JPH06228025A - １，３−ジフルオロベンゼンの製造方法 - Google Patents
１，３−ジフルオロベンゼンの製造方法Info
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- JPH06228025A JPH06228025A JP5285201A JP28520193A JPH06228025A JP H06228025 A JPH06228025 A JP H06228025A JP 5285201 A JP5285201 A JP 5285201A JP 28520193 A JP28520193 A JP 28520193A JP H06228025 A JPH06228025 A JP H06228025A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/61—Halogen atoms or nitro radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B39/00—Halogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/23—Preparation of halogenated hydrocarbons by dehalogenation
Abstract
(57)【要約】
【目的】 １，３−ジフルオロハロベンゼンからハロゲ
ンを接触的に除くことによって、良好な収率および非常
に良好な純度の他に、容易に入手できそして工業的規模
で自由に製造できる前駆体を使用する改善された１，３
−ジフルオロベンゼンの製造方法。 【構成】 式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1 〜Ｒ4 が互いに無関係にＨ、ＣｌまたはＢ
ｒでありそして基Ｒ1 〜Ｒ4 の少なくとも１つがＣｌま
たはＢｒである。〕で表される１，３−ジフルオロハロ
ベンゼンまたは上記式で表される１，３−ジフルオロハ
ロベンゼン類の混合物をパラジウム触媒およびアミンま
たは異なるアミンの混合物の存在下に、場合によっては
水および、反応成分および反応条件に対して不活性であ
る有機溶剤の存在下に加圧下に約７０℃〜１４０℃の温
度で水素と反応させる。
ンを接触的に除くことによって、良好な収率および非常
に良好な純度の他に、容易に入手できそして工業的規模
で自由に製造できる前駆体を使用する改善された１，３
−ジフルオロベンゼンの製造方法。 【構成】 式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1 〜Ｒ4 が互いに無関係にＨ、ＣｌまたはＢ
ｒでありそして基Ｒ1 〜Ｒ4 の少なくとも１つがＣｌま
たはＢｒである。〕で表される１，３−ジフルオロハロ
ベンゼンまたは上記式で表される１，３−ジフルオロハ
ロベンゼン類の混合物をパラジウム触媒およびアミンま
たは異なるアミンの混合物の存在下に、場合によっては
水および、反応成分および反応条件に対して不活性であ
る有機溶剤の存在下に加圧下に約７０℃〜１４０℃の温
度で水素と反応させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン置換された
１，３−ジフルオロベンゼンからハロゲンを触媒により
除いて１，３−ジフルオロベンゼンを製造する改善され
た方法に関する。
１，３−ジフルオロベンゼンからハロゲンを触媒により
除いて１，３−ジフルオロベンゼンを製造する改善され
た方法に関する。
【０００２】
【従来技術】１，３−ジフルオロベンゼンは薬品を製造
する為の重要な中間体である。１，３−ジフルオロベン
ゼンを製造する方法自体は公知である。１，３−ジフル
オロベンゼンを製造する為の公知の種類の合成法の一つ
は、対応するアミンに還元され、ジアゾ化されそして煮
沸還元される２，４−ジフルオロニトロベンゼンを介し
て進行する。この方法を工業的に実施するのには、ジア
ゾニウム塩の不安定さの為におよび処理するのに必ず困
難を伴う酸性排水が溜まる為に問題がある。
する為の重要な中間体である。１，３−ジフルオロベン
ゼンを製造する方法自体は公知である。１，３−ジフル
オロベンゼンを製造する為の公知の種類の合成法の一つ
は、対応するアミンに還元され、ジアゾ化されそして煮
沸還元される２，４−ジフルオロニトロベンゼンを介し
て進行する。この方法を工業的に実施するのには、ジア
ゾニウム塩の不安定さの為におよび処理するのに必ず困
難を伴う酸性排水が溜まる為に問題がある。
【０００３】１，３−ジフルオロベンゼンは１，３−ジ
クロロベンゼンについての直接的なＣｌとＦとの交換に
よっても製造できる。しかしながら非常に劇的な反応条
件がこの場合には要求されそして中ぐらいの収率しか達
成できない（Ｐｅｗｓ，Ｒ．Ｇ．；Ｇａｌｌ，Ｊ．
Ａ．；Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．、５０
（３）、第３７１〜５頁；ヨーロッパ特許第３７１，５
６３号明細書）。
クロロベンゼンについての直接的なＣｌとＦとの交換に
よっても製造できる。しかしながら非常に劇的な反応条
件がこの場合には要求されそして中ぐらいの収率しか達
成できない（Ｐｅｗｓ，Ｒ．Ｇ．；Ｇａｌｌ，Ｊ．
Ａ．；Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．、５０
（３）、第３７１〜５頁；ヨーロッパ特許第３７１，５
６３号明細書）。
【０００４】弗化水素の存在下でのジアゾ化の後に熱分
解によって所望の１，３−ジフルオロベンゼンをもたら
す別の製造ルートは３−フルオロアニリンを通って進行
する（日本特許番号０１２８３２３０号）。
解によって所望の１，３−ジフルオロベンゼンをもたら
す別の製造ルートは３−フルオロアニリンを通って進行
する（日本特許番号０１２８３２３０号）。
【０００５】更に最近には、前駆体として２，４−ジフ
ルオロベンズアルデヒドを使用する製造方法が開示され
ており、２，４−ジフルオロベンズアルデヒドを高温で
接触的に脱カルボニルすることが同様に、所望の１，３
−ジフルオロベンゼンへのアプローチである（ドイツ特
許第３，９３５，８６２号明細書、同第３，８２４，１
４１号明細書、米国特許第４，８４７，４４２号明細
書）。
ルオロベンズアルデヒドを使用する製造方法が開示され
ており、２，４−ジフルオロベンズアルデヒドを高温で
接触的に脱カルボニルすることが同様に、所望の１，３
−ジフルオロベンゼンへのアプローチである（ドイツ特
許第３，９３５，８６２号明細書、同第３，８２４，１
４１号明細書、米国特許第４，８４７，４４２号明細
書）。
【０００６】上述の公知の方法の幾つかの場合には、中
位の収率しか得られないか、製造するのが工業的に困難
であり且つそれ故に多大な費用の掛かる出発化合物を使
用している。脱カルボニル法の場合には、例えば出発化
合物の２，４−ジフルオロベンズアルデヒドの現在の高
い価格、腐食の問題および高い触媒価格がこの方法を工
業的規模で実現するのには余り興味を持てないものとし
ている。
位の収率しか得られないか、製造するのが工業的に困難
