JPH06246246A - 洗浄方法 - Google Patents
洗浄方法Info
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- JPH06246246A JPH06246246A JP3774793A JP3774793A JPH06246246A JP H06246246 A JPH06246246 A JP H06246246A JP 3774793 A JP3774793 A JP 3774793A JP 3774793 A JP3774793 A JP 3774793A JP H06246246 A JPH06246246 A JP H06246246A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- cleaned
- particles
- lead frame
- fine particles
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- Pending
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、被洗浄物が相互に密着し易い場合
であっても、これら被洗浄物に付着した油脂・粒子等の
汚染物を短時間に十分に洗浄することができ、かつ塩素
系有機溶剤およびハロゲン化炭化水素による洗浄の代替
方法となり得る洗浄方法を提供することを目的とする。 【構成】 本発明の洗浄方法は、洗浄剤で複数の被洗浄
物を洗浄するにあたって、前記洗浄剤による洗浄の前に
被洗浄物に粒子を付着させ、当該被洗浄物の洗浄の際に
当該粒子も除去することを要旨とする。
であっても、これら被洗浄物に付着した油脂・粒子等の
汚染物を短時間に十分に洗浄することができ、かつ塩素
系有機溶剤およびハロゲン化炭化水素による洗浄の代替
方法となり得る洗浄方法を提供することを目的とする。 【構成】 本発明の洗浄方法は、洗浄剤で複数の被洗浄
物を洗浄するにあたって、前記洗浄剤による洗浄の前に
被洗浄物に粒子を付着させ、当該被洗浄物の洗浄の際に
当該粒子も除去することを要旨とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体用リードフレー
ム等のように相互に密着しやすい被洗浄物の洗浄方法に
関するものである。
ム等のように相互に密着しやすい被洗浄物の洗浄方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年のエレクトロニクス分野の発展は、
周知のごとく、非常にめざましいものがある。その原動
力として、半導体の発展が第一に挙げられる。これに伴
い、精密洗浄に対する関心が急速に高まっている。この
洗浄は、あらゆる工業分野において行われており、特に
めっき塗装における表面処理、精密部品洗浄、光学レン
ズの洗浄、精密電子部品洗浄などでは強い関心がもた
れ、洗浄の技術進歩に期待が寄せられている。
周知のごとく、非常にめざましいものがある。その原動
力として、半導体の発展が第一に挙げられる。これに伴
い、精密洗浄に対する関心が急速に高まっている。この
洗浄は、あらゆる工業分野において行われており、特に
めっき塗装における表面処理、精密部品洗浄、光学レン
ズの洗浄、精密電子部品洗浄などでは強い関心がもた
れ、洗浄の技術進歩に期待が寄せられている。
【０００３】従来、物品の洗浄液としてトリクロロエチ
レン、テトラクロロエチレン、四塩化炭素、１，１，１
トリクロロエタン等の塩素系有機溶剤及びクロロフルオ
ロカーボン、いわゆるフロン（特にＣＦＣ−１１３）な
どのハロゲン系有機化合物が広く使用されている。これ
らの溶剤は、洗浄力が高く、引火性がない上、蒸発性も
高く、容易に乾燥するため作業性が良いという特性を有
している。また、これら塩素系有機溶剤およびハロゲン
系有機化合物は、表面張力が水などに比べて著しく低い
ため、形状の複雑なものや、洗浄物同士が密着している
ものに対しても細部まで液が浸透して比較的短時間で高
い洗浄効果が得られる。
レン、テトラクロロエチレン、四塩化炭素、１，１，１
トリクロロエタン等の塩素系有機溶剤及びクロロフルオ
ロカーボン、いわゆるフロン（特にＣＦＣ−１１３）な
