JPH06239603A - フツ化水素の精製方法 - Google Patents
フツ化水素の精製方法Info
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- JPH06239603A JPH06239603A JP6032072A JP3207294A JPH06239603A JP H06239603 A JPH06239603 A JP H06239603A JP 6032072 A JP6032072 A JP 6032072A JP 3207294 A JP3207294 A JP 3207294A JP H06239603 A JPH06239603 A JP H06239603A
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- C01B7/191—Hydrogen fluoride
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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- C01B11/24—Oxygen compounds of fluorine
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- Inorganic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は工業用無水フッ化水素の精製方法を
提供することを目的とする。 【構成】 本発明は二フッ化酸素による工業用無水フッ
化水素の精製方法に関する。
提供することを目的とする。 【構成】 本発明は二フッ化酸素による工業用無水フッ
化水素の精製方法に関する。
Description
【0001】本発明は無水工業用フッ化水素の精製方法
に関する。
に関する。
【0002】工業的に製造されるフッ化水素(CaF2
+H2SO4→2HF+CaSO4)は一般に出発物質
(通常螢石)に依存してある程度の不純物及び少量の水
を含む無水フッ化水素として生成される。
+H2SO4→2HF+CaSO4)は一般に出発物質
(通常螢石)に依存してある程度の不純物及び少量の水
を含む無水フッ化水素として生成される。
【0003】かくて「無水フッ化水素」なる用語は通常
の工業的プロセスにより得られ、フッ化水素1kg当り
5000mgより少ない含水量を有するフッ化水素を意
味するものと理解される。
の工業的プロセスにより得られ、フッ化水素1kg当り
5000mgより少ない含水量を有するフッ化水素を意
味するものと理解される。
【0004】不純物は実質的にヒ素、リン、ホウ素、ケ
イ素及び硫黄元素の化合物である。これらの化合物は多
くの用途において問題を生じ、従って望ましいものでは
ない。
イ素及び硫黄元素の化合物である。これらの化合物は多
くの用途において問題を生じ、従って望ましいものでは
ない。
【0005】フッ化水素水溶液を電子部品の製造に用い
る場合、ヒ素、リン、ケイ素及びホウ素元素の化合物が
殊に問題を生じさせる。
る場合、ヒ素、リン、ケイ素及びホウ素元素の化合物が
殊に問題を生じさせる。
【0006】フッ化水素及び触媒を例えばクロロフルオ
ロカーボンの代替物質であるフルオロカーボンの製造に
用いる場合、殊に問題を生じるものは硫黄の化合物であ
る。米国特許第3,166,379号において、ヒ素、
リン、及び硫黄元素の化合物は塩素、臭素またはヨウ素
の添加に続いてのフッ化水素の蒸留により除去される。
ロカーボンの代替物質であるフルオロカーボンの製造に
用いる場合、殊に問題を生じるものは硫黄の化合物であ
る。米国特許第3,166,379号において、ヒ素、
リン、及び硫黄元素の化合物は塩素、臭素またはヨウ素
の添加に続いてのフッ化水素の蒸留により除去される。
【0007】米国特許第4,668,497号におい
て、ホウ素、ケイ素、リン、硫黄、塩素及びヒ素元素の
化合物は元素状フッ素の添加に続いてのフッ化水素の蒸
留により除去される。
て、ホウ素、ケイ素、リン、硫黄、塩素及びヒ素元素の
化合物は元素状フッ素の添加に続いてのフッ化水素の蒸
留により除去される。
【0008】米国特許第4,032,621号におい
て、ヒ素及び硫黄元素の化合物は過マンガン酸塩または
重クロム酸塩の添加に続いてのフッ化水素の蒸留により
除去される。
て、ヒ素及び硫黄元素の化合物は過マンガン酸塩または
重クロム酸塩の添加に続いてのフッ化水素の蒸留により
除去される。
【0009】上記の方法の欠点はフッ素以外の酸化剤の
工業用フッ化水素への添加により従来含まれていなかっ
た不純物がフッ化水素に加えられることにある。従っ
て、酸化に続いて酸化剤及び酸化された不純物を分離す
るためにフッ化水素を蒸留しなければならない。
工業用フッ化水素への添加により従来含まれていなかっ
た不純物がフッ化水素に加えられることにある。従っ
て、酸化に続いて酸化剤及び酸化された不純物を分離す
るためにフッ化水素を蒸留しなければならない。
【0010】フッ素を用いる欠点はこのものが取扱いに
問題があることにある。
問題があることにある。
【0011】加えられる酸化剤に依存して、過剰の酸化
剤を分解するために蒸留前に更に還元剤を加えなければ
ならず(米国特許第4,032,621号)、かくて更
に不純物がフッ化水素中に導入される。
剤を分解するために蒸留前に更に還元剤を加えなければ
ならず(米国特許第4,032,621号)、かくて更
に不純物がフッ化水素中に導入される。
【0012】ドイツ国特許出願公開第4,031,96
7号及びWO91/13024号において、フッ化水素
がニッケルまたは炭素電極上での電気分解により精製さ
れる。これらの方法の欠点はフッ化水素電解において炭
