカゲルとしては、天然品および合成品が用い
られるが、合成品が好ましく、その内キセロゲル(Xerog
e1)型のものが適当である。Xeroge1型のうち、破砕粒状
シリカゲルおよび球状シリカゲルが用いられる。比表面
積50〜800m2/g、平均細孔径2〜70nm、粒度3〜50meshの
ものが用いられる。耐水性のあるシリカゲルが好ましく
用いられる。
【００１０】本発明の複合体の製造方法の１つの方法に
おいては、まずイミダゾール又はその誘導体をシリカゲ
ルに吸着させ、イミダゾール又はその誘導体−シリカゲ
ル複合体を調製するが、以下に述べる方法で行なわれ
る。 イミダゾール又はその誘導体−シリカゲル複合体の調製
方法：窒素雰囲気下、イミダゾール又はその誘導体の溶
液（20〜2000mmol/l）を調製する。ここで用いられる溶
媒としては、メタノール、エタノール、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロホル
ム、水、および、これらの混合系が用いられる。この溶
液を溶液の重量に対して1〜100重量％の無色透明ないし
白色不透明のシリカゲルに加え、細孔内の気体を排除す
る。0〜90℃で30分〜5時間振とう又は撹拌して、イミダ
ゾール又はその誘導体をシリカゲルに吸着させる。該化
合物を吸着したシリカゲルを溶媒で洗浄し、減圧乾燥し
てイミダゾール又はその誘導体−シリカゲル複合体を得
る。
おいては、まずイミダゾール又はその誘導体をシリカゲ
ルに吸着させ、イミダゾール又はその誘導体−シリカゲ
ル複合体を調製するが、以下に述べる方法で行なわれ
る。 イミダゾール又はその誘導体−シリカゲル複合体の調製
方法：窒素雰囲気下、イミダゾール又はその誘導体の溶
液（20〜2000mmol/l）を調製する。ここで用いられる溶
媒としては、メタノール、エタノール、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロホル
ム、水、および、これらの混合系が用いられる。この溶
液を溶液の重量に対して1〜100重量％の無色透明ないし
白色不透明のシリカゲルに加え、細孔内の気体を排除す
る。0〜90℃で30分〜5時間振とう又は撹拌して、イミダ
ゾール又はその誘導体をシリカゲルに吸着させる。該化
合物を吸着したシリカゲルを溶媒で洗浄し、減圧乾燥し
てイミダゾール又はその誘導体−シリカゲル複合体を得
る。
【００１１】上記の方法で調製したイミダゾール又はそ
の誘導体−シリカゲル複合体を用い、３成分系錯体−シ
リカゲル複合体を次の方法で調製することができる。ま
ず、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミナートコバルト(I
I)をR.H.BailesおよびM.Calvin、“Journal of the Amer
ican Chemical Society、第69巻、1886−1893頁、1947
年”の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒドお
よびエチレンジアミンおよび酢酸コバルト(II)から合成
する。窒素雰囲気下でＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレ
ンジアミナートコバルト(II)溶液(2〜100mmol/l、赤褐
色透明)を調製する。この溶媒としては、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、メタノール、エタノール、クロロホ
ルム、ジクロロメタンおよびこれらの混合物が用いられ
る。前記のイミダゾール又はその誘導体−シリカゲル複
合体に該Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナー
トコバルト(II)溶液を等モル以上になるように加え、5
〜90℃で3〜24時間振とうして反応させる。この際、無
色もしくは白色のシリカゲルは均一に赤褐色に着色し、
（コバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミン−
イミダゾール又はその誘導体）３成分系錯体が生成して
いることが分る。同溶媒で洗浄し、20〜100℃で減圧乾
燥して、均一に赤褐色に着色した(コバルト(II)−Ｎ，
Ｎ'−ジサリチリデンジアミン−イミダゾール又はその
誘導体)３成分系錯体−シリカゲル複合体を得ることが
できる。また、本発明の複合体の製造方法の他の方法に
おいては、まず、コバルト(II)塩とイミダゾール又はそ
の誘導体とからなる２成分系錯体をシリカゲルに吸着さ
せ、該２成分系錯体−シリカゲル複合体を調製するが、
以下に並べる方法で行われる。ここで用いられるコバル
ト(II)塩の溶媒としては、水、メタノール、エタノール
およびこれらの混合系が好ましく用いられる。また、イ
ミダゾール又はその誘導体の溶媒としては、水、メタノ
ール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジクロロメタン、クロロホルムおよび、これらの
混合系が好ましく用いられる。
の誘導体−シリカゲル複合体を用い、３成分系錯体−シ
リカゲル複合体を次の方法で調製することができる。ま
ず、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミナートコバルト(I
I)をR.H.BailesおよびM.Calvin、“Journal of the Amer
ican Chemical Society、第69巻、1886−1893頁、1947
年”の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒドお
よびエチレンジアミンおよび酢酸コバルト(II)から合成
する。窒素雰囲気下でＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレ
ンジアミナートコバルト(II)溶液(2〜100mmol/l、赤褐
色透明)を調製する。この溶媒としては、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、メタノール、エタノール、クロロホ
ルム、ジクロロメタンおよびこれらの混合物が用いられ
る。前記のイミダゾール又はその誘導体−シリカゲル複
合体に該Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナー
トコバルト(II)溶液を等モル以上になるように加え、5
〜90℃で3〜24時間振とうして反応させる。この際、無
色もしくは白色のシリカゲルは均一に赤褐色に着色し、
（コバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミン−
イミダゾール又はその誘導体）３成分系錯体が生成して
いることが分る。同溶媒で洗浄し、20〜100℃で減圧乾
燥して、均一に赤褐色に着色した(コバルト(II)−Ｎ，
Ｎ'−ジサリチリデンジアミン−イミダゾール又はその
誘導体)３成分系錯体−シリカゲル複合体を得ることが
できる。また、本発明の複合体の製造方法の他の方法に
おいては、まず、コバルト(II)塩とイミダゾール又はそ
の誘導体とからなる２成分系錯体をシリカゲルに吸着さ
せ、該２成分系錯体−シリカゲル複合体を調製するが、
以下に並べる方法で行われる。ここで用いられるコバル
ト(II)塩の溶媒としては、水、メタノール、エタノール
およびこれらの混合系が好ましく用いられる。また、イ
ミダゾール又はその誘導体の溶媒としては、水、メタノ
ール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジクロロメタン、クロロホルムおよび、これらの
混合系が好ましく用いられる。
【００１２】（コバルト(II)塩−イミダゾール又はその
誘導体)２成分系錯体−シリカゲル複合体の調製方法： (1)窒素雰囲気下、コバルト(II)塩の溶液(20〜1000mmol
/l)およびイミダゾール又はその誘導体の溶液(20〜2000
mmol/1)を調製する。この２液をコバルト(II)塩に対し
てイミダゾール又はその誘導体が1〜50倍モルとなるよ
うに混合する。この混合溶液は青紫色となり、コバルト
(II)塩−イミダゾール又はその誘導体２成分系錯体が形
成されたことが分る。溶液重量に対して1〜100重量％の
無色透明ないし白色不透明のシリカゲルを採取し、その
細孔内を同溶媒で満たした後、この溶液に加え、0〜90
℃で30分〜5時間振とう又は撹拌し、コバルト塩とイミ
ダゾール又はその誘導体の錯体をシリカゲルへ吸着させ
る。シリカゲルは均一に青紫色に着色する。したがって
コバルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体２成分系
錯体がシリカゲルに吸着担持されたことが分る。該コバ
ルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体２成分系錯体
を吸着させたシルカゲルを、溶媒で洗浄し、減圧乾燥し
て、均一に青紫色を示す（コバルト(II)塩−イミダゾー
ル又はその誘導体)２成分系錯体−シリカゲル複合体を
得る。 (2)窒素雰囲気下、コバルト(II)塩の溶液(20〜1000mmol
/l)を調製する。この溶液を溶液の重量に対して1〜100
重量％の無色透明ないし白色不透明のシリカゲルに加
え、細孔内の気体を排除する。窒素雰囲気下、イミダゾ
ール又はその誘導体の溶液(20〜2000mmol/1、無色透明)
を調製する。シリカゲルを加えたコバルト(II)塩の溶液
に、該イミダゾール又はその誘導体の溶液を、コバルト
(II)塩に対してイミダゾール又はその誘導体が1〜50倍
モルとなるように徐々に加える。この混合溶液は青紫色
となり、コバルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体
２成分系錯体が形成されたことが分る。0〜90℃で30分
〜5時間振とう又は撹拌し、コバルト(II)塩−イミダゾ
ール又はその誘導体２成分系錯体を担体へ吸着させる。
シリカゲルは均一に青紫色に着色する。したがって、コ
バルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体２成分系錯
体がシリカゲルに吸着担持されたことが分る。該コバル
ト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体２成分系錯体を
吸着させたシリカゲルを、溶媒で洗浄し、減圧乾燥し
て、均一に青紫色を示す(コバルト(II)塩−イミダゾー
ル)又はその誘導体２成分系錯体−シリカゲル複合体を
得る。 (3)窒素雰囲気下、イミダゾール又はその誘導体の溶液
(20〜2000mmol/l)を調製する。この溶液を溶液の重量に
対して1〜100重量％の無色透明ないし白色不透明のシリ
カゲルに加え、細孔内の気体を排除する。窒素雰囲気
下、コバルト(II)塩の溶液(20〜1000mmol/l)を調製す
る。シリカゲルを加えたイミダゾール又はその誘導体の
溶液に、該コバルト(II)塩の溶液を、コバルト(II)塩に
対してイミダゾール又はその誘導体が1〜50倍モルとな
るように徐々に加える。この混合溶液は青紫色となり、
コバルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体２成分系
錯体が形成されたことが分る。0〜90℃で30分〜5時間振
とう又は撹拌し、コバルト(II)とイミダゾール又はその
誘導体の錯体を担体へ吸着させる。シリカゲルは均一に
青紫色に着色する。したがって、コバルト(II)塩−イミ
ダゾール又はその誘導体２成分系錯体がシリカゲルに吸
着担持されたことは明瞭である。該コバルト(II)塩−イ
ミダゾール又はその誘導体錯体を吸着させたシリカゲル
を、溶媒で洗浄し、減圧乾燥して、均一に青紫色を示す
(コバルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体)２成分
系錯体−シリカゲル複合体を得る。 (4)窒素雰囲気下、コバルト(II)塩の溶液（20〜1000mmo
l/l）を調製する。これに前述した方法で調製したイミ
ダゾール又はその誘導体−シリカゲル複合体をコバルト
(II)塩に対してイミダゾール又はその誘導体が1〜30倍
となるように加える。0〜90℃で30分〜5時間振とう又は
撹拌する。シリカゲルは青紫色に着色する。従って、
(コバルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体)２成分
系錯体−シリカゲル複合体が形成されたことは明らかで
ある。該複合体を溶媒で洗浄し、減圧乾燥して、均一に
青紫色を示す(コバルト(II)塩−イミダゾール又はその
誘導体)２成分系錯体−シリカゲル複合体を得る。
誘導体)２成分系錯体−シリカゲル複合体の調製方法： (1)窒素雰囲気下、コバルト(II)塩の溶液(20〜1000mmol
/l)およびイミダゾール又はその誘導体の溶液(20〜2000
mmol/1)を調製する。この２液をコバルト(II)塩に対し
てイミダゾール又はその誘導体が1〜50倍モルとなるよ
うに混合する。この混合溶液は青紫色となり、コバルト
(II)塩−イミダゾール又はその誘導体２成分系錯体が形
成されたことが分る。溶液重量に対して1〜100重量％の
無色透明ないし白色不透明のシリカゲルを採取し、その
細孔内を同溶媒で満たした後、この溶液に加え、0〜90
℃で30分〜5時間振とう又は撹拌し、コバルト塩とイミ
ダゾール又はその誘導体の錯体をシリカゲルへ吸着させ
る。シリカゲルは均一に青紫色に着色する。したがって
コバルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体２成分系
錯体がシリカゲルに吸着担持されたことが分る。該コバ
ルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体２成分系錯体
を吸着させたシルカゲルを、溶媒で洗浄し、減圧乾燥し
て、均一に青紫色を示す（コバルト(II)塩−イミダゾー
ル又はその誘導体)２成分系錯体−シリカゲル複合体を
得る。 (2)窒素雰囲気下、コバルト(II)塩の溶液(20〜1000mmol
/l)を調製する。この溶液を溶液の重量に対して1〜100
重量％の無色透明ないし白色不透明のシリカゲルに加
え、細孔内の気体を排除する。窒素雰囲気下、イミダゾ
ール又はその誘導体の溶液(20〜2000mmol/1、無色透明)
を調製する。シリカゲルを加えたコバルト(II)塩の溶液
に、該イミダゾール又はその誘導体の溶液を、コバルト
(II)塩に対してイミダゾール又はその誘導体が1〜50倍
モルとなるように徐々に加える。この混合溶液は青紫色
となり、コバルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体
２成分系錯体が形成されたことが分る。0〜90℃で30分
〜5時間振とう又は撹拌し、コバルト(II)塩−イミダゾ
ール又はその誘導体２成分系錯体を担体へ吸着させる。
シリカゲルは均一に青紫色に着色する。したがって、コ
バルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体２成分系錯
体がシリカゲルに吸着担持されたことが分る。該コバル
ト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体２成分系錯体を
吸着させたシリカゲルを、溶媒で洗浄し、減圧乾燥し
て、均一に青紫色を示す(コバルト(II)塩−イミダゾー
ル)又はその誘導体２成分系錯体−シリカゲル複合体を
得る。 (3)窒素雰囲気下、イミダゾール又はその誘導体の溶液
(20〜2000mmol/l)を調製する。この溶液を溶液の重量に
対して1〜100重量％の無色透明ないし白色不透明のシリ
カゲルに加え、細孔内の気体を排除する。窒素雰囲気
下、コバルト(II)塩の溶液(20〜1000mmol/l)を調製す
る。シリカゲルを加えたイミダゾール又はその誘導体の
溶液に、該コバルト(II)塩の溶液を、コバルト(II)塩に
対してイミダゾール又はその誘導体が1〜50倍モルとな
るように徐々に加える。この混合溶液は青紫色となり、
コバルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体２成分系