であり且つそれ故に多大な費用の掛かる出発化合物を使
用している。脱カルボニル法の場合には、例えば出発化
合物の２，４−ジフルオロベンズアルデヒドの現在の高
い価格、腐食の問題および高い触媒価格がこの方法を工
業的規模で実現するのには余り興味を持てないものとし
ている。
【０００７】特開平３−７７，８３６号公報には、クロ
ロ−ｍ−ジフルオロベンゼン、例えば２，４−ジフルオ
ロクロロベンゼンを触媒および（塩化水素結合剤として
の）塩基の存在下に水素ガスを用いて還元的に脱ハロゲ
ン化することによって１，３−ジフルオロベンゼンを製
造する方法であって、白金担持触媒、ニッケル−クロム
担持触媒またはラネーニッケル担持触媒が触媒として使
用されそしてアルカリ金属水酸化物または−炭酸塩、例
えば水酸化ナトリウムまたは−カリウム、または炭酸ナ
トリウムまたは−カリウムが塩基（酸捕捉剤）として使
用されている上記方法が開示されている。しかしながら
この方法の実際の利用は、一方においては反応が困難を
伴わずに再現できず（比較例１〜３参照）そしてもう一
方においては腐食の問題の他に中位の品質（フルオロベ
ンゼン含有量）の生成物しか得ることができないので、
狭く制限されている。
ロ−ｍ−ジフルオロベンゼン、例えば２，４−ジフルオ
ロクロロベンゼンを触媒および（塩化水素結合剤として
の）塩基の存在下に水素ガスを用いて還元的に脱ハロゲ
ン化することによって１，３−ジフルオロベンゼンを製
造する方法であって、白金担持触媒、ニッケル−クロム
担持触媒またはラネーニッケル担持触媒が触媒として使
用されそしてアルカリ金属水酸化物または−炭酸塩、例
えば水酸化ナトリウムまたは−カリウム、または炭酸ナ
トリウムまたは−カリウムが塩基（酸捕捉剤）として使
用されている上記方法が開示されている。しかしながら
この方法の実際の利用は、一方においては反応が困難を
伴わずに再現できず（比較例１〜３参照）そしてもう一
方においては腐食の問題の他に中位の品質（フルオロベ
ンゼン含有量）の生成物しか得ることができないので、
狭く制限されている。
【０００８】
【本発明が解決しようとする課題】公知の方法の上述の
欠点を考慮すると、公知の方法の固有の欠点を回避しそ
して良好乃至非常に良好な収率および非常に良好な生成
物純度の他に、容易に入手できそして工業的規模で自由
に製造できる前駆体が使用される改善された方法が強く
要求されている。
欠点を考慮すると、公知の方法の固有の欠点を回避しそ
して良好乃至非常に良好な収率および非常に良好な生成
物純度の他に、容易に入手できそして工業的規模で自由
に製造できる前駆体が使用される改善された方法が強く
要求されている。
【０００９】
【課題を解決する為の手段】本発明者は驚くべきこと
に、式（１）
に、式（１）
【００１０】
【化２】 〔式中、Ｒ1 〜Ｒ4 は互いに無関係にＨ、ＣｌまたはＢ
ｒでありそして基Ｒ1 〜Ｒ4 の少なくとも１つがＣｌま
たはＢｒである。〕で表される１，３−ジフルオロハロ
ベンゼンをパラジウム触媒およびアミンまたは異なるア
ミンの混合物の存在下に、場合によっては水または、支
配的反応条件の下で反応成分に対して不活性である有機
溶剤の存在下に加圧下に約７０℃〜１４０℃、好ましく
は約９０℃〜１２０℃、特に好ましくは約９５℃〜１１
５℃の温度で水素と反応させることによって、１，３−
ジフルオロハロベンゼンからハロゲンを接触的に除くこ
とにより１，３−ジフルオロベンゼンを非常に良好な収
率で且つ非常に高水準の純度で、反応容器の目立った腐
食もなしに製造できることを見出した。
ｒでありそして基Ｒ1 〜Ｒ4 の少なくとも１つがＣｌま
たはＢｒである。〕で表される１，３−ジフルオロハロ
ベンゼンをパラジウム触媒およびアミンまたは異なるア
ミンの混合物の存在下に、場合によっては水または、支
配的反応条件の下で反応成分に対して不活性である有機
溶剤の存在下に加圧下に約７０℃〜１４０℃、好ましく
は約９０℃〜１２０℃、特に好ましくは約９５℃〜１１
５℃の温度で水素と反応させることによって、１，３−
ジフルオロハロベンゼンからハロゲンを接触的に除くこ
とにより１，３−ジフルオロベンゼンを非常に良好な収
率で且つ非常に高水準の純度で、反応容器の目立った腐
食もなしに製造できることを見出した。
【００１１】出発化合物は塩素−および／または臭素置
換された広範囲のメタ−ジフルオロベンゼンの混合物で
もよい。しかしながら塩素−または臭素置換された純粋
なメタ−ジフルオロベンゼンを使用してもよい。例示的
に挙げることのできる上記式（１）の出発化合物の個々
の代表例には１，３−ジフルオロクロロベンゼン、１，
３−ジフルオロジクロロベンゼン、１，３−ジフルオロ
ブロモベンゼンまたは１，３−ジフルオロジブロモベン
ゼン、例えば２，４−ジフルオロクロロベンゼン、２，
６−ジクロロ−１，３−ジフルオロベンゼンまたは４，
６−ジクロロ−１，３−ジフルオロベンゼンがある。
換された広範囲のメタ−ジフルオロベンゼンの混合物で
もよい。しかしながら塩素−または臭素置換された純粋
なメタ−ジフルオロベンゼンを使用してもよい。例示的
に挙げることのできる上記式（１）の出発化合物の個々
の代表例には１，３−ジフルオロクロロベンゼン、１，
３−ジフルオロジクロロベンゼン、１，３−ジフルオロ
ブロモベンゼンまたは１，３−ジフルオロジブロモベン
ゼン、例えば２，４−ジフルオロクロロベンゼン、２，
６−ジクロロ−１，３−ジフルオロベンゼンまたは４，
６−ジクロロ−１，３−ジフルオロベンゼンがある。
【００１２】触媒は担体物質、例えば活性炭、炭酸カル
シウム、硫酸バリウム、軽石、アルミナ、珪藻土、シリ
カゲルおよび／または酸化アルミニウムに担持させて使
用するのが有利である。
シウム、硫酸バリウム、軽石、アルミナ、珪藻土、シリ
カゲルおよび／または酸化アルミニウムに担持させて使
用するのが有利である。
【００１３】パラジウム触媒を担体材料としての活性炭
または酸化アルミニウムに担持させて使用するのが特に
有利である。更に、触媒全体を基準として約０．１〜約
１０重量% 、好ましくは約０．２〜約８重量% 、特に好
ましくは約０．５〜約６重量% のパラジウムを含有する
パラジウム担持触媒を用いるのが有利である。
または酸化アルミニウムに担持させて使用するのが特に
有利である。更に、触媒全体を基準として約０．１〜約
１０重量% 、好ましくは約０．２〜約８重量% 、特に好
ましくは約０．５〜約６重量% のパラジウムを含有する
パラジウム担持触媒を用いるのが有利である。
【００１４】１モルの１，３−ジフルオロハロベンゼン
当たり約１０〜約１０，０００ｐｐｍのパラジウムを使
用しそして脱離すべきハロゲンの当量を基準として約１
〜約５０，０００、好ましくは約１０〜約１００，００
０ｐｐｍのパラジウムを使用する。
当たり約１０〜約１０，０００ｐｐｍのパラジウムを使
用しそして脱離すべきハロゲンの当量を基準として約１
〜約５０，０００、好ましくは約１０〜約１００，００
０ｐｐｍのパラジウムを使用する。
【００１５】モノアミンまたは２〜約４個のアミノ基を
持つポリアミンまたはそれの混合物をアミンとして使用
することができる。式（２） ＮＨx Ｒy （２） 〔式中、Ｒ基は互いに無関係に直鎖状−または枝分かれ
したアルキル残基−ＣnＨ2n+1であり、ｎは約６〜約２