どのハロゲン系有機化合物が広く使用されている。これ
らの溶剤は、洗浄力が高く、引火性がない上、蒸発性も
高く、容易に乾燥するため作業性が良いという特性を有
している。また、これら塩素系有機溶剤およびハロゲン
系有機化合物は、表面張力が水などに比べて著しく低い
ため、形状の複雑なものや、洗浄物同士が密着している
ものに対しても細部まで液が浸透して比較的短時間で高
い洗浄効果が得られる。
【０００４】しかしながら、塩素系有機溶剤やハロゲン
系有機化合物は、発癌性物質あるいはオゾン層破壊物質
として、国際的に使用量の大幅な削減または使用の中止
が求められている。
系有機化合物は、発癌性物質あるいはオゾン層破壊物質
として、国際的に使用量の大幅な削減または使用の中止
が求められている。
【０００５】このような状況の下で、代替洗浄法として
代替フロンによる洗浄法、アルカリ脱脂剤や界面活性剤
を用いた水洗浄法、引火性有機溶剤による洗浄法などが
検討されている。
代替フロンによる洗浄法、アルカリ脱脂剤や界面活性剤
を用いた水洗浄法、引火性有機溶剤による洗浄法などが
検討されている。
【０００６】代替フロンとしては、ハイドロクロロフル
オロカーボン、いわゆるＨＣＦＣ２２５、ＨＣＦＣ１２
３、ＨＣＦＣ１４１ｂなどが開発されている。これらの
溶剤は従来のフロンと同様に表面張力が低いために密着
しているものに対する洗浄性が高いものの、分子構造中
に塩素原子を有するため、オゾン破壊係数が０ではな
く、そのため近くオゾン層破壊物質として消費規制さ
れ、さらには削減、廃止されることが予定されている。
オロカーボン、いわゆるＨＣＦＣ２２５、ＨＣＦＣ１２
３、ＨＣＦＣ１４１ｂなどが開発されている。これらの
溶剤は従来のフロンと同様に表面張力が低いために密着
しているものに対する洗浄性が高いものの、分子構造中
に塩素原子を有するため、オゾン破壊係数が０ではな
く、そのため近くオゾン層破壊物質として消費規制さ
れ、さらには削減、廃止されることが予定されている。
【０００７】また、アルカリ脱脂剤や界面活性剤を用い
た水洗浄法は、界面活性剤の効果によって表面張力を下
げ浸透性を高めることは可能であるが、界面活性剤は表
面に残渣として残りやすく、特に半導体用リードフレー
ムなど被洗浄物が密着している場合にはすすぎが困難で
ありシミの原因と成り易い。
た水洗浄法は、界面活性剤の効果によって表面張力を下
げ浸透性を高めることは可能であるが、界面活性剤は表
面に残渣として残りやすく、特に半導体用リードフレー
ムなど被洗浄物が密着している場合にはすすぎが困難で
ありシミの原因と成り易い。
【０００８】一方、材料のコイル材を打ち抜いた後、リ
ードフレームを切断すること無く、そのまま洗浄工程を
通してから切断あるいは、再度巻き取るという方法があ
る。この方法は洗浄液の浸透性等に影響されること無く
洗浄やすすぎが可能なので水系洗浄が可能である。しか
しながら、この方法は切断または曲げに対する応力が小
さくて済む素材に対してしか適応できず、一般にパワー
トランジスタ用等で使用される厚物リードフレームには
適用できない。
ードフレームを切断すること無く、そのまま洗浄工程を
通してから切断あるいは、再度巻き取るという方法があ
る。この方法は洗浄液の浸透性等に影響されること無く
洗浄やすすぎが可能なので水系洗浄が可能である。しか
しながら、この方法は切断または曲げに対する応力が小
さくて済む素材に対してしか適応できず、一般にパワー
トランジスタ用等で使用される厚物リードフレームには
適用できない。
【０００９】さらに、引火性有機溶剤による洗浄法の場
合、水シミや錆または金属材質に対するｐＨの影響など
を考慮しなくてもよい長所がある。ただし引火の危険性
を低減させるため、工場等で採用可能な溶剤は消防法危
険物第２石油類または第３石油類に該当する炭化水素系
溶剤である。これらの溶剤は塩素系有機溶剤等に比べて
一般に表面張力が高い。したがって、リードフレームな
どの密着しているものに対して、従来のように短時間で
高い洗浄効果を得ることが難しい。これを解決するため
には物品を一つずつ洗浄する必要があるが、現在の生産
工程における処理速度から考えても実行不可能である。
合、水シミや錆または金属材質に対するｐＨの影響など
を考慮しなくてもよい長所がある。ただし引火の危険性
