JPH06239830A - 光学活性ジオ−ル類、その中間体およびそれぞれの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】一般式〔Ｉ〕（化１） 【化１】 （式中、Ａｒはフェニレン、ナフチレン、ビフェニレ
ン、ジフェニルスルフィドまたはジフェニルエ−テル基
を表わす。）で示される光学活性ジオ−ル類および一般
式〔II〕（化２） 【化２】 （式中、Ｒは炭素数１〜６の直鎖または分岐のアルキル
基を表わし、Ａｒはフェニレン、ナフチレン、ビフェニ
レン、ジフェニルスルフィドまたはジフェニルエ−テル
基を表わす。）で示されるラセミのジアシル誘導体に加
水分解酵素を作用せしめることを特徴とする該光学活性
ジオ−ル類の製造方法。 【効果】本発明の光学活性ジオ−ル類〔１〕は、カルバ
ペネム系抗生物質の骨格を製造するためのより効率的な
中間体となり得る。また、該光学活性ジオ−ル類〔Ｉ〕
は、ジ−（３−アシルオキシブチル）フェニルスルフィ
ド誘導体に、加水分解酵素を作用させることにより、容
易に製造し得るので工業的にも有利である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カルバペネム系抗生物
質などを製造するための中間体となり得る一般式〔Ｉ〕
（化７）

【化７】 （式中Ａｒはフェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、
ジフェニルスルフィドまたはジフェニルエ−テル基を表
わす。）で示される光学活性ジオ−ル類に関する。

【０００２】

【従来の技術、発明が解決しようとする課題】これまで
に、光学活性な1-フェニルチオ-3- ヒドロキシブタン、
ラセミの1-フェニルチオ-3- アシルオキシブタン等はカ
ルバペネム系抗生物質の骨格製造用中間体として知られ
ており、前者の化合物は後者の化合物に加水分解酵素を
作用させて製造することも知られている。

【０００３】本発明者らは、3-アシルオキシブタン誘導
体について、これを種々製造し検討を重ねた結果、ジ−
（３−アシルオキシブチルチオ）アリ−ル誘導体（ジア
シル誘導体）が、加水分解酵素を作用させることによ
り、意外にも２個の不斉中心を有する光学活性ジオール
を与えることを見出すとともに、該光学活性ジオール
は、カルバペネム系抗生物質の骨格を製造するためのよ
り効率的な中間体となり得ることを見出し、本発明を完
成した。

【０００４】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式〔Ｉ〕（化８）

【化８】 （式中、Ａｒはフェニレン、ナフチレン、ビフェニレ
ン、ジフェニルスルフィドまたはジフェニルエ−テル基
を表わす。）で示される光学活性ジオ−ル類、その中間
体及びそれぞれの製造方法を提供するものである。

【０００５】以下、本発明について説明する。本発明に
おいて前記、一般式〔Ｉ〕で示される光学活性ジオ−ル
のＡｒとしては、例えば、フェニレン、ナフチレン、ビ
フェニレン、ジフェニルスルフィドまたはジフェニルエ
−テル基などのアリール基が挙げられる。より具体的な
化合物としては、例えば、１，３−ジ−（（Ｒ）−３−
ヒドロキシブチルチオ）ベンゼン、２，６−ジ−
（（Ｒ）−３−ヒドロキシブチルチオ）ナフタレン、
４，４’−ジ−（（Ｒ）−３−ヒドロキシブチルチオ）
ビフェニル、４，４’−ジ−（（Ｒ）−３−ヒドロキシ
ブチルチオ）フェニルスルフィド、４，４’−ジ−
（（Ｒ）−３−ヒドロキシブチルチオ）フェニルエ−テ
ルなどが挙げられる。

【０００６】光学活性ジオ−ル〔Ｉ〕は、一般式〔II〕
（化９）

【化９】 （式中、Ｒは炭素数１〜６の直鎖または分岐のアルキル
基を表わし、Ａｒはフェニレン、ナフチレン、ビフェニ
レン、ジフェニルスルフィドまたはジフェニルエ−テル
基を表わす。）で示されるラセミのジアシル誘導体に加
水分解酵素を作用せしめることにより、容易に製造し得
る。