０、好ましくは約７〜約１６、特に好ましくは約８〜約
１２の数であり、ｘ＝０、１または２、ｙ＝１、２また
は３でありそしてｘ＋ｙ＝３である。〕で表されるこれ
らアミンが特に適している。
持つポリアミンまたはそれの混合物をアミンとして使用
することができる。式（２） ＮＨx Ｒy （２） 〔式中、Ｒ基は互いに無関係に直鎖状−または枝分かれ
したアルキル残基−ＣnＨ2n+1であり、ｎは約６〜約２
０、好ましくは約７〜約１６、特に好ましくは約８〜約
１２の数であり、ｘ＝０、１または２、ｙ＝１、２また
は３でありそしてｘ＋ｙ＝３である。〕で表されるこれ
らアミンが特に適している。
【００１６】特別に挙げることのできる高活性脂肪族ア
ミンはトリ−（Ｎ−ドデシル）アミンおよびトリアルキ
ル（Ｃ8 〜Ｃ10）アミンである。上記式（２）の上記ア
ルキルアミン類が最も適しているけれども、原則として
アリールアミンおよびアルアルキルアミンを使用しても
よい。
ミンはトリ−（Ｎ−ドデシル）アミンおよびトリアルキ
ル（Ｃ8 〜Ｃ10）アミンである。上記式（２）の上記ア
ルキルアミン類が最も適しているけれども、原則として
アリールアミンおよびアルアルキルアミンを使用しても
よい。
【００１７】アミン濃度は自由に選択できる。アミンは
溶剤または希釈剤を添加せずに使用するのが有利であ
る。アミン：出発化合物の量比に関しては、脱離すべき
ハロゲン１当量を基準として約５０〜約２５０ｍｏｌ%
のアミンの存在下に反応を実施するのが好都合である。
溶剤または希釈剤を添加せずに使用するのが有利であ
る。アミン：出発化合物の量比に関しては、脱離すべき
ハロゲン１当量を基準として約５０〜約２５０ｍｏｌ%
のアミンの存在下に反応を実施するのが好都合である。
【００１８】場合によっては使用してもよい不活性有機
溶剤には、トルエン、キシレン類、エチルベンゼン、ア
ルカノール（Ｃ1 〜Ｃ4 ）、ジアルキル（Ｃ1 〜Ｃ4 ）
エーテル、テトラヒドロフランまたは１〜１５個の（Ｃ
1 〜Ｃ4 ）数を持つポリエチレングリコール−ジメチル
エーテルがある。
溶剤には、トルエン、キシレン類、エチルベンゼン、ア
ルカノール（Ｃ1 〜Ｃ4 ）、ジアルキル（Ｃ1 〜Ｃ4 ）
エーテル、テトラヒドロフランまたは１〜１５個の（Ｃ
1 〜Ｃ4 ）数を持つポリエチレングリコール−ジメチル
エーテルがある。
【００１９】上述の通り、反応は水の存在下に実施して
もよいが、この場合にはできるだけ少ない水含有量（反
応溶液を基準として＜１% ）で作業を実施するのが有利
である。
もよいが、この場合にはできるだけ少ない水含有量（反
応溶液を基準として＜１% ）で作業を実施するのが有利
である。
【００２０】この方法は大気圧のもとでまたは過剰圧の
もとで実施することができる。反応は約０．１〜約５０
ｂａｒの水素圧で実施するのが有利である。この方法は
上述の一般的なおよび好ましい温度範囲内で実施するこ
とができる。低過ぎる温度を使用すると、ゆっくりで且
つ不完全な反応をもたらす。高過ぎる温度を選択する
と、弗化物の不所望の脱離をもたらし得る。
もとで実施することができる。反応は約０．１〜約５０
ｂａｒの水素圧で実施するのが有利である。この方法は
上述の一般的なおよび好ましい温度範囲内で実施するこ
とができる。低過ぎる温度を使用すると、ゆっくりで且
つ不完全な反応をもたらす。高過ぎる温度を選択する
と、弗化物の不所望の脱離をもたらし得る。
【００２１】本発明の方法は空気酸素の存在または不存
在下に実施することができる。保護ガス雰囲気で実施す
るのが特に有利である。保護ガスとして使用される窒素
またはアルゴンを使用することができる。
在下に実施することができる。保護ガス雰囲気で実施す
るのが特に有利である。保護ガスとして使用される窒素
またはアルゴンを使用することができる。
【００２２】水素の他に、水素供与体、例えばアルコー
ル、グリコール、ホルマートおよびヒドラジン水和物の
如く作用し得る他の還元ガスも還元剤として使用するこ
とができる。
ル、グリコール、ホルマートおよびヒドラジン水和物の
如く作用し得る他の還元ガスも還元剤として使用するこ
とができる。
【００２３】再生の目的の為に、反応の過程で生じるア
ミン−ヒドロハライドを無機系塩基、例えば水酸化ナト
リウム溶液または酸化マグネシウムで処理する。この理
由で、遊離アミンもそれのヒドロハライドも水溶性でも
ないのが有利であり、結果的に、生じる後処理問題を回
避できる。
ミン−ヒドロハライドを無機系塩基、例えば水酸化ナト
リウム溶液または酸化マグネシウムで処理する。この理
由で、遊離アミンもそれのヒドロハライドも水溶性でも
ないのが有利であり、結果的に、生じる後処理問題を回
避できる。
【００２４】本発明の方法で使用される上述の式（１）
の出発化合物は、ニトロ−メタ−ジフルオロベンゼンま
たは異なるニトロ−メタ−フルオロベンゼン類のまたは
式（３） ｍ−（Ｆ）2 −Ａｒ−（ＮＯ2 ）z Ｒk （３） 〔式中、ＲはＣｌまたはＢｒであり、ｚ＝１または２で
ありそしてｋ＝０、１または２である。〕で表されるニ
トロ−メタ−ジフルオロハロベンゼン類の混合物をルイ
ス酸の不存在下に約８０〜約２５０℃の温度のもとで塩
素ガスにて処理することによって製造できる。
の出発化合物は、ニトロ−メタ−ジフルオロベンゼンま
たは異なるニトロ−メタ−フルオロベンゼン類のまたは
式（３） ｍ−（Ｆ）2 −Ａｒ−（ＮＯ2 ）z Ｒk （３） 〔式中、ＲはＣｌまたはＢｒであり、ｚ＝１または２で
ありそしてｋ＝０、１または２である。〕で表されるニ
トロ−メタ−ジフルオロハロベンゼン類の混合物をルイ
ス酸の不存在下に約８０〜約２５０℃の温度のもとで塩
素ガスにて処理することによって製造できる。
【００２５】これらの出発化合物の製造に関して、以下
に更に詳細に説明する：使用する塩素ガスは無水状態で
使用する。ｍ−ジフルオロニトロ−芳香族化合物と塩素
とは反応は、ルイス酸または他の塩素化触媒の不存在下
に実施しなければならない。必要とされる温度は８０℃
〜２５０℃、好ましくは１００℃〜２００℃の範囲内に
ある。この反応は弗化物捕捉剤の存在または不存在下に
実施することができる。必要とされるクロロジフルオロ
ベンゼン化合物（出発化合物）は、例えば次の様に製造
できる：１８００g （１１．３ｍｏｌ）の２，４−ジフ
ルオロニトロ−ベンゼン（無水の状態で且つルイス酸を
含まない）を、攪拌機、ガス導入管および蒸留器ブリッ
ジを備えた２リットルの４つ首フラスコ中に最初に導入
する。反応溶液を１６０℃にする。４〜６リットル／時
の塩素流をこの温度で溶液に通す。１〜２時間後に、褐
色のガスが形成され、これを水酸化ナトリウム希薄溶液
に吸収する。２８時間後にガスの導入を中止しそして反
応溶液を蒸留する（ヘッド温度１２７℃）。６７５．８
g の２，４−ジフルオロクロロベンゼンが得られる。こ
れは反応した２，４−ジフルオロニトロベンゼンを基準
として９１% の収率に相当する。
に更に詳細に説明する：使用する塩素ガスは無水状態で
使用する。ｍ−ジフルオロニトロ−芳香族化合物と塩素
とは反応は、ルイス酸または他の塩素化触媒の不存在下
に実施しなければならない。必要とされる温度は８０℃
〜２５０℃、好ましくは１００℃〜２００℃の範囲内に