錯体が形成されたことが分る。0〜90℃で30分〜5時間振
とう又は撹拌し、コバルト(II)とイミダゾール又はその
誘導体の錯体を担体へ吸着させる。シリカゲルは均一に
青紫色に着色する。したがって、コバルト(II)塩−イミ
ダゾール又はその誘導体２成分系錯体がシリカゲルに吸
着担持されたことは明瞭である。該コバルト(II)塩−イ
ミダゾール又はその誘導体錯体を吸着させたシリカゲル
を、溶媒で洗浄し、減圧乾燥して、均一に青紫色を示す
(コバルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体)２成分
系錯体−シリカゲル複合体を得る。 (4)窒素雰囲気下、コバルト(II)塩の溶液（20〜1000mmo
l/l）を調製する。これに前述した方法で調製したイミ
ダゾール又はその誘導体−シリカゲル複合体をコバルト
(II)塩に対してイミダゾール又はその誘導体が1〜30倍
となるように加える。0〜90℃で30分〜5時間振とう又は
撹拌する。シリカゲルは青紫色に着色する。従って、
(コバルト(II)塩−イミダゾール又はその誘導体)２成分
系錯体−シリカゲル複合体が形成されたことは明らかで
ある。該複合体を溶媒で洗浄し、減圧乾燥して、均一に
青紫色を示す(コバルト(II)塩−イミダゾール又はその
誘導体)２成分系錯体−シリカゲル複合体を得る。
【００１３】次に、上記のようにして得た（コバルト(I
I)塩−イミダゾール又はその誘導体）２成分系錯体−シ
リカゲル複合体にＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンを
溶解してなる溶液を加えて両者間の反応をさせることに
より、コバルト(II)、イミダゾール又はその誘導体およ
びＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンよりなる３成分系
錯体をシリカゲルに担持してなる本発明の複合体を得る
ことができる。シリカゲルに担持されたコバルト(II)塩
とイミダゾール又はその誘導体とからなる２成分系錯体
とＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンとを反応させる溶
媒としては、芳香族炭化水素が適している。ベンゼン、
トルエンおよびキシレンなどが好ましい。この反応を行
なう方法について次に説明する。即ち、窒素雰囲気下で
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミン類溶液(20〜1000mmol
/l、黄色透明)を調製する。前記の(コバルト(II)塩−イ
ミダゾール又はその誘導体)２成分系錯体−シリカゲル
複合体に該Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミン類溶液
を、担持されたコバルト(II)塩−イミダゾール又はその
誘導体２成分系錯体に対して等モル以上になるように加
え、5〜90℃で3〜24時間振とうして反応させる。この
際、青紫色のシリカゲルは均一に赤褐色に変化し、コバ
ルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミン類−イミ
ダゾール又はその誘導体３成分系錯体が生成しているこ
とが分る。同溶媒で洗浄し、20〜100℃で減圧乾燥し
て、均一に赤褐色に着色した(コバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−
ジサリチリデンジアミン類−イミダゾール又はその誘導
体)３成分系錯体−シリカゲル複合体を得ることができ
る。
I)塩−イミダゾール又はその誘導体）２成分系錯体−シ
リカゲル複合体にＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンを
溶解してなる溶液を加えて両者間の反応をさせることに
より、コバルト(II)、イミダゾール又はその誘導体およ
びＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンよりなる３成分系
錯体をシリカゲルに担持してなる本発明の複合体を得る
ことができる。シリカゲルに担持されたコバルト(II)塩
とイミダゾール又はその誘導体とからなる２成分系錯体
とＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンとを反応させる溶
媒としては、芳香族炭化水素が適している。ベンゼン、
トルエンおよびキシレンなどが好ましい。この反応を行
なう方法について次に説明する。即ち、窒素雰囲気下で
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミン類溶液(20〜1000mmol
/l、黄色透明)を調製する。前記の(コバルト(II)塩−イ
ミダゾール又はその誘導体)２成分系錯体−シリカゲル
複合体に該Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミン類溶液
を、担持されたコバルト(II)塩−イミダゾール又はその
誘導体２成分系錯体に対して等モル以上になるように加
え、5〜90℃で3〜24時間振とうして反応させる。この
際、青紫色のシリカゲルは均一に赤褐色に変化し、コバ
ルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミン類−イミ
ダゾール又はその誘導体３成分系錯体が生成しているこ
とが分る。同溶媒で洗浄し、20〜100℃で減圧乾燥し
て、均一に赤褐色に着色した(コバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−
ジサリチリデンジアミン類−イミダゾール又はその誘導
体)３成分系錯体−シリカゲル複合体を得ることができ
る。
【００１４】本発明による３成分系コバルト(II)錯体吸
着担持複合体のコバルト(II)錯体の吸着担持量は、シリ
カゲル1g当り0.15〜10.0mmol、好ましくは0.20〜10.0mm
olである。
着担持複合体のコバルト(II)錯体の吸着担持量は、シリ
カゲル1g当り0.15〜10.0mmol、好ましくは0.20〜10.0mm
olである。
【００１５】この該コバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチ
リデンジアミン類−イミダゾール又はその誘導体３成分
系錯体担持シリカゲルは、例えば酸素と窒素を含む混合
ガスと接触させると、赤褐色から黒褐色へ変色する。し
たがって、該シリカゲル担持コバルト(II)−Ｎ，Ｎ’−
ジサリチリデンジアミン類−イミダゾール又はその誘導
体３成分系錯体に酸素が配位し、吸着されたことが分
る。即ち、本発明のコバルト(II)、イミダゾール又はそ
の誘導体およびＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンより
なる３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる複合体は
優れた酸素吸着能を有し、酸素吸着剤として有用であ
る。具体的な利用方法としては、本発明の酸素吸着剤に
酸素を含む混合気体を接触させて酸素を該吸着剤に吸着
させることにより酸素含有気体からの酸素を分離するこ
とができる。また、本発明の酸素吸着剤に酸素含有混合
気体を接触させて酸素を吸着させ、その後、酸素を吸着
含有する黒褐色の吸着剤を所定雰囲気下での40℃以上へ
の加熱処理、減圧雰囲気への暴露処理および貧酸素雰囲
気への暴露処理から選ばれる少くとも１つの処理にかけ
ると、吸着した酸素を脱着して、吸着剤の色が黒褐色か
ら赤褐色へ変色する。この方法により、該処理雰囲気の
酸素濃度を高めることができる。
リデンジアミン類−イミダゾール又はその誘導体３成分
系錯体担持シリカゲルは、例えば酸素と窒素を含む混合
ガスと接触させると、赤褐色から黒褐色へ変色する。し
たがって、該シリカゲル担持コバルト(II)−Ｎ，Ｎ’−
ジサリチリデンジアミン類−イミダゾール又はその誘導
体３成分系錯体に酸素が配位し、吸着されたことが分
る。即ち、本発明のコバルト(II)、イミダゾール又はそ
の誘導体およびＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンより
なる３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる複合体は
優れた酸素吸着能を有し、酸素吸着剤として有用であ
る。具体的な利用方法としては、本発明の酸素吸着剤に
酸素を含む混合気体を接触させて酸素を該吸着剤に吸着
させることにより酸素含有気体からの酸素を分離するこ
とができる。また、本発明の酸素吸着剤に酸素含有混合
気体を接触させて酸素を吸着させ、その後、酸素を吸着
含有する黒褐色の吸着剤を所定雰囲気下での40℃以上へ
の加熱処理、減圧雰囲気への暴露処理および貧酸素雰囲
気への暴露処理から選ばれる少くとも１つの処理にかけ
ると、吸着した酸素を脱着して、吸着剤の色が黒褐色か
ら赤褐色へ変色する。この方法により、該処理雰囲気の
酸素濃度を高めることができる。
【００１６】上記方法において得られるコバルト(II)−
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミン−イミダゾール又は
その誘導体３成分系錯体を担持してなる複合体中のコバ
ルト(II)錯体の担持量は、吸着担持後の上澄み液相中の
Ｃｏ(II)イオンの残存量および洗浄液中のＣｏ(II)イオ
ンの残存量をニトロソＲ塩法を用いて測定して求めるこ
とができる。
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミン−イミダゾール又は
その誘導体３成分系錯体を担持してなる複合体中のコバ
ルト(II)錯体の担持量は、吸着担持後の上澄み液相中の
Ｃｏ(II)イオンの残存量および洗浄液中のＣｏ(II)イオ
ンの残存量をニトロソＲ塩法を用いて測定して求めるこ
とができる。
【００１７】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
【００１８】以下の実施例において、コバルト錯体の担
持量の測定は、次のようにして行なった。数種の異なる
濃度の酢酸コバルト(II)水溶液を調製し、酢酸ナトリウ
ムでpHを5.0〜6.8にした後に、酢酸コバルト(II)の４倍
モルのニトロソＲ塩、正しくは1−ニトロソ−2−ナフト
ール−3,6−ジスルホン酸２ナトリウムを加えて30分還
流し、キレートを生成させた。塩酸を加えて2.5Ｎ塩酸
酸性とした後、過ホウ酸ナトリウムで過剰の1−ニトロ
ソ−2−ナフトール−3,6−ジスルホン酸２ナトリウムを
分解し415nmの吸光度を測定した。これらの測定点に最
小二乗法を用いて検量線を作成した。実施例における担
持の際の上澄み液と洗浄液について、まず、溶媒留去
し、硫酸と硝酸の混酸(1:1)を加えて錯体を完全に分解
し、乾固した後、リン酸−蒸留水(1:49)でＣｏ(II)イオ
ンを抽出し、ニトロソＲ塩法により、415nmの吸光度を
測定して、検量線から上澄み液と洗浄液中のＣｏ(II)イ
オンの存在量を求め、担持量を算出する。
持量の測定は、次のようにして行なった。数種の異なる
濃度の酢酸コバルト(II)水溶液を調製し、酢酸ナトリウ
ムでpHを5.0〜6.8にした後に、酢酸コバルト(II)の４倍
モルのニトロソＲ塩、正しくは1−ニトロソ−2−ナフト
ール−3,6−ジスルホン酸２ナトリウムを加えて30分還
流し、キレートを生成させた。塩酸を加えて2.5Ｎ塩酸
酸性とした後、過ホウ酸ナトリウムで過剰の1−ニトロ
ソ−2−ナフトール−3,6−ジスルホン酸２ナトリウムを
分解し415nmの吸光度を測定した。これらの測定点に最
小二乗法を用いて検量線を作成した。実施例における担
持の際の上澄み液と洗浄液について、まず、溶媒留去
し、硫酸と硝酸の混酸(1:1)を加えて錯体を完全に分解
し、乾固した後、リン酸−蒸留水(1:49)でＣｏ(II)イオ
ンを抽出し、ニトロソＲ塩法により、415nmの吸光度を
測定して、検量線から上澄み液と洗浄液中のＣｏ(II)イ
オンの存在量を求め、担持量を算出する。
【００１９】実施例１ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物〔Co(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級〕0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級)1.02g (15mmol)をそ
れぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。100℃、10-4mmHgで2時
間真空処理を行なったシリカゲル(富士デヴィソン化学
製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒
度5〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールの水溶液(1.2
mol/l、無色透明)12.5mlを加え、これを23℃で撹拌ある
いは振とうしつつ、続いて酢酸コバルトの水溶液(0.2mo
l/l、淡紅色)12.5mlを徐々に加える。30℃で2時間振と
うした後、メタノールで溶媒置換および洗浄を行ない、
50℃で3時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバ
ルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル
複合体を調製した。
O)2・4H2O、関東化学製特級〕0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級)1.02g (15mmol)をそ
れぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。100℃、10-4mmHgで2時
間真空処理を行なったシリカゲル(富士デヴィソン化学
製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒
度5〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールの水溶液(1.2
mol/l、無色透明)12.5mlを加え、これを23℃で撹拌ある
いは振とうしつつ、続いて酢酸コバルトの水溶液(0.2mo
l/l、淡紅色)12.5mlを徐々に加える。30℃で2時間振と
うした後、メタノールで溶媒置換および洗浄を行ない、
50℃で3時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバ
ルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル
複合体を調製した。
【００２０】Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミ
ンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the Amer
ican Chemical Society,第69巻、1886−1893頁、1947
年"の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒドお
よびエチレンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン溶液(0.1
mol/l、黄色透明)25mlを、上記のコバルト(II)塩−イミ
ダゾール錯体−シリカゲル複合体に加え、30℃で24時間
振とうを行ない、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4
回、洗浄を行ない、80℃、10-4mmHgで2時間減圧乾燥し
た。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが
３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤で
ある。
ンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the Amer
