JPH062230B2 - N―アルキルアニリンの製造方法およびその製造方法用触媒 - Google Patents
N―アルキルアニリンの製造方法およびその製造方法用触媒Info
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、式I (式中、R1,R2は各々独立してC1〜C6アルキル
基、C1〜C6アルコキシ基または水素であり、R
3は、C1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキ
ル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4アルコキシ
−C1〜C4アルキル基、フェニル基または水素であ
る。R4はC1〜C6アルキル基、C1〜C4アルコキ
シ基、フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基または
水素であり、R3とR4とはそれらが結合している炭素
原子で互に連結して、1つまたは2つのC1〜C4アル
キル基で置換されているか、置換されていない、4〜7
員のイソ環状環を形成していてもよく、またはピラン環
またはテトラヒドロピラン環を成形していてもよい。) で示される、N−アルキルアニリンの製造方法およびこ
の製造方法を実施するための触媒に関するものである。
基、C1〜C6アルコキシ基または水素であり、R
3は、C1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキ
ル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4アルコキシ
−C1〜C4アルキル基、フェニル基または水素であ
る。R4はC1〜C6アルキル基、C1〜C4アルコキ
シ基、フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基または
水素であり、R3とR4とはそれらが結合している炭素
原子で互に連結して、1つまたは2つのC1〜C4アル
キル基で置換されているか、置換されていない、4〜7
員のイソ環状環を形成していてもよく、またはピラン環
またはテトラヒドロピラン環を成形していてもよい。) で示される、N−アルキルアニリンの製造方法およびこ
の製造方法を実施するための触媒に関するものである。
従来技術: 式(I)のN−アルキルアニリンは殺菌活性化合物を製造
するための有用な中間体である。即ち、式(I)のN−ア
ルキルアニリンは、クロロ酢酸クロライドまたはプロモ
酢酸ブロマイドのようなハロ酢酸ハライドと反応させる
ことによって殺菌作用を持つ対応のアセトアニリドにす
ることができる。この種のアセトアニリド、その製法お
よびその用途については例えば米国特許第2,863,
752号、同第3,345,151号、同3,268,
5484号、同第3,952,056号および同第3,
937,730号、さらにフランス特許1,339,0
01号、ドイツ特許第2,305,495号およびドイ
ツ公告公報第2,328,340号に記載されている。
するための有用な中間体である。即ち、式(I)のN−ア
ルキルアニリンは、クロロ酢酸クロライドまたはプロモ
酢酸ブロマイドのようなハロ酢酸ハライドと反応させる
ことによって殺菌作用を持つ対応のアセトアニリドにす
ることができる。この種のアセトアニリド、その製法お
よびその用途については例えば米国特許第2,863,
752号、同第3,345,151号、同3,268,
5484号、同第3,952,056号および同第3,
937,730号、さらにフランス特許1,339,0
01号、ドイツ特許第2,305,495号およびドイ
ツ公告公報第2,328,340号に記載されている。
アニリンとアルキルハライド、アルキルトシレートまた
はアルキルホスフエートと反応させてN−アルキルアニ