ある。この反応は弗化物捕捉剤の存在または不存在下に
実施することができる。必要とされるクロロジフルオロ
ベンゼン化合物（出発化合物）は、例えば次の様に製造
できる：１８００g （１１．３ｍｏｌ）の２，４−ジフ
ルオロニトロ−ベンゼン（無水の状態で且つルイス酸を
含まない）を、攪拌機、ガス導入管および蒸留器ブリッ
ジを備えた２リットルの４つ首フラスコ中に最初に導入
する。反応溶液を１６０℃にする。４〜６リットル／時
の塩素流をこの温度で溶液に通す。１〜２時間後に、褐
色のガスが形成され、これを水酸化ナトリウム希薄溶液
に吸収する。２８時間後にガスの導入を中止しそして反
応溶液を蒸留する（ヘッド温度１２７℃）。６７５．８
g の２，４−ジフルオロクロロベンゼンが得られる。こ
れは反応した２，４−ジフルオロニトロベンゼンを基準
として９１% の収率に相当する。
【００２６】
【実施例】以下の実施例は、本発明の方法を説明する為
に使用するが、これらは本発明を制限するものではな
い。
に使用するが、これらは本発明を制限するものではな
い。
【００２７】実施例１ １，３−ジフルオロベンゼンを製造する為に、１４８．
５g （１．０ｍｏｌ）の２，４−ジフルオロクロロベン
ゼン、触媒としての４．０g のＰｄ／Ｃ（５%濃度、５
０% の湿分含有量）および塩基としての６２６．４g
（１．２ｍｏｌ）のトリ−（Ｎ−ドデシル）アミンを反
応容器（オートクレーブ）に最初に導入する。この反応
溶液を１００℃に加熱しそしてこの温度のもとで水素に
て還元的に脱塩素化する。水素の消費が終了したら、混
合物を手短に攪拌しそして５０〜６０℃で冷却しそして
反応溶液を水酸化ナトリウム溶液と一緒に振盪して抽出
処理しそして触媒を反応混合物から吸引濾去する。有機
相を分離したら、それを大気圧のもとで蒸留処理しそし
て得られる蒸留液を乾燥しそして次に分別する。残る母
液、初留、中間留出液および蒸留残さは後続のバッチに
再導入してもよい。 転化率：９２．１% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：９７．１g （０．８５ｍｏｌ）の１，３−ジフ
ルオロベンゼン（用いた２，４−ジフルオロクロロベン
ゼンを基準として８５．２% ） 純度 ：０．２（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．７（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．１（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン 腐食 ：１００℃での材料試験 １．４４３９ 損失量：＜０．０１ｍｍ／ａ １．４５７１ 損失量：＜０．０１ｍｍ／ａ実施例２ １，３−ジフルオロベンゼンを製造する為に、２６７．
３g （１．８ｍｏｌ）の２，４−ジフルオロクロロベン
ゼン、触媒としての４．１g のＰｄ／Ｃ（５%濃度、５
０% の湿分含有量）および塩基としての８７１．２g
（２．２ｍｏｌ）のトリアルキル（Ｃ8 〜Ｃ10）アミン
混合物を反応容器（オートクレーブ）に最初に導入す
る。この反応溶液を１００℃に加熱しそしてこの温度の
もとで水素にて還元的に脱塩素化する。水素の消費が終
了したら、混合物を手短に攪拌しそして室温に冷却しそ
して反応溶液を水酸化ナトリウム溶液と一緒に振盪して
抽出処理しそして触媒を反応混合物から吸引濾去する。
有機相を分離したら、それを大気圧のもとで蒸留処理し
そして得られる蒸留液を乾燥しそして次に分別する。残
る母液、初留、中間留出液および蒸留残さは後続のバッ
チに再導入することができる。 転化率：９６．０% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：１８６．７g （１．６４ｍｏｌ） 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
９１．４% 純度 ：９９．９（ガスクロマトグラム面積% ）の１，
３−ジフルオロベンゼン、０．０５（ガスクロマトグラ
ム面積% ）のフルオロベンゼン 腐食 ：１００℃での材料試験 １．４４３９ 損失量：＜０．０１ｍｍ／ａ １．４５２９ 損失量：＜０．０１ｍｍ／ａ比較例１ １，３−ジフルオロベンゼンを製造する為に、４１５g
（２．８ｍｏｌ）の２，４−ジフルオロクロロベンゼ
ン、１０g のＰｄ／Ｃ（５% 濃度、５０% の湿分含有
量）および１２０g のＮａＯＨを、５００ｍｌの水の入
った反応容器（オートクレーブ）に最初に導入する。反
応成分のこの混合物を水素の存在下に１００℃にゆっく
り加熱する。反応懸濁液を、更に水素の吸収（還元によ
る脱塩素化）が認められなくなるまで、この温度に維持
する。次いで触媒を反応混合物から分離しそして有機相
を分別蒸留に委ねる。 転化率：８５．３% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：２０６．２g （１．８ｍｏｌ）の１，３−ジフ
ルオロベンゼン 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
６４．６% 純度 ：０．２（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．２（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．６（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン比較例２ 比較例１と同様な反応。反応溶液を１００℃に１時間維
持する。水素の消費は生じない。 転化率：４．５% （ガスクロマトグラフィーによる）比較例３ 新鮮な触媒を比較例２からの反応溶液に添加し、これを
水素の存在下に再び１００℃に加熱する。しかしながら
転化は生じない。次に温度を１２０℃に上げ、その時に
反応がゆっくり起こるが、約２時間後に止まる。水素の
消費量は僅かだけである。 転化率：３０．２% （ガスクロマトグラフィーによる）比較例１ １，３−ジフルオロベンゼンを製造する為に、２９７．
１g （２．０ｍｏｌ）の２，４−ジフルオロクロロベン
ゼン、６．０g のＰｄ／Ｃ（５% 濃度、５０%の湿分含
有量）および２１２．５g の２５% 濃度アンモニアを、
反応容器（オートクレーブ）に最初に導入する。反応成
分のこの混合物を１０５℃に加熱しそしてこの温度で水
素にて処理する。水素の消費が終了したら、触媒を反応
混合物から吸引濾去しそして有機相を分離しそして分別
蒸留に委ねる。 転化率：９４．６% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：１８２．９g （１．６ｍｏｌ）の１，３−ジフ
ルオロベンゼン 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
８０．２% 純度 ：０．３（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．２（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．５（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン比較例５ 比較例４の反応を同じ条件で繰り返す。しかしながら１