を低減させるため、工場等で採用可能な溶剤は消防法危
険物第２石油類または第３石油類に該当する炭化水素系
溶剤である。これらの溶剤は塩素系有機溶剤等に比べて
一般に表面張力が高い。したがって、リードフレームな
どの密着しているものに対して、従来のように短時間で
高い洗浄効果を得ることが難しい。これを解決するため
には物品を一つずつ洗浄する必要があるが、現在の生産
工程における処理速度から考えても実行不可能である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、密着
し易い被洗浄物を引火性有機溶剤による洗浄方法によっ
て洗浄する場合、被洗浄物同士が密着してしまい、これ
ら被洗浄物同士の間に洗浄液が浸透せず完全な洗浄を行
なうことが困難になる虞が生じる。
し易い被洗浄物を引火性有機溶剤による洗浄方法によっ
て洗浄する場合、被洗浄物同士が密着してしまい、これ
ら被洗浄物同士の間に洗浄液が浸透せず完全な洗浄を行
なうことが困難になる虞が生じる。
【００１１】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
で、被洗浄物が相互に密着し易い場合であっても、これ
ら被洗浄物に付着した油脂・粒子等の汚染物を短時間に
十分に洗浄することができ、かつ塩素系有機溶剤および
ハロゲン化炭化水素による洗浄の代替方法となり得る洗
浄方法を提供することを目的とする。
で、被洗浄物が相互に密着し易い場合であっても、これ
ら被洗浄物に付着した油脂・粒子等の汚染物を短時間に
十分に洗浄することができ、かつ塩素系有機溶剤および
ハロゲン化炭化水素による洗浄の代替方法となり得る洗
浄方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、複数の被洗浄物を洗浄剤によって洗浄する洗
浄方法であって、前記洗浄剤による洗浄の前に被洗浄物
に粒子を付着させ、当該被洗浄物の洗浄の際に当該粒子
も除去することを要旨とする。
本発明は、複数の被洗浄物を洗浄剤によって洗浄する洗
浄方法であって、前記洗浄剤による洗浄の前に被洗浄物
に粒子を付着させ、当該被洗浄物の洗浄の際に当該粒子
も除去することを要旨とする。
【００１３】
【作用】本発明の洗浄方法によれば、密着し易い被洗浄
物同士の間に粒子を介在させることにより、これら被洗
浄物の間に生じた隙間に洗浄液を十分に浸透させること
が出来ることから、リードフレーム等の密着し易い被洗
浄物であっても洗浄が完全に行われる。また、この洗浄
前に付着させた粒子はこの洗浄の際に洗浄剤等によって
除去される。
物同士の間に粒子を介在させることにより、これら被洗
浄物の間に生じた隙間に洗浄液を十分に浸透させること
が出来ることから、リードフレーム等の密着し易い被洗
浄物であっても洗浄が完全に行われる。また、この洗浄
前に付着させた粒子はこの洗浄の際に洗浄剤等によって
除去される。
【００１４】
【実施例】以下、本発明に係る一実施例を図面を参照し
て説明する。図１は本発明に係る一実施例の作用を説明
するための模式図である。
て説明する。図１は本発明に係る一実施例の作用を説明
するための模式図である。
【００１５】図１に示すように、本実施例においては、
被洗浄物としてのリードフレーム１同志の間に微粒子３
を介在させることによって、リードフレーム１同志が密
着するのを防止するようにしている。これにより、隣接
するリードフレーム１同志の間に間隙が生じ、この間隙
間に洗浄剤が浸透しやすくなり、洗浄が容易かつ完全に
行われる。
被洗浄物としてのリードフレーム１同志の間に微粒子３
を介在させることによって、リードフレーム１同志が密
着するのを防止するようにしている。これにより、隣接
するリードフレーム１同志の間に間隙が生じ、この間隙
間に洗浄剤が浸透しやすくなり、洗浄が容易かつ完全に
行われる。
【００１６】また、本実施例では略長方形のリードフレ
ーム１上の四隅の位置に、微粒子３ａ、３ｂ、３ｃ、３
ｄを付着させるようにしたが、これ以外にも図２に示す
ように１個以上の微粒子３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３
ｅ、３ｆ、３ｇ、…、３ｎを適宜の位置に付着させるよ
うにしても良い。
ーム１上の四隅の位置に、微粒子３ａ、３ｂ、３ｃ、３