【０００７】ラセミのジアシル誘導体〔II〕におけるＲ
としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル基
などの炭素数１〜６の直鎖状または分岐状アルキル基な
どが挙げられ、Ａｒは例えば、光学活性ジオール〔Ｉ〕
と同じアリール基が挙げられる。ラセミのジアシル誘導
体〔II〕の具体的化合物としては、１，３−ジ−（３−
アセトキシブチルチオ）ベンゼン、２，６−ジ−（３−
プロピオニルオキシブチルチオ）ナフタレン、４，４’
−ジ−（３−プロピオニルオキシブチルチオ）ビフェニ
ル、４，４’−ジ−（３−アセトキシブチルチオ）フェ
ニルスルフィド、４，４’−ジ−（３−プロピオニルオ
キシブチルチオ）フェニルエ−テルなどが挙げられる。

【０００８】またラセミのジアシル誘導体〔II〕を光学
活性ジオ−ル〔Ｉ〕へ変換するとき、用いられる加水分
解酵素としてはリパ−ゼを含む広義のエステラ−ゼを利
用することが可能で、好ましくはリパ−ゼが用いられ
る。用いられるリパ−ゼは、その由来には特に制限はな
いが、微生物由来のリパ−ゼが安価であり大量に入手す
ることが容易であるので利用しやすい。リパ−ゼを保有
する微生物としては、例えば、エンテロバクタ−属、ア
ルスロバクタ−属、ブレビバクテリウム属、シュ−ドモ
ナス属、アルカリゲネス属、バシルス属、クロモバクテ
リウム属、ミクロバクテリウム属、コリネバクテリウム
属、ミクロコッカス属、ラクトバシルス属、トリコデル
マ属、キャンディダ属、サッカロマイセス属、ロドトル
ラ属、クリプトコッカス属、トルロプシス属、ピヒヤ
属、ペニシリウム属、アスペルギルス属、リゾプス属、
ムコ−ル属、オ−レオパシディウム属、アクチノムコ−
ル属、ノルカルディア属、ストレプトマイセス属、ハン
ゼヌラ属、アクロモバクタ−属などに属する微生物が挙
げられる。

【０００９】これらの微生物は菌体内にリパ−ゼを保有
しており、微生物菌体のまま反応に用いてもよいし、通
常の超音波破砕等の方法により粗酵素液として用いても
よいし、また通常の精製法に従って精製した精製酵素と
して使用してもよい。また、微生物由来のリパ−ゼの中
には市販されているものがあり、これらの市販酵素をそ
のまま、または簡単な精製操作を実施したのち使用して
もよい。

【００１０】加水分解反応は通常、０．０１Ｍ〜１Ｍ、
好ましくは０．０５Ｍ〜０．３Ｍの緩衝液中で行われ
る。酵素反応を行うときの緩衝液のｐＨはｐＨ５〜１
０、好ましくはｐＨ６〜８であり、このｐＨ範囲では酵
素は特に安定である。用いられる緩衝液の種類として
は、りん酸緩衝液、トリス−塩酸緩衝液などの上記のｐ
Ｈを保持でき、かつ酵素活性を阻害しないものであれば
特に制限はなく、広く一般的な緩衝液を利用することが
可能である。反応温度は０℃〜８０℃、好ましくは２０
℃〜５０℃であり、反応時間は５〜１００時間程度であ
るが、反応が遅い場合にはさらに長時間反応を続けるこ
ともできる。反応中、酵素と基質との接触を十分にして
反応を効率的に進行させるために攪拌することが望まし
く、攪拌速度は反応を効率的に進行せしめ、かつ酵素活
性に悪影響を及ぼさない範囲であれば特に制限はない。
また、反応の際に緩衝液にトルエン、クロロホルム、メ
チルイソブチルケトン、ジイソプロピルエ−テル等の有
機溶媒を酵素活性を阻害しない程度まで添加することも
可能であり、場合により加水分解反応を促進することが
できる。