０５℃で水素の消費がない。還元による脱ハロゲン化反
応は反応温度を１４０℃に上げた時に初めて可能とな
る。 転化率：６８．０% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：１２３．１g （１．１ｍｏｌ）の１，３−ジフ
ルオロベンゼン 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
５４．０% 純度 ：０．２（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．２（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．６（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン比較例６ １，３−ジフルオロベンゼンを製造する為に、５９４．
１g （４．０ｍｏｌ）の２，４−ジフルオロクロロベン
ゼン、１１．９g のＰｄ／Ｃ（５% 濃度、５０% の湿分
含有量）および８９．０g （２．２ｍｏｌ）のＭｇＯ
を、４５０ｍｌの水の入った反応容器（オートクレー
ブ）に最初に導入する。反応成分のこの混合物を１４０
℃に加熱しそしてこの温度で水素にて還元的に脱塩素化
する。水素の消費が終了したら、触媒を反応混合物から
吸引濾去しそして有機相を分離しそして分別蒸留に委ね
る。 転化率：９６．５% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：３８８．５g （３．４ｍｏｌ）の１，３−ジフ
ルオロベンゼン 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
８５．２% 純度 ：０．２（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．６（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．２（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン 腐食 ：１４０℃での材料試験 １．４４３９ 引張応力ひび割れ腐食（Spannungsrissk
orrosion) １．４５７１ 引張応力ひび割れ腐食比較例７ 反応を比較例６と同様に行う。還元による脱ハロゲン化
を１２０℃で実施する。（１００℃では反応が生じな
い。） 転化率：９１．４% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：３６９．４g （３．２ｍｏｌ） 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
８１．０% 純度 ：０．２（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．６（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．２（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン 腐食 ：１２０℃での材料試験 １．４４３９ 損失量： ２．０ｍｍ／ａ １．４５２９ 損失量： １．６ｍｍ／ａ ２．４８５６ 損失量： ０．６ｍｍ／ａ ２．４８５８ 損失量： １．２ｍｍ／ａ比較例８ １，３−ジフルオロベンゼンを製造する為に、５７２．
０g （３．８５ｍｏｌ）の２，４−ジフルオロクロロベ
ンゼン、１１．９g のＰｄ／Ｃ（５% 濃度、５０% の湿
分含有量）および９５．８g （４．０ｍｏｌ）のＬｉＯ
Ｈを、４００ｍｌの水の入った反応容器（オートクレー
ブ）に最初に導入する。反応成分のこの混合物を１００
℃に加熱しそしてこの温度で水素にて還元的に脱塩素化
する。水素の消費が終了したら、触媒を反応混合物から
吸引濾去しそして有機相を分離しそして分別蒸留に委ね
る。 転化率：７９．９% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：３０８．２g （２．７ｍｏｌ）の１，３−ジフ
ルオロベンゼン 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
７０．２% 純度 ：０．２（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．６（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．２（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン
５g （１．０ｍｏｌ）の２，４−ジフルオロクロロベン
ゼン、触媒としての４．０g のＰｄ／Ｃ（５%濃度、５
０% の湿分含有量）および塩基としての６２６．４g
（１．２ｍｏｌ）のトリ−（Ｎ−ドデシル）アミンを反
応容器（オートクレーブ）に最初に導入する。この反応
溶液を１００℃に加熱しそしてこの温度のもとで水素に
て還元的に脱塩素化する。水素の消費が終了したら、混
合物を手短に攪拌しそして５０〜６０℃で冷却しそして
反応溶液を水酸化ナトリウム溶液と一緒に振盪して抽出
処理しそして触媒を反応混合物から吸引濾去する。有機
相を分離したら、それを大気圧のもとで蒸留処理しそし
て得られる蒸留液を乾燥しそして次に分別する。残る母
液、初留、中間留出液および蒸留残さは後続のバッチに
再導入してもよい。 転化率：９２．１% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：９７．１g （０．８５ｍｏｌ）の１，３−ジフ
ルオロベンゼン（用いた２，４−ジフルオロクロロベン
ゼンを基準として８５．２% ） 純度 ：０．２（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．７（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．１（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン 腐食 ：１００℃での材料試験 １．４４３９ 損失量：＜０．０１ｍｍ／ａ １．４５７１ 損失量：＜０．０１ｍｍ／ａ実施例２ １，３−ジフルオロベンゼンを製造する為に、２６７．
３g （１．８ｍｏｌ）の２，４−ジフルオロクロロベン
ゼン、触媒としての４．１g のＰｄ／Ｃ（５%濃度、５
０% の湿分含有量）および塩基としての８７１．２g
（２．２ｍｏｌ）のトリアルキル（Ｃ8 〜Ｃ10）アミン
混合物を反応容器（オートクレーブ）に最初に導入す
る。この反応溶液を１００℃に加熱しそしてこの温度の
もとで水素にて還元的に脱塩素化する。水素の消費が終
了したら、混合物を手短に攪拌しそして室温に冷却しそ
して反応溶液を水酸化ナトリウム溶液と一緒に振盪して
抽出処理しそして触媒を反応混合物から吸引濾去する。
有機相を分離したら、それを大気圧のもとで蒸留処理し
そして得られる蒸留液を乾燥しそして次に分別する。残
