JPH06249187A - 真空ポンプおよびその駆動方法 - Google Patents
真空ポンプおよびその駆動方法Info
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- JPH06249187A JPH06249187A JP5033239A JP3323993A JPH06249187A JP H06249187 A JPH06249187 A JP H06249187A JP 5033239 A JP5033239 A JP 5033239A JP 3323993 A JP3323993 A JP 3323993A JP H06249187 A JPH06249187 A JP H06249187A
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- vacuum pump
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- chambers
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D27/00—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or pumping systems specially adapted for elastic fluids
- F04D27/02—Surge control
- F04D27/0269—Surge control by changing flow path between different stages or between a plurality of compressors; load distribution between compressors
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D25/00—Pumping installations or systems
- F04D25/16—Combinations of two or more pumps ; Producing two or more separate gas flows
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高速排気と超高真空との二つの要請を同時に
満足することができ、しかも小型の真空ポンプおよびそ
の駆動方法を提供すること。 【構成】 真空チャンバー４内の気体を排出して真空チ
ャンバー４内の真空度を高める真空ポンプ２であって、
二以上の独立した排気室６，８を有し、各排気室６，８
内にそれぞれ装着してある動翼１６，１８が、単一の駆
動軸１０で駆動される。駆動軸１０は、磁気浮上型軸受
２４により回転自在に支持されていることが望ましい。
排気開始直後には、複数の排気室６，８を並列して使用
して排気を行い、真空チャンバー４内の真空度が所定値
以上になった場合に、複数の排気室６，８を直列に接続
して多段排気を行なう。
満足することができ、しかも小型の真空ポンプおよびそ
の駆動方法を提供すること。 【構成】 真空チャンバー４内の気体を排出して真空チ
ャンバー４内の真空度を高める真空ポンプ２であって、
二以上の独立した排気室６，８を有し、各排気室６，８
内にそれぞれ装着してある動翼１６，１８が、単一の駆
動軸１０で駆動される。駆動軸１０は、磁気浮上型軸受
２４により回転自在に支持されていることが望ましい。
排気開始直後には、複数の排気室６，８を並列して使用
して排気を行い、真空チャンバー４内の真空度が所定値
以上になった場合に、複数の排気室６，８を直列に接続
して多段排気を行なう。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、たとえば半導体産業お
よび電子部品産業に代表される微細加工プロセス産業に
おいて広く使用されている真空チャンバー内を高真空度
にするための真空ポンプおよびその駆動方法に係り、さ
らに詳しくは、高速排気と超高真空との二つの要請を同
時に満足することができる小型の真空ポンプおよびその
駆動方法に関する。
よび電子部品産業に代表される微細加工プロセス産業に
おいて広く使用されている真空チャンバー内を高真空度
にするための真空ポンプおよびその駆動方法に係り、さ
らに詳しくは、高速排気と超高真空との二つの要請を同
時に満足することができる小型の真空ポンプおよびその
駆動方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体産業および電子部品産業に代表さ