リンを製造することは公知である。しかし、この方法で
は目的とするN−モノアルキルアニリンの他に、かなり
の量のN,N−ジアルキルアニリンが生成する。従つて
この製造法は、選択性は低すぎて、式(I)の化合物の工
業生産方法としては適さない。またこの製造法による廃
水は、多量の塩化水素、トルエンスルホン酸またはリン
酸、さらにはこれらの塩を含むので、環境問題を生じて
しまう。
はアルキルホスフエートと反応させてN−アルキルアニ
リンを製造することは公知である。しかし、この方法で
は目的とするN−モノアルキルアニリンの他に、かなり
の量のN,N−ジアルキルアニリンが生成する。従つて
この製造法は、選択性は低すぎて、式(I)の化合物の工
業生産方法としては適さない。またこの製造法による廃
水は、多量の塩化水素、トルエンスルホン酸またはリン
酸、さらにはこれらの塩を含むので、環境問題を生じて
しまう。
さらにアニリンを触媒の存在下に反応させてN−アルキ
ルアニリンを製造する方法も提案されている。(Kirk-O
thmerによるエンサイクロペデイア オブ ケミカル
テクノロジーの第2巻412〜413頁を参照のこと)
この製造法において使用される触媒は、酸化アルミニウ
ム、ケイ酸アルミニウム、リン酸とベントナイトの混合
物、および塩酸、硫酸のような鉱酸に加えて、水素移動
触媒をも使用している。例えば米国特許第2,580,
284号ではアニリンを銅含有アルミナ触媒および水素
の存在下にメタノールと反応させ、理論量の96%の収
率でN−メチルアニリンを製造している。また、エタノ
ールをラネーニツケルの存在下に反応させ、N−エチル
アニリンを理論量の80〜83%の収率で製造する方法
もある。(ジヤーナル オブ オーガニツク ケミスト
リー21巻、474頁((1956年発行))およびジヤーナル
オブ アメリカン ケミカル ソサエテイー77巻
4052〜54頁((1955年発行))を参照)さらにアニリ
ンとメタノールをクロム酸銅および水素の存在下に反応
させると、N−メチルアニリンが単独反応として実質的
に定量収率で得られることも公知である。(特開昭48-4
9,727およびケミカル アブストラクト 79巻136.769
w((1973年発行))、およびドイツ特許明細書第2,06
1,709号を参照のこと。) 上記の方法を検討してみると、ベンゼン環のオルト位が
置換されていないアニリンを、水素および水素移動触媒
の存在下にアルコールと反応させると、すぐれた収率で
N−アルキルアニリンを得ることができることがわか
る。しかしながら、O−モノまたはO−ジ置換アニリン
をアルコール、特にアルコキシアルカノールと反応させ
た場合にはこれらの製造法では、対応するN−アルキル
アニリンを高収率で得ることはできない。
ルアニリンを製造する方法も提案されている。(Kirk-O
thmerによるエンサイクロペデイア オブ ケミカル
テクノロジーの第2巻412〜413頁を参照のこと)
この製造法において使用される触媒は、酸化アルミニウ
ム、ケイ酸アルミニウム、リン酸とベントナイトの混合
物、および塩酸、硫酸のような鉱酸に加えて、水素移動
触媒をも使用している。例えば米国特許第2,580,
284号ではアニリンを銅含有アルミナ触媒および水素
の存在下にメタノールと反応させ、理論量の96%の収
率でN−メチルアニリンを製造している。また、エタノ
ールをラネーニツケルの存在下に反応させ、N−エチル
アニリンを理論量の80〜83%の収率で製造する方法
もある。(ジヤーナル オブ オーガニツク ケミスト
リー21巻、474頁((1956年発行))およびジヤーナル
オブ アメリカン ケミカル ソサエテイー77巻
4052〜54頁((1955年発行))を参照)さらにアニリ
ンとメタノールをクロム酸銅および水素の存在下に反応
させると、N−メチルアニリンが単独反応として実質的
に定量収率で得られることも公知である。(特開昭48-4