【００１１】加水分解反応終了後は、反応液にメチルイ
ソブチルケトン、酢酸エチル、エチルエ−テル等の溶媒
を添加して生成物を抽出し、必要であれば変性したリパ
−ゼを濾過等の手段により除去した後、生成物を含む有
機層から溶媒を留去し、濃縮残渣をカラムクロマトグラ
フィ−などによって精製することにより、加水分解生成
物である光学活性ジオ−ル類〔Ｉ〕と、加水分解残であ
る光学活性ジアシル誘導体とを分離することができる。

【００１２】このようにして得た光学活性ジオ−ル類は
カルバペネム系抗生物質などを合成するときの中間体と
して有用であり、例えば、以下に示すようにして容易に
カルバペネム系抗生物質の骨格の製造に利用することが
できる。

【化１０】

【００１３】またラセミのジアシル誘導体〔II〕は以下
に示すような方法で製造することができる。即ち、一般
式〔Ｖ〕（化１１）

【化１１】 （式中Ｘはハロゲンまたはアルキルスルホニルオキシ基
またはアリ−ルスルホニルオキシ基を表わす。）で示さ
れるアルコ−ルに一般式〔VI〕（化１２）

【化１２】Ａｒ（ＳＨ）₂ 〔VI〕 （式中、Ａｒは前記と同じ意味を表わす。）で示される
ジチオール類を作用させることにより

【００１４】一般式〔III 〕（化１３）

【化１３】 （式中、Ａｒは前記と同じ意味を表わす。）で示される
ラセミのジオールを得、次いで該ジオールを、塩基の存
在下に一般式〔IV〕（化１４）

【化１４】Ｒ−ＣＯＯＨ 〔IV〕 （式中、Ｒは炭素数１〜６の直鎖または分岐のアルキル
基を表わす。）で示されるカルボン酸の酸ハライドまた
は酸無水物を作用させることによりラセミのジアシル誘
導体〔II〕を製造することができる。

【００１５】一般式〔Ｖ〕で示されるアルコ−ルのＸと
しては、例えば、クロル、ブロム、ヨ−ドなどのハロゲ
ンまたはメタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタン
スルホニルオキシなどのアルキルスルホニルオキシ基ま
たはｐ−トルエンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニ
ルオキシ、ナフタレンスルホニルオキシなどのアリ−ル
スルホニルオキシ基などが挙げられる。より具体的化合
物としては、例えば４−ヨ−ドブタン−２−オ−ル、４
−トリフルオロメタンスルホニルオキシブタン−２−オ
−ル、４−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）ブタン−
２−オ−ル等が挙げられる。

【００１６】またジチオール類〔VI〕のＡｒとしては、
例えば前記と同じアリール基等が挙げられる。具体的化
合物としては、例えば、１，３−ベンゼンジチオ−ル、
４，４’−ジ−（メルカプト）フェニルスルフィド等が
挙げられる。

【００１７】カルボン酸〔IV〕の酸ハライドまたは酸無
水物におけるＲとしては、前記と同じ炭素数１〜６の直
鎖状または分岐状アルキル基などがあげられる。具体的
化合物としては、例えば、塩化アセチル、臭化アセチ
ル、塩化プロピオニル、臭化プロピオニル等の酸ハライ
ド、無水酢酸、無水プロピオン酸等の酸無水物などが挙
げられる。

【００１８】アルコ−ル〔Ｖ〕とジチオール類〔VI〕と
を反応させるにあたっては、溶媒の存在下にジチオール
類〔VI〕に塩基を作用させた後、アルコ−ル〔Ｖ〕を加
えることにより通常実施される。かかる塩基としては、
例えば水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリ
ウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、
フェニルリチウム等があげられる。その使用量は、ジチ
オール類〔VI〕に対して通常２〜３モル倍である。また
溶媒としては、例えばトルエン、ベンゼン、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチルエ−テル、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド等の有機溶媒が挙げられる。その
使用量は、ジチオール類〔VI〕に対して通常５〜３０重
量倍である。塩基としてアルキルリチウムを用いた場合
は有機溶媒としてエ−テル系溶媒を用いるのが好まし
い。反応は室温で行っても加熱してもよく、２０〜７０
℃で反応させるのが通常である。生成したラセミのジオ
−ル〔III 〕はカラムクロマトグラフィー、結晶化等の
通常の精製手段により容易に精製できるが、未精製のま
ま次の反応に用いることもできる。