れる微細加工プロセス産業などにおいては、数多くの真
空装置が使用されている。これらの真空装置において
は、真空チャンバー内を高真空に維持するために、ター
ボ分子ポンプなどの真空ポンプが使用されている。微細
加工プロセス産業においては、次世代のプロセスに向け
て、真空ポンプには、超高真空能力および高排気能力が
要求されてきている。
れる微細加工プロセス産業などにおいては、数多くの真
空装置が使用されている。これらの真空装置において
は、真空チャンバー内を高真空に維持するために、ター
ボ分子ポンプなどの真空ポンプが使用されている。微細
加工プロセス産業においては、次世代のプロセスに向け
て、真空ポンプには、超高真空能力および高排気能力が
要求されてきている。
【０００３】ターボ分子ポンプなどの真空ポンプにおい
て、ポンプの性能は、排気速度Ｓと、最大圧縮比Ｋmax
とで表わすことができる。これらのパラメータＳ，Ｋ
max は、一般的には、それぞれ下記の関係式で表わされ
る関係を有している。 Ｓ ＝ Ｃ1 ・Ａ・Ｖ … （Ｉ） Ｋmax ＝ Ｃ2 ・Ｖz ・Ｍz/2 … （II）
て、ポンプの性能は、排気速度Ｓと、最大圧縮比Ｋmax
とで表わすことができる。これらのパラメータＳ，Ｋ
max は、一般的には、それぞれ下記の関係式で表わされ
る関係を有している。 Ｓ ＝ Ｃ1 ・Ａ・Ｖ … （Ｉ） Ｋmax ＝ Ｃ2 ・Ｖz ・Ｍz/2 … （II）
【０００４】上記関係式（Ｉ），（II）中、Ａはポンプ
の吸引口面積、Ｖは動翼の回転速度、Ｍは排気されるガ
スの分子量、Ｚは動翼または静翼の段数、Ｃ1 ，Ｃ2 は
比例定数である。すなわち、上記関係式（Ｉ），（II）
から、動翼が形成されたロータの回転数Ｖが一定であれ
ば、排気速度Ｓは、ポンプの吸引口面積に比例して増大
する。また、最大圧縮比Ｋmax は、翼の段数Ｚおよび気
体の分子量Ｍに依存して増大する。
の吸引口面積、Ｖは動翼の回転速度、Ｍは排気されるガ
スの分子量、Ｚは動翼または静翼の段数、Ｃ1 ，Ｃ2 は
比例定数である。すなわち、上記関係式（Ｉ），（II）
から、動翼が形成されたロータの回転数Ｖが一定であれ
ば、排気速度Ｓは、ポンプの吸引口面積に比例して増大
する。また、最大圧縮比Ｋmax は、翼の段数Ｚおよび気
体の分子量Ｍに依存して増大する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】真空ポンプにより排気
される真空チャンバー内の到達真空度は、最大圧縮比Ｋ
max により決定されるが、従来のターボ分子ポンプで
は、水素などの分子量が小さい気体では、圧縮比が１×
１０4 程度しかないため、１×１０-7〜１×１０-9Ｐａ
台といった超高真空領域にはなかなか到達できないのが
実情である。そこで、超高真空にするために、ターボ分
子ポンプを直列に接続し、真空度を１×１０ -9Ｐａ台ま
で到達できるシステムが考えられる。
される真空チャンバー内の到達真空度は、最大圧縮比Ｋ
max により決定されるが、従来のターボ分子ポンプで
は、水素などの分子量が小さい気体では、圧縮比が１×
１０4 程度しかないため、１×１０-7〜１×１０-9Ｐａ
台といった超高真空領域にはなかなか到達できないのが
実情である。そこで、超高真空にするために、ターボ分
子ポンプを直列に接続し、真空度を１×１０ -9Ｐａ台ま
で到達できるシステムが考えられる。
【０００６】ところが、ターボ分子ポンプを二台直列に
接続したシステムでは、装置が大型になると共に、逆に
排気速度が遅くなるなどの問題が発生する。
接続したシステムでは、装置が大型になると共に、逆に
排気速度が遅くなるなどの問題が発生する。
【０００７】本発明は、このような実状に鑑みてなさ
れ、高速排気と超高真空との二つの要請を同時に満足す
ることができ、しかも小型の真空ポンプおよびその駆動
方法を提供することを目的とする。
れ、高速排気と超高真空との二つの要請を同時に満足す
ることができ、しかも小型の真空ポンプおよびその駆動
方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の真空ポンプは、真空チャンバー内の気体を
排出して真空チャンバー内の真空度を高める真空ポンプ
であって、二以上の独立した排気室を有し、各排気室内
にそれぞれ装着してある動翼が、単一の駆動軸で駆動さ
れることを特徴とする。
に、本発明の真空ポンプは、真空チャンバー内の気体を
排出して真空チャンバー内の真空度を高める真空ポンプ
であって、二以上の独立した排気室を有し、各排気室内
