JP2002059175A - フッ化水素からヒ素化合物を除去する方法 - Google Patents
フッ化水素からヒ素化合物を除去する方法Info
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- Processing Of Solid Wastes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ヒ素含有フッ化水素の蒸留で得られる蒸留の
残液からヒ素化合物を除去する新規な方法を提供するこ
と。 【解決手段】 （ａ）蒸留の残液を、残液の温度が４０
から６０℃になるまでフッ化水素の蒸発により濃縮し、
そして（ｂ）残分を水酸化カルシウム、酸化カルシウム
又はそれらの混合物と反応させること、を含むヒ素含有
フッ化水素の蒸留において得られる蒸留の残液からヒ素
化合物を取除く。
残液からヒ素化合物を除去する新規な方法を提供するこ
と。 【解決手段】 （ａ）蒸留の残液を、残液の温度が４０
から６０℃になるまでフッ化水素の蒸発により濃縮し、
そして（ｂ）残分を水酸化カルシウム、酸化カルシウム
又はそれらの混合物と反応させること、を含むヒ素含有
フッ化水素の蒸留において得られる蒸留の残液からヒ素
化合物を取除く。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、蒸留によるフッ化
水素の精製からの蒸留の残液（ｄｉｓｔｉｌｌａｔｉｏ
ｎ ｂｏｔｔｏｍｓ）からヒ素化合物を取除くための方
法に関する。
水素の精製からの蒸留の残液（ｄｉｓｔｉｌｌａｔｉｏ
ｎ ｂｏｔｔｏｍｓ）からヒ素化合物を取除くための方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フッ化水素の精製は通常、フッ化水素中
に酸化状態（III）で存在するヒ素を酸化剤を用いて酸
化する方法により行われる。この方法はヒ素を、フッ化
水素が蒸留により分離できる相対的に不揮発性のヒ素
（V）化合物に転換（ｃｏｎｖｅｒｔ）する。
に酸化状態（III）で存在するヒ素を酸化剤を用いて酸
化する方法により行われる。この方法はヒ素を、フッ化
水素が蒸留により分離できる相対的に不揮発性のヒ素
（V）化合物に転換（ｃｏｎｖｅｒｔ）する。
【０００３】多くの化合物がこの目的のための酸化剤と
して適当である。例えば、元素のフッ素（ｅｌｅｍｅｎ
ｔａｌ ｆｌｕｏｒｉｎｅ）（米国特許（ＵＳ）第４，
６６８，４９７号を参照されたい）、二フッ化酸素（欧
州特許出願（ＥＰ−Ａ）第６１０ ７４８号を参照され
たい）、又は電気化学的酸化（日本国特許（ＪＰ）第４
６−１５７６８号を参照されたい）である。酸化がトッ
プ（ｔｏｐ）で生成物として取り出される低量のヒ素を
含むフッ化水素（ｌｏｗ−ａｒｓｅｎｉｃ ｈｙｄｒｏ
ｇｅｎ ｆｌｕｏｒｉｄｅ）及び残液生成物（ｂｏｔｔ
ｏｍ ｐｒｏｄｕｃｔ）としてヒ素リッチの（ｒｉｃ
ｈ）残液を与えた後に、蒸留が行われる。
して適当である。例えば、元素のフッ素（ｅｌｅｍｅｎ
ｔａｌ ｆｌｕｏｒｉｎｅ）（米国特許（ＵＳ）第４，
６６８，４９７号を参照されたい）、二フッ化酸素（欧
州特許出願（ＥＰ−Ａ）第６１０ ７４８号を参照され
たい）、又は電気化学的酸化（日本国特許（ＪＰ）第４
６−１５７６８号を参照されたい）である。酸化がトッ
プ（ｔｏｐ）で生成物として取り出される低量のヒ素を
含むフッ化水素（ｌｏｗ−ａｒｓｅｎｉｃ ｈｙｄｒｏ
ｇｅｎ ｆｌｕｏｒｉｄｅ）及び残液生成物（ｂｏｔｔ
ｏｍ ｐｒｏｄｕｃｔ）としてヒ素リッチの（ｒｉｃ
ｈ）残液を与えた後に、蒸留が行われる。
【０００４】従来の技術（欧州特許出願（ＥＰ−Ａ）第
６６０ ８０３号を参照されたい）による蒸留の残液か
らのヒ素の除去は、７５から９５重量％の水含量を有す
る残液の酸化の後で、それらにさらなる蒸留を行うこと
により達成できた。その後残る残液は、特定のアルカリ
金属及びアルカリ土類金属化合物の添加によりｐＨを１
０より大きくされ、同時にカルシウム又はマグネシウム
のヘキサフルオヒ素酸塩（ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏａｒｓ
ｅｎａｔｅｓ）を生成する。続いての加熱はヘキサフル
オロヒ素酸塩を加水分解し、対応するヒ酸塩（ａｒｓｅ
ｎａｔｅｓ）を生成する。これらのヒ酸塩は少ししか可
溶性でない。
６６０ ８０３号を参照されたい）による蒸留の残液か
らのヒ素の除去は、７５から９５重量％の水含量を有す
る残液の酸化の後で、それらにさらなる蒸留を行うこと
により達成できた。その後残る残液は、特定のアルカリ
金属及びアルカリ土類金属化合物の添加によりｐＨを１
０より大きくされ、同時にカルシウム又はマグネシウム
のヘキサフルオヒ素酸塩（ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏａｒｓ
ｅｎａｔｅｓ）を生成する。続いての加熱はヘキサフル
オロヒ素酸塩を加水分解し、対応するヒ酸塩（ａｒｓｅ
ｎａｔｅｓ）を生成する。これらのヒ酸塩は少ししか可
溶性でない。
【０００５】ヒ素を除去する他の可能な方法は、米国特
許（ＵＳ）第５，０８９，２４１号によれば、存在する
ヘキサフルオロヒ素酸（ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏａｒｓｅ
ｎｉｃ ａｃｉｄ）の直接の加水分解を行うことであ
る。この目的のためにはヘキサフルオロヒ素酸を含む水
性溶液は、ヒ酸へ加水分解することを促進させる（ｃａ
ｔａｌｙｓｅ）ために、硫酸、ヒ酸、過塩素酸、又はそ
れらの混合物で処理される。フッ化水素が、続いてこの
混合物から蒸留される。
許（ＵＳ）第５，０８９，２４１号によれば、存在する
ヘキサフルオロヒ素酸（ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏａｒｓｅ
ｎｉｃ ａｃｉｄ）の直接の加水分解を行うことであ
る。この目的のためにはヘキサフルオロヒ素酸を含む水
性溶液は、ヒ酸へ加水分解することを促進させる（ｃａ
ｔａｌｙｓｅ）ために、硫酸、ヒ酸、過塩素酸、又はそ
れらの混合物で処理される。フッ化水素が、続いてこの
混合物から蒸留される。
【０００６】既知の方法の欠点はヘキサフルオロヒ素酸
塩イオン（ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏａｒｓｅｎａｔｅ ｉ
ｏｎ）の加水分解に多大な出費が必要とされることであ
る。この出費にもかかわらず、欧州特許出願（ＥＰ−
Ａ）第６６０ ８０３号の記載により得られるヒ素含有
残分は、危険な廃棄物のための埋立地（ｌａｎｄｆｉｌ
ｌ）へ廃棄されなければならない。
塩イオン（ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏａｒｓｅｎａｔｅ ｉ
ｏｎ）の加水分解に多大な出費が必要とされることであ
る。この出費にもかかわらず、欧州特許出願（ＥＰ−
Ａ）第６６０ ８０３号の記載により得られるヒ素含有
残分は、危険な廃棄物のための埋立地（ｌａｎｄｆｉｌ
ｌ）へ廃棄されなければならない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】それゆえ本発明の目的
は、純粋なフッ化水素の製造において埋立地へ廃棄する
ことが可能なヒ素化合物を分離し、この方法において分
離が簡単な方法で行うことができ、埋立地に捨てられる
材料の量（ａｍｏｕｎｔ）が出来る限り少なくできるよ
うにすることである。
は、純粋なフッ化水素の製造において埋立地へ廃棄する
ことが可能なヒ素化合物を分離し、この方法において分
離が簡単な方法で行うことができ、埋立地に捨てられる
材料の量（ａｍｏｕｎｔ）が出来る限り少なくできるよ
うにすることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】蒸留によるフッ化水素の
精製で得れらた蒸留の残液を、水酸化カルシウム、酸化
カルシウム又はそれらの混合物と反応させることによ
り、埋立地に廃棄が可能な生成物へ直接に転換できるこ
とが見出された。
精製で得れらた蒸留の残液を、水酸化カルシウム、酸化
カルシウム又はそれらの混合物と反応させることによ