る母液、初留、中間留出液および蒸留残さは後続のバッ
チに再導入することができる。 転化率：９６．０% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：１８６．７g （１．６４ｍｏｌ） 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
９１．４% 純度 ：９９．９（ガスクロマトグラム面積% ）の１，
３−ジフルオロベンゼン、０．０５（ガスクロマトグラ
ム面積% ）のフルオロベンゼン 腐食 ：１００℃での材料試験 １．４４３９ 損失量：＜０．０１ｍｍ／ａ １．４５２９ 損失量：＜０．０１ｍｍ／ａ比較例１ １，３−ジフルオロベンゼンを製造する為に、４１５g
（２．８ｍｏｌ）の２，４−ジフルオロクロロベンゼ
ン、１０g のＰｄ／Ｃ（５% 濃度、５０% の湿分含有
量）および１２０g のＮａＯＨを、５００ｍｌの水の入
った反応容器（オートクレーブ）に最初に導入する。反
応成分のこの混合物を水素の存在下に１００℃にゆっく
り加熱する。反応懸濁液を、更に水素の吸収（還元によ
る脱塩素化）が認められなくなるまで、この温度に維持
する。次いで触媒を反応混合物から分離しそして有機相
を分別蒸留に委ねる。 転化率：８５．３% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：２０６．２g （１．８ｍｏｌ）の１，３−ジフ
ルオロベンゼン 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
６４．６% 純度 ：０．２（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．２（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．６（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン比較例２ 比較例１と同様な反応。反応溶液を１００℃に１時間維
持する。水素の消費は生じない。 転化率：４．５% （ガスクロマトグラフィーによる）比較例３ 新鮮な触媒を比較例２からの反応溶液に添加し、これを
水素の存在下に再び１００℃に加熱する。しかしながら
転化は生じない。次に温度を１２０℃に上げ、その時に
反応がゆっくり起こるが、約２時間後に止まる。水素の
消費量は僅かだけである。 転化率：３０．２% （ガスクロマトグラフィーによる）比較例１ １，３−ジフルオロベンゼンを製造する為に、２９７．
１g （２．０ｍｏｌ）の２，４−ジフルオロクロロベン
ゼン、６．０g のＰｄ／Ｃ（５% 濃度、５０%の湿分含
有量）および２１２．５g の２５% 濃度アンモニアを、
反応容器（オートクレーブ）に最初に導入する。反応成
分のこの混合物を１０５℃に加熱しそしてこの温度で水
素にて処理する。水素の消費が終了したら、触媒を反応
混合物から吸引濾去しそして有機相を分離しそして分別
蒸留に委ねる。 転化率：９４．６% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：１８２．９g （１．６ｍｏｌ）の１，３−ジフ
ルオロベンゼン 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
８０．２% 純度 ：０．３（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．２（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．５（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン比較例５ 比較例４の反応を同じ条件で繰り返す。しかしながら１
０５℃で水素の消費がない。還元による脱ハロゲン化反
応は反応温度を１４０℃に上げた時に初めて可能とな
る。 転化率：６８．０% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：１２３．１g （１．１ｍｏｌ）の１，３−ジフ
ルオロベンゼン 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
５４．０% 純度 ：０．２（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．２（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．６（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン比較例６ １，３−ジフルオロベンゼンを製造する為に、５９４．
１g （４．０ｍｏｌ）の２，４−ジフルオロクロロベン
ゼン、１１．９g のＰｄ／Ｃ（５% 濃度、５０% の湿分
含有量）および８９．０g （２．２ｍｏｌ）のＭｇＯ
を、４５０ｍｌの水の入った反応容器（オートクレー
ブ）に最初に導入する。反応成分のこの混合物を１４０
℃に加熱しそしてこの温度で水素にて還元的に脱塩素化
する。水素の消費が終了したら、触媒を反応混合物から
吸引濾去しそして有機相を分離しそして分別蒸留に委ね
る。 転化率：９６．５% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：３８８．５g （３．４ｍｏｌ）の１，３−ジフ
ルオロベンゼン 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
８５．２% 純度 ：０．２（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．６（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．２（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン 腐食 ：１４０℃での材料試験 １．４４３９ 引張応力ひび割れ腐食（Spannungsrissk
orrosion) １．４５７１ 引張応力ひび割れ腐食比較例７ 反応を比較例６と同様に行う。還元による脱ハロゲン化
を１２０℃で実施する。（１００℃では反応が生じな
い。） 転化率：９１．４% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：３６９．４g （３．２ｍｏｌ） 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
８１．０% 純度 ：０．２（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．６（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．２（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン 腐食 ：１２０℃での材料試験 １．４４３９ 損失量： ２．０ｍｍ／ａ １．４５２９ 損失量： １．６ｍｍ／ａ ２．４８５６ 損失量： ０．６ｍｍ／ａ ２．４８５８ 損失量： １．２ｍｍ／ａ比較例８ １，３−ジフルオロベンゼンを製造する為に、５７２．