にそれぞれ装着してある動翼が、単一の駆動軸で駆動さ
れることを特徴とする。
【０００９】上記駆動軸は、磁気浮上型軸受により回転
自在に支持されていることが望ましい。
自在に支持されていることが望ましい。
【００１０】本発明の真空ポンプの駆動方法は、上記真
空ポンプに形成された独立した排気室を、それぞれ真空
チャンバー内に適宜連通させ、排気開始直後には、複数
の排気室を並列して使用して排気を行い、真空チャンバ
ー内の真空度が所定値以上になった場合に、複数の排気
室を直列に接続して多段排気を行なうことを特徴とす
る。
空ポンプに形成された独立した排気室を、それぞれ真空
チャンバー内に適宜連通させ、排気開始直後には、複数
の排気室を並列して使用して排気を行い、真空チャンバ
ー内の真空度が所定値以上になった場合に、複数の排気
室を直列に接続して多段排気を行なうことを特徴とす
る。
【００１１】
【作用】本発明の真空ポンプでは、二以上の独立した排
気室を有し、各排気室内にそれぞれ装着してある動翼
が、単一の駆動軸で駆動される。この駆動ポンプの使用
に際し、真空ポンプによる排気開始直後には、複数の排
気室を並列して使用して排気を行うことができる。その
結果、排気開始初期の段階では、高速排気を実現するこ
とができる。また、真空チャンバー内の真空度が所定値
以上になった場合には、複数の排気室を直列に接続して
多段排気を行なうことができることから、超高真空を実
現することができる。しかも本発明では、複数の排気室
を有する真空ポンプを単一のユニットで構成しているこ
とから、装置の小型化が可能である。
気室を有し、各排気室内にそれぞれ装着してある動翼
が、単一の駆動軸で駆動される。この駆動ポンプの使用
に際し、真空ポンプによる排気開始直後には、複数の排
気室を並列して使用して排気を行うことができる。その
結果、排気開始初期の段階では、高速排気を実現するこ
とができる。また、真空チャンバー内の真空度が所定値
以上になった場合には、複数の排気室を直列に接続して
多段排気を行なうことができることから、超高真空を実
現することができる。しかも本発明では、複数の排気室
を有する真空ポンプを単一のユニットで構成しているこ
とから、装置の小型化が可能である。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例に係る真空ポンプにつ
いて、図面を参照しつつ詳細に説明する。図１は本発明
の一実施例に係る真空ポンプの概略断面図、図２は同実
施例の真空ポンプの動作状態を示す概念図、図３は本実
施例の真空ポンプの駆動方法の一例を示すグラフ、図４
は本発明の他の実施例に係る真空ポンプの概略断面図で
ある。
いて、図面を参照しつつ詳細に説明する。図１は本発明
の一実施例に係る真空ポンプの概略断面図、図２は同実
施例の真空ポンプの動作状態を示す概念図、図３は本実
施例の真空ポンプの駆動方法の一例を示すグラフ、図４
は本発明の他の実施例に係る真空ポンプの概略断面図で
ある。
【００１３】図１に示すように、本発明の一実施例に係
る真空ポンプ２は、微細加工プロセス産業などに用いら
れる真空チャンバー４の内部を高真空に維持するため
に、真空チャンバー４に接続されている。本実施例の真
空ポンプ２は、第１ケーシング５および第２ケーシング
７により仕切られた二つの独立した第１排気室６と第２
排気室８とを有する。
る真空ポンプ２は、微細加工プロセス産業などに用いら
れる真空チャンバー４の内部を高真空に維持するため
に、真空チャンバー４に接続されている。本実施例の真
空ポンプ２は、第１ケーシング５および第２ケーシング
７により仕切られた二つの独立した第１排気室６と第２
排気室８とを有する。
【００１４】第１排気室６および第２排気室８には、単
一の駆動軸１０が、両室に跨るように装着してある。各
排気室６，８に位置する駆動軸１０の外周には、それぞ
れハブ１２，１４を介して動翼１６，１８が軸方向に所
定間隔で複数装着してある。各動翼１６，１８の間に位
置するように、各ケーシング５，７の内周には、動翼に
対応して静翼２０，２２が装着してある。各動翼１６，
１８および静翼２０，２２の具体的形状は、従来のター
ボ分子ポンプと同様である。ただし、従来のターボ分子
ポンプと異なり、本実施例の真空ポンプ２では、複数の
排気室６，８を有する。各排気室６，８に装着される動
翼１６，１８および静翼２０，２２の形成数は、特に限
定されないが、たとえば各排気室毎に、動翼が２０で静
翼が１９である。また、動翼１６，１８および静翼２
０，２２の形成数は、必ずしも同一である必要はなく、
各排気室毎に数が相違しても良い。