9,727およびケミカル アブストラクト 79巻136.769
w((1973年発行))、およびドイツ特許明細書第2,06
1,709号を参照のこと。) 上記の方法を検討してみると、ベンゼン環のオルト位が
置換されていないアニリンを、水素および水素移動触媒
の存在下にアルコールと反応させると、すぐれた収率で
N−アルキルアニリンを得ることができることがわか
る。しかしながら、O−モノまたはO−ジ置換アニリン
をアルコール、特にアルコキシアルカノールと反応させ
た場合にはこれらの製造法では、対応するN−アルキル
アニリンを高収率で得ることはできない。
米国特許第4,183,868号では、2,6−ジアル
キルアニリンのアルコールによるモノアルキル化を、少
量のパラジウムまたは白金を含有している銅含有触媒の
存在下に200〜350℃で行つている。第1アルコー
ルでアルキル化した場合には、かなりすぐれた収率が達
成できるが、第2アルコールによるアルキル化の場合は
転化率、選択率および収率が低くなってしまう。
キルアニリンのアルコールによるモノアルキル化を、少
量のパラジウムまたは白金を含有している銅含有触媒の
存在下に200〜350℃で行つている。第1アルコー
ルでアルキル化した場合には、かなりすぐれた収率が達
成できるが、第2アルコールによるアルキル化の場合は
転化率、選択率および収率が低くなってしまう。
発明が解決しようとする問題点: 本発明の目的は、アニリンおよびアニリンのO−モノま
たはO,O−ジ置換誘導体を、第1アルコールおよび第
2アルコールと反応させて、対応するN−アルキルアニ
リンを高収率で製造する製造法を提供するものである。
たはO,O−ジ置換誘導体を、第1アルコールおよび第
2アルコールと反応させて、対応するN−アルキルアニ
リンを高収率で製造する製造法を提供するものである。
問題点を解決するための手段: 本発明は、式(I) (式中、R1およびR2は上述の通りである。) で示されるN−アルキルアニリンを、次(II) (式中、R1およびR2は上述の通りである。) で示されるアニリンと、式(III) (式中、R3およびR4は上述の通りである。) で示されるアルコールとを水素および触媒の存在下に反
応させて製造するためであつて、反応を150〜300
℃の温度範囲および0.5〜6バールの気圧下で担体とし
てのシリカゲルおよび0.2〜10%の白金、0.05〜3%
のカルシウムおよび/またはバリウム元素の1種以上の
化合物からなる触媒であつて、さらにスズ化合物を含有
していて、スズに対する白金の原子比が1〜6であり、
シリカゲルが、300〜700m2/gの比表面積、0.25〜1.0m
l/gに気孔容積、1〜8nmの平均気孔半径、0.25〜0.9
g/mlの嵩密度、1〜5%の含水率を持ち、鉄、アルミ
ニウムおよびチタンの全含有率が750ppm以下である触媒
の存在下に実施することを特徴とする製造法を提供する
ものである。
応させて製造するためであつて、反応を150〜300
℃の温度範囲および0.5〜6バールの気圧下で担体とし
てのシリカゲルおよび0.2〜10%の白金、0.05〜3%
のカルシウムおよび/またはバリウム元素の1種以上の
化合物からなる触媒であつて、さらにスズ化合物を含有
していて、スズに対する白金の原子比が1〜6であり、
シリカゲルが、300〜700m2/gの比表面積、0.25〜1.0m
l/gに気孔容積、1〜8nmの平均気孔半径、0.25〜0.9
g/mlの嵩密度、1〜5%の含水率を持ち、鉄、アルミ
ニウムおよびチタンの全含有率が750ppm以下である触媒
の存在下に実施することを特徴とする製造法を提供する
ものである。
特に本発明では、式(I)のN−アルキルアニリンのうち
でもR1がC1〜C3アルキル基または水素であり、R
2がC1〜C3アルキル基またはC1〜C2のアルコキ
シ基であり、R3がC1〜C3アルコキシメチル基であ
