JPH0624620Y2 - 電磁式比例制御弁装置 - Google Patents
電磁式比例制御弁装置Info
- Publication number
- JPH0624620Y2 JPH0624620Y2 JP2843789U JP2843789U JPH0624620Y2 JP H0624620 Y2 JPH0624620 Y2 JP H0624620Y2 JP 2843789 U JP2843789 U JP 2843789U JP 2843789 U JP2843789 U JP 2843789U JP H0624620 Y2 JPH0624620 Y2 JP H0624620Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- gas outlet
- valve
- proportional control
- control valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Magnetically Actuated Valves (AREA)
- Feeding And Controlling Fuel (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案はガス給湯器、ガスストーブその他のガス燃焼器
のガス供給通路に介設される電磁式比例制御弁装置に関
する。
のガス供給通路に介設される電磁式比例制御弁装置に関
する。
（従来の技術） 従来のこの種装置として、弁筐内に、その一側のガス流
入口と他側のガス流出口とを連通するガス通路のガス通
過断面積を電磁石の通電電流の大きさに応じて比例的に
制御する比例制御弁の弁体を備えるものは知られる（実
公昭61-19320号公報参照）。
入口と他側のガス流出口とを連通するガス通路のガス通
過断面積を電磁石の通電電流の大きさに応じて比例的に
制御する比例制御弁の弁体を備えるものは知られる（実
公昭61-19320号公報参照）。
（考案が解決しようとする課題） 上記従来装置は、例えばガス絞り時の性能向上、具体的
には電磁石の通電電流のバラツキによるガス量変化を可
及的に少なくするためや下流側に連なるガスバーナの一
次空気の吸引を向上させるため、ガス供給路のガス流出
口の下流側に電磁開閉弁を介設すると共にこれに並列に
該ガス供給路よりも小径のバイパス路を設けるもので、
これによれば、前記弁筐外に電磁開閉弁とバイパス路を
設ける分だけ、大型となり、近年のガス燃焼器のコンパ
クト化及び高密度化の要請に反することとなって好まし
くない。
には電磁石の通電電流のバラツキによるガス量変化を可
及的に少なくするためや下流側に連なるガスバーナの一
次空気の吸引を向上させるため、ガス供給路のガス流出
口の下流側に電磁開閉弁を介設すると共にこれに並列に
該ガス供給路よりも小径のバイパス路を設けるもので、
これによれば、前記弁筐外に電磁開閉弁とバイパス路を
設ける分だけ、大型となり、近年のガス燃焼器のコンパ
クト化及び高密度化の要請に反することとなって好まし
くない。
そこでこの不都合を無くすため、本考案者は前記弁筐の
他側に設けたガス流出口を、大径の開閉弁を有する第１
ガス流出口と小径の第２ガス流出口とで構成するものを
作ってみたが、これによれば弁筐内の弁体が第２ガス流
出口に対向する側に傾いて開いている場合は良いが、第
１ガス流出口に対向する側に傾いて開いている場合は小
径の第２ガス流出口を通過するバスは流れにくくなり、
したがって、例えば両ガス流出路に連なる共通１個のガ
スバーナの最大インプットにバラツキを生じる不都合が
ある。
他側に設けたガス流出口を、大径の開閉弁を有する第１
ガス流出口と小径の第２ガス流出口とで構成するものを
作ってみたが、これによれば弁筐内の弁体が第２ガス流
出口に対向する側に傾いて開いている場合は良いが、第
１ガス流出口に対向する側に傾いて開いている場合は小
径の第２ガス流出口を通過するバスは流れにくくなり、
したがって、例えば両ガス流出路に連なる共通１個のガ
スバーナの最大インプットにバラツキを生じる不都合が
ある。
（課題を解決するための手段） 本考案は上記不都合を解消した装置を提供しようとする
ものであって、弁筐内に、その一側のガス流入口と他側
のガス流出口とを連通するガス通路のガス通過断面積を
電磁石の通電電流の大きさに応じて比例的に制御する比
例制御弁の弁体を備えるものにおいて、該ガス流出口を
大径の開閉弁を有する第１ガス流出口と小径の第２ガス
流出口とで構成し、該第１ガス流出口にガスの一部を該
第２ガス流出口に向ける整流部材を設けたことを特徴と
する。
ものであって、弁筐内に、その一側のガス流入口と他側
のガス流出口とを連通するガス通路のガス通過断面積を
電磁石の通電電流の大きさに応じて比例的に制御する比
例制御弁の弁体を備えるものにおいて、該ガス流出口を
大径の開閉弁を有する第１ガス流出口と小径の第２ガス
流出口とで構成し、該第１ガス流出口にガスの一部を該
第２ガス流出口に向ける整流部材を設けたことを特徴と
する。
（作用） 本考案は上記構成によるもので、これによれば、比例制