０g （３．８５ｍｏｌ）の２，４−ジフルオロクロロベ
ンゼン、１１．９g のＰｄ／Ｃ（５% 濃度、５０% の湿
分含有量）および９５．８g （４．０ｍｏｌ）のＬｉＯ
Ｈを、４００ｍｌの水の入った反応容器（オートクレー
ブ）に最初に導入する。反応成分のこの混合物を１００
℃に加熱しそしてこの温度で水素にて還元的に脱塩素化
する。水素の消費が終了したら、触媒を反応混合物から
吸引濾去しそして有機相を分離しそして分別蒸留に委ね
る。 転化率：７９．９% （ガスクロマトグラフィーによる） 収量 ：３０８．２g （２．７ｍｏｌ）の１，３−ジフ
ルオロベンゼン 用いた２，４−ジフルオロクロロベンゼンを基準として
７０．２% 純度 ：０．２（ガスクロマトグラム面積% ）の未知化
合物、９９．６（ガスクロマトグラム面積% ）の１，３
−ジフルオロベンゼン、０．２（ガスクロマトグラム面
積% ）のフルオロベンゼン
Claims (25)
- 【請求項１】 １，３−ジフルオロハロベンゼンからハ
ロゲンを接触的に除くことによって高純度の１，３−ジ
フルオロベンゼンを製造する方法において、式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1 〜Ｒ4 が互いに無関係にＨ、ＣｌまたはＢ
ｒでありそして基Ｒ1 〜Ｒ4 の少なくとも１つがＣｌま
たはＢｒである。〕で表される１，３−ジフルオロハロ
ベンゼンまたは上記式で表される１，３−ジフルオロハ
ロベンゼン類の混合物をパラジウム触媒およびアミンま
たは異なるアミンの混合物の存在下に、場合によっては
水および、反応成分および反応条件に対して不活性であ
る有機溶剤の存在下に加圧下に約７０℃〜１４０℃の温
度で水素と反応させることを特徴とする、上記方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の式（１）の１，３−ジ
フルオロハロベンゼン類の混合物を反応させる、請求項
１に記載の方法。 - 【請求項３】 １，３−ジフルオロクロロベンゼン、
１，３−ジフルオロジクロロベンゼン、１，３−ジフル
オロブロモベンゼンおよび／または１，３−ジフルオロ
ジブロモベンゼンが反応する請求項１または２に記載の
方法。 - 【請求項４】 ２，４−ジフルオロクロロベンゼン、
２，６−ジクロロ−１，３−ジフルオロベンゼンまたは
４，６−ジクロロ−１，３−ジフルオロベンゼンが反応
する請求項１〜３のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項５】 反応を約９０℃〜約１２０℃の温度で実
施する請求項１〜４のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項６】 反応を約９５℃〜約１１５℃の温度で実
施する請求項１〜５のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項７】 パラジウム担持触媒をパラジウム触媒と
して使用する請求項１〜６のいずれか一つに記載の方
法。 - 【請求項８】 パラジウム担持触媒の担体が軽石、アル
ミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、珪藻土、シリカ
ゲル、酸化アルミニウムおよび／または活性炭より成る
請求項１〜７のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項９】 パラジウム触媒の担体が酸化アルミニウ
ムおよび／または活性炭より成る請求項１〜８のいずれ
か一つに記載の方法。 - 【請求項１０】 パラジウム触媒が触媒全体を基準とし
て約０．１〜約１０重量% のパラジウムを含有する請求
項１〜９のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項１１】 パラジウム触媒が触媒全体を基準とし
て約０．２〜約８重量% のパラジウムを含有する請求項
１〜１０のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項１２】 パラジウム触媒が触媒全体を基準とし
て約０．５〜約６重量% のパラジウムを含有する請求項
１〜１１のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項１３】 脱離すべきハロゲンの当量を基準とし
て約１〜約５０，０００ｐｐｍのパラジウムを使用する
請求項１〜１２のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項１４】 １モルの１，３−ジフルオロハロベン
ゼン当たり約１０〜約１０，０００ｐｐｍのパラジウム
を使用する請求項１〜１３のいずれか一つに記載の方
法。 - 【請求項１５】 モノアミンまたは２〜約４個のアミノ
基を持つポリアミンまたはそれの混合物をアミンとして
使用する請求項１〜１４のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項１６】 反応を式 ＮＨx Ｒy 〔式中、Ｒ基は互いに無関係に直鎖状−または枝分かれ
したアルキル残基−ＣnＨ2n+1であり、ｎは約６〜約２
０の数であり、ｘ＝０、１または２、ｙ＝１、２または
３でありそしてｘ＋ｙ＝３である。〕で表されるアミン
の存在下に実施する請求項１〜１５のいずれか一つに記
載の方法。 - 【請求項１７】 請求項１６に記載するアルキル残基中
のｎが約７〜約１６の数である請求項１６に記載の方
法。 - 【請求項１８】 請求項１６に記載するアルキル残基中
のｎが約８〜約１２の数である請求項１６に記載の方
法。 - 【請求項１９】 反応をトリ−（Ｎ−ドデシル）アミン
の存在下に実施する請求項１〜１８のいずれか一つに記
載の方法。 - 【請求項２０】 反応をトリアルキル（Ｃ8 〜Ｃ10）ア
ミンの存在下に実施する請求項１〜１９のいずれか一つ
に記載の方法。 - 【請求項２１】 反応を脱離すべきハロゲン１当量を基
準として約５０〜約２５０ｍｏｌ% のアミンの存在下に
実施する請求項１〜２０のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項２２】 反応を不活性有機溶剤としてのトルエ
ン、キシレン類、エチルベンゼン、アルカノール（Ｃ1
〜Ｃ4 ）、ジアルキル（Ｃ1 〜Ｃ4 ）エーテル、テトラ
ヒドロフランまたは１〜１５個の（Ｃ1 〜Ｃ4 ）数を持
つポリエチレングリコール−ジメチルエーテル中で実施
する請求項１〜２１のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項２３】 反応を大気圧のもとで実施する請求項
１〜２２のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項２４】 反応を過剰圧のもとで実施する請求項
１〜２２のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項２５】 反応を約０．１〜約５０ｂａｒの水素