り、埋立地に廃棄が可能な生成物へ直接に転換できるこ
とが見出された。
【０００９】従って本発明は、（ａ）蒸留の残液を、残
液（ｂｏｔｔｏｍ）の温度が４０から６０℃（好適には
４０から５０℃）になるまでフッ化水素の蒸発により濃
縮し、（ｂ）残分を水酸化カルシウム、酸化カルシウム
又はそれらの混合物と反応させること、を含むヒ素含有
フッ化水素の蒸留において得られる蒸留の残液からヒ素
化合物を取除く方法を提供する。
液（ｂｏｔｔｏｍ）の温度が４０から６０℃（好適には
４０から５０℃）になるまでフッ化水素の蒸発により濃
縮し、（ｂ）残分を水酸化カルシウム、酸化カルシウム
又はそれらの混合物と反応させること、を含むヒ素含有
フッ化水素の蒸留において得られる蒸留の残液からヒ素
化合物を取除く方法を提供する。
【００１０】水酸化カルシウム、酸化カルシウム又はそ
れらの混合物は、残分中に存在する成分Ｈ2ＳＯ4及びＨ
ＡｓＦ6をＣａＦ2、ＣａＳＯ4、及びＣａ（ＡｓＦ6）2
に化学量論的に転化するのに十分な量で使用される。水
酸化カルシウム、酸化カルシウム又はそれらの混合物の
１００重量％の過剰量が最大値として可能である。濃縮
後の残液の水含量は、残液の温度が４０から６０℃に達
した場合には、好適には２０重量％未満である。
れらの混合物は、残分中に存在する成分Ｈ2ＳＯ4及びＨ
ＡｓＦ6をＣａＦ2、ＣａＳＯ4、及びＣａ（ＡｓＦ6）2
に化学量論的に転化するのに十分な量で使用される。水
酸化カルシウム、酸化カルシウム又はそれらの混合物の
１００重量％の過剰量が最大値として可能である。濃縮
後の残液の水含量は、残液の温度が４０から６０℃に達
した場合には、好適には２０重量％未満である。
【００１１】本発明の方法は、蒸留による市販のフッ化
水素の精製で得られるような蒸留の残液の後処理のため
に使用される。
水素の精製で得られるような蒸留の残液の後処理のため
に使用される。
【００１２】市販のフッ化水素は一般に１５から５００
ｐｐｍのヒ素含量を、及び２００から１０００ｐｐｍの
水、２０から５００ｐｐｍの硫酸、及び２０から２００
ｐｐｍの二酸化硫黄も有する。
ｐｐｍのヒ素含量を、及び２００から１０００ｐｐｍの
水、２０から５００ｐｐｍの硫酸、及び２０から２００
ｐｐｍの二酸化硫黄も有する。
【００１３】本発明の方法を実行するために特に適当な
フッ化水素は、３００ｐｐｍ未満（好適には２００ｐｐ
ｍ未満）の水、５０ｐｐｍ未満（好適には２０ｐｐｍ未
満）の硫酸、及び５０ｐｐｍ未満（好適には２０ｐｐｍ
未満）の二酸化硫黄を含み、そして３０から５００ｐｐ
ｍのヒ素含量を有する。
フッ化水素は、３００ｐｐｍ未満（好適には２００ｐｐ
ｍ未満）の水、５０ｐｐｍ未満（好適には２０ｐｐｍ未
満）の硫酸、及び５０ｐｐｍ未満（好適には２０ｐｐｍ
未満）の二酸化硫黄を含み、そして３０から５００ｐｐ
ｍのヒ素含量を有する。
【００１４】酸化状態（III）のヒ素を酸化状態（V）の
ヒ素へ転換するために、フッ化水素が酸化剤で処理され
る。本発明の方法を実行するためには、ヒ素（III）は
好適にはフッ素、二フッ化酸素を用いて又は電気化学的
に酸化される。
ヒ素へ転換するために、フッ化水素が酸化剤で処理され
る。本発明の方法を実行するためには、ヒ素（III）は
好適にはフッ素、二フッ化酸素を用いて又は電気化学的
に酸化される。
【００１５】このように処理されたフッ化水素は蒸留さ
れる。ここで、１００ｐｐｍ未満の水、１０ｐｐｍ未満
の硫酸、及び１ｐｐｍ未満のヒ素を含むフッ化水素が、
トップで取り出される生成物として得られる。蒸留は通
常、少なくとも９８重量％のフッ化水素含量及び５００
から２０００ｐｐｍのヒ素含量を有する、取り出される
残液生成物に関して、スチール（好適にはカーボンスチ
ール）で作られた蒸留カラムで、残液の温度が３０℃を
超えない（好適には２６℃を超えない）温度で行われ
る。
れる。ここで、１００ｐｐｍ未満の水、１０ｐｐｍ未満
の硫酸、及び１ｐｐｍ未満のヒ素を含むフッ化水素が、
トップで取り出される生成物として得られる。蒸留は通
常、少なくとも９８重量％のフッ化水素含量及び５００
から２０００ｐｐｍのヒ素含量を有する、取り出される