【００１９】またラセミのジオ−ル〔III 〕にカルボン
酸〔IV〕の酸ハライドまたは酸無水物を作用させるにあ
たっては、塩基の共存下に反応に不活性な有機溶媒下ま
たは無溶媒下で実施される。 カルボン酸〔IV〕の酸ハ
ライドまたは酸無水物の使用量は、ラセミのジオ−ル
〔III 〕に対して、通常２〜１０モル倍である。反応に
不活性な有機溶媒としては、例えば、トルエン、ベンゼ
ン等の炭化水素、クロロホルム、ジクロロメタン等のハ
ロゲン系炭化水素、テトラヒドロフラン、ジエチルエ−
テル等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、メチ
ルイソブチルケトン等のケトン類などが挙げられる。そ
の使用量は、ラセミのジオ−ル〔III 〕に対して、通常
５〜３０重量倍である。また反応に用いられる塩基とし
ては、好ましくは、例えば、ピリジン、トリエチルアミ
ン、イミダゾ−ル、ジメチルアミノピリジン、ピコリン
などが挙げられ、これらは混合して用いてもよい。その
使用量はラセミのジオ−ル〔III 〕に対して通常２〜２
０モル倍である。反応温度は通常、−３０℃〜１００℃
で、好ましくは−１０℃〜５０℃である。生成物である
ラセミのジアシル誘導体〔II〕はカラムクロマトグラフ
ィ−または結晶化などの通常の精製手段により容易に精
製することが可能である。

【００２０】

【発明の効果】本発明の光学活性ジオ−ル類〔Ｉ〕は、
カルバペネム系抗生物質の骨格を製造するためのより効
率的な中間体となり得る。また、該光学活性ジオ−ル類
〔Ｉ〕は、ジ−（３−アシルオキシブチル）フェニルス
ルフィド誘導体に、加水分解酵素を作用させることによ
り、容易に製造し得るので工業的にも有利である。

【００２１】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明する。本発明が実施例に限定されるものでないことは
言うまでもない。実施例中、光学活性化合物の光学純度
は高速液体クロマトグラフィ−を用いて求めた。分析条
件は以下に示すとおりである。 カラム；ダイセル製 キラルセルＯＤ 移動相；ヘキサン／イソプロパノ−ル＝９５／５ 移動相流速；１ｍｌ／ｍｉｎ． カラム温度；２５℃

【００２２】実施例１ ４，４’−ジ−（メルカプト）フェニルスルフィド
（３．０３ｇ、１２．１ｍｍｏｌ）を５０ｍｌのテトラ
ヒドロフランに溶解した後、５℃に冷却した。これに６
０％水素化ナトリウム（１．０６ｇ、２６．５ｍｍｏ
ｌ）を加えて３０分攪拌した後、４−（ｐ−トルエンス
ルホニルオキシ）ブタン−２−オ−ル（５．６４ｇ、２
３．１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を加え、７
５℃の油浴中で３時間攪拌した。反応液を冷却後、１５
０ｍｌのジクロロメタンで希釈し、１００ｍｌの水、１
００ｍｌの飽和食塩水で順次洗浄した。有機層に無水硫
酸マグネシウムを加えて乾燥させ、濾液を減圧濃縮して
得られた残渣シロップをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィ−（溶離液：トルエン／酢酸エチル＝３／１）にて
精製し、４，４’−ジ−（３−ヒドロキシブチルチオ）
フェニルスルフィドを４．３６ｇ得た。４，４’−ジ−
（メルカプト）フェニルスルフィドに対する収率は９
５．８％であった。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、２７０ＭＨ_Z ）δ（ｐｐｍ） １．２１（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．６Ｈ_Z ）、１．６６（２
Ｈ、ｂｒＳ） １．７３〜１．８６（４Ｈ、ｍ）、２．９３〜３．１２
（４Ｈ、ｍ） ３．８９〜４．０５（２Ｈ、ｍ）、７．１８〜７．３６
（８Ｈ、ｍ）