圧のもとで実施する請求項１〜２４のいずれか一つに記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4238864 | 1992-11-18 | ||
| DE4238864:3 | 1992-11-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06228025A true JPH06228025A (ja) | 1994-08-16 |
Family
ID=6473150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5285201A Pending JPH06228025A (ja) | 1992-11-18 | 1993-11-15 | １，３−ジフルオロベンゼンの製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5504264A (ja) |
| EP (1) | EP0598338B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06228025A (ja) |
| CA (1) | CA2103303A1 (ja) |
| DE (1) | DE59305733D1 (ja) |
| ES (1) | ES2101925T3 (ja) |
| ZA (1) | ZA938576B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004533455A (ja) * | 2001-05-18 | 2004-11-04 | ザ クイーンズ ユニバーシティ オブ ベルファスト | 水素化法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5498807A (en) * | 1992-11-18 | 1996-03-12 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for the preparation of aromatic fluoro compounds |
| DE4404343A1 (de) * | 1994-02-11 | 1995-08-17 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von aromatischen Fluorverbindungen |
| IL111277A0 (en) * | 1993-10-14 | 1994-12-29 | Univ Princeton | Process for decreasing chlorine content in chlorinated hydrocarbons |
| DE59503559D1 (de) * | 1994-02-11 | 1998-10-22 | Clariant Gmbh | Verfahren zur Herstellung von aromatischen Fluorverbindungen |
| JP3904823B2 (ja) | 2000-02-22 | 2007-04-11 | セントラル硝子株式会社 | １，１，１−トリフルオロアセトンの製造方法 |
| DE10249748A1 (de) | 2002-10-25 | 2004-05-06 | Clariant Gmbh | Verfahren zur Herstellung von 1,3-Dihalogen-substituierten Benzolderivaten |
| CN116553997B (zh) * | 2023-07-10 | 2023-09-26 | 山东国邦药业有限公司 | 一种合成3,4,5-三氟溴苯的中间体1,2,3-三氟苯的合成方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2725405A (en) * | 1951-12-24 | 1955-11-29 | Dow Chemical Co | Selective reduction of chlorobromohydrocarbons |
| JPH04224535A (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-13 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | １，３，５−トリフルオロベンゼンの製法 |
| US5091580A (en) * | 1991-03-27 | 1992-02-25 | Dowelanco | Process for the preparation of 2,6-difluoroaniline |
| JPH09177836A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-07-11 | Ntn Corp | 一方向クラッチ |
-
1993
- 1993-11-11 EP EP93118284A patent/EP0598338B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-11-11 DE DE59305733T patent/DE59305733D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-11-11 ES ES93118284T patent/ES2101925T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-11-15 JP JP5285201A patent/JPH06228025A/ja active Pending
- 1993-11-17 CA CA002103303A patent/CA2103303A1/en not_active Abandoned
- 1993-11-17 ZA ZA938576A patent/ZA938576B/xx unknown
-
1994
- 1994-12-20 US US08/360,190 patent/US5504264A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004533455A (ja) * | 2001-05-18 | 2004-11-04 | ザ クイーンズ ユニバーシティ オブ ベルファスト | 水素化法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0598338A1 (de) | 1994-05-25 |
| DE59305733D1 (de) | 1997-04-17 |
| CA2103303A1 (en) | 1994-05-19 |
| EP0598338B1 (de) | 1997-03-12 |
| US5504264A (en) | 1996-04-02 |
| ES2101925T3 (es) | 1997-07-16 |
| ZA938576B (en) | 1995-01-17 |
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