残液生成物に関して、スチール（好適にはカーボンスチ
ール）で作られた蒸留カラムで、残液の温度が３０℃を
超えない（好適には２６℃を超えない）温度で行われ
る。
【００１６】蒸留は通常０．６から２ｂａｒ、好適には
０．９から１．１ｂａｒの圧力で行われる。
０．９から１．１ｂａｒの圧力で行われる。
【００１７】取り出された蒸留の残液は、プラスチック
で内張り（ｌｉｎｉｎｇ）することにより腐食に対して
保護された蒸留器へ供給される。蒸発器からのフッ化水
素蒸気は濃縮することができるが、好適には蒸留カラム
に再循環される。
で内張り（ｌｉｎｉｎｇ）することにより腐食に対して
保護された蒸留器へ供給される。蒸発器からのフッ化水
素蒸気は濃縮することができるが、好適には蒸留カラム
に再循環される。
【００１８】蒸発器からの液体残分は水酸化カルシウ
ム、酸化カルシウム又はそれらの混合物と反応される。
反応は、例えばミキサー又はニーダーで行われる。反応
生成物であるフッ化カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸
カルシウム二水和物及びヘキサフルオロヒ素酸カルシウ
ムが、乾燥又は湿潤の形態で適当な埋立地に廃棄され
る。
ム、酸化カルシウム又はそれらの混合物と反応される。
反応は、例えばミキサー又はニーダーで行われる。反応
生成物であるフッ化カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸
カルシウム二水和物及びヘキサフルオロヒ素酸カルシウ
ムが、乾燥又は湿潤の形態で適当な埋立地に廃棄され
る。
【００１９】
【実施例】約１００ｐｐｍの濃度の水、１８ｐｐｍの濃
度の硫酸、及び３２ｐｐｍの濃度のヒ素を有するフッ化
水素の流れ（ｓｔｒｅａｍ） ２ｔ／ｈを、窒素中のフ
ッ素１０容量％の混合物 ３００ｌ／ｈと、三フッ化ヒ
素を五フッ化ヒ素へ酸化するために接触させ、それはフ
ッ化水素と共にヘキサフルオロヒ素酸を生成し、続いて
高沸点の化合物を取除くために蒸留カラムへ供給した。
カラムはカーボンスチールで作られていた。１００ｐｐ
ｍ未満の水含量、５ｐｐｍ未満の硫酸含量、及び０．３
ｐｐｍ未満のヒ素含量を有する高度に純粋なフッ化水素
１．９ｔ／ｈがカラムのトップで取り出された。蒸留
カラムの残液の温度は２４℃であった。蒸留の残液はフ
ッ化水素９９．６重量％、水０．２重量％、硫酸０．０
３７重量％、及びヘキサフルオロヒ素酸０．１６５重量
％を含んでいた。
度の硫酸、及び３２ｐｐｍの濃度のヒ素を有するフッ化
水素の流れ（ｓｔｒｅａｍ） ２ｔ／ｈを、窒素中のフ
ッ素１０容量％の混合物 ３００ｌ／ｈと、三フッ化ヒ
素を五フッ化ヒ素へ酸化するために接触させ、それはフ
ッ化水素と共にヘキサフルオロヒ素酸を生成し、続いて
高沸点の化合物を取除くために蒸留カラムへ供給した。
カラムはカーボンスチールで作られていた。１００ｐｐ
ｍ未満の水含量、５ｐｐｍ未満の硫酸含量、及び０．３
ｐｐｍ未満のヒ素含量を有する高度に純粋なフッ化水素
１．９ｔ／ｈがカラムのトップで取り出された。蒸留
カラムの残液の温度は２４℃であった。蒸留の残液はフ
ッ化水素９９．６重量％、水０．２重量％、硫酸０．０
３７重量％、及びヘキサフルオロヒ素酸０．１６５重量
％を含んでいた。
【００２０】０．１ｔ／ｈの流れが、蒸留カラムの残液
（ｂｏｔｔｏｍ）から取り出され、蒸発器へ供給され
た。蒸発器は、沸点が２４℃から４８℃まで上昇するま
で操作された。気化器（ｖａｐｏｒｉｚｅｒ）から出た
（ｌｅａｖｅ）フッ化水素が濃縮された。４８℃の沸点
に達した後、蒸発器の液体含量が分析された。組成物
は、フッ化水素６４重量％、水１７．３重量％、硫酸
３．４重量％、ヘキサフルオロヒ素酸１５．３重量％で
あった。この残分はニーダー中で酸化カルシウムと重量
比１：１．５で反応した。脆い生成物がニーダーから取
り出され、適当な埋立地に廃棄された。
（ｂｏｔｔｏｍ）から取り出され、蒸発器へ供給され
た。蒸発器は、沸点が２４℃から４８℃まで上昇するま
で操作された。気化器（ｖａｐｏｒｉｚｅｒ）から出た
（ｌｅａｖｅ）フッ化水素が濃縮された。４８℃の沸点
に達した後、蒸発器の液体含量が分析された。組成物