御弁の弁体が大径の第１ガス流出口に対向する側に傾い
て開いている場合でも整流部材により該第１ガス流出口
に向うガスの一部を小径の第２ガス流出口へ向うように
して、第２ガス流出口を通過するガスの流れを良くする
ものができ、例えば両ガス流出路に連なる共通１個のガ
スバーナの最大インプットをバラツかせず常に一定の値
に安定させることができる。
御弁の弁体が大径の第１ガス流出口に対向する側に傾い
て開いている場合でも整流部材により該第１ガス流出口
に向うガスの一部を小径の第２ガス流出口へ向うように
して、第２ガス流出口を通過するガスの流れを良くする
ものができ、例えば両ガス流出路に連なる共通１個のガ
スバーナの最大インプットをバラツかせず常に一定の値
に安定させることができる。
（実施例） 次に本考案の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図乃至第６図において、１は電磁式比例制御弁であ
って、弁筐1a内に一側のガス流入口1bと、他側のガス流
出口1cと、該ガス流入口1bとガス流出口1cとを連通する
その中間のガス通路1dとを形成すると共に該ガス通路1d
に弁孔1e及びこれと協動する弁体1fを設け、該弁体1fを
弁杆1gを介して弁筐1a内のダイヤフラム1hに吊持させ、
さらに該ダイヤフラム1hを弁杆1gを介して弁筐1a外の電
磁石1iにより変位させるように構成し、かくて電磁石1i
の通電電流の大きさを変化させて、弁体1fを変位させ、
弁孔1eの開度を増減させ、ガス通路1dのガス通過断面積
を比例的に制御して、これにより弁体1fのすぐ下流側の
ガス圧（二次圧）を所望の値に自在に調節してガス量を
変えうるようにした。
って、弁筐1a内に一側のガス流入口1bと、他側のガス流
出口1cと、該ガス流入口1bとガス流出口1cとを連通する
その中間のガス通路1dとを形成すると共に該ガス通路1d
に弁孔1e及びこれと協動する弁体1fを設け、該弁体1fを
弁杆1gを介して弁筐1a内のダイヤフラム1hに吊持させ、
さらに該ダイヤフラム1hを弁杆1gを介して弁筐1a外の電
磁石1iにより変位させるように構成し、かくて電磁石1i
の通電電流の大きさを変化させて、弁体1fを変位させ、
弁孔1eの開度を増減させ、ガス通路1dのガス通過断面積
を比例的に制御して、これにより弁体1fのすぐ下流側の
ガス圧（二次圧）を所望の値に自在に調節してガス量を
変えうるようにした。
上記した構成の電磁式比例制御弁１は、例えば第７図に
示すように、給湯器２のガスバーナ３へのガス供給路４
に介設される。
示すように、給湯器２のガスバーナ３へのガス供給路４
に介設される。
図中、５、６はガス供給路４の電磁式比例制御弁１の上
流側に介設される電磁式開閉弁、７はガス供給路４から
のガスと空気とをガスバーナ３へ送るファン、８はガス
バーナ３により加熱される熱交換器、９は排気口を示
す。
流側に介設される電磁式開閉弁、７はガス供給路４から
のガスと空気とをガスバーナ３へ送るファン、８はガス
バーナ３により加熱される熱交換器、９は排気口を示
す。
以上は従来のものと特に異ならないが、本考案では、さ
らに前記ガス流出口1cを大径の開閉弁10を有する第１ガ
ス流出口1c1と小径の第２ガス流出口1c2とで構成し、該
第１ガス流出口1c1にガスの一部を該第２ガス流出口1c2
に向ける整流部材11を設けるもので、具体的には、ガス
流出口1cを、前記比例制御弁１の弁体1fの近傍で且つガ
スの流れに対して交叉する方向の大径の電磁式開閉弁か
ら成る開閉弁10を有する第１ガス流出口1c1と小径の第
２ガス流出口1c2とで構成し、該第１ガス流出口1c1の壁
面に多数の透孔12aを有する板状体12を第８図及び第９
図のように筒状７に湾曲させて成る整流部材11を装着し
た。
らに前記ガス流出口1cを大径の開閉弁10を有する第１ガ
ス流出口1c1と小径の第２ガス流出口1c2とで構成し、該
第１ガス流出口1c1にガスの一部を該第２ガス流出口1c2
に向ける整流部材11を設けるもので、具体的には、ガス
流出口1cを、前記比例制御弁１の弁体1fの近傍で且つガ
スの流れに対して交叉する方向の大径の電磁式開閉弁か
ら成る開閉弁10を有する第１ガス流出口1c1と小径の第
２ガス流出口1c2とで構成し、該第１ガス流出口1c1の壁
面に多数の透孔12aを有する板状体12を第８図及び第９
図のように筒状７に湾曲させて成る整流部材11を装着し
た。
かくするときは、弁筐１内の弁体1fが第１ガス流出口1c
1に対向する側に傾いて開いているため、第２ガス流出
口1c2側にガスが行きにくい場合であっても、整流部材1
1により第１ガス流出口1c1に向うガスの一部を第２ガス
流出口1c2に向かわせることができ、これにより第２ガ
ス流出口1c2を通過するガスの流れを良くすることがで
き、両ガス流出口1c1、1c2に連なるガスバーナ３の最大
インプットをバラツかせず常に一定の値に安定させるこ
とができる。
1に対向する側に傾いて開いているため、第２ガス流出
口1c2側にガスが行きにくい場合であっても、整流部材1
1により第１ガス流出口1c1に向うガスの一部を第２ガス