り、R4がメチル基または水素であるもの、およびR3
とR4がそれらが結合している炭素で互いに連結してシ
クロアルキル、−2−メチルシクロヘキシルまたは2,
6−ジメチルシルコヘキシル基を形成しているN−アル
キルアニリンの製造法に関するものである。
でもR1がC1〜C3アルキル基または水素であり、R
2がC1〜C3アルキル基またはC1〜C2のアルコキ
シ基であり、R3がC1〜C3アルコキシメチル基であ
り、R4がメチル基または水素であるもの、およびR3
とR4がそれらが結合している炭素で互いに連結してシ
クロアルキル、−2−メチルシクロヘキシルまたは2,
6−ジメチルシルコヘキシル基を形成しているN−アル
キルアニリンの製造法に関するものである。
また、本発明は、式(I)のN−アルキルアニリンのう
ち、特にR4がC1〜C6アルキル基、C1〜C4アル
コキシ基、フルフリル基、またはテトラヒドロフルフリ
ル基であるN−アルキルアニリンの製造法に関するもの
である。
ち、特にR4がC1〜C6アルキル基、C1〜C4アル
コキシ基、フルフリル基、またはテトラヒドロフルフリ
ル基であるN−アルキルアニリンの製造法に関するもの
である。
さらに、本発明は式(I)のN−アルキルアニリンのう
ち、特にR3とR4が炭素原子で連結して、ピラン環ま
たはテトラヒドロピラン環を形成しているN−アルキル
アニリンの製造法に関するものである。
ち、特にR3とR4が炭素原子で連結して、ピラン環ま
たはテトラヒドロピラン環を形成しているN−アルキル
アニリンの製造法に関するものである。
さらに限定すれば、本発明は2−メチル−6−エチル−
N−(1−メチル−2−メトキシエチル)アニリンおよ
び2,6−ジエチル−N−2−プロポキシエチルアニリ
ンの製造法に関するものである。
N−(1−メチル−2−メトキシエチル)アニリンおよ
び2,6−ジエチル−N−2−プロポキシエチルアニリ
ンの製造法に関するものである。
本発明の製造法を実施する際には、通常175〜225
℃の温度および1〜4バールの圧力範囲で行うのが好ま
しい。式(II)のアニリンの添加の時速は、通常0.5〜1
0モル/触媒、好ましくは1〜5モル/触媒がよ
い。
℃の温度および1〜4バールの圧力範囲で行うのが好ま
しい。式(II)のアニリンの添加の時速は、通常0.5〜1
0モル/触媒、好ましくは1〜5モル/触媒がよ
い。
式(II)のアニリンに対する式(III)のアルコールのモル
比は通常0.1〜10、好ましくは1.1〜2.1である。
比は通常0.1〜10、好ましくは1.1〜2.1である。
水素の添加は、好ましくは、通常0.5〜10モル/使用
される式(II)のアニリンのモル、好ましくは0.8〜1.2モ
ル/使用される式(II)のアニリンのモルである。
される式(II)のアニリンのモル、好ましくは0.8〜1.2モ
ル/使用される式(II)のアニリンのモルである。
本発明の触媒用の担体として好ましいのは以下の特性を
持つシリカゲルである。
持つシリカゲルである。
比表面積 300〜700m2/g 気孔容積 0.25〜1.0ml/g 平均気孔半径 1〜8nm 嵩密度 0.25〜0.9g/ml 含水率 1〜5% 鉄、アルミナおよびチ 最大750ppm タンの含有量(合計) シリカゲルとしては、本発明の必要に応じて、市販品か
ら選択すればよい。さらに市販品が鉄、アルミニウムお
よびチタン含量が多すぎる場合、例えば10%の塩酸の
ような希釈酸で洗うことにより、本発明用として適した
担体に変えてもよい。この反応により得られた生成物中
における鉄、アルミニウムおよびチタンの総含有率は7
50ppm以下、好ましくは500ppmにすべきであり、金
属の各々の一つの含有量は好ましくは200ppmであ
る。
ら選択すればよい。さらに市販品が鉄、アルミニウムお
よびチタン含量が多すぎる場合、例えば10%の塩酸の
ような希釈酸で洗うことにより、本発明用として適した