は、フッ化水素６４重量％、水１７．３重量％、硫酸
３．４重量％、ヘキサフルオロヒ素酸１５．３重量％で
あった。この残分はニーダー中で酸化カルシウムと重量
比１：１．５で反応した。脆い生成物がニーダーから取
り出され、適当な埋立地に廃棄された。
【００２１】本発明の主たる特徴及び態様は以下の通り
である。
である。
【００２２】１．（ａ）蒸留の残液を、残液の温度が４
０から６０℃になるまでフッ化水素の蒸発により濃縮
し、そして（ｂ）残分を水酸化カルシウム、酸化カルシ
ウム又はそれらの混合物と反応させること、を含むヒ素
含有フッ化水素の蒸留において得られる蒸留の残液から
ヒ素化合物を取除く方法。
０から６０℃になるまでフッ化水素の蒸発により濃縮
し、そして（ｂ）残分を水酸化カルシウム、酸化カルシ
ウム又はそれらの混合物と反応させること、を含むヒ素
含有フッ化水素の蒸留において得られる蒸留の残液から
ヒ素化合物を取除く方法。
【００２３】２．濃縮後の残液の水含量が２０重量％未
満であることを特徴とする、上記１に記載の方法。
満であることを特徴とする、上記１に記載の方法。
【００２４】３．ヒ素含有フッ化水素が、３００ｐｐｍ
を超えない水、５０ｐｐｍを超えない硫酸、及び５０ｐ
ｐｍを超えない二酸化硫黄を含むことを特徴とする、上
記１に記載の方法。
を超えない水、５０ｐｐｍを超えない硫酸、及び５０ｐ
ｐｍを超えない二酸化硫黄を含むことを特徴とする、上
記１に記載の方法。
【００２５】４．水酸化カルシウム、酸化カルシウム又
はそれらの混合物の量が、残液生成物である硫酸、フッ
化水素酸、及びヘキサフルオロヒ素酸を対応するカルシ
ウム化合物へ化学量論的に転換するのに必要な量に対応
することを特徴とする、上記１に記載の方法。
はそれらの混合物の量が、残液生成物である硫酸、フッ
化水素酸、及びヘキサフルオロヒ素酸を対応するカルシ
ウム化合物へ化学量論的に転換するのに必要な量に対応
することを特徴とする、上記１に記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 591063187 Ｂａｙｅｒｗｒｋ，Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅ ｎ，ＢＲＤ Ｆターム(参考） 4D034 AA27 BA01 CA12 4D038 AA08 AB40 AB70 AB81 BB02
Claims (1)
- 【請求項１】 （ａ）蒸留の残液を、残液の温度が４０
から６０℃になるまでフッ化水素の蒸発により濃縮し、
そして（ｂ）残分を水酸化カルシウム、酸化カルシウム
又はそれらの混合物と反応させること、を含むヒ素含有
フッ化水素の蒸留において得られる蒸留の残液からヒ素
化合物を取除く方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10031566A DE10031566A1 (de) | 2000-06-28 | 2000-06-28 | Verfahren zur Abtrennung von Arsenverbindungen aus Fluorwasserstoff |
| DE10031566.6 | 2000-06-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002059175A true JP2002059175A (ja) | 2002-02-26 |
Family
ID=7647139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001188108A Pending JP2002059175A (ja) | 2000-06-28 | 2001-06-21 | フッ化水素からヒ素化合物を除去する方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020001553A1 (ja) |
| EP (1) | EP1167285A3 (ja) |
| JP (1) | JP2002059175A (ja) |
| CA (1) | CA2351746A1 (ja) |