【００２３】実施例２ ４，４’−ジ−（３−ヒドロキシブチルチオ）フェニル
スルフィド（３．７０ｇ、９．３８ｍｍｏｌ）を１５ｍ
ｌのピリジンに溶解し、５ｍｌの無水酢酸を加えて２５
℃にて６時間攪拌した。反応液を減圧濃縮して得られた
残渣シロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィ−
（溶離液：トルエン／酢酸エチル＝２０／１）にて精製
し、４，４’−ジ−（３−アセトキシブチルチオ）フェ
ニルスルフィドを４．２２ｇ得た。４，４’−ジ−（３
−ヒドロキシブチルチオ）フェニルスルフィドに対する
収率は９４．０％であった。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、２７０ＭＨ_Z ）δ（ｐｐｍ） １．２３（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．２７Ｈ_Z ） １．７６〜１．９４（４Ｈ、ｍ）、２．０３（６Ｈ、
ｓ） ２．７８〜２．９８（４Ｈ、ｍ）、４．９５〜５．０７
（２Ｈ、ｍ） ７．１６〜７．２６（８Ｈ、ｍ）

【００２４】実施例３ ４，４’−ジ−（３−アセトキシブチルチオ）フェニル
スルフィド（３．５４ｇ、７．４０ｍｍｏｌ）に１００
ｍｌの０．１Ｍりん酸緩衝液（ｐＨ７．０）およびリパ
−ゼＰＳ（天野製薬製）（７０８ｍｇ）を加えて３０℃
にて２５時間激しく攪拌した。反応液に１００ｍｌの酢
酸エチルを加えて分液し、有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。塩を濾過し、濾液を減圧濃縮して得られ
た残渣シロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィ−
（溶離液：トルエン／酢酸エチル＝１０／１〜２／１）
にて精製し、４，４’−ジ−（（Ｒ）−３−ヒドロキシ
ブチルチオ）フェニルスルフィドを０．６７ｇおよび
４，４’−ジ−（（Ｓ）−３−アセトキシブチルチオ）
フェニルスルフィドを０．９０ｇ得た。４，４’−ジ−
（３−アセトキシブチルチオ）フェニルスルフィドに対
する収率はそれぞれ２３．０％、２５．４％であった。
４，４’−ジ−（（Ｒ）−３−ヒドロキシブチルチオ）
フェニルスルフィドの光学純度は９５．７％、融点は６
９〜７０℃であった。

【００２５】実施例４ １，３−ベンゼンジチオ−ル（２．００ｇ、１４．１ｍ
ｍｏｌ）を３０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解した
後、５℃に冷却した。これに６０％水素化ナトリウム
（１．２４ｇ、３１ｍｍｏｌ）を加えて３０分攪拌した
後、４−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）ブタン−２
−オ−ル（７．３０ｇ、２９．９ｍｍｏｌ）を溶解した
３０ｍｌのテトラヒドロフラン溶液を加え、７５℃の油
浴中で３時間攪拌した。反応液を冷却後１５０ｍｌのジ
クロロメタンで希釈し、１００ｍｌの水、１００ｍｌの
飽和食塩水で順次洗浄した。有機層に無水硫酸マグネシ
ウムを加えて乾燥させ、濾液を減圧濃縮して得られた残
渣シロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（溶
離液：トルエン／酢酸エチル＝３／１）にて精製し、
１，３−ジ−（３−ヒドロキシブチルチオ）ベンゼンを
３．６４ｇ得た。１，３−ベンゼンジチオ−ルに対する
収率は９０．３％であった。

【００２６】実施例５ １，３−ジ−（３−ヒドロキシブチルチオ）ベンゼンを
１．０３ｇを用いる以外は実施例２と全く同様にして
１，３−ジ−（３−アセトキシブチルチオ）ベンゼンを
１．０２ｇ得た。１，３−ジ−（３−ヒドロキシブチル
チオ）ベンゼンに対する収率は７６．７％であった。