流出口1c2に向かわせることができ、これにより第２ガ
ス流出口1c2を通過するガスの流れを良くすることがで
き、両ガス流出口1c1、1c2に連なるガスバーナ３の最大
インプットをバラツかせず常に一定の値に安定させるこ
とができる。
尚、上記した実施例では、第１ガス流出口1c1と第２ガ
ス流出口1c2とにガス量を絞るオリフィス13とオリフィ
ス14とを設けた。
ス流出口1c2とにガス量を絞るオリフィス13とオリフィ
ス14とを設けた。
（考案の効果） このように本考案によるときは、ガス流出口を開閉弁を
有する大径の第１ガス流出口と小径の第２ガス流出口と
で構成し、該第１ガス流出口にガスの一部を該第２ガス
流出口に向かわせる整流部材を設けたので、比例制御弁
の弁体が第１ガス流出口側に傾いて開いている場合であ
っても第２ガス流出口を通過するガスの流れを良好にす
ることができ、例えば両ガス流出口に連なるガスバーナ
の最大インプットを常に一定の所望の値に維持すること
ができると共に、ガス燃焼器のコンパクト化及び高密度
化の要請にも応じることができる効果を有する。
有する大径の第１ガス流出口と小径の第２ガス流出口と
で構成し、該第１ガス流出口にガスの一部を該第２ガス
流出口に向かわせる整流部材を設けたので、比例制御弁
の弁体が第１ガス流出口側に傾いて開いている場合であ
っても第２ガス流出口を通過するガスの流れを良好にす
ることができ、例えば両ガス流出口に連なるガスバーナ
の最大インプットを常に一定の所望の値に維持すること
ができると共に、ガス燃焼器のコンパクト化及び高密度
化の要請にも応じることができる効果を有する。
第１図は本考案の実施の１例に示す正面図、第２図はそ
の截断側面図、第３図はその裏面図、第４図は第１図の
IV−IV線断面図、第５図は第１図の電磁式比例制御弁と
電磁式開閉弁を取外した状態の平面図、第６図は第５図
のVI−VI線断面図、第７図は本考案の電磁式比例制御弁
装置を給湯器に適用した場合の実施の１例を示す説明
図、第８図は本考案の流路抵抗部材の実施の１例を示す
側面図、第９図はその正面図である。 １…電磁式比例制御弁 1a…弁筐 1b…ガス流入口 1c…ガス流出口 1c1…第１ガス流出口 1c2…第２ガス流出口 1f…弁体 10…開閉弁 11…整流部材
の截断側面図、第３図はその裏面図、第４図は第１図の
IV−IV線断面図、第５図は第１図の電磁式比例制御弁と
電磁式開閉弁を取外した状態の平面図、第６図は第５図
のVI−VI線断面図、第７図は本考案の電磁式比例制御弁
装置を給湯器に適用した場合の実施の１例を示す説明
図、第８図は本考案の流路抵抗部材の実施の１例を示す
側面図、第９図はその正面図である。 １…電磁式比例制御弁 1a…弁筐 1b…ガス流入口 1c…ガス流出口 1c1…第１ガス流出口 1c2…第２ガス流出口 1f…弁体 10…開閉弁 11…整流部材
Claims (1)
- 【請求項１】弁筐内に、その一側のガス流入口と他側の
ガス流出口とを連通するガス通路のガス通過断面積を電
磁石の通電電流の大きさに応じて比例的に制御する比例
制御弁の弁体を備えるものにおいて、該ガス流出口を大
径の開閉弁を有する第１ガス流出口と小径の第２ガス流
出口とで構成し、該第１ガス流出口にガスの一部を該第
２ガス流出口に向ける整流部材を設けたことを特徴とす
る電磁式比例制御弁装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2843789U JPH0624620Y2 (ja) | 1989-03-15 | 1989-03-15 | 電磁式比例制御弁装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2843789U JPH0624620Y2 (ja) | 1989-03-15 | 1989-03-15 | 電磁式比例制御弁装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02119577U JPH02119577U (ja) | 1990-09-26 |
| JPH0624620Y2 true JPH0624620Y2 (ja) | 1994-06-29 |
Family
ID=31251801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2843789U Expired - Lifetime JPH0624620Y2 (ja) | 1989-03-15 | 1989-03-15 | 電磁式比例制御弁装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0624620Y2 (ja) |
-
1989
- 1989-03-15 JP JP2843789U patent/JPH0624620Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02119577U (ja) | 1990-09-26 |
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