一の駆動軸１０が、両室に跨るように装着してある。各
排気室６，８に位置する駆動軸１０の外周には、それぞ
れハブ１２，１４を介して動翼１６，１８が軸方向に所
定間隔で複数装着してある。各動翼１６，１８の間に位
置するように、各ケーシング５，７の内周には、動翼に
対応して静翼２０，２２が装着してある。各動翼１６，
１８および静翼２０，２２の具体的形状は、従来のター
ボ分子ポンプと同様である。ただし、従来のターボ分子
ポンプと異なり、本実施例の真空ポンプ２では、複数の
排気室６，８を有する。各排気室６，８に装着される動
翼１６，１８および静翼２０，２２の形成数は、特に限
定されないが、たとえば各排気室毎に、動翼が２０で静
翼が１９である。また、動翼１６，１８および静翼２
０，２２の形成数は、必ずしも同一である必要はなく、
各排気室毎に数が相違しても良い。
【００１５】駆動軸１０は、第１ケーシング５と第２ケ
ーシング７との間に位置する磁気浮上型軸受２４により
回転自在に支持されている。磁気浮上型軸受２４を用い
ることにより、オイルなどによる汚染を防止できると共
に、軸受部での摩擦損失が少なくなり、駆動軸１０を数
万回転まで高速回転させることができる。駆動軸１０
は、真空ポンプ２内に一体に装着されたモータあるいは
外部モータにより回転駆動される。
ーシング７との間に位置する磁気浮上型軸受２４により
回転自在に支持されている。磁気浮上型軸受２４を用い
ることにより、オイルなどによる汚染を防止できると共
に、軸受部での摩擦損失が少なくなり、駆動軸１０を数
万回転まで高速回転させることができる。駆動軸１０
は、真空ポンプ２内に一体に装着されたモータあるいは
外部モータにより回転駆動される。
【００１６】本実施例では、真空ポンプ２における第１
排気室６の吸引口２６が、真空チャンバー４に接続して
あり、第２排気室８の吸引口２８が、吸引パイプ３０を
通して真空チャンバー４に接続してある。吸引パイプ３
０の途中には、電磁弁３２が装着してあり、真空チャン
バー４内と第２排気室８内との連通を適宜遮断可能にな
っている。
排気室６の吸引口２６が、真空チャンバー４に接続して
あり、第２排気室８の吸引口２８が、吸引パイプ３０を
通して真空チャンバー４に接続してある。吸引パイプ３
０の途中には、電磁弁３２が装着してあり、真空チャン
バー４内と第２排気室８内との連通を適宜遮断可能にな
っている。
【００１７】第１排気室６の吐出口３４は、第１吐出パ
イプ３３に接続してある。第１吐出パイプ３３には、電
磁弁３７を介して第２吐出パイプ３５が接続してある。
電磁弁３７には、第２排気室８の補助吸引口３８へ分岐
するパイプも接続してある。電磁弁３７を駆動させるこ
とで、第１吐出パイプ３３と第２吐出パイプ３５との連
通状態と、第１吐出パイプ３３と補助吸引口３８との連
通状態との切り替えを行う。第２吐出パイプ３５は、第
２排気室８の吐出口３６に連通する第３吐出パイプ４０
に対して接続し、内部が連通するようになっている。第
３吐出パイプ４０は、図示しない荒引きポンプに接続し
てある。
イプ３３に接続してある。第１吐出パイプ３３には、電
磁弁３７を介して第２吐出パイプ３５が接続してある。
電磁弁３７には、第２排気室８の補助吸引口３８へ分岐
するパイプも接続してある。電磁弁３７を駆動させるこ
とで、第１吐出パイプ３３と第２吐出パイプ３５との連
通状態と、第１吐出パイプ３３と補助吸引口３８との連
通状態との切り替えを行う。第２吐出パイプ３５は、第
２排気室８の吐出口３６に連通する第３吐出パイプ４０
に対して接続し、内部が連通するようになっている。第
３吐出パイプ４０は、図示しない荒引きポンプに接続し
てある。
【００１８】次に、本実施例の真空ポンプ２を用いて、
真空チャンバー４内を所定の真空度に排気するための方
法について説明する。
真空チャンバー４内を所定の真空度に排気するための方
法について説明する。
【００１９】まず、図示しない荒引きポンプを駆動し、
真空チャンバー４内の気体を排気し、真空チャンバー４
内の真空度を、１×１０-1Ｐａ〜１×１０-2Ｐａの圧力
とする。次に、本実施例の真空ポンプ２を駆動する。本
実施例の真空ポンプ２では、駆動時初期には、電磁弁３
２が開き、各排気室６，８の両吸引口２６，２８は、真
空チャンバー４内に連通している。また、電磁弁３７の
作用により、第１吐出パイプ３３と第２吐出パイプ３５
とが連通し、第２排気室８の補助吸引口３８とは連通し
ないようになっている。
真空チャンバー４内の気体を排気し、真空チャンバー４
内の真空度を、１×１０-1Ｐａ〜１×１０-2Ｐａの圧力
とする。次に、本実施例の真空ポンプ２を駆動する。本