担体に変えてもよい。この反応により得られた生成物中
における鉄、アルミニウムおよびチタンの総含有率は7
50ppm以下、好ましくは500ppmにすべきであり、金
属の各々の一つの含有量は好ましくは200ppmであ
る。
特に好ましいのは、下記の特性を持つシリカゲルであ
る。
る。
比表面積 400〜600m2/g 気孔容積 0.35〜0.75ml/g 平均気孔半径 2〜4nm 嵩密度 0.65〜0.75g/ml 含水率 1.5〜2.5% 鉄、アルミニウムおよび 最大500ppm チタン含有量(合計) 担体として使用されたシリカゲルは、必要に応じて希酸
で洗つてから、500℃の温度で数時間処理するとよ
い。
で洗つてから、500℃の温度で数時間処理するとよ
い。
触媒の製造は、例えばヘキサクロロ白金酸のような適当
な白金化合物と促進剤としてのスズの元素の水溶性化合
物とを、担体によつて吸着(含浸)されるような溶液と
して、担体用のあらかじめ焼成してあるシリカゲルに作
用させることにより行う。ほとんどの場合、溶媒として
は水を使用するのが好ましい。
な白金化合物と促進剤としてのスズの元素の水溶性化合
物とを、担体によつて吸着(含浸)されるような溶液と
して、担体用のあらかじめ焼成してあるシリカゲルに作
用させることにより行う。ほとんどの場合、溶媒として
は水を使用するのが好ましい。
このようにして得られた混合物を真空中で80〜150
℃で乾燥させ、さらにカルシウムおよびまたはバリウム
元素の元素を含む1種以上の化合物を第2促進剤として
同様に塗布する。好ましい化合物は、例えば水酸化物と
か塩化物である。この2つの促進剤の塗布は、逆の順序
で実施してもかまわない。
℃で乾燥させ、さらにカルシウムおよびまたはバリウム
元素の元素を含む1種以上の化合物を第2促進剤として
同様に塗布する。好ましい化合物は、例えば水酸化物と
か塩化物である。この2つの促進剤の塗布は、逆の順序
で実施してもかまわない。
このように処理した触媒は再度乾燥させてから、400
℃に数時間保つて焼成を行う。このようにして得られた
粗製触媒は、冷却してから、反応器の中に入れ、実験の
開始時に活性化する。
℃に数時間保つて焼成を行う。このようにして得られた
粗製触媒は、冷却してから、反応器の中に入れ、実験の
開始時に活性化する。
本発明の触媒は新規であり、従つて本発明の1つの目的
をも構成するものである。
をも構成するものである。
粗触媒の活性化は、反応器内において、常圧下のガス流
中で140℃で数時間にわたつて行われるが、この間ガ
スの組成を窒素から序々に水素に変える。最終的に得ら
れた触媒は、シリカゲル、白金およびスズの元素、さら
にカルシウムおよび/またはバリウムの元素の1種以上
からなるものであつて、これを、本発明の製造法におい
て使用する。
中で140℃で数時間にわたつて行われるが、この間ガ
スの組成を窒素から序々に水素に変える。最終的に得ら
れた触媒は、シリカゲル、白金およびスズの元素、さら
にカルシウムおよび/またはバリウムの元素の1種以上
からなるものであつて、これを、本発明の製造法におい
て使用する。
式(I)の化合物を製造するための本発明の製造法におい
て使用される新規触媒のうち、下記の組成のものが好ま
しい。
て使用される新規触媒のうち、下記の組成のものが好ま
しい。
a) 0.5〜6%の白金 0.1〜2%の1種以上のカルシウムまたはバリウムか
らなる元素から選択された化合物、 −スズの化合物であつて、スズに対する白金の比が2.5
〜3.5である組成物。
らなる元素から選択された化合物、 −スズの化合物であつて、スズに対する白金の比が2.5
〜3.5である組成物。
新規触媒のうち、下記の組成物が最も好ましい。
−3〜5%の白金、 −0.1〜2%のカルシウム化合物および −スズ(II)化合物からなり、スズに対する白金の原子比
が2.5〜3.5である組成物。
が2.5〜3.5である組成物。