素電極がその短かい寿命のために殊に適していないこと
が証明されたことにある。ニッケル電極を用いる欠点は
厳しい電極腐蝕が生じることにある。これによりニッケ
ル化合物が処理されるフッ化水素中に不純物として導入
される。
7号及びWO91/13024号において、フッ化水素
がニッケルまたは炭素電極上での電気分解により精製さ
れる。これらの方法の欠点はフッ化水素電解において炭
素電極がその短かい寿命のために殊に適していないこと
が証明されたことにある。ニッケル電極を用いる欠点は
厳しい電極腐蝕が生じることにある。これによりニッケ
ル化合物が処理されるフッ化水素中に不純物として導入
される。
【0013】従って本発明の目的は上記の欠点を有しな
い無水工業用フッ化水素の精製方法を提供することであ
る。
い無水工業用フッ化水素の精製方法を提供することであ
る。
【0014】驚くべきことに、本発明による方法はこの
目的を達成することができた。
目的を達成することができた。
【0015】本発明は二フッ化酸素をフッ化水素に加え
ることを特徴とする工業用無水フッ化水素の精製方法を
提供する。
ることを特徴とする工業用無水フッ化水素の精製方法を
提供する。
【0016】本発明による方法は二フッ化酸素を精製す
る工業用無水フッ化水素中に直接導入するように行い得
る。
る工業用無水フッ化水素中に直接導入するように行い得
る。
【0017】同様に、二フッ化酸素を最初にニッケル電
極でのフッ化水素水溶液からの電気分解により製造し、
次に精製するフッ化水素中に導入することができる[二
フッ化酸素の電解製造に対してはHASS、WOLTE
R、Z.anong.allg.Chem.463、9
1〜95(1980)参照]。二フッ化酸素は例えば分
割されたセル中で電解製造し得る。二フッ化酸素をニッ
ケル電極を用いてフッ化水素水溶液から製造する場合、
極めてわずかの電極腐蝕が観察される。
極でのフッ化水素水溶液からの電気分解により製造し、
次に精製するフッ化水素中に導入することができる[二
フッ化酸素の電解製造に対してはHASS、WOLTE
R、Z.anong.allg.Chem.463、9
1〜95(1980)参照]。二フッ化酸素は例えば分
割されたセル中で電解製造し得る。二フッ化酸素をニッ
ケル電極を用いてフッ化水素水溶液から製造する場合、
極めてわずかの電極腐蝕が観察される。
【0018】二フッ化酸素は未希釈でか、または不活性
ガス例えば窒素もしくはフッ化水素ガスとの混合物のい
ずれかで精製するフッ化水素中に導入し得る。
ガス例えば窒素もしくはフッ化水素ガスとの混合物のい
ずれかで精製するフッ化水素中に導入し得る。
【0019】また不活性液体中に溶解された二フッ化酸
素を精製するフッ化水素に加え得る。フツ化水素が使用
し得る不活性液体の例である。
素を精製するフッ化水素に加え得る。フツ化水素が使用
し得る不活性液体の例である。
【0020】本発明による方法を行う際に二フッ化酸素
を精製するフッ化水素を十分混合することが有利であ
る。このことは例えば二フッ化酸素をフリット(fri
t)上で精製するフッ化水素中に導入するか、またはこ
のものを精製するフッ化水素中で直接生成させることに
より達成し得る。ガスを液体中に完全に分配させ得るミ
キサーも同様に使用し得る。
を精製するフッ化水素を十分混合することが有利であ
る。このことは例えば二フッ化酸素をフリット(fri
t)上で精製するフッ化水素中に導入するか、またはこ
のものを精製するフッ化水素中で直接生成させることに
より達成し得る。ガスを液体中に完全に分配させ得るミ
キサーも同様に使用し得る。
【0021】また精製するフッ化水素をガス相中にて2
0〜200℃の温度及び大気圧で二フッ化酸素と接触さ
せ得る。また、精製するフッ化水素はガス相中にて1気
圧以下の圧力で二フッ化酸素と接触させ得る。
0〜200℃の温度及び大気圧で二フッ化酸素と接触さ
せ得る。また、精製するフッ化水素はガス相中にて1気
圧以下の圧力で二フッ化酸素と接触させ得る。
【0022】同様に本発明による方法を圧力容器中にて
昇圧下(即ち、1気圧以上の圧力)で行うこともでき
る。
昇圧下(即ち、1気圧以上の圧力)で行うこともでき
る。
【0023】本発明による方法の利点は二フッ化酸素が
精製するフッ化水素中に追加の不純物を導入しないこと
にある。蒸留を必要としない。
精製するフッ化水素中に追加の不純物を導入しないこと
にある。蒸留を必要としない。
【0024】更に本発明による方法の利点はフッ素より
は活性が少ないが二フッ化酸素が実質的に取扱いがより
簡単であることにある。
は活性が少ないが二フッ化酸素が実質的に取扱いがより
簡単であることにある。
【0025】本発明による方法を次の実施例を用いてよ
り詳細に説明する。
り詳細に説明する。
【0026】
【実施例】実験に際し、フッ化水素水溶液からニッケル
電極で電気分解して二フッ化酸素を製造した。
電極で電気分解して二フッ化酸素を製造した。
【0027】この目的のために、1,500mlの容量
を有する電解セルに98%濃度のフッ化水素酸を充てん
した。約5Vの電圧及び1Aの電流をかけることによ
り、次にニッケル電極で発生が生じた。生じた二フッ化
酸素を30l/時間の窒素気流中で精製するフッ化水素
中に導入した。
を有する電解セルに98%濃度のフッ化水素酸を充てん
した。約5Vの電圧及び1Aの電流をかけることによ
り、次にニッケル電極で発生が生じた。生じた二フッ化
酸素を30l/時間の窒素気流中で精製するフッ化水素
中に導入した。
【0028】実施例1(本発明による方法) 精製するフッ化水素は22ppmのヒ素化合物の状態の
濃度のヒ素を含んでいた。このフッ化水素650mlを
容器中に充てんした。窒素及び二フッ化酸素のガス気流