| DE (1) | DE10031566A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013531606A (ja) * | 2010-06-30 | 2013-08-08 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | ＨＦを用いるＡｓＦ５及びＰＦ５の抽出蒸留 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100528300C (zh) * | 2004-01-29 | 2009-08-19 | 大阳日酸株式会社 | 废气处理剂、废气处理方法以及废气处理装置 |
| US20080003172A1 (en) * | 2006-06-29 | 2008-01-03 | Honeywell International Inc. | Continuous hydrolysis of hexafluoroarsenic acid |
| JP5595283B2 (ja) * | 2008-11-28 | 2014-09-24 | 国立大学法人京都大学 | フッ化水素の精製方法 |
| US8883707B2 (en) | 2010-06-30 | 2014-11-11 | Honeywell International Inc. | Azeotrope-like composition of PF5 and HF |
| US20130004402A1 (en) * | 2011-06-28 | 2013-01-03 | Honeywell International Inc. | Methods and apparatuses for purifying phosphorus pentafluoride |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4668497A (en) * | 1984-12-25 | 1987-05-26 | Hashimoto Chemical Industries Co., Ltd. | Process for purifying hydrogen fluoride |
| US5089241A (en) * | 1990-12-20 | 1992-02-18 | Allied-Signal Inc. | Process for converting hexafluoroarsenic acid or any salt thereof to arsenic acid or salt thereof which can then be rendered nonhazardous |
| EP0660803B1 (en) * | 1992-09-17 | 1997-01-08 | AlliedSignal Inc. | Process for converting hexafluoroarsenic acid or any salt thereof to a water insoluble arsenate salt which can then be rendered nonhazardous |
-
2000
- 2000-06-28 DE DE10031566A patent/DE10031566A1/de not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-06-18 EP EP01113634A patent/EP1167285A3/de not_active Withdrawn
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013531606A (ja) * | 2010-06-30 | 2013-08-08 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | ＨＦを用いるＡｓＦ５及びＰＦ５の抽出蒸留 |
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