ｄを付着させるようにしたが、これ以外にも図２に示す
ように１個以上の微粒子３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３
ｅ、３ｆ、３ｇ、…、３ｎを適宜の位置に付着させるよ
うにしても良い。
【００１７】次に、本実施例で使用される被洗浄物、洗
浄剤、微粒子及びワックスについて、説明する。
浄剤、微粒子及びワックスについて、説明する。
【００１８】本実施例で洗浄される被洗浄物は、主に半
導体用リードフレーム等のように被洗浄物同士が密着し
た状態で洗浄されるものが対象となる。
導体用リードフレーム等のように被洗浄物同士が密着し
た状態で洗浄されるものが対象となる。
【００１９】また、洗浄剤は、例えば半導体用リードフ
レームの機械加工等の際に付着する油分等に対する洗浄
性（溶解性）に優れているものであれば良く、任意の炭
化水素系溶剤が使用できる。本実施例においては洗浄剤
として中質の石油溜分を改質したパラフィン系混合溶剤
を用いた。
レームの機械加工等の際に付着する油分等に対する洗浄
性（溶解性）に優れているものであれば良く、任意の炭
化水素系溶剤が使用できる。本実施例においては洗浄剤
として中質の石油溜分を改質したパラフィン系混合溶剤
を用いた。
【００２０】また、微粒子３としては、形状は被洗浄物
の間に０．５〜１．０mmの隙間を生じさせるものであれ
ば良く、材質は耐溶剤性に優れているものが良い。本実
施例においては、形状は球状とし材質は弗素樹脂、具体
的にはポリテトラフルオロエチレン（以下、単にＰＴＦ
Ｅと略記する）を用いた。また、微粒子は通常そのまま
では被洗浄物へ付着させることが困難であるので、前記
洗浄剤による洗浄性に優れたワックスを接着剤として微
量用いるのが望ましい。
の間に０．５〜１．０mmの隙間を生じさせるものであれ
ば良く、材質は耐溶剤性に優れているものが良い。本実
施例においては、形状は球状とし材質は弗素樹脂、具体
的にはポリテトラフルオロエチレン（以下、単にＰＴＦ
Ｅと略記する）を用いた。また、微粒子は通常そのまま
では被洗浄物へ付着させることが困難であるので、前記
洗浄剤による洗浄性に優れたワックスを接着剤として微
量用いるのが望ましい。
【００２１】尚、このとき微粒子３の形状、被洗浄物の
表面状態等によって付着状態が保持されるようであれば
後述するワックスの使用は特に必要としない。
表面状態等によって付着状態が保持されるようであれば
後述するワックスの使用は特に必要としない。
【００２２】さらにワックスは、常温で固体であり５０
〜６０℃で液体状になるものが良い。一般にワックスの
溶解性は固体状より液体状の方がはるかに高いので、被
洗浄物に付着させたときはすぐ固化し、５０〜６０℃の
洗浄液中では再び液状になって溶け出すものが良い。本
実施例においては、いわゆるエレクトロンワックスを用
いた。
〜６０℃で液体状になるものが良い。一般にワックスの
溶解性は固体状より液体状の方がはるかに高いので、被
洗浄物に付着させたときはすぐ固化し、５０〜６０℃の
洗浄液中では再び液状になって溶け出すものが良い。本
実施例においては、いわゆるエレクトロンワックスを用
いた。
【００２３】次に、本実施例における洗浄工程を図３を
参照して詳細に説明する。
参照して詳細に説明する。
【００２４】リードフレーム打ち抜き機５はコイル材か
らリードフレーム１を打ち抜くもので、コンベア７はこ
の打ち抜かれたリードフレーム１を１枚ずつ、載置して
微粒子付着機９の下を経て洗浄用トレー１１まで搬送す
るものである。
らリードフレーム１を打ち抜くもので、コンベア７はこ
の打ち抜かれたリードフレーム１を１枚ずつ、載置して
微粒子付着機９の下を経て洗浄用トレー１１まで搬送す
るものである。
【００２５】微粒子付着機９は１枚ずつ搬送されるリー
ドフレーム１の予め設定される所定の位置にワックスを
微量塗布した微粒子３を付着させるものである。このと
き、微粒子３は１箇所に１個付着するように制御され
る。また、この微粒子付着機９の内部には微粒子３とし
てのＰＴＦＥ粒子とワックスが混合されており、その温
度はワックスが固まらないように７０〜８０℃に保たれ
ている。
ドフレーム１の予め設定される所定の位置にワックスを
微量塗布した微粒子３を付着させるものである。このと