【００２７】実施例６ １，３−ジ−（３−アセトキシブチルチオ）ベンゼン
（４．３５ｇ、１１．７ｍｍｏｌ）に１３０ｍｌの０．
１Ｍりん酸緩衝液（ｐＨ７．０）およびリパ−ゼＰＳ
（天野製薬製）（６５２ｍｇ）を加えて３０℃にて３０
時間激しく攪拌した。反応液に１００ｍｌの酢酸エチル
を加えて分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。塩を濾過し、濾液を減圧濃縮して得られた残渣シ
ロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（溶離
液：トルエン／酢酸エチル＝１０／１〜２／１）にて精
製し、１，３−ジ−（（Ｒ）−３−ヒドロキシブチルチ
オ）ベンゼンを０．５４ｇおよび１，３−ジ−（（Ｓ）
−３−アセトキシブチルチオ）ベンゼンを０．９９ｇ得
た。１，３−ジ−（３−ヒドロキシブチルチオ）ベンゼ
ンに対する収率はそれぞれ１６．２％、２２．７％であ
った。１，３−ジ−（（Ｒ）−３−ヒドロキシブチルチ
オ）ベンゼンおよび１，３−ジ−（（Ｓ）−３−アセト
キシブチルチオ）ベンゼンの光学純度はそれぞれ７３．
１％、９０．２％であった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 477/00

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式〔Ｉ〕（化１） 【化１】 （式中、Ａｒはフェニレン、ナフチレン、ビフェニレ
   ン、ジフェニルスルフィドまたはジフェニルエ−テル基
   を表わす。）で示される光学活性ジオ−ル類。
2. 【請求項２】一般式〔II〕（化２） 【化２】 （式中、Ｒは炭素数１〜６の直鎖または分岐のアルキル
   基を表わし、Ａｒはフェニレン、ナフチレン、ビフェニ
   レン、ジフェニルスルフィドまたはジフェニルエ−テル
   基を表わす。）で示されるラセミのジアシル誘導体に加
   水分解酵素を作用せしめることを特徴とする請求項１記
   載の光学活性ジオ−ル類の製造方法。
3. 【請求項３】請求項２記載の一般式〔II〕で示されるジ
   アシル誘導体。
4. 【請求項４】一般式〔III 〕（化３） 【化３】 （式中Ａｒはフェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、
   ジフェニルスルフィドまたはジフェニルエ−テル基を表
   わす。）で示されるラセミ体ジオ−ルに塩基の存在下、
   一般式〔IV〕（化４） 【化４】Ｒ−ＣＯＯＨ 〔IV〕 （式中、Ｒは炭素数１〜６の直鎖または分岐のアルキル
   基を表わす。）で示されるカルボン酸の酸ハライドまた
   は酸無水物を作用させることを特徴とする請求項４記載
   の一般式〔II〕で示されるジアシル誘導体の製造方法。
5. 【請求項５】請求項４記載の一般式〔III 〕で示される
   ラセミ体ジオ−ル類。
6. 【請求項６】一般式〔Ｖ〕（化５） 【化５】 （式中Ｘはハロゲンまたはアルキルスルホニルオキシ基
   またはアリ−ルスルホニルオキシ基を表わす。）で示さ
   れるアルコ−ルに一般式〔VI〕（化６） 【化６】Ａｒ（ＳＨ）₂ 〔VI〕 （式中Ａｒはフェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、
   ジフェニルスルフィドまたはジフェニルエ−テル基を表
   わす。）で示されるジチオール類を作用させることを特
   徴とする請求項４記載の一般式〔III 〕で示されるラセ
   ミ体ジオ−ル類の製造方法。
7. 【請求項７】請求項６記載の一般式〔Ｖ〕で示されるア
   ルコ−ルに一般式〔VI〕で示されるるジチオール類を作
   用させて請求項４記載の一般式〔III 〕で示されるラセ
   ミ体ジオ−ルを得、次いで該ラセミ体ジオ−ルに、塩基
   の存在下、一般式〔IV〕で示されるカルボン酸の酸ハラ
   イドまたは酸無水物を作用させて請求項２記載の一般式
   〔II〕で示されるジアシル誘導体を得、しかる後に該ジ
   アシル誘導体に加水分解酵素を作用せしめることを特徴
   とする請求項１記載の一般式〔Ｉ〕で示される光学活性
   ジオール類の製造法。
8. 【請求項８】加水分解酵素がエステラ−ゼまたはリパ−
   ゼである請求項２または請求項７記載の光学活性ジオ−
   ル類の製造法。