ican Chemical Society,第69巻、1886−1893頁、1947
年"の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒドお
よびエチレンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン溶液(0.1
mol/l、黄色透明)25mlを、上記のコバルト(II)塩−イミ
ダゾール錯体−シリカゲル複合体に加え、30℃で24時間
振とうを行ない、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4
回、洗浄を行ない、80℃、10-4mmHgで2時間減圧乾燥し
た。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが
３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤で
ある。
【００２１】上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダゾ
ール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1gあたり0.28
mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリ
カゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られた
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバル
ト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.8
倍に相当する。
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダゾ
ール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1gあたり0.28
mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリ
カゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られた
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバル
ト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.8
倍に相当する。
【００２２】１気圧の窒素で満たした50mlの２口ナスフ
ラスコ(容量80ml)に、上記のようにして得た酸素吸着剤
5gを入れ、１気圧の純酸素480mlを入れた容器と二方活
栓（標準＃15、プラグの孔径3mm）を有する内径12mmの
ガラス管で連結し、該二方活栓を開くことにより、酸素
を窒素中に自然拡散させ、ガスビュレット法により、23
℃で酸素吸着量を測定した。酸素は日本酸素(株)製純酸
素(純度99.9%以上)を使用した。細孔を通じての自然拡
散にもかかわらず、酸素の吸着は迅速で、20分で0.15mm
ol、60分で0.25mmolの酸素を吸着し、2時間後の酸素吸
着量は0.38mmolとなり、ほぼ平衡吸着量に達した。この
酸素吸着剤を50mlの２口ナスフラスコ(容量80ml)に入
れ、1atmの窒素下、70℃に加熱し、20分保持し、酸素の
放出量をガスビュレット法により測定した。酸素が迅速
に放出され、放出量は0.19mmolに達した。放出ガスをガ
スクロマトグラフで分析した結果、放出ガスは酸素であ
り、他の成分は検出されなかった。つぎに、１気圧の窒
素で満たした50mlの２口ナスフラスコ(容量80ml)に、こ
の酸素吸着剤を入れ、１気圧の純酸素480mlを入れた容
器と前記したのと同様に連結し、ガスビュレット法によ
り、23℃で酸素吸着量を測定した。20分後の酸素吸着量
は0.14mmolとなった。その後、さらに、この吸着剤を70
℃に加熱すると、酸素が迅速に放出され、放出量は20分
後に0.14mmolに達した。以後、この吸着放出の操作を繰
り返しても、酸素吸着速度および吸着量には変化はみら
れなかった。
ラスコ(容量80ml)に、上記のようにして得た酸素吸着剤
5gを入れ、１気圧の純酸素480mlを入れた容器と二方活
栓（標準＃15、プラグの孔径3mm）を有する内径12mmの
ガラス管で連結し、該二方活栓を開くことにより、酸素
を窒素中に自然拡散させ、ガスビュレット法により、23
℃で酸素吸着量を測定した。酸素は日本酸素(株)製純酸
素(純度99.9%以上)を使用した。細孔を通じての自然拡
散にもかかわらず、酸素の吸着は迅速で、20分で0.15mm
ol、60分で0.25mmolの酸素を吸着し、2時間後の酸素吸
着量は0.38mmolとなり、ほぼ平衡吸着量に達した。この
酸素吸着剤を50mlの２口ナスフラスコ(容量80ml)に入
れ、1atmの窒素下、70℃に加熱し、20分保持し、酸素の
放出量をガスビュレット法により測定した。酸素が迅速
に放出され、放出量は0.19mmolに達した。放出ガスをガ
スクロマトグラフで分析した結果、放出ガスは酸素であ
り、他の成分は検出されなかった。つぎに、１気圧の窒
素で満たした50mlの２口ナスフラスコ(容量80ml)に、こ
の酸素吸着剤を入れ、１気圧の純酸素480mlを入れた容
器と前記したのと同様に連結し、ガスビュレット法によ
り、23℃で酸素吸着量を測定した。20分後の酸素吸着量
は0.14mmolとなった。その後、さらに、この吸着剤を70
℃に加熱すると、酸素が迅速に放出され、放出量は20分
後に0.14mmolに達した。以後、この吸着放出の操作を繰
り返しても、酸素吸着速度および吸着量には変化はみら
れなかった。
【００２３】実施例２ 窒素下、室温で、塩化コバルト(II)六水和物(CoCl2・6H2
O、関東化学製特級)0.59g(2.5mmol)およびイミダゾール
(C3H4N2、東京化成製特級)1.02g(15mmol)をそれぞれ蒸
留水12.5mlに溶解する。100℃、10-4mmHgで2時間真空処
理を行なったシリカゲル(富士デヴィソン化学製、CARiA
CT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度５〜10m
esh、無色透明)5gにイミダゾールの水溶液(1.2mol/l、
無色透明)12.5mlを加え、これを23℃で撹拌あるいは振
とうしつつ、続いて塩化コバルト(II)の水溶液(0.2mol/
l、淡紅色)12.5mlを徐々に加える。30℃で2時間振とう
した後、メタノールで溶媒置換および洗浄を行ない、50
℃で3時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバル
ト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複
合体を調製した。
O、関東化学製特級)0.59g(2.5mmol)およびイミダゾール
(C3H4N2、東京化成製特級)1.02g(15mmol)をそれぞれ蒸
留水12.5mlに溶解する。100℃、10-4mmHgで2時間真空処
理を行なったシリカゲル(富士デヴィソン化学製、CARiA
CT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度５〜10m
esh、無色透明)5gにイミダゾールの水溶液(1.2mol/l、
無色透明)12.5mlを加え、これを23℃で撹拌あるいは振
とうしつつ、続いて塩化コバルト(II)の水溶液(0.2mol/
l、淡紅色)12.5mlを徐々に加える。30℃で2時間振とう
した後、メタノールで溶媒置換および洗浄を行ない、50
℃で3時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバル
ト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複
合体を調製した。
【００２４】Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミ
ンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the Amer
ican Chemical Society,第69巻、1886−1893頁、1947
年"の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒドお
よびエチレンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン溶液(0.1
mol/l、黄色透明)25mlを、上記の(コバルト(II)塩−イ
ミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複合体に加え、3
0℃で24時間振とうを行ない、上澄み液を除いた後、ベ
ンゼンで4回、洗浄を行ない、80℃、10-4mmHgで2時間減
圧乾燥した。均一に赤褐色に着色した３成分系錯体を担
持したシリカゲルを得た。これが酸素吸着剤である。
ンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the Amer
ican Chemical Society,第69巻、1886−1893頁、1947
年"の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒドお
よびエチレンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン溶液(0.1
mol/l、黄色透明)25mlを、上記の(コバルト(II)塩−イ
ミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複合体に加え、3
0℃で24時間振とうを行ない、上澄み液を除いた後、ベ
ンゼンで4回、洗浄を行ない、80℃、10-4mmHgで2時間減
圧乾燥した。均一に赤褐色に着色した３成分系錯体を担
持したシリカゲルを得た。これが酸素吸着剤である。
【００２５】実施例１と同じニトロソＲ塩法でコバルト
(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イ
ミダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1gあた
り0.27mmolの該コバルト(II)錯体を担持したシリカゲル
を得た。これは参考例に記載の含浸法で得られたＮ，
Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバルト(I
I)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.7倍に
相当する。
(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イ
ミダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1gあた
り0.27mmolの該コバルト(II)錯体を担持したシリカゲル
を得た。これは参考例に記載の含浸法で得られたＮ，
Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバルト(I
I)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.7倍に
相当する。
【００２６】実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定
した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素の
吸着は迅速で、20分で0.14mmol、60分で0.25mmolの酸素
を吸着し、2時間後の酸素吸着量は0.36mmolとなり、ほ
ぼ平衡吸着量に達した。この酸素吸着剤を50mlの２口ナ
スフラスコ(容量80ml)に入れ、真空ポンプを用いて、こ
の２口ナスフラスコ内を40℃で減圧(3mmHg)にして、20
分間保持すると、迅速に酸素が放出された。つぎに、こ
の50mlの２口ナスフラスコ(容量80ml)内を１気圧の窒素
で満たし、１気圧の純酸素480mlを入れた容器と前記と
同様に連結し、ガスビュレット法により、23℃で酸素吸
着量を測定した。20分後の酸素吸着量は0.14mmolとなっ
た。その後、さらに、この２口ナスフラスコ（容量80m
l）内を減圧(3mmHg)にし、40℃に加熱し、20分間保持す
ると、酸素が迅速に放出された。つぎに、この50mlの２
口ナスフラスコ（容量80ml）内を１気圧の窒素で満た
し、１気圧の純酸素480mlを入れた容器と前記同様に連
結し、ガスビュレット法により、23℃で酸素吸着量を測
定した。20分後の酸素吸着量は0.14mmolとなった。以
後、この吸着放出の操作を繰り返しても、酸素吸着速度
および吸着量に変化はみられなかった。
した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素の
吸着は迅速で、20分で0.14mmol、60分で0.25mmolの酸素
を吸着し、2時間後の酸素吸着量は0.36mmolとなり、ほ
ぼ平衡吸着量に達した。この酸素吸着剤を50mlの２口ナ
スフラスコ(容量80ml)に入れ、真空ポンプを用いて、こ
の２口ナスフラスコ内を40℃で減圧(3mmHg)にして、20
分間保持すると、迅速に酸素が放出された。つぎに、こ
の50mlの２口ナスフラスコ(容量80ml)内を１気圧の窒素
で満たし、１気圧の純酸素480mlを入れた容器と前記と
同様に連結し、ガスビュレット法により、23℃で酸素吸
着量を測定した。20分後の酸素吸着量は0.14mmolとなっ
た。その後、さらに、この２口ナスフラスコ（容量80m
l）内を減圧(3mmHg)にし、40℃に加熱し、20分間保持す
ると、酸素が迅速に放出された。つぎに、この50mlの２
口ナスフラスコ（容量80ml）内を１気圧の窒素で満た
し、１気圧の純酸素480mlを入れた容器と前記同様に連
結し、ガスビュレット法により、23℃で酸素吸着量を測
定した。20分後の酸素吸着量は0.14mmolとなった。以
後、この吸着放出の操作を繰り返しても、酸素吸着速度
および吸着量に変化はみられなかった。
【００２７】実施例３ 窒素下、室温で、硝酸コバルト(II)六水和物〔Co(NO3)2
・6H2O、関東化学製特級〕0.73g(2.5mmol)およびイミダ
ゾール(C3H4N2、東京化成製特級)1.02g(15mmol)をそれ
ぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。100℃、10-4mmHgで2時間
真空処理を行なったシリカゲル(富士デヴィソン化学
製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒
度５〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールの水溶液(1.
2mol/l、無色透明)12.5mlを加え、これを23℃で撹拌あ
るいは振とうしつつ、続いて硝酸コバルト(II)の水溶液
(0.2mol/l、淡紅色)12.5mlを徐々に加える。30℃で2時
間振とうした後、メタノールで溶媒置換および洗浄を行
ない、50℃で3時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色し
た(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリ
カゲル複合体を調製した。
・6H2O、関東化学製特級〕0.73g(2.5mmol)およびイミダ
ゾール(C3H4N2、東京化成製特級)1.02g(15mmol)をそれ
ぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。100℃、10-4mmHgで2時間
真空処理を行なったシリカゲル(富士デヴィソン化学
製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒
度５〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールの水溶液(1.