実施例の真空ポンプ２では、駆動時初期には、電磁弁３
２が開き、各排気室６，８の両吸引口２６，２８は、真
空チャンバー４内に連通している。また、電磁弁３７の
作用により、第１吐出パイプ３３と第２吐出パイプ３５
とが連通し、第２排気室８の補助吸引口３８とは連通し
ないようになっている。
【００２０】したがって、本実施例の真空ポンプ２の運
転初期時には、図２（Ａ）に示す排気ラインに沿って、
真空チャンバー４内の気体が排気される。すなわち、運
転時初期には、真空チャンバー４内の気体は、第１排気
室６および第２排気室８を通して並列に排気されるの
で、高速排気が可能である。
転初期時には、図２（Ａ）に示す排気ラインに沿って、
真空チャンバー４内の気体が排気される。すなわち、運
転時初期には、真空チャンバー４内の気体は、第１排気
室６および第２排気室８を通して並列に排気されるの
で、高速排気が可能である。
【００２１】次に、図３に示すように、図２（Ａ）に示
す排気ラインでの排気動作により、真空チャンバー４内
の圧力が１×１０-5Ｐａ〜１×１０-6Ｐａの圧力になっ
た場合に、電磁弁３２および３７を操作して、図２
（Ｂ）に示す排気ラインでの排気動作を行う。すなわ
ち、電磁弁３２により吸引パイプ３０を閉じ、電磁弁３
７により第１吐出パイプ３３と補助吸引口３８とを連通
させ、第２吐出パイプ３５との連通を閉じる。
す排気ラインでの排気動作により、真空チャンバー４内
の圧力が１×１０-5Ｐａ〜１×１０-6Ｐａの圧力になっ
た場合に、電磁弁３２および３７を操作して、図２
（Ｂ）に示す排気ラインでの排気動作を行う。すなわ
ち、電磁弁３２により吸引パイプ３０を閉じ、電磁弁３
７により第１吐出パイプ３３と補助吸引口３８とを連通
させ、第２吐出パイプ３５との連通を閉じる。
【００２２】図２（Ａ）に示す排気ラインから図２
（Ｂ）に示す排気ラインへの切り替えは、たとえば真空
チャンバー４内に装着された圧力センサからの検知信号
に基づき、真空チャンバー４内が１×１０-5Ｐａ〜１×
１０-6Ｐａ以下の圧力になった場合に、電磁弁３２，３
７を操作して排気ラインを切り替える。また、図２
（Ａ）に示す排気ラインで排気を行い、真空チャンバー
４内が所定以下の真空度になる時間を予め計測し、タイ
マーを用いて排気ラインの切り替え制御を行うことも可
能である。
（Ｂ）に示す排気ラインへの切り替えは、たとえば真空
チャンバー４内に装着された圧力センサからの検知信号
に基づき、真空チャンバー４内が１×１０-5Ｐａ〜１×
１０-6Ｐａ以下の圧力になった場合に、電磁弁３２，３
７を操作して排気ラインを切り替える。また、図２
（Ａ）に示す排気ラインで排気を行い、真空チャンバー
４内が所定以下の真空度になる時間を予め計測し、タイ
マーを用いて排気ラインの切り替え制御を行うことも可
能である。
【００２３】図２（Ｂ）に示す排気ラインの排気動作で
は、第１排気室６と第２排気室８とが直列に接続され、
各排気室６，８に配置された翼の段数の合計が、真空ポ
ンプ２の最大圧縮比を決定するので、１×１０-7Ｐａ〜
１×１０-8Ｐａ台の超高真空まで排気することができ
る。
は、第１排気室６と第２排気室８とが直列に接続され、
各排気室６，８に配置された翼の段数の合計が、真空ポ
ンプ２の最大圧縮比を決定するので、１×１０-7Ｐａ〜
１×１０-8Ｐａ台の超高真空まで排気することができ
る。
【００２４】図３に示すように、真空チャンバー４内が
１×１０-7Ｐａ〜１×１０-8Ｐａ台の超高真空に到達す
れば、次に、真空チャンバー４内にプロセスガスを導入
し、蒸着、スパッタリング、熱酸化処理、ＣＶＤなどの
処理を行う。その処理に際しては、真空ポンプ２におけ
る排気ラインは、図２（Ｂ）に示す直列排気ラインから
図２（Ａ）に示す並列排気ラインに再度切り替わる。こ
の並列排気ラインに戻すことで、急速排気が可能なこと
から、プロセスガスを真空チャンバー４内に大量に導入
することが可能になり、プロセスガスを多量に必要とす
るプロセスにも対応することができる。
１×１０-7Ｐａ〜１×１０-8Ｐａ台の超高真空に到達す
れば、次に、真空チャンバー４内にプロセスガスを導入
し、蒸着、スパッタリング、熱酸化処理、ＣＶＤなどの
処理を行う。その処理に際しては、真空ポンプ２におけ
る排気ラインは、図２（Ｂ）に示す直列排気ラインから
図２（Ａ）に示す並列排気ラインに再度切り替わる。こ
の並列排気ラインに戻すことで、急速排気が可能なこと
から、プロセスガスを真空チャンバー４内に大量に導入
することが可能になり、プロセスガスを多量に必要とす
るプロセスにも対応することができる。
【００２５】すなわち、本実施例の真空ポンプを用いる