き、微粒子３は１箇所に１個付着するように制御され
る。また、この微粒子付着機９の内部には微粒子３とし
てのＰＴＦＥ粒子とワックスが混合されており、その温
度はワックスが固まらないように７０〜８０℃に保たれ
ている。
【００２６】洗浄用トレー１１は、微粒子３をその間に
介在させた多数のリードフレーム１を載置した状態で後
述する洗浄槽１３、検査工程１７、エヤブロー及び乾燥
室２１へ搬送するためのものである。
介在させた多数のリードフレーム１を載置した状態で後
述する洗浄槽１３、検査工程１７、エヤブロー及び乾燥
室２１へ搬送するためのものである。
【００２７】洗浄槽１３は、底部に超音波発信子１５が
設けられている。また、洗浄槽１３に注入若しくは噴射
される洗浄液は、洗浄に供された後に洗浄槽１３の底部
に設けられる排液口１３ａから回収され、蒸留再生機２
５で蒸留再生され、再び洗浄に供される。なお、この洗
浄槽１３は要求される洗浄程度等によって複数段設けら
れる。また、排液口１３ａから回収された廃液に混入す
る微粒子３は、フィルタ２３で回収された後、再利用可
能なように適宜処理されて微粒子付着機９に戻される。
設けられている。また、洗浄槽１３に注入若しくは噴射
される洗浄液は、洗浄に供された後に洗浄槽１３の底部
に設けられる排液口１３ａから回収され、蒸留再生機２
５で蒸留再生され、再び洗浄に供される。なお、この洗
浄槽１３は要求される洗浄程度等によって複数段設けら
れる。また、排液口１３ａから回収された廃液に混入す
る微粒子３は、フィルタ２３で回収された後、再利用可
能なように適宜処理されて微粒子付着機９に戻される。
【００２８】エヤブローノズル１９ｂは、洗浄されたリ
ードフレーム１をエヤブローによって乾燥するもので、
エヤブローノズル１９ｂから吹き出たエヤー１９ｃが洗
浄用トレー１１上のリードフレーム１を乾燥する。ま
た、このとき受け皿１９ａに回収された微粒子３はリザ
ーブタンク２７に一旦溜められた後、フィルタ２３で微
粒子３のみが分離され、前述したと同様に再利用され
る。
ードフレーム１をエヤブローによって乾燥するもので、
エヤブローノズル１９ｂから吹き出たエヤー１９ｃが洗
浄用トレー１１上のリードフレーム１を乾燥する。ま
た、このとき受け皿１９ａに回収された微粒子３はリザ
ーブタンク２７に一旦溜められた後、フィルタ２３で微
粒子３のみが分離され、前述したと同様に再利用され
る。
【００２９】尚、検査工程１７とポンプＰは、適宜の位
置にそれぞれ設けられる。
置にそれぞれ設けられる。
【００３０】次に、本実施例の洗浄工程の作用をその処
理手順にしたがって説明する。
理手順にしたがって説明する。
【００３１】被洗浄物としてのリードフレーム１の密着
面端部に、ワックスを微量塗布した微粒子をスポット的
に付着させる。付着箇所は両端部に１カ所程度で良い。
微粒子３を付着させた後、２０〜３０秒程度、放置して
ワックスを固化させる。その後、リードフレーム１を束
ねて洗浄用トレー１１に並べて洗浄槽１３に搬送する。
面端部に、ワックスを微量塗布した微粒子をスポット的
に付着させる。付着箇所は両端部に１カ所程度で良い。
微粒子３を付着させた後、２０〜３０秒程度、放置して
ワックスを固化させる。その後、リードフレーム１を束
ねて洗浄用トレー１１に並べて洗浄槽１３に搬送する。
【００３２】洗浄槽１３の底部には超音波発信子１５が
設けられており、リードフレーム１は、洗浄液によって
超音波洗浄される。このとき、隙間があるため洗浄液が
十分に浸透し従来よりも短時間で洗浄が可能である。ま
たワックスが洗浄されると付着させた微粒子３は被洗浄
物より離れ、洗浄液中に浮遊あるいは沈殿する。被洗浄
物表面に微粒子３が若干残った場合も洗浄終了後エアブ
ロー等を行うことによって、液切りと共に除去される。
このとき、微粒子３のワックスを洗浄し易くするために
洗浄液の液温を７０〜８０℃以上で保持するようにして
も良い。また、微粒子３は洗浄液交換時にフィルタ濾過
によって回収することで再利用が可能である。
設けられており、リードフレーム１は、洗浄液によって
超音波洗浄される。このとき、隙間があるため洗浄液が
十分に浸透し従来よりも短時間で洗浄が可能である。ま
たワックスが洗浄されると付着させた微粒子３は被洗浄