2mol/l、無色透明)12.5mlを加え、これを23℃で撹拌あ
るいは振とうしつつ、続いて硝酸コバルト(II)の水溶液
(0.2mol/l、淡紅色)12.5mlを徐々に加える。30℃で2時
間振とうした後、メタノールで溶媒置換および洗浄を行
ない、50℃で3時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色し
た(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリ
カゲル複合体を調製した。
【００２８】Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミ
ンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the Amer
ican Chemical Society,第69巻、1886−1893頁、1947
年"の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒドお
よびエチレンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン溶液(0.1
mol/l)25mlを、上記のコバルト(II)塩−イミダゾール錯
体担持シリカゲルに加え、30℃で24時間振とうを行な
い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗浄を行な
い、80℃、10-4mmHgで2時間減圧乾燥した。均一に赤褐
色に着色した３成分系錯体を担持したシリカゲルを得
た。これが酸素吸着剤である。
ンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the Amer
ican Chemical Society,第69巻、1886−1893頁、1947
年"の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒドお
よびエチレンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン溶液(0.1
mol/l)25mlを、上記のコバルト(II)塩−イミダゾール錯
体担持シリカゲルに加え、30℃で24時間振とうを行な
い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗浄を行な
い、80℃、10-4mmHgで2時間減圧乾燥した。均一に赤褐
色に着色した３成分系錯体を担持したシリカゲルを得
た。これが酸素吸着剤である。
【００２９】実施例１と同じニトロソＲ塩法でコバルト
(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イ
ミダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1gあた
り0.28mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持し
たシリカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得
られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナート
コバルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲル
の2.8倍に相当する。
(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イ
ミダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1gあた
り0.28mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持し
たシリカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得
られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナート
コバルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲル
の2.8倍に相当する。
【００３０】実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定
した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素の
吸着は迅速で、20分で0.18mmol、60分で0.24mmolの酸素
を吸着し、2時間後の酸素吸着量は0.36mmolとなり、ほ
ぼ平衡吸着量に達した。この酸素吸着剤を50mlの２口ナ
スフラスコ（容量80ml）に入れ、1atmの窒素下、70℃に
加熱し、20分間保持し、酸素の放出量をガスビュレット
法により測定した。酸素が迅速に放出され、放出量は0.
17mmolに達した。放出ガスをガスクロマトグラフで分析
した結果、放出ガスは酸素であり、他の成分は検出され
なかった。つぎに、１気圧の窒素で満たした50mlの２口
ナスフラスコ（容量80ml）に、この酸素吸着剤を入れ、
１気圧の純酸素480mlを入れた容器と前記同様に連結
し、ガスビュレット法により、23℃で酸素吸着量を測定
した。20分後の酸素吸着量は0.15mmolとなった。その
後、さらに、この吸着剤を70℃に加熱すると、酸素が迅
速に放出され、放出量は20分後に0.14mmolに達した。以
後、この吸着放出の操作を繰り返しても、酸素吸着速度
および吸着量には変化はみられなかった。
した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素の
吸着は迅速で、20分で0.18mmol、60分で0.24mmolの酸素
を吸着し、2時間後の酸素吸着量は0.36mmolとなり、ほ
ぼ平衡吸着量に達した。この酸素吸着剤を50mlの２口ナ
スフラスコ（容量80ml）に入れ、1atmの窒素下、70℃に
加熱し、20分間保持し、酸素の放出量をガスビュレット
法により測定した。酸素が迅速に放出され、放出量は0.
17mmolに達した。放出ガスをガスクロマトグラフで分析
した結果、放出ガスは酸素であり、他の成分は検出され
なかった。つぎに、１気圧の窒素で満たした50mlの２口
ナスフラスコ（容量80ml）に、この酸素吸着剤を入れ、
１気圧の純酸素480mlを入れた容器と前記同様に連結
し、ガスビュレット法により、23℃で酸素吸着量を測定
した。20分後の酸素吸着量は0.15mmolとなった。その
後、さらに、この吸着剤を70℃に加熱すると、酸素が迅
速に放出され、放出量は20分後に0.14mmolに達した。以
後、この吸着放出の操作を繰り返しても、酸素吸着速度
および吸着量には変化はみられなかった。
【００３１】参考例 Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバル
ト(II)はR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the
American Chemical Society,第69巻、1886−1893頁、19
47年"の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒド
およびエチレンジアミンおよび酢酸コバルト(II)から合
成した。乾燥窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレ
ンジアミナートコバルト(II)0.325g(1mmol)およびイミ
ダゾール0.068g(1mmol、コバルトと等モル)にＮ−メチ
ル−2−ピロリドン30mlを加えて飽和溶液を調製する。
これに100℃、10-4mmHgで2時間真空処理を行なったシリ
カゲル(富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細孔径
10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透明)、5
gを加えて、30℃で24時間振とうした。その後上澄み液
を除き、同溶媒で洗浄した後、80℃、10-4mmHgで2時間
減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシルカゲルを得
た。錯体の固定化量はシリカゲル1gあたり0.1mmolであ
った。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定した。
2時間後における酸素吸着量は0.02mmolであり、赤褐色
のシリカゲルによる酸素吸着は僅少であった。
ト(II)はR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the
American Chemical Society,第69巻、1886−1893頁、19
47年"の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒド
およびエチレンジアミンおよび酢酸コバルト(II)から合
成した。乾燥窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレ
ンジアミナートコバルト(II)0.325g(1mmol)およびイミ
ダゾール0.068g(1mmol、コバルトと等モル)にＮ−メチ
ル−2−ピロリドン30mlを加えて飽和溶液を調製する。
これに100℃、10-4mmHgで2時間真空処理を行なったシリ
カゲル(富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細孔径
10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透明)、5
gを加えて、30℃で24時間振とうした。その後上澄み液
を除き、同溶媒で洗浄した後、80℃、10-4mmHgで2時間
減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシルカゲルを得
た。錯体の固定化量はシリカゲル1gあたり0.1mmolであ
った。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定した。
2時間後における酸素吸着量は0.02mmolであり、赤褐色
のシリカゲルによる酸素吸着は僅少であった。
【００３２】実施例４ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society,第69巻、18
86−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
ベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記の(コ
バルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲ
ル複合体に加え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液
を除いた後、ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1m
mHgで5時間減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリ
カゲルを得た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持
してなる酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコ
バルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミ
ン−イミダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル
1g当り0.23mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担
持したシリカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法
で得られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナ
ートコバルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカ
ゲルの2.3倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素
吸着量を測定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわ
らず、酸素の吸着は迅速で、20分で0.34mmol、60分で0.
41mmolの酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.83mmo
lに達した。この酸素吸着剤を50mlの２口ナスフラスコ
(容量80ml)に入れ、真空ポンプを用いて、この２口ナス
フラスコ内を50℃で減圧(0.1mmHg)にして、6時間保持す
ると迅速に酸素が放出された。次に、この50mlの２口ナ
スフラスコ(容量80ml)内を１気圧の窒素で満たし、１気
圧の純酸素480mlを入れた容器と前記同様に連結し、ガ
スビュレット法により23℃で酸素吸着量を測定した。20
分後の酸素吸着量は0.18mmolとなり、60分後の酸素吸着
量は0.27mmolとなった。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society,第69巻、18
86−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
ベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記の(コ
バルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲ
ル複合体に加え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液
を除いた後、ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1m
mHgで5時間減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリ
カゲルを得た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持
してなる酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコ
バルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミ
ン−イミダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル
1g当り0.23mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担
持したシリカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法
で得られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナ
ートコバルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカ
ゲルの2.3倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素
吸着量を測定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわ
らず、酸素の吸着は迅速で、20分で0.34mmol、60分で0.
41mmolの酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.83mmo
lに達した。この酸素吸着剤を50mlの２口ナスフラスコ
(容量80ml)に入れ、真空ポンプを用いて、この２口ナス
フラスコ内を50℃で減圧(0.1mmHg)にして、6時間保持す
ると迅速に酸素が放出された。次に、この50mlの２口ナ
スフラスコ(容量80ml)内を１気圧の窒素で満たし、１気
圧の純酸素480mlを入れた容器と前記同様に連結し、ガ
スビュレット法により23℃で酸素吸着量を測定した。20
分後の酸素吸着量は0.18mmolとなり、60分後の酸素吸着
量は0.27mmolとなった。
【００３３】実施例５ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）1.70g(25.0mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(2.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
ベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコ
バルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減
圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得
た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸
素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)
−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダ
ゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.22
mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリ
カゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られた
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバル
ト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.2
倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測
定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素
の吸着は迅速で、20分で0.39mmol、60分で0.49mmolの酸
素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.58mmolに達し
た。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）1.70g(25.0mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(2.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
ベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコ
バルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減
圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得
た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸
素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)
−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダ
ゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.22
mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリ
カゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られた
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバル
ト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.2
倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測
定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素
の吸着は迅速で、20分で0.39mmol、60分で0.49mmolの酸
素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.58mmolに達し
た。
【００３４】実施例６ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
ベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコ
バルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
m−キシレンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時
間減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを
得た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる
酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(I
I)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミ
ダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.
21mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシ
リカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られ
たＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバ
ルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.
1倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を
測定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸
素の吸着は迅速で、20分で0.37mmol、60分で0.40mmolの
酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.46mmolに達し
た。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
ベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコ
バルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
m−キシレンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時
間減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを
得た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる
酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(I
I)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミ
ダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.
21mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシ
リカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られ
たＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバ
ルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.
1倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を
測定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸
素の吸着は迅速で、20分で0.37mmol、60分で0.40mmolの
酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.46mmolに達し
た。
【００３５】実施例７ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級)4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンのm
−キシレン溶液(0.07mmol/l、黄色透明)35mlを、上記の
コバルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
m−キシレンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時
間減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを
得た。これが３成分系錯体をシリカゲルに吸着担持して
なる酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバル
ト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−
イミダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当
り0.21mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持し
たシリカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得
られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナート
コバルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲル
の2.1倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着
量を測定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわら
ず、酸素の吸着は迅速で、20分で0.34mmol、60分で0.38
mmolの酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.43mmol
に達した。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級)4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンのm
−キシレン溶液(0.07mmol/l、黄色透明)35mlを、上記の
コバルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
m−キシレンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時
間減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを
得た。これが３成分系錯体をシリカゲルに吸着担持して
なる酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバル
ト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−
イミダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当
り0.21mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持し
たシリカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得
られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナート
コバルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲル
の2.1倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着
量を測定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわら
ず、酸素の吸着は迅速で、20分で0.34mmol、60分で0.38
mmolの酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.43mmol
に達した。
【００３６】実施例８ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンのm
−キシレン溶液(0.07mmol/l、黄色透明)35mlを、上記の
コバルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減
圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得
た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸
素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)
−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダ
ゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.22
mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリ
カゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られた
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバル
ト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.2
倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測
定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素
の吸着は迅速で、20分で0.23mmol、60分で0.31mmolの酸
素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.46mmolに達し
た。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンのm
−キシレン溶液(0.07mmol/l、黄色透明)35mlを、上記の
コバルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減
圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得
た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸
素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)
−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダ
ゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.22
mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリ
カゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られた
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバル
ト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.2
倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測
定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素
の吸着は迅速で、20分で0.23mmol、60分で0.31mmolの酸
素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.46mmolに達し
た。
【００３７】実施例９ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）6.81g(100.0mmol)
をそれぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行った
シリカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均
細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(8.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
ベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコ
バルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減
圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得
た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸
素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)
−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダ
ゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.23
mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリ
カゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られた
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバル
ト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.3
倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測
定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素
の吸着は迅速で、20分で0.15mmol、60分で0.28mmolの酸
素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.36mmolに達し
た。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）6.81g(100.0mmol)
をそれぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行った
シリカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均
細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(8.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
ベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコ
バルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減
圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得
た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸
素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)
−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダ
ゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.23
mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリ
カゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られた
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバル
ト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.3
倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測
定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素
の吸着は迅速で、20分で0.15mmol、60分で0.28mmolの酸
素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.36mmolに達し
た。
【００３８】実施例１０ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）1.02g(15.0mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(1.2mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
ベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコ
バルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減
圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得
た。これが３成分系錯体をシリカゲルに吸着担持してな
る酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト
(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イ
ミダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り
0.24mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持した
シリカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得ら
れたＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコ
バルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの
2.4倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量
を測定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、
酸素の吸着は迅速で、20分で0.22mmol、60分で0.36mmol
の酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.47mmolに達
した。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）1.02g(15.0mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(1.2mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
ベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコ
バルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減
圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得
た。これが３成分系錯体をシリカゲルに吸着担持してな
る酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト
(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イ
ミダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り
0.24mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持した
シリカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得ら
れたＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコ
バルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの
2.4倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量
を測定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、
酸素の吸着は迅速で、20分で0.22mmol、60分で0.36mmol
の酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.47mmolに達
した。
【００３９】実施例１１ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）1.02g(15.0mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。酢酸コバルトの水溶
液(0.2mol/l、淡紅色透明)12.5mlとイミダゾールの水溶
液(1.2mol/l、無色透明)12.5mlを混合し、真空処理を行
ったシリカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:
平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無
色透明)5gに加える。これを40℃で16時間振とうした
後、メタノールで溶媒置換および洗浄を行い、50℃で6
時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバルト(I
I)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複合体
を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミ
ンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the Amer
ican Chemical Society, 第69巻、1886−1893頁、1947
年"の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒドお
よびエチレンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン溶液(0.1
mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコバルト(II)塩−イ
ミダゾール錯体担持シリカゲルに加え、23℃で24時間振
とうを行い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗
浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一
に赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが３成分系
錯体をシリカゲルに吸着担持してなる酸素吸着剤であ
る。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダゾール錯体の
担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.21mmolの該コバ
ルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得
た。これは参考例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミナートコバルト(II)−イ
ミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.1倍に相当す
る。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定した。細
孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素の吸着は迅
速で、20分で0.20mmol、60分で0.23mmolの酸素を吸着
し、3時間後の酸素吸着量は0.31mmolに達した。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）1.02g(15.0mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。酢酸コバルトの水溶
液(0.2mol/l、淡紅色透明)12.5mlとイミダゾールの水溶
液(1.2mol/l、無色透明)12.5mlを混合し、真空処理を行
ったシリカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:
平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無
色透明)5gに加える。これを40℃で16時間振とうした
後、メタノールで溶媒置換および洗浄を行い、50℃で6
時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバルト(I
I)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複合体
を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミ
ンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the Amer
ican Chemical Society, 第69巻、1886−1893頁、1947
年"の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒドお
よびエチレンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン溶液(0.1
mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコバルト(II)塩−イ
ミダゾール錯体担持シリカゲルに加え、23℃で24時間振
とうを行い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗
浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一
に赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが３成分系
錯体をシリカゲルに吸着担持してなる酸素吸着剤であ
る。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダゾール錯体の
担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.21mmolの該コバ
ルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得
た。これは参考例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミナートコバルト(II)−イ
ミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.1倍に相当す
る。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定した。細
孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素の吸着は迅
速で、20分で0.20mmol、60分で0.23mmolの酸素を吸着
し、3時間後の酸素吸着量は0.31mmolに達した。
【００４０】実施例１２ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）1.02g(15.0mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトのメタノール溶液(0.2mol/l、淡紅
色透明)12.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に
酢酸コバルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの
メタノール溶液(1.2mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加
える。これを40℃で16時間振とうした後、洗浄を行い、
50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバ
ルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル
複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレン
ジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of th
e American Chemical Society, 第69巻、1886−1893
頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリチルアル
デヒドおよびエチレンジアミンから合成した。窒素下、
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン
溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコバルト(I
I)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加え、23℃で
24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで
4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥し
た。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが
３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤で
ある。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダゾール錯体
の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.24mmolの該コ
バルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得
た。これは参考例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミナートコバルト(II)−イ
ミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.4倍に相当す
る。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定した。細
孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素の吸着は迅
速で、20分で0.25mmol、60分で0.34mmolの酸素を吸着
し、3時間後の酸素吸着量は0.40mmolに達した。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）1.02g(15.0mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトのメタノール溶液(0.2mol/l、淡紅
色透明)12.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に
酢酸コバルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの
メタノール溶液(1.2mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加
える。これを40℃で16時間振とうした後、洗浄を行い、
50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバ
ルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル
複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレン
ジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of th
e American Chemical Society, 第69巻、1886−1893
頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリチルアル
デヒドおよびエチレンジアミンから合成した。窒素下、
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン
溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコバルト(I
I)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加え、23℃で
24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで
4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥し
た。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが
３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤で
ある。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダゾール錯体
の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.24mmolの該コ
バルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得
た。これは参考例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミナートコバルト(II)−イ
ミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.4倍に相当す
る。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定した。細
孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素の吸着は迅
速で、20分で0.25mmol、60分で0.34mmolの酸素を吸着
し、3時間後の酸素吸着量は0.40mmolに達した。
【００４１】実施例１３ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
トルエン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコ
バルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
トルエンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減
圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得
た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸
素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)
−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダ
ゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.22
mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリ
カゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られた
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバル
ト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.2
倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測
定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素
の吸着は迅速で、20分で0.24mmol、60分で0.28mmolの酸
素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.35mmolに達し
た。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
トルエン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコ
バルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
トルエンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減
圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得
た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸
素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)
−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダ
ゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.22
mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリ
カゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られた
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバル
ト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.2
倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測
定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素
の吸着は迅速で、20分で0.24mmol、60分で0.28mmolの酸
素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.35mmolに達し
た。
【００４２】実施例１４ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
ベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコ
バルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
クロロホルムで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時
間減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを
得た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる
酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(I
I)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミ
ダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.
21mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシ
リカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られ
たＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバ
ルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.
1倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を
測定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸
素の吸着は迅速で、20分で0.26mmol、60分で0.29mmolの
酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.36mmolに達し
た。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に
着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体
−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"J
ournal of the American Chemical Society, 第69巻、1
886−1893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリ
チルアルデヒドおよびエチレンジアミンから合成した。
窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンの
ベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコ
バルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリカゲルに加
え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、
クロロホルムで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時
間減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを
得た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる
酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(I
I)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミ
ダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.
21mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシ
リカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られ
たＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバ
ルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.
1倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を
測定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸
素の吸着は迅速で、20分で0.26mmol、60分で0.29mmolの
酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.36mmolに達し
た。
【００４３】実施例１５ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥した。この乾燥シリ
カゲルにさらに酢酸コバルト水溶液(0.2mol/l、淡紅色
透明)12.5mlおよびイミダゾールの水溶液(5.0mol/l、無
色透明)12.5mlを加え40℃で16時間振とうした後、メタ
ノールで溶媒置換および洗浄を行い、50℃で6時間真空
乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバルト(II)塩−イ
ミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複合体を調製し
た。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンはR.H.B
ailesおよびM.Calvin、"Journal of the American Chem
ical Society, 第69巻、1886−1893頁、1947年"の報告
による合成法に従い、サリチルアルデヒドおよびエチレ
ンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチ
リデンエチレンジアミンのベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄
色透明)25mlを、上記の(コバルト(II)塩−イミダゾー
ル)２成分系錯体−シリカゲル複合体に加え、23℃で24
時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4
回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥し
た。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが
３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤で
ある。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダゾール錯体
の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.32mmolの該コ
バルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得
た。これは参考例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミナートコバルト(II)−イ
ミダゾール錯体を担持したシリカゲルの3.2倍に相当す
る。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定した。細
孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素の吸着は迅
速で、20分で0.43mmol、60分で0.55mmolの酸素を吸着
し、3時間後の酸素吸着量は0.59mmolに達した。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびイミ
ダゾール(C3H4N2、東京化成製特級）4.26g(62.5mmol)を
それぞれ蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシ
リカゲル（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細
孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透
明)5gに酢酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)1
2.5mlを加え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバ
ルト水溶液に置換する。これにイミダゾールの水溶液
(5.0mol/l、無色透明)12.5mlを徐々に加える。これを40
℃で16時間振とうした後、メタノールで溶媒置換および
洗浄を行い、50℃で6時間真空乾燥した。この乾燥シリ
カゲルにさらに酢酸コバルト水溶液(0.2mol/l、淡紅色
透明)12.5mlおよびイミダゾールの水溶液(5.0mol/l、無
色透明)12.5mlを加え40℃で16時間振とうした後、メタ
ノールで溶媒置換および洗浄を行い、50℃で6時間真空
乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバルト(II)塩−イ
ミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複合体を調製し
た。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンはR.H.B
ailesおよびM.Calvin、"Journal of the American Chem
ical Society, 第69巻、1886−1893頁、1947年"の報告
による合成法に従い、サリチルアルデヒドおよびエチレ
ンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチ
リデンエチレンジアミンのベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄
色透明)25mlを、上記の(コバルト(II)塩−イミダゾー
ル)２成分系錯体−シリカゲル複合体に加え、23℃で24
時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4
回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥し
た。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが
３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤で
ある。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダゾール錯体
の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.32mmolの該コ
バルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得
た。これは参考例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミナートコバルト(II)−イ
ミダゾール錯体を担持したシリカゲルの3.2倍に相当す
る。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定した。細
孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素の吸着は迅
速で、20分で0.43mmol、60分で0.55mmolの酸素を吸着
し、3時間後の酸素吸着量は0.59mmolに達した。
【００４４】実施例１６ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)をメタノー
ル12.5mlに溶解し、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製
特級）0.511g(7.5mmol)をジクロロメタン12.5mlに溶解
する。真空処理を行ったシリカゲル（富士デヴィソン化
学製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、
粒度5〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールのジクロロ
メタン溶液(0.6mol/l、無色透明)12.5mlを加え、シリカ
ゲル内部の気体を十分にイミダゾール溶液に置換する。
これをジクロロメタンで洗浄し、3時間真空乾燥した。
これに、酢酸コバルトのメタノール溶液(0.2mol/l、赤
紫色透明)12.5mlを徐々に加える。これを5時間振とうし
た後、メタノールで洗浄を行い、3時間真空乾燥し、均
一に青紫色に着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)
２成分系錯体−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミンはR.H.Bailesおよび
M.Calvin、"Journal of the American Chemical Societ
y, 第69巻、1886−1893頁、1947年"の報告による合成法
に従い、サリチルアルデヒドおよびエチレンジアミンか
ら合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレ
ンジアミンのベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25ml
を、上記のコバルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリ
カゲル複合体に加え、23℃で24時間振とうを行い、上澄
み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、1
0-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色した
シリカゲルを得た。これが３成分系錯体をシリカゲルに
担持してなる酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法
でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジ
アミン−イミダゾール錯体の担持量を測定した。シリカ
ゲル1g当り0.20mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体
を担持したシリカゲルを得た。これは参考例に記載の含
浸法で得られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジア
ミナートコバルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシ
リカゲルの2.0倍に相当する。実施例１と同様な方法で
酸素吸着量を測定した。細孔を通じての自然拡散にもか
かわらず、酸素の吸着は迅速で、20分で0.29mmol、60分
で0.32mmolの酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.3
8mmolに達した。
O)2・4H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)をメタノー
ル12.5mlに溶解し、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製
特級）0.511g(7.5mmol)をジクロロメタン12.5mlに溶解
する。真空処理を行ったシリカゲル（富士デヴィソン化
学製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、
粒度5〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールのジクロロ
メタン溶液(0.6mol/l、無色透明)12.5mlを加え、シリカ
ゲル内部の気体を十分にイミダゾール溶液に置換する。
これをジクロロメタンで洗浄し、3時間真空乾燥した。
これに、酢酸コバルトのメタノール溶液(0.2mol/l、赤
紫色透明)12.5mlを徐々に加える。これを5時間振とうし
た後、メタノールで洗浄を行い、3時間真空乾燥し、均
一に青紫色に着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)
２成分系錯体−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミンはR.H.Bailesおよび
M.Calvin、"Journal of the American Chemical Societ
y, 第69巻、1886−1893頁、1947年"の報告による合成法
に従い、サリチルアルデヒドおよびエチレンジアミンか
ら合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレ
ンジアミンのベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25ml
を、上記のコバルト(II)塩−イミダゾール錯体担持シリ
カゲル複合体に加え、23℃で24時間振とうを行い、上澄
み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、1
0-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色した
シリカゲルを得た。これが３成分系錯体をシリカゲルに
担持してなる酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法
でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジ
アミン−イミダゾール錯体の担持量を測定した。シリカ
ゲル1g当り0.20mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体
を担持したシリカゲルを得た。これは参考例に記載の含
浸法で得られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジア
ミナートコバルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシ
リカゲルの2.0倍に相当する。実施例１と同様な方法で
酸素吸着量を測定した。細孔を通じての自然拡散にもか
かわらず、酸素の吸着は迅速で、20分で0.29mmol、60分
で0.32mmolの酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.3
8mmolに達した。
【００４５】実施例１７ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物〔Co(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級〕0.62g(2.5mmol)をメタノー
ル12.5mlに溶解し、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製
特級)0.511g(7.5mmol)をエーテル12.5mlに溶解する。真
空処理を行ったシリカゲル(富士デヴィソン化学製、CAR
iACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10
mesh、無色透明)5gにイミダゾールのエーテル溶液(0.6m
ol/1、無色透明)12.5mlを加え、シリカゲル内部の気体
を十分にイミダゾール溶液に置換する。これをエーテル
で洗浄し、3時間真空乾燥した。これに、酢酸コバルト
のメタノール溶液(0.2mol/1、赤紫色透明)12.5mlを徐々
に加える。これを5時間振とうした後、メタノールで洗
浄を行い、3時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色した
(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカ
ゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチ
レンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal o
f the American Chemical Society, 第69巻、1886−189
3頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリチルアル
デヒドおよびエチレンジアミンから合成した。窒素下、
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン
溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記の(コバルト(I
I)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複合体
に加え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた
後、ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時
間減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを
得た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる
酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(I
I)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミ
ダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.
21mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシ
リカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られ
たＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバ
ルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.
1倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を
測定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸
素の吸着は迅速で、20分で0.22mmol、60分で0.24mmolの
酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.40mmolに達し
た。
O)2・4H2O、関東化学製特級〕0.62g(2.5mmol)をメタノー
ル12.5mlに溶解し、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製
特級)0.511g(7.5mmol)をエーテル12.5mlに溶解する。真
空処理を行ったシリカゲル(富士デヴィソン化学製、CAR
iACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜10
mesh、無色透明)5gにイミダゾールのエーテル溶液(0.6m
ol/1、無色透明)12.5mlを加え、シリカゲル内部の気体
を十分にイミダゾール溶液に置換する。これをエーテル
で洗浄し、3時間真空乾燥した。これに、酢酸コバルト
のメタノール溶液(0.2mol/1、赤紫色透明)12.5mlを徐々
に加える。これを5時間振とうした後、メタノールで洗
浄を行い、3時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色した
(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカ
ゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチ
レンジアミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal o
f the American Chemical Society, 第69巻、1886−189
3頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリチルアル
デヒドおよびエチレンジアミンから合成した。窒素下、
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン
溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記の(コバルト(I
I)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複合体
に加え、23℃で24時間振とうを行い、上澄み液を除いた
後、ベンゼンで4回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時
間減圧乾燥した。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを
得た。これが３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる
酸素吸着剤である。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(I
I)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミ
ダゾール錯体の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.
21mmolの該コバルト(II)含有３成分系錯体を担持したシ
リカゲルを得た。これは参考例に記載の含浸法で得られ
たＮ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバ
ルト(II)−イミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.
1倍に相当する。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を
測定した。細孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸
素の吸着は迅速で、20分で0.22mmol、60分で0.24mmolの
酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.40mmolに達し
た。
【００４６】実施例１８ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物〔Co(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級〕0.62g(2.5mmol)をメタノー
ル12.5mlに溶解し、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製
特級)0.511g(7.5mmol)をテトラヒドロフラン12.5mlに溶
解する。真空処理を行ったシリカゲル(富士デヴィソン
化学製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/
g、粒度5〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールのテト
ラヒドロフラン溶液(0.6mol/1、無色透明)12.5mlを加
え、シリカゲル内部の気体を十分にイミダゾール溶液に
置換する。これをテトラヒドロフランで洗浄し、3時間
真空乾燥した。これに、酢酸コバルトのメタノール溶液
(0.2mol/1、赤紫色透明)12.5mlを徐々に加える。これを
5時間振とうした後、メタノールで洗浄を行い、3時間真
空乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバルト(II)塩−
イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複合体を調製
した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンはR.
H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the American C
hemical Society, 第69巻、1886−1893頁、1947年"の報
告による合成法に従い、サリチルアルデヒドおよびエチ
レンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリ
チリデンエチレンジアミンのベンゼン溶液(0.1mmol/l、
黄色透明)25mlを、上記の(コバルト(II)塩−イミダゾー
ル)２成分系錯体−シリカゲル複合体に加え、23℃で24
時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4
回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥し
た。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが
３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤で
ある。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダゾール錯体
の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.21mmolの該コ
バルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得
た。これは参考例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミナートコバルト(II)−イ
ミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.1倍に相当す
る。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定した。細
孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素の吸着は迅
速で、20分で0.25mmol、60分で0.28mmolの酸素を吸着
し、3時間後の酸素吸着量は0.32mmolに達した。
O)2・4H2O、関東化学製特級〕0.62g(2.5mmol)をメタノー
ル12.5mlに溶解し、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製
特級)0.511g(7.5mmol)をテトラヒドロフラン12.5mlに溶
解する。真空処理を行ったシリカゲル(富士デヴィソン
化学製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/
g、粒度5〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールのテト
ラヒドロフラン溶液(0.6mol/1、無色透明)12.5mlを加
え、シリカゲル内部の気体を十分にイミダゾール溶液に
置換する。これをテトラヒドロフランで洗浄し、3時間
真空乾燥した。これに、酢酸コバルトのメタノール溶液
(0.2mol/1、赤紫色透明)12.5mlを徐々に加える。これを
5時間振とうした後、メタノールで洗浄を行い、3時間真
空乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバルト(II)塩−
イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複合体を調製
した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンはR.
H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the American C
hemical Society, 第69巻、1886−1893頁、1947年"の報
告による合成法に従い、サリチルアルデヒドおよびエチ
レンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリ
チリデンエチレンジアミンのベンゼン溶液(0.1mmol/l、
黄色透明)25mlを、上記の(コバルト(II)塩−イミダゾー
ル)２成分系錯体−シリカゲル複合体に加え、23℃で24
時間振とうを行い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4
回、洗浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥し
た。均一に赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが
３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤で
ある。上記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'
−ジサリチリデンエチレンジアミン−イミダゾール錯体
の担持量を測定した。シリカゲル1g当り0.21mmolの該コ
バルト(II)含有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得
た。これは参考例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミナートコバルト(II)−イ
ミダゾール錯体を担持したシリカゲルの2.1倍に相当す
る。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定した。細
孔を通じての自然拡散にもかかわらず、酸素の吸着は迅
速で、20分で0.25mmol、60分で0.28mmolの酸素を吸着
し、3時間後の酸素吸着量は0.32mmolに達した。
【００４７】実施例１９ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物〔Co(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級〕0.62g(2.5mmol)を蒸留水1
2.5mlに溶解し、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製特
級)0.511g(7.5mmol)をクロロホルム12.5mlに溶解する。
真空処理を行ったシリカゲル(富士デヴィソン化学製、C
ARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜
10mesh、無色透明)5gにイミダゾールのクロロホルム溶
液(0.6mol/1、無色透明)12.5mlを加え、シリカゲル内部
の気体を十分にイミダゾール溶液に置換する。これをク
ロロホルムで洗浄し、3時間真空乾燥した。これに、酢
酸コバルトの水溶液(0.2mol/1、淡紅色透明)12.5mlを徐
々に加える。これを5時間振とうした後、メタノールで
溶媒置換および洗浄を行い、50℃で5時間真空乾燥し、
均一に青紫色に着色した(コバルト(II)塩−イミダゾー
ル)２成分系錯体−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，
Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンはR.H.Bailesお
よびM.Calvin、"Journal of the American Chemical So
ciety, 第69巻、1886−1893頁、1947年"の報告による合
成法に従い、サリチルアルデヒドおよびエチレンジアミ
ンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエ
チレンジアミンのベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)2
5mlを、上記の(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分
系錯体−シリカゲル複合体に加え、23℃で24時間振とう
を行い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗浄を
行い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一に赤
褐色に着色したシリカゲルを得た。これが３成分系錯体
をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤である。上記の
ニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミン−イミダゾール錯体の担持量を測
定した。シリカゲル1g当り0.20mmolの該コバルト(II)含
有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得た。これは参
考例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデ
ンエチレンジアミナートコバルト(II)−イミダゾール錯
体を担持したシリカゲルの2.0倍に相当する。実施例１
と同様な方法で酸素吸着量を測定した。細孔を通じての
自然拡散にもかかわらず、酸素の吸着は迅速で、20分で
0.27mmol、60分で0.29mmolの酸素を吸着し、3時間後の
酸素吸着量は0.36mmolに達した。
O)2・4H2O、関東化学製特級〕0.62g(2.5mmol)を蒸留水1
2.5mlに溶解し、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製特
級)0.511g(7.5mmol)をクロロホルム12.5mlに溶解する。
真空処理を行ったシリカゲル(富士デヴィソン化学製、C
ARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒度5〜
10mesh、無色透明)5gにイミダゾールのクロロホルム溶
液(0.6mol/1、無色透明)12.5mlを加え、シリカゲル内部
の気体を十分にイミダゾール溶液に置換する。これをク
ロロホルムで洗浄し、3時間真空乾燥した。これに、酢
酸コバルトの水溶液(0.2mol/1、淡紅色透明)12.5mlを徐
々に加える。これを5時間振とうした後、メタノールで
溶媒置換および洗浄を行い、50℃で5時間真空乾燥し、
均一に青紫色に着色した(コバルト(II)塩−イミダゾー
ル)２成分系錯体−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，
Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンはR.H.Bailesお
よびM.Calvin、"Journal of the American Chemical So
ciety, 第69巻、1886−1893頁、1947年"の報告による合
成法に従い、サリチルアルデヒドおよびエチレンジアミ
ンから合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエ
チレンジアミンのベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)2
5mlを、上記の(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分
系錯体−シリカゲル複合体に加え、23℃で24時間振とう
を行い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗浄を
行い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一に赤
褐色に着色したシリカゲルを得た。これが３成分系錯体
をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤である。上記の
ニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリ
デンエチレンジアミン−イミダゾール錯体の担持量を測
定した。シリカゲル1g当り0.20mmolの該コバルト(II)含
有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得た。これは参
考例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデ
ンエチレンジアミナートコバルト(II)−イミダゾール錯
体を担持したシリカゲルの2.0倍に相当する。実施例１
と同様な方法で酸素吸着量を測定した。細孔を通じての
自然拡散にもかかわらず、酸素の吸着は迅速で、20分で
0.27mmol、60分で0.29mmolの酸素を吸着し、3時間後の
酸素吸着量は0.36mmolに達した。
【００４８】実施例２０ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物〔Co(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級〕0.62g(2.5mmol)をメタノー
ル12.5mlに溶解し、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製
特級)1.70g(25.0mmol)をジクロロメタン12.5mlに溶解す
る。真空処理を行ったシリカゲル(富士デヴィソン化学
製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒
度5〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールのジクロロメ
タン溶液(2.0mol/1、無色透明)12.5mlを加え、シリカゲ
ル内部の気体を十分にイミダゾール溶液に置換する。こ
れをジクロロメタンで洗浄し、3時間真空乾燥した。こ
れに、酢酸コバルトのメタノール溶液(0.2mol/1、赤紫
色透明)12.5mlを徐々に加える。これを5時間振とうした
後、メタノールで洗浄を行い、3時間真空乾燥し、均一
に青紫色に着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２
成分系錯体−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.
Calvin、"Journal of the American Chemical Society,
第69巻、1886−1893頁、1947年"の報告による合成法に
従い、サリチルアルデヒドおよびエチレンジアミンから
合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレン
ジアミンのベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25ml
を、上記の(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯
体−シリカゲル複合体に加え、23℃で24時間振とうを行
い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗浄を行
い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一に赤褐
色に着色したシリカゲルを得た。これが３成分系錯体を
シリカゲルに担持してなる酸素吸着剤である。上記のニ
トロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデ
ンエチレンジアミン−イミダゾール錯体の担持量を測定
した。シリカゲル1g当り0.22mmolの該コバルト(II)含有
３成分系錯体を担持したシリカゲルを得た。これは参考
例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデン
エチレンジアミナートコバルト(II)−イミダゾール錯体
を担持したシリカゲルの2.2倍に相当する。50mlの2ロナ
スフラスコ(容量80ml)に、上記のようにして得た酸素吸
着剤5gを入れ、ナスフラスコ内を真空にした後、1気圧
の純酸素480mlを入れた容器と二方活栓(標準＃15,プラ
グの孔径3mm)を有する内径12mmのガラス管で連結し、二
方活栓を開くことにより、酸素を減圧下に拡散させ、ガ
スビュレット法により、1気圧の酸素中23℃で酸素吸着
量を測定した。酸素は日本酸素(株)製純酸素(純度99.9%
以上)を使用した。酸素の吸着は迅速で、1分で0.27mmo
l、5分で0.29mmol、60分で0.35mmolの酸素を吸着し、3
時間後の酸素吸着量は0.36mmolに達した。
O)2・4H2O、関東化学製特級〕0.62g(2.5mmol)をメタノー
ル12.5mlに溶解し、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製
特級)1.70g(25.0mmol)をジクロロメタン12.5mlに溶解す
る。真空処理を行ったシリカゲル(富士デヴィソン化学
製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒
度5〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールのジクロロメ
タン溶液(2.0mol/1、無色透明)12.5mlを加え、シリカゲ
ル内部の気体を十分にイミダゾール溶液に置換する。こ
れをジクロロメタンで洗浄し、3時間真空乾燥した。こ
れに、酢酸コバルトのメタノール溶液(0.2mol/1、赤紫
色透明)12.5mlを徐々に加える。これを5時間振とうした
後、メタノールで洗浄を行い、3時間真空乾燥し、均一
に青紫色に着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２
成分系錯体−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.