長時間使用後に活性を失なつた触媒は、これを450〜
600℃で空気流中で数時間再生してから、上記したの
と同様な活性化法によつて再活性化し、再利用すること
ができる。
600℃で空気流中で数時間再生してから、上記したの
と同様な活性化法によつて再活性化し、再利用すること
ができる。
本発明の製造法は、好まくは固定床反応器中または細流
床装置中で連続的に行うことができる。反応器から流出
した混合物は、純粋なガスのかたちにすることもでき、
ガスおよび液相を形成することもできる。
床装置中で連続的に行うことができる。反応器から流出
した混合物は、純粋なガスのかたちにすることもでき、
ガスおよび液相を形成することもできる。
2つの原料は、反応器中に別々に導入してもよく、また
好ましい配合比で配合した混合物として導入してもよ
い。原料は液状で導入するのが好ましく、必要に応じて
加熱してもよい。反応の条件によつては、反応器中に導
入する前に、さらに加熱して揮発させてもよい。
好ましい配合比で配合した混合物として導入してもよ
い。原料は液状で導入するのが好ましく、必要に応じて
加熱してもよい。反応の条件によつては、反応器中に導
入する前に、さらに加熱して揮発させてもよい。
得られた反応混合物はガスクロマトグラフイーによつて
分析することができる。混合物の分離は、慣用の分離法
によつて行うことができる。水素および未反応の原料
は、工業生産を行う場合には再利用することができる。
分析することができる。混合物の分離は、慣用の分離法
によつて行うことができる。水素および未反応の原料
は、工業生産を行う場合には再利用することができる。
発明の効果: 本発明の製造法によれば、アニリンおよびそのO−モノ
−およびO,O−ジ置換誘導体を、非常にすぐれた収率
でアルキル化することができる。さらに本発明の製造法
によれば、第2アルコールによるアルキル化をも同様に
すぐれた収率で行うことができる。このように、本発明
では式(I)の中間体を経費のかからない容易に入手する
ことのできるアルコールを使用してすぐれた転化率およ
びすぐれた選択率で製造することができる。反応時間が
短かくてすみ、また連続的な製造ができるので式(I)で
示される中間体の工業的生産方法として非常にすぐれて
いる。触媒の活性は、連続使用した場合、約1日後低下
が認められる程度にすぎない。反応を連続的に行う場
合、活性化、反応、再生、再活性化、反応等からなる操
作工程を循環的にくり返せばよい。この反応を工業的規
模で実施する場合、適当に配置された操作工程を備えた
2段以上の平行反応器を使用することによつて実施する
ことができる。
−およびO,O−ジ置換誘導体を、非常にすぐれた収率
でアルキル化することができる。さらに本発明の製造法
によれば、第2アルコールによるアルキル化をも同様に
すぐれた収率で行うことができる。このように、本発明
では式(I)の中間体を経費のかからない容易に入手する
ことのできるアルコールを使用してすぐれた転化率およ
びすぐれた選択率で製造することができる。反応時間が
短かくてすみ、また連続的な製造ができるので式(I)で
示される中間体の工業的生産方法として非常にすぐれて
いる。触媒の活性は、連続使用した場合、約1日後低下
が認められる程度にすぎない。反応を連続的に行う場
合、活性化、反応、再生、再活性化、反応等からなる操
作工程を循環的にくり返せばよい。この反応を工業的規
模で実施する場合、適当に配置された操作工程を備えた
2段以上の平行反応器を使用することによつて実施する
ことができる。
アルキルハライドまたはアルキルトシレートを使用して
行うアルキル化方法と比較しても、本発明の方法は、経
済的観点からもすぐれている。即ち、上記方法による場
合、塩を含む廃水が生ずるが、本発明の方法では、これ
が生じないのである。
行うアルキル化方法と比較しても、本発明の方法は、経
済的観点からもすぐれている。即ち、上記方法による場