物より離れ、洗浄液中に浮遊あるいは沈殿する。被洗浄
物表面に微粒子３が若干残った場合も洗浄終了後エアブ
ロー等を行うことによって、液切りと共に除去される。
このとき、微粒子３のワックスを洗浄し易くするために
洗浄液の液温を７０〜８０℃以上で保持するようにして
も良い。また、微粒子３は洗浄液交換時にフィルタ濾過
によって回収することで再利用が可能である。
【００３３】次に、上述した洗浄方法によって、パワー
トランジスタ用リードフレーム（銅−ニッケルめっき
品）に加工油（流動パラフィン）が付着したものを被洗
浄物として洗浄した場合を例にして説明する。
トランジスタ用リードフレーム（銅−ニッケルめっき
品）に加工油（流動パラフィン）が付着したものを被洗
浄物として洗浄した場合を例にして説明する。
【００３４】仕様は以下の通りである。
【００３５】ワックス：エレクトロンワックス 粒子形状：直径１mmの球状体 粒子材質：ＰＴＦＥ 洗浄液：パラフィン系およびナフテン系混合溶剤 （エクソン化学製、商品名アクトレル１１４０Ｌ） 洗浄槽液温：６０℃ 洗浄時間：ＵＳ×１０秒および１分（ＵＳ：超音波） エヤブロー：４kg／cm2 ×１分（常温） 乾燥：１００℃×５分 リードフレーム１の表面の残留有機物を四塩化炭素で抽
出し、この抽出液を赤外線分析することにより残留有機
物を定量した結果を表１に示す。
出し、この抽出液を赤外線分析することにより残留有機
物を定量した結果を表１に示す。
【００３６】表１において、「未洗浄」は被洗浄物をま
ったく洗浄していないものであり、「実施例」は前述し
た方法により洗浄、エアブローおよび乾燥したものであ
り、「参考例」は被洗浄物の間に粒子を挟まずに、密着
させた状態で洗浄を行ったものであり、さらに「従来
例」は実際の生産工程において、１，１，１トリクロロ
エタン３槽式洗浄装置で洗浄したものについての結果で
ある。
ったく洗浄していないものであり、「実施例」は前述し
た方法により洗浄、エアブローおよび乾燥したものであ
り、「参考例」は被洗浄物の間に粒子を挟まずに、密着
させた状態で洗浄を行ったものであり、さらに「従来
例」は実際の生産工程において、１，１，１トリクロロ
エタン３槽式洗浄装置で洗浄したものについての結果で
ある。
【００３７】
【表１】 以上の結果により、隙間を設けた場合は短時間で従来品
と同程度の洗浄効果が得られることが分かる。
と同程度の洗浄効果が得られることが分かる。
【００３８】以上詳述したように本発明の洗浄方法を用
いれば、密着性の高い物品の洗浄において、塩素系有機
溶剤に比較して浸透性の劣る炭化水素系溶剤を用いた場
合でも、従来の塩素系有機溶剤洗浄に匹敵する洗浄効果
を得ることが可能となった。尚、上記の実施例ではＰＴ
ＦＥを使用した場合を例にとって説明したが、本発明は
これに限定されること無く、任意の素材を用いることが
できる。また、フィルタ２３において微粒子を回収する
際に、例えば洗浄剤に対する微粒子の浮遊性、若しくは
沈降性を利用することによって、さらに効率的な回収を
行うことも可能である。さらに上記の実施例では半導体
用リードフレームの洗浄に適用した場合を例にとって説
明したが、本発明はこれに限定されること無く、例えば
メッキにおける表面処理、精密部品洗浄、光学レンズ洗
浄或いは精密電子部品洗浄等の適宜の場合に適用するこ
とができる。
いれば、密着性の高い物品の洗浄において、塩素系有機
溶剤に比較して浸透性の劣る炭化水素系溶剤を用いた場
合でも、従来の塩素系有機溶剤洗浄に匹敵する洗浄効果
を得ることが可能となった。尚、上記の実施例ではＰＴ
ＦＥを使用した場合を例にとって説明したが、本発明は
これに限定されること無く、任意の素材を用いることが
できる。また、フィルタ２３において微粒子を回収する
際に、例えば洗浄剤に対する微粒子の浮遊性、若しくは
沈降性を利用することによって、さらに効率的な回収を
行うことも可能である。さらに上記の実施例では半導体
用リードフレームの洗浄に適用した場合を例にとって説
明したが、本発明はこれに限定されること無く、例えば
メッキにおける表面処理、精密部品洗浄、光学レンズ洗
浄或いは精密電子部品洗浄等の適宜の場合に適用するこ
とができる。
【００３９】
【発明の効果】本発明の洗浄方法は、密着性の高い被洗
浄物間に微粒子を付着させて隙間を設けることにより、