Calvin、"Journal of the American Chemical Society,
第69巻、1886−1893頁、1947年"の報告による合成法に
従い、サリチルアルデヒドおよびエチレンジアミンから
合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレン
ジアミンのベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25ml
を、上記の(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯
体−シリカゲル複合体に加え、23℃で24時間振とうを行
い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗浄を行
い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一に赤褐
色に着色したシリカゲルを得た。これが３成分系錯体を
シリカゲルに担持してなる酸素吸着剤である。上記のニ
トロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデ
ンエチレンジアミン−イミダゾール錯体の担持量を測定
した。シリカゲル1g当り0.22mmolの該コバルト(II)含有
３成分系錯体を担持したシリカゲルを得た。これは参考
例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデン
エチレンジアミナートコバルト(II)−イミダゾール錯体
を担持したシリカゲルの2.2倍に相当する。50mlの2ロナ
スフラスコ(容量80ml)に、上記のようにして得た酸素吸
着剤5gを入れ、ナスフラスコ内を真空にした後、1気圧
の純酸素480mlを入れた容器と二方活栓(標準＃15,プラ
グの孔径3mm)を有する内径12mmのガラス管で連結し、二
方活栓を開くことにより、酸素を減圧下に拡散させ、ガ
スビュレット法により、1気圧の酸素中23℃で酸素吸着
量を測定した。酸素は日本酸素(株)製純酸素(純度99.9%
以上)を使用した。酸素の吸着は迅速で、1分で0.27mmo
l、5分で0.29mmol、60分で0.35mmolの酸素を吸着し、3
時間後の酸素吸着量は0.36mmolに達した。
【００４９】実施例２１ 窒素下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物〔Co(CH3CO
O)2・4H2O、関東化学製特級〕0.62g(2.5mmol)をメタノー
ル12.5mlに溶解し、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製
特級)0.511g(7.5mmol)をジクロロメタン12.5mlに溶解す
る。真空処理を行ったシリカゲル(富士デヴィソン化学
製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒
度5〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールのジクロロメ
タン溶液(0.6mol/1、無色透明)12.5mlを加え、シリカゲ
ル内部の気体を十分にイミダゾール溶液に置換する。こ
れをジクロロメタンで洗浄し、3時間真空乾燥した。こ
れに、酢酸コバルトのメタノール溶液(0.2mol/1、赤紫
色透明)12.5mlを徐々に加える。これを5時間振とうした
後、メタノールで洗浄を行い、3時間真空乾燥し、均一
に青紫色に着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２
成分系錯体−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.
Calvin、"Journal of the American Chemical Society,
第69巻、1886−1893頁、1947年"の報告による合成法に
従い、サリチルアルデヒドおよびエチレンジアミンから
合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレン
ジアミンのベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25ml
を、上記の(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯
体−シリカゲル複合体に加え、23℃で24時間振とうを行
い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗浄を行
い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一に赤褐
色に着色したシリカゲルを得た。これが３成分系錯体を
シリカゲルに担持してなる酸素吸着剤である。上記のニ
トロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデ
ンエチレンジアミン−イミダゾール錯体の担持量を測定
した。シリカゲル1g当り0.21mmolの該コバルト(II)含有
３成分系錯体を担持したシリカゲルを得た。これは参考
例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデン
エチレンジアミナートコバルト(II)−イミダゾール錯体
を担持したシリカゲルの2.1倍に相当する。実施例２０
と同様な方法で酸素吸着量を測定した。酸素の吸着は迅
速で、1分で0.29mmol、5分で0.30mmol、60分で0.38mmol
の酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.41mmolに達
した。この酸素吸着剤を50mlの2ロナスフラスコ(容量80
ml)に入れ、真空ポンプを用いて、この2ロナスフラスコ
内を50℃で減圧（0.1mmHg）にして、6時間保持すると迅
速に酸素が放出された。次に、この50mlの2ロナスフラ
スコ(容量80ml)内を真空にし、1気圧の純酸素480mlを入
れた容器と二方活栓(標準＃15,プラグの孔径3mm)を有す
る内径12mmのガラス管で連結し、二方活栓を開くことに
より、酸素を減圧下に拡散させ、ガスビュレット法によ
り、23℃で酸素吸着量を測定した。酸素吸着量は、1分
で0.12mmol、5分で0.16mmol、60分で0.22mmolとなっ
た。
O)2・4H2O、関東化学製特級〕0.62g(2.5mmol)をメタノー
ル12.5mlに溶解し、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製
特級)0.511g(7.5mmol)をジクロロメタン12.5mlに溶解す
る。真空処理を行ったシリカゲル(富士デヴィソン化学
製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒
度5〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールのジクロロメ
タン溶液(0.6mol/1、無色透明)12.5mlを加え、シリカゲ
ル内部の気体を十分にイミダゾール溶液に置換する。こ
れをジクロロメタンで洗浄し、3時間真空乾燥した。こ
れに、酢酸コバルトのメタノール溶液(0.2mol/1、赤紫
色透明)12.5mlを徐々に加える。これを5時間振とうした
後、メタノールで洗浄を行い、3時間真空乾燥し、均一
に青紫色に着色した(コバルト(II)塩−イミダゾール)２
成分系錯体−シリカゲル複合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−
ジサリチリデンエチレンジアミンはR.H.BailesおよびM.
Calvin、"Journal of the American Chemical Society,
第69巻、1886−1893頁、1947年"の報告による合成法に
従い、サリチルアルデヒドおよびエチレンジアミンから
合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレン
ジアミンのベンゼン溶液(0.1mmol/l、黄色透明)25ml
を、上記の(コバルト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯
体−シリカゲル複合体に加え、23℃で24時間振とうを行
い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗浄を行
い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一に赤褐
色に着色したシリカゲルを得た。これが３成分系錯体を
シリカゲルに担持してなる酸素吸着剤である。上記のニ
トロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデ
ンエチレンジアミン−イミダゾール錯体の担持量を測定
した。シリカゲル1g当り0.21mmolの該コバルト(II)含有
３成分系錯体を担持したシリカゲルを得た。これは参考
例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデン
エチレンジアミナートコバルト(II)−イミダゾール錯体
を担持したシリカゲルの2.1倍に相当する。実施例２０
と同様な方法で酸素吸着量を測定した。酸素の吸着は迅
速で、1分で0.29mmol、5分で0.30mmol、60分で0.38mmol
の酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.41mmolに達
した。この酸素吸着剤を50mlの2ロナスフラスコ(容量80
ml)に入れ、真空ポンプを用いて、この2ロナスフラスコ
内を50℃で減圧（0.1mmHg）にして、6時間保持すると迅
速に酸素が放出された。次に、この50mlの2ロナスフラ
スコ(容量80ml)内を真空にし、1気圧の純酸素480mlを入
れた容器と二方活栓(標準＃15,プラグの孔径3mm)を有す
る内径12mmのガラス管で連結し、二方活栓を開くことに
より、酸素を減圧下に拡散させ、ガスビュレット法によ
り、23℃で酸素吸着量を測定した。酸素吸着量は、1分
で0.12mmol、5分で0.16mmol、60分で0.22mmolとなっ
た。
【００５０】比較例１ 実施例１０でイミダゾールの代りにピリジンを用いた以
外は、実施例１０と同様の操作を行った。即ち、窒素
下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3COO)2・4
H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびピリジン
(C5H5N、関東化学製特級）1.21ml(15.0mmol)をそれぞれ
蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシリカゲル
（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細孔径10n
m、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透明)5gに酢
酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)12.5mlを加
え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバルト水溶液
に置換する。これにピリジンの水溶液(1.2mol/l、無色
透明)12.5mlを徐々に加える。これを40℃で16時間振と
うした後、メタノールで溶媒置換および洗浄を行い、50
℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバル
ト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複
合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジ
アミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the
American Chemical Society, 第69巻、1886−1893頁、1
947年"の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒド
およびエチレンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，
Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン溶液
(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコバルト(II)塩
−ピリジン錯体担持シリカゲルに加え、23℃で24時間振
とうを行い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗
浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一
に赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが３成分系
錯体をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤である。上
記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリ
チリデンエチレンジアミン−ピリジン錯体の担持量を測
定した。シリカゲル1g当り0.17mmolの該コバルト(II)含
有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得た。これは実
施例10でイミダゾールを用いた場合より30％少ない値で
ある。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定した。
3時間後の酸素吸着量は0.016mmolであり、赤褐色のシリ
カゲルによる酸素吸着は僅少であった。これは実施例10
でイミダゾールを用いた場合の、僅か3％に過ぎない。
外は、実施例１０と同様の操作を行った。即ち、窒素
下、室温で、酢酸コバルト(II)四水和物[C0(CH3COO)2・4
H2O、関東化学製特級］0.62g(2.5mmol)およびピリジン
(C5H5N、関東化学製特級）1.21ml(15.0mmol)をそれぞれ
蒸留水12.5mlに溶解する。真空処理を行ったシリカゲル
（富士デヴィソン化学製、CARiACT 10:平均細孔径10n
m、比表面積300m2/g、粒度5〜10mesh、無色透明)5gに酢
酸コバルトの水溶液(0.2mol/l、淡紅色透明)12.5mlを加
え、シリカゲル内部の気体を十分に酢酸コバルト水溶液
に置換する。これにピリジンの水溶液(1.2mol/l、無色
透明)12.5mlを徐々に加える。これを40℃で16時間振と
うした後、メタノールで溶媒置換および洗浄を行い、50
℃で6時間真空乾燥し、均一に青紫色に着色した(コバル
ト(II)塩−イミダゾール)２成分系錯体−シリカゲル複
合体を調製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジ
アミンはR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal of the
American Chemical Society, 第69巻、1886−1893頁、1
947年"の報告による合成法に従い、サリチルアルデヒド
およびエチレンジアミンから合成した。窒素下、Ｎ，
Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミンのベンゼン溶液
(0.1mmol/l、黄色透明)25mlを、上記のコバルト(II)塩
−ピリジン錯体担持シリカゲルに加え、23℃で24時間振
とうを行い、上澄み液を除いた後、ベンゼンで4回、洗
浄を行い、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一
に赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが３成分系
錯体をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤である。上
記のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリ
チリデンエチレンジアミン−ピリジン錯体の担持量を測
定した。シリカゲル1g当り0.17mmolの該コバルト(II)含
有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得た。これは実
施例10でイミダゾールを用いた場合より30％少ない値で
ある。実施例１と同様な方法で酸素吸着量を測定した。
3時間後の酸素吸着量は0.016mmolであり、赤褐色のシリ
カゲルによる酸素吸着は僅少であった。これは実施例10
でイミダゾールを用いた場合の、僅か3％に過ぎない。
【００５１】実施例２２ 窒素下、室温で、イミダゾール(C3H4N2、東京化成製特
級)0.511g(7.5mmol)をジクロロメタン12.5mlに溶解す
る。真空処理を行ったシリカゲル(富士デヴィソン化学
製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒
度5〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールのジクロロメ
タン溶液(0.6mol/1、無色透明)12.5mlを加え、シリカゲ
ル内部の気体を十分にイミダゾール溶液に置換する。こ
れをジクロロメタンで洗浄し、3時間真空乾燥し、均一
に白色に着色したイミダゾール−シリカゲル複合体を調
製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナー
トコバルト(II)はR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal
of the American Chemical Society, 第69巻、1886−1
893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリチルア
ルデヒドおよびエチレンジアミンおよび酢酸コバルト(I
I)四水和物から合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチ
リデンエチレンジアミナートコバルト(II)0.813g(2.5mm
ol)をジクロロメタン200mlに溶解した。窒素下、Ｎ，
Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバルト(I
I)のジクロロメタン溶液(0.0125mmol/l、赤褐色透明)50
mlを、上記のイミダゾール−シリカゲル複合体に加え
た。上澄み液を除いた後、この溶液50mlを加える操作
を、2時間おきに4回繰り返した。ジクロロメタンで4回
洗浄後、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一に
赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが２成分系錯
体をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤である。上記
のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチ
リデンエチレンジアミンイミダゾール錯体の担持量を測
定した。シリカゲル1g当り0.28mmolの該コバルト(II)含
有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得た。これは参
考例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデ
ンエチレンジアミナートコバルト(II)−イミダゾール錯
体を担持したシリカゲルの2.8倍に相当する。実施例２
０と同様な方法で酸素吸着量を測定した。酸素の吸着は
迅速で、1分で0.34mmol、5分で0.37mmol、60分で0.41mm
olの酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.43mmolに
達した。この酸素吸着剤を50mlの2ロナスフラスコ(容量
80ml)に入れ、真空ポンプを用いて、この2ロナスフラス
コ内を50℃で減圧(0.1mmHg)にして、6時間保持すると迅
速に酸素が放出された。次に、この50mlの2ロナスフラ
スコ(容量80ml)内を真空にし、１気圧の純酸素480mlを
入れた容器と二方活栓(標準＃15,プラグの孔径3mm)を付
した内径12mmのガラス管で連結し、ガスビュレット法に
より、23℃で酸素吸着量を測定した。酸素吸着量は1分
で0.13mmol、5分で0.18mmol、60分で0.23mmolとなっ
た。
級)0.511g(7.5mmol)をジクロロメタン12.5mlに溶解す
る。真空処理を行ったシリカゲル(富士デヴィソン化学
製、CARiACT 10:平均細孔径10nm、比表面積300m2/g、粒
度5〜10mesh、無色透明)5gにイミダゾールのジクロロメ
タン溶液(0.6mol/1、無色透明)12.5mlを加え、シリカゲ
ル内部の気体を十分にイミダゾール溶液に置換する。こ
れをジクロロメタンで洗浄し、3時間真空乾燥し、均一
に白色に着色したイミダゾール−シリカゲル複合体を調
製した。Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナー
トコバルト(II)はR.H.BailesおよびM.Calvin、"Journal
of the American Chemical Society, 第69巻、1886−1
893頁、1947年"の報告による合成法に従い、サリチルア
ルデヒドおよびエチレンジアミンおよび酢酸コバルト(I
I)四水和物から合成した。窒素下、Ｎ，Ｎ'−ジサリチ
リデンエチレンジアミナートコバルト(II)0.813g(2.5mm
ol)をジクロロメタン200mlに溶解した。窒素下、Ｎ，
Ｎ'−ジサリチリデンエチレンジアミナートコバルト(I
I)のジクロロメタン溶液(0.0125mmol/l、赤褐色透明)50
mlを、上記のイミダゾール−シリカゲル複合体に加え
た。上澄み液を除いた後、この溶液50mlを加える操作
を、2時間おきに4回繰り返した。ジクロロメタンで4回
洗浄後、30℃、10-1mmHgで5時間減圧乾燥した。均一に
赤褐色に着色したシリカゲルを得た。これが２成分系錯
体をシリカゲルに担持してなる酸素吸着剤である。上記
のニトロソＲ塩法でコバルト(II)−Ｎ，Ｎ'−ジサリチ
リデンエチレンジアミンイミダゾール錯体の担持量を測
定した。シリカゲル1g当り0.28mmolの該コバルト(II)含
有３成分系錯体を担持したシリカゲルを得た。これは参
考例に記載の含浸法で得られたＮ，Ｎ'−ジサリチリデ
ンエチレンジアミナートコバルト(II)−イミダゾール錯
体を担持したシリカゲルの2.8倍に相当する。実施例２
０と同様な方法で酸素吸着量を測定した。酸素の吸着は
迅速で、1分で0.34mmol、5分で0.37mmol、60分で0.41mm
olの酸素を吸着し、3時間後の酸素吸着量は0.43mmolに
達した。この酸素吸着剤を50mlの2ロナスフラスコ(容量
80ml)に入れ、真空ポンプを用いて、この2ロナスフラス
コ内を50℃で減圧(0.1mmHg)にして、6時間保持すると迅
速に酸素が放出された。次に、この50mlの2ロナスフラ
スコ(容量80ml)内を真空にし、１気圧の純酸素480mlを
入れた容器と二方活栓(標準＃15,プラグの孔径3mm)を付
した内径12mmのガラス管で連結し、ガスビュレット法に
より、23℃で酸素吸着量を測定した。酸素吸着量は1分
で0.13mmol、5分で0.18mmol、60分で0.23mmolとなっ
た。
【００５２】
【発明の効果】上記したように、本発明のコバルト(II)
−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミン−イミダゾール又
はその誘導体３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる
複合体は、コバルト(II)塩とイミダゾール又はその誘導
体との２成分系錯体を固体担体に均一に担持した後に、
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンを添加して所望の３
成分系コバルト(II)錯体をシリカゲル表面で形成させる
方法、或いは、イミダゾール又はその誘導体を均一にシ
リカゲルに担持した後に、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジ
アミナートコバルト(II)を添加して所望の３成分系コバ
ルト(II)錯体をシリカゲル表面で形成させる方法で調製
され、優れた酸素吸着能を有する。
−Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミン−イミダゾール又
はその誘導体３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる
複合体は、コバルト(II)塩とイミダゾール又はその誘導
体との２成分系錯体を固体担体に均一に担持した後に、
Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンを添加して所望の３
成分系コバルト(II)錯体をシリカゲル表面で形成させる
方法、或いは、イミダゾール又はその誘導体を均一にシ
リカゲルに担持した後に、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジ
アミナートコバルト(II)を添加して所望の３成分系コバ
ルト(II)錯体をシリカゲル表面で形成させる方法で調製
され、優れた酸素吸着能を有する。
【００５３】上記し、更に実施例に示すとおり、本発明
による酸素吸着剤を0〜40℃で0.5〜5atmの酸素分率（酸
素が占める容量％）が1〜100％の混合気体または酸素ガ
スと接触せしめると、迅速に酸素を吸着する。吸着した
酸素は、酸素吸着剤を40〜100℃の範囲で昇温するか、1
〜100mmHgの範囲で減圧するか、あるいは酸素分率を0〜
40％の範囲に減少せしめることにより容易に脱離放出さ
せることができる。これらを組み合わせることにより、
前述の昇温範囲をさらに低下し、または減圧の範囲をさ
らに高める、あるいは酸素分率をさらに高めることが可
能である。
による酸素吸着剤を0〜40℃で0.5〜5atmの酸素分率（酸
素が占める容量％）が1〜100％の混合気体または酸素ガ
スと接触せしめると、迅速に酸素を吸着する。吸着した
酸素は、酸素吸着剤を40〜100℃の範囲で昇温するか、1
〜100mmHgの範囲で減圧するか、あるいは酸素分率を0〜
40％の範囲に減少せしめることにより容易に脱離放出さ
せることができる。これらを組み合わせることにより、
前述の昇温範囲をさらに低下し、または減圧の範囲をさ
らに高める、あるいは酸素分率をさらに高めることが可
能である。
【００５４】本発明による酸素吸着剤は固体であるた
め、取り扱いが容易で、充填塔形式、充填カラム形式、
および流動層形式などの装置を酸素分離の装置として用
いることができる。また、酸素脱着時に溶媒蒸気の混入
が起こらず、溶媒蒸気を回収する装置を必要としない。
め、取り扱いが容易で、充填塔形式、充填カラム形式、
および流動層形式などの装置を酸素分離の装置として用
いることができる。また、酸素脱着時に溶媒蒸気の混入
が起こらず、溶媒蒸気を回収する装置を必要としない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 服部 佳世子 神奈川県横浜市南区六ツ川２−53−４ (72)発明者 山元 研二 埼玉県浦和市白幡４丁目13番24号浦和白幡 住宅２−114
Claims (8)
- 【請求項１】 コバルト(II)、イミダゾール又はその誘
導体、およびＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンよりな
る３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる複合体。 - 【請求項２】 該３成分系錯体がシリカゲル１ｇ当り0.
15〜10.0mmol担持されてなる請求項１に記載の複合体。 - 【請求項３】 コバルト(II)塩の溶液およびイミダゾー
ル又はその誘導体の溶液をシリカゲルに接触させること
により、コバルト(II)塩およびイミダゾール又はその誘
導体より形成される２成分系錯体をシリカゲルに吸着さ
せ、得られる２成分系錯体−シリカゲル複合体にＮ，
Ｎ'−ジサリチリデンジアミンの溶液を接触させて反応
させることを特徴とするコバルト(II)、イミダゾール又
はその誘導体および、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミ
ンよりなる３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる複
合体の製造方法。 - 【請求項４】 イミダゾール又はその誘導体の溶液をシ
リカゲルに接触させてイミダゾール又はその誘導体をシ
リカゲルに吸着させ、得られるイミダゾール又はその誘
導体−シリカゲル複合体に、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデン
ジアミナートコバルト(II)の溶液を接触させて反応させ
ることを特徴とするコバルト(II)、イミダゾール又はそ
の誘導体、およびＮ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンよ
りなる３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる複合体
の製造方法。 - 【請求項５】 コバルト(II)、イミダゾール又はその誘
導体および、Ｎ，Ｎ'−ジサリチリデンジアミンよりな
る３成分系錯体をシリカゲルに担持してなる複合体より
なることを特徴とする酸素吸着剤。 - 【請求項６】 該３成分系錯体がシリカゲル１ｇ当り0.
15〜10.0mmol担持されてなる請求項４に記載の酸素吸着
剤。 - 【請求項７】 請求項５又は６の酸素吸着剤に酸素を含
む混合気体を接触させて酸素を該吸着剤に吸着させるこ
とを包含する酸素含有気体からの酸素の分離方法。 - 【請求項８】 請求項５又は６の酸素吸着剤に酸素含有
混合気体を接触させ、その後、酸素を吸着含有する該吸
着剤を所定雰囲気下での加熱処理、減圧雰囲気への暴露
処理および貧酸素雰囲気への暴露処理から選ばれる少く
とも１つの処理にかけて吸着した酸素を脱着させて該処
理雰囲気の酸素濃度を高めることを包含する雰囲気中の
酸素濃度を高める方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07638993A JP3308637B2 (ja) | 1992-03-13 | 1993-03-11 | 新規な複合体およびその製造方法、ならびに該複合体よりなる酸素吸着剤 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-89741 | 1992-03-13 | ||
| JP8974192 | 1992-03-13 | ||
| JP07638993A JP3308637B2 (ja) | 1992-03-13 | 1993-03-11 | 新規な複合体およびその製造方法、ならびに該複合体よりなる酸素吸着剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06254390A true JPH06254390A (ja) | 1994-09-13 |
| JP3308637B2 JP3308637B2 (ja) | 2002-07-29 |
Family
ID=26417535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07638993A Expired - Lifetime JP3308637B2 (ja) | 1992-03-13 | 1993-03-11 | 新規な複合体およびその製造方法、ならびに該複合体よりなる酸素吸着剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3308637B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010508141A (ja) * | 2006-10-30 | 2010-03-18 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | アミン感受性含浸剤及びアミン感受性基材について改善された適合性を有する、シアノ含有汚染物質の除去に効果的な濾過剤を含む濾材 |
| JP2014046246A (ja) * | 2012-08-30 | 2014-03-17 | Cataler Corp | 低脱離吸着剤 |
| WO2016031474A1 (ja) * | 2014-08-27 | 2016-03-03 | 大阪ガスケミカル株式会社 | 吸着剤 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5646254Y2 (ja) * | 1975-05-30 | 1981-10-29 | ||
| JPH02123610A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-11 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 照明装置 |
| JPH03233804A (ja) * | 1990-02-06 | 1991-10-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 厨房装置 |
-
1993
- 1993-03-11 JP JP07638993A patent/JP3308637B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5646254Y2 (ja) * | 1975-05-30 | 1981-10-29 | ||
| JPH02123610A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-11 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 照明装置 |
| JPH03233804A (ja) * | 1990-02-06 | 1991-10-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 厨房装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010508141A (ja) * | 2006-10-30 | 2010-03-18 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | アミン感受性含浸剤及びアミン感受性基材について改善された適合性を有する、シアノ含有汚染物質の除去に効果的な濾過剤を含む濾材 |
| JP2014046246A (ja) * | 2012-08-30 | 2014-03-17 | Cataler Corp | 低脱離吸着剤 |
| WO2016031474A1 (ja) * | 2014-08-27 | 2016-03-03 | 大阪ガスケミカル株式会社 | 吸着剤 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3308637B2 (ja) | 2002-07-29 |
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