合、塩を含む廃水が生ずるが、本発明の方法では、これ
が生じないのである。
本発明の製造法を、下記の実施例により、さらに詳しく
説明する。
説明する。
実施例 1 この実施例では、2−メチル−6−エチル−N−(1−
メチル−2−メトキシエチル)アニリンの製造。
メチル−2−メトキシエチル)アニリンの製造。
下記の特性を持つ平均粒子径シリカゲルを用意した。
表面積(BET) 468m2/g 気孔容積 0.62ml/g 平均気孔半径 2.65nm カルシウム含有量 <10ppm マグネシウム含有量 <10ppm 鉄含有量 115ppm カリウム含有量 <20ppm ナトリウム含有量 <50ppm アルミニウム 155ppm チタン 180ppm このシリカゲルの9.5gに、2.5gのヘキサクロロ白金酸
・XH2O(5.1ミリモル)と0.38gの塩化スズ(II)・2
H2O(1.7ミリモル)からなる水溶液の7.5mlを含浸せし
め、全体的に混合してから、真空下に90℃で2時間乾燥
させた。得られた混合物に、さらに0.37gの塩化カルシ
ウム・2H2O(2.5ミリモル)を含有する6mlの水溶液を
含浸させ混合した。再度真空下に90℃で乾燥させてから
混合物を、350℃で5時間焼成させた。このようにし
て15mlの触媒を活性化させた。
・XH2O(5.1ミリモル)と0.38gの塩化スズ(II)・2
H2O(1.7ミリモル)からなる水溶液の7.5mlを含浸せし
め、全体的に混合してから、真空下に90℃で2時間乾燥
させた。得られた混合物に、さらに0.37gの塩化カルシ
ウム・2H2O(2.5ミリモル)を含有する6mlの水溶液を
含浸させ混合した。再度真空下に90℃で乾燥させてから
混合物を、350℃で5時間焼成させた。このようにし
て15mlの触媒を活性化させた。
この粗製触媒の4.6mlを、小さな反応器中で50ml/分
の水素/窒素ガス流を140℃で1.5時間活性化し、こ
の間、最初の1時間内に水素含有率を直線状に0から1
00%まで増加させた。次に水素流を3.75ml/分(9.2
ミリモル/時間)に調製し、反応器内の温度を200℃
まで上げた。次に135.2g(1モル)の2−メチル−6
−エチルアニリンと180.2g(2モル)の1−メトキス
プロパノール−2の混合物を3ml/時間の速度で反応器
に吸い上げ、蒸発させ、ガス状で触媒層上を、2モルの
2−メチル−6−エチルアニリン/時間/触媒のの添
加速度に相当するように通過させた。15時間反応させ
ると、下記の結果が得られた。
の水素/窒素ガス流を140℃で1.5時間活性化し、こ
の間、最初の1時間内に水素含有率を直線状に0から1
00%まで増加させた。次に水素流を3.75ml/分(9.2
ミリモル/時間)に調製し、反応器内の温度を200℃
まで上げた。次に135.2g(1モル)の2−メチル−6
−エチルアニリンと180.2g(2モル)の1−メトキス
プロパノール−2の混合物を3ml/時間の速度で反応器
に吸い上げ、蒸発させ、ガス状で触媒層上を、2モルの
2−メチル−6−エチルアニリン/時間/触媒のの添
加速度に相当するように通過させた。15時間反応させ
ると、下記の結果が得られた。
2−メチル−6−エチルアニリンを基準とした全転化率
(CA):65.4% 2−メチル−6−エチルアリニンを基準とした選択率
(SA):93.7% 水素および抽出物の添加を、50ml/分の窒素/空気の
流で置き換え、この間、1.5時間をかけて空気の割合を
直線状に0〜100%まで、温度を190°〜450℃
まで上昇した。触媒をこれらの条件下に3時間保つてか
ら、窒素流中で140℃まで冷却してから、上記したの
と同様にして、水素で活性化した。
(CA):65.4% 2−メチル−6−エチルアリニンを基準とした選択率
(SA):93.7% 水素および抽出物の添加を、50ml/分の窒素/空気の
流で置き換え、この間、1.5時間をかけて空気の割合を
直線状に0〜100%まで、温度