を27時間にわたって精製するフッ化水素中に導入し
た。ガス気流を上記のように調製した。
濃度のヒ素を含んでいた。このフッ化水素650mlを
容器中に充てんした。窒素及び二フッ化酸素のガス気流
を27時間にわたって精製するフッ化水素中に導入し
た。ガス気流を上記のように調製した。
【0029】試験の終了時のヒ素含有量は約4.95p
pmであった。ヒ素の77.5%が除去された。
pmであった。ヒ素の77.5%が除去された。
【0030】実施例2(酸素及びオゾンの影響) フッ化水素水溶液を電気分解した場合、酸素及びオゾン
が二フッ化酸素に加えて陰極で生じた。工業用無水フッ
化水素の精製に対する酸素及びオゾンの影響を検討する
ため、酸素及びオゾンを精製するフッ化水素中に吹き込
んだ。フッ化水素1kg当り35mgのヒ素含有量を有
するこのフッ化水素650mlを反応容器中に入れ、そ
してオゾン15g及び酸素400gの混合物を3時間に
わたって吹き込んだ。ヒ素含有量は変わらなかった。
が二フッ化酸素に加えて陰極で生じた。工業用無水フッ
化水素の精製に対する酸素及びオゾンの影響を検討する
ため、酸素及びオゾンを精製するフッ化水素中に吹き込
んだ。フッ化水素1kg当り35mgのヒ素含有量を有
するこのフッ化水素650mlを反応容器中に入れ、そ
してオゾン15g及び酸素400gの混合物を3時間に
わたって吹き込んだ。ヒ素含有量は変わらなかった。
【0031】本発明の主なる特徴及び態様は以下のとお
りである。
りである。
【0032】1.二フッ化酸素をフツ化水素に加えるこ
とからなる、工業用無水フッ化水素の精製方法。
とからなる、工業用無水フッ化水素の精製方法。
【0033】2.二フッ化酸素を未希釈でか、または不
活性ガスもしくは不活性液体と混合して加える、上記1
に記載の方法。
活性ガスもしくは不活性液体と混合して加える、上記1
に記載の方法。
【0034】3.該フッ化水素及び該二フッ化酸素が共
にガスであり、そして精製をガス相にて20乃至200
℃間の温度及び大気圧で行う、上記1に記載の方法。
にガスであり、そして精製をガス相にて20乃至200
℃間の温度及び大気圧で行う、上記1に記載の方法。
【0035】4.精製を1気圧以上の圧力で行う、上記
1に記載の方法。
1に記載の方法。
【0036】5.精製を1気圧以上の圧力で行う、上記
2に記載の方法。
2に記載の方法。
【0037】6.精製を1気圧以下の圧力で行う、上記
1に記載の方法。
1に記載の方法。
【0038】7.精製を1気圧以下の圧力で行う、上記
2に記載の方法。
2に記載の方法。
【0039】8.該不活性ガスが窒素、またはフッ化水
素ガスである、上記2に記載の方法。
素ガスである、上記2に記載の方法。
【0040】9.該不活性液体がフッ化水素である、上
記2に記載の方法。
記2に記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハンス−デイーター・ブロツク ドイツ51381レーフエルクーゼン・ビーゼ ンバツハ49 (72)発明者 ハンス−ハインリヒ・モレツト ドイツ51375レーフエルクーゼン・ズユル ダーシユトラーセ50
Claims (1)
- 【請求項1】 二フッ化酸素をフッ化水素に加えること
からなる、工業用無水フッ化水素の精製方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4303837.9 | 1993-02-10 | ||
DE4303837A DE4303837A1 (de) | 1993-02-10 | 1993-02-10 | Verfahren zur Reinigung von Fluorwasserstoff |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06239603A true JPH06239603A (ja) | 1994-08-30 |
Family
ID=6480050
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6032072A Pending JPH06239603A (ja) | 1993-02-10 | 1994-02-04 | フツ化水素の精製方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5411726A (ja) |
EP (1) | EP0610748B1 (ja) |
JP (1) | JPH06239603A (ja) |
CA (1) | CA2115120A1 (ja) |
DE (2) | DE4303837A1 (ja) |
ES (1) | ES2083877T3 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006040830A1 (de) | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Aufarbeitung einer Ätzmischung, die bei der Herstellung von hochreinem Silicium anfällt |
CN104030249B (zh) * | 2014-06-29 | 2016-03-30 | 陈昆 | 氟化氢的纯化方法 |
CN110656344A (zh) * | 2019-11-05 | 2020-01-07 | 贵州理工学院 | 一种无水氟化氢除水的装置和方法 |
KR102310763B1 (ko) * | 2021-06-03 | 2021-10-08 | 램테크놀러지 주식회사 | 초고순도 불화수소의 정제방법 및 장치 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE632837A (ja) * | 1962-06-04 | 1963-10-21 | ||