被洗浄物に対する洗浄性を高め、かつ現行の生産ペース
を損なわない等の効果を得るものである。
浄物間に微粒子を付着させて隙間を設けることにより、
被洗浄物に対する洗浄性を高め、かつ現行の生産ペース
を損なわない等の効果を得るものである。
【図１】本発明に係る一実施例を説明するための模式図
である。
である。
【図２】図１に示した実施例におけるリードフレーム上
の微粒子の配置例を示す平面図である。
の微粒子の配置例を示す平面図である。
【図３】本発明が適用される洗浄工程を示すブロック図
である。
である。
１ リードフレーム ３ 微粒子 ５ リードフレーム打ち抜き機 ７ コンベア ９ 微粒子付着機 １１ 洗浄用トレー １３ 洗浄槽 １３ａ 排液口 １５ 超音波発信子 １９ａ 受け皿 １９ｂ エヤブローノズル １９ｃ エヤー ２１ 乾燥室 ２３ フィルタ ２５ 蒸留再生機 ２７ リザーブタンク Ｐ ポンプ
Claims (1)
- 【請求項１】 複数の被洗浄物を洗浄剤によって洗浄す
る洗浄方法であって、 前記洗浄剤による洗浄の前に被洗浄物に粒子を付着さ
せ、当該被洗浄物の洗浄の際に当該粒子も除去すること
を特徴とする洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3774793A JPH06246246A (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3774793A JPH06246246A (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06246246A true JPH06246246A (ja) | 1994-09-06 |
Family
ID=12506075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3774793A Pending JPH06246246A (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06246246A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014184838A1 (ja) * | 2013-05-13 | 2014-11-20 | トヨタ自動車株式会社 | 無端金属リングの製造方法、及び無端金属リング樹脂除去装置 |
-
1993
- 1993-02-26 JP JP3774793A patent/JPH06246246A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014184838A1 (ja) * | 2013-05-13 | 2014-11-20 | トヨタ自動車株式会社 | 無端金属リングの製造方法、及び無端金属リング樹脂除去装置 |
| CN105190090A (zh) * | 2013-05-13 | 2015-12-23 | 丰田自动车株式会社 | 环形金属环的制造方法和环形金属环树脂除去装置 |
| JPWO2014184838A1 (ja) * | 2013-05-13 | 2017-02-23 | トヨタ自動車株式会社 | 無端金属リングの製造方法、及び無端金属リング樹脂除去装置 |
| US10843245B2 (en) | 2013-05-13 | 2020-11-24 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Endless metal ring manufacturing method and endless metal ring resin removal device |
| US10926310B2 (en) | 2013-05-13 | 2021-02-23 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Endless metal ring manufacturing method and endless metal ring resin removal device |
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