ことにより、各目的に応じて、排気速度および圧縮比を
可変にすることができる。
ことにより、各目的に応じて、排気速度および圧縮比を
可変にすることができる。
【００２６】図４は、本発明の他の実施例に係る真空ポ
ンプ２ａを示す。この真空ポンプ２ａでは、第１ケーシ
ング５ａに形成された第１排気室６ａの吸引口２６ａ
と、第２ケーシング７ａに形成された第２排気室８ａの
吸引口２８ａとが、駆動軸１０ａの両端部外側に形成さ
れ、各排気室６ａ，８ａの吐出口３４ａ，３６ａが駆動
軸１０ａの中央部に向き合うように形成される。各排気
室６ａ，８ａには、動翼１６ａ，１８ａと静翼２０ａ，
２２ａとが装着してある。本実施例では、各排気室６
ａ，８ａにおける気体の軸方向流れは、図１に示す実施
例と異なり、相互に向き合う方向に流れる。
ンプ２ａを示す。この真空ポンプ２ａでは、第１ケーシ
ング５ａに形成された第１排気室６ａの吸引口２６ａ
と、第２ケーシング７ａに形成された第２排気室８ａの
吸引口２８ａとが、駆動軸１０ａの両端部外側に形成さ
れ、各排気室６ａ，８ａの吐出口３４ａ，３６ａが駆動
軸１０ａの中央部に向き合うように形成される。各排気
室６ａ，８ａには、動翼１６ａ，１８ａと静翼２０ａ，
２２ａとが装着してある。本実施例では、各排気室６
ａ，８ａにおける気体の軸方向流れは、図１に示す実施
例と異なり、相互に向き合う方向に流れる。
【００２７】この真空ポンプ２ａでは、第１排気室６ａ
の吸引口２６ａが真空チャンバー４内に連通し、第２排
気室８ａの吸引口２８ａが吸引パイプ３０ａを介して真
空チャンバー４内に連通する。吸引パイプ３０ａの途中
には、電磁弁３２ａが装着してあり、第２排気室８ａの
吸引口２８ａと真空チャンバー４内との連通を適宜遮断
可能になっている。また、吸引パイプ３０ａには、第１
排気室６ａの補助排気口３４ｂに連通する分岐パイプ４
２が接続してあり、分岐パイプ４２には、電磁弁４４が
装着してある。電磁弁４４は、第１排気室６ａの補助吐
出口３４ａと吸引パイプ３０ａとの連通を遮断可能にな
っている。
の吸引口２６ａが真空チャンバー４内に連通し、第２排
気室８ａの吸引口２８ａが吸引パイプ３０ａを介して真
空チャンバー４内に連通する。吸引パイプ３０ａの途中
には、電磁弁３２ａが装着してあり、第２排気室８ａの
吸引口２８ａと真空チャンバー４内との連通を適宜遮断
可能になっている。また、吸引パイプ３０ａには、第１
排気室６ａの補助排気口３４ｂに連通する分岐パイプ４
２が接続してあり、分岐パイプ４２には、電磁弁４４が
装着してある。電磁弁４４は、第１排気室６ａの補助吐
出口３４ａと吸引パイプ３０ａとの連通を遮断可能にな
っている。
【００２８】第１排気室６ａの吐出口３４ａは、第１吐
出パイプ４６に連通し、第２排気室８ａの吐出口３６ａ
は、第２吐出パイプ４８に連通するようになっている。
これら第１，第２吐出パイプ４６，４８は、電磁弁５０
に接続してある。電磁弁５０には、第３吐出パイプ５２
が接続してある。電磁弁５０は、第１吐出パイプ４６と
第２吐出パイプ４８と第３吐出パイプ５２とを全て連通
する状態と、第２吐出パイプ４８と第３吐出パイプ５２
のみを連通する状態とに切り替えることが可能になって
いる。
出パイプ４６に連通し、第２排気室８ａの吐出口３６ａ
は、第２吐出パイプ４８に連通するようになっている。
これら第１，第２吐出パイプ４６，４８は、電磁弁５０
に接続してある。電磁弁５０には、第３吐出パイプ５２
が接続してある。電磁弁５０は、第１吐出パイプ４６と
第２吐出パイプ４８と第３吐出パイプ５２とを全て連通
する状態と、第２吐出パイプ４８と第３吐出パイプ５２
のみを連通する状態とに切り替えることが可能になって
いる。
【００２９】この実施例の真空ポンプ２ａでは、電磁弁
３２ａ，４４，５０を操作することにより、図１に示す
実施例の排気状態を示す図２（Ａ），（Ｂ）と同様に、
両排気室６ａ，８ａの並列排気動作と、直列排気動作と
に切り代えることができる。並列排気動作では、高速排
気が可能であり、直列排気動作では、超高真空排気が可
能である。特に本実施例では、各排気室６ａ，８ａにお
ける軸方向排気流れを、相互に逆方向にしていることか
ら、各排気室６ａ，８ａにおいて駆動軸１０ａに作用す
るスラスト力が逆方向に作用し、打ち消し合うことか
ら、磁気浮上型軸受２４に作用するスラスト力が小さく
なるので、軸受の動作が安定する。
３２ａ，４４，５０を操作することにより、図１に示す
実施例の排気状態を示す図２（Ａ），（Ｂ）と同様に、
両排気室６ａ，８ａの並列排気動作と、直列排気動作と
に切り代えることができる。並列排気動作では、高速排