US3276981A (en) * | 1963-11-05 | 1966-10-04 | Standard Oil Co | Electrolytic production of oxygen difluoride |
US3414495A (en) * | 1966-02-24 | 1968-12-03 | Standard Oil Co | Method of electrolytic production of oxygen difluoride |
DE2026917A1 (en) * | 1970-06-02 | 1971-12-16 | Kali Chemie Ag | Oxygen difluoride prodn - continuously from fluorine - and dilute alkali hydroxide, used as oxidant in rocketry |
US4032621A (en) * | 1975-11-24 | 1977-06-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of hydrogen fluoride with low levels of arsenic, iron and sulfite |
SU979271A1 (ru) * | 1980-07-08 | 1982-12-07 | Предприятие П/Я Г-4904 | Способ очистки плавиковой кислоты |
US4668497A (en) * | 1984-12-25 | 1987-05-26 | Hashimoto Chemical Industries Co., Ltd. | Process for purifying hydrogen fluoride |
DD254372A1 (de) * | 1986-12-09 | 1988-02-24 | Nuenchritz Chemie | Verfahren zur gewinnung hochreiner fluorwasserstoffsaeure |
US5100639A (en) * | 1990-03-02 | 1992-03-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for purifying hydrogen fluoride |
ES2077842T3 (es) * | 1990-03-02 | 1995-12-01 | Du Pont | Procedimiento para purificar fluoruro de hidrogeno. |
DE4031967C1 (ja) * | 1990-10-09 | 1992-05-27 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen, De | |
DE4135917C2 (de) * | 1991-10-31 | 1998-07-16 | Solvay Fluor & Derivate | Verfahren zur Abtrennung von organischen Kohlenstoffverbindungen aus Fluorwasserstoff |
DE4135918A1 (de) * | 1991-10-31 | 1993-05-06 | Solvay Fluor Und Derivate Gmbh, 3000 Hannover, De | Herstellung von hochreinem fluorwasserstoff |
-
1993
- 1993-02-10 DE DE4303837A patent/DE4303837A1/de not_active Ceased
-
1994
- 1994-01-28 EP EP94101269A patent/EP0610748B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-01-28 DE DE59400064T patent/DE59400064D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-01-28 ES ES94101269T patent/ES2083877T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-01-31 US US08/188,683 patent/US5411726A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-02-04 JP JP6032072A patent/JPH06239603A/ja active Pending
- 1994-02-07 CA CA002115120A patent/CA2115120A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2115120A1 (en) | 1994-08-11 |
EP0610748B1 (de) | 1995-12-20 |
DE4303837A1 (de) | 1994-08-11 |
EP0610748A1 (de) | 1994-08-17 |
ES2083877T3 (es) | 1996-04-16 |
US5411726A (en) | 1995-05-02 |
DE59400064D1 (de) | 1996-02-01 |
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