気が可能であり、直列排気動作では、超高真空排気が可
能である。特に本実施例では、各排気室６ａ，８ａにお
ける軸方向排気流れを、相互に逆方向にしていることか
ら、各排気室６ａ，８ａにおいて駆動軸１０ａに作用す
るスラスト力が逆方向に作用し、打ち消し合うことか
ら、磁気浮上型軸受２４に作用するスラスト力が小さく
なるので、軸受の動作が安定する。
【００３０】なお、本発明は、上述した実施例に限定さ
れるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変するこ
とができる。たとえば、上述した実施例では、排気室を
二室とした真空ポンプについて説明したが、本発明は、
上記実施例に限定されず、排気室を三室以上とし、各排
気室内に配置される動翼を単一の駆動軸で回転させるよ
うに構成することもできる。
れるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変するこ
とができる。たとえば、上述した実施例では、排気室を
二室とした真空ポンプについて説明したが、本発明は、
上記実施例に限定されず、排気室を三室以上とし、各排
気室内に配置される動翼を単一の駆動軸で回転させるよ
うに構成することもできる。
【００３１】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、二以上の独立した排気室を有しているので、たとえ
ば真空ポンプによる排気開始直後には、複数の排気室を
並列して使用して排気を行うことができ、その結果、高
速排気を実現することができる。また、真空チャンバー
内の真空度が所定値以上になった場合には、複数の排気
室を直列に接続して多段排気を行ない、ポンプの圧縮比
を向上させることができることから、超高真空を実現す
ることができる。しかも本発明では、複数の排気室を有
する真空ポンプを単一のユニットで構成していることか
ら、装置の小型化が可能である。
ば、二以上の独立した排気室を有しているので、たとえ
ば真空ポンプによる排気開始直後には、複数の排気室を
並列して使用して排気を行うことができ、その結果、高
速排気を実現することができる。また、真空チャンバー
内の真空度が所定値以上になった場合には、複数の排気
室を直列に接続して多段排気を行ない、ポンプの圧縮比
を向上させることができることから、超高真空を実現す
ることができる。しかも本発明では、複数の排気室を有
する真空ポンプを単一のユニットで構成していることか
ら、装置の小型化が可能である。
【図１】本発明の一実施例に係る真空ポンプの概略断面
図である。
図である。
【図２】同実施例の真空ポンプの動作状態を示す概念図
である。
である。
【図３】本実施例の真空ポンプの駆動方法の一例を示す
グラフである。
グラフである。
【図４】本発明の他の実施例に係る真空ポンプの概略断
面図である。
面図である。
２，２ａ… 真空ポンプ ４… 真空チャンバー ６，６ａ… 第１排気室 ８，８ａ… 第２排気室 １０，１０ａ… 駆動軸 １６，１８，１６ａ，１８ａ… 動翼 ２０，２２，２０ａ，２２ａ… 静翼 ２４… 磁気浮上型軸受 ２６，２６ａ… 吸引口 ２８，２８ａ… 吸引口 ３０，３０ａ… 吸引パイプ ３２，３７，３２ａ，４４，５０…電磁弁 ３４，３６，３４ａ，３６ａ… 吐出口 ３４ｂ… 補助吐出口 ３３… 第１吐出パイプ ３５… 第２吐出パイプ ４０… 第３吐出パイプ ４６… 第１吐出パイプ ４８… 第２吐出パイプ ５２… 第３吐出パイプ
Claims (3)
- 【請求項１】 真空チャンバー内の気体を排出して真空
チャンバー内の真空度を高める真空ポンプであって、 二以上の独立した排気室を有し、各排気室内にそれぞれ
装着してある動翼が、単一の駆動軸で駆動されることを
特徴とする真空ポンプ。 - 【請求項２】 上記駆動軸が、磁気浮上型軸受により回
転自在に支持されていることを特徴とする請求項１に記
載の真空ポンプ。 - 【請求項３】 請求項１に記載の真空ポンプの駆動方法
において、上記独立した排気室が、それぞれ真空チャン
バー内に適宜連通され、排気開始直後には、複数の排気
室を並列して使用して排気を行い、真空チャンバー内の
真空度が所定値以上になった場合に、複数の排気室を直
列に接続して多段排気を行なうことを特徴とする真空ポ
ンプの駆動方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5033239A JPH06249187A (ja) | 1993-02-23 | 1993-02-23 | 真空ポンプおよびその駆動方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5033239A JPH06249187A (ja) | 1993-02-23 | 1993-02-23 | 真空ポンプおよびその駆動方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06249187A true JPH06249187A (ja) | 1994-09-06 |
Family
ID=12380919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5033239A Pending JPH06249187A (ja) | 1993-02-23 | 1993-02-23 | 真空ポンプおよびその駆動方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06249187A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10125657A (ja) * | 1996-10-16 | 1998-05-15 | Ebara Corp | 真空排気装置 |
| JPH10259970A (ja) * | 1997-03-19 | 1998-09-29 | Hitachi Bill Shisetsu Eng Kk | 冷凍設備に封入されている冷媒の回収方法、および、同回収装置 |
| KR20030030724A (ko) * | 2001-10-12 | 2003-04-18 | 주식회사 에스티에스 | 소프트 스타트 진공제어밸브 |
| KR100502084B1 (ko) * | 2002-12-03 | 2005-07-18 | 삼성환경주식회사 | 자기 부상식 단단 터보형 공기 송풍기 |
| JP2008518154A (ja) * | 2004-11-01 | 2008-05-29 | エドワーズ リミテッド | ポンプ装置 |
| JP2019094896A (ja) * | 2017-11-24 | 2019-06-20 | プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー | 真空ポンプ |
| CN112228365A (zh) * | 2019-07-15 | 2021-01-15 | 普发真空有限公司 | 真空系统 |
-
1993
- 1993-02-23 JP JP5033239A patent/JPH06249187A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10125657A (ja) * | 1996-10-16 | 1998-05-15 | Ebara Corp | 真空排気装置 |
| JPH10259970A (ja) * | 1997-03-19 | 1998-09-29 | Hitachi Bill Shisetsu Eng Kk | 冷凍設備に封入されている冷媒の回収方法、および、同回収装置 |
| KR20030030724A (ko) * | 2001-10-12 | 2003-04-18 | 주식회사 에스티에스 | 소프트 스타트 진공제어밸브 |
| KR100502084B1 (ko) * | 2002-12-03 | 2005-07-18 | 삼성환경주식회사 | 자기 부상식 단단 터보형 공기 송풍기 |
| JP2008518154A (ja) * | 2004-11-01 | 2008-05-29 | エドワーズ リミテッド | ポンプ装置 |
| JP2019094896A (ja) * | 2017-11-24 | 2019-06-20 | プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー | 真空ポンプ |
| CN112228365A (zh) * | 2019-07-15 | 2021-01-15 | 普发真空有限公司 | 真空系统 |
| EP3767110A1 (en) * | 2019-07-15 | 2021-01-20 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | Vacuum system |
| CN112228365B (zh) * | 2019-07-15 | 2022-12-30 | 普发真空有限公司 | 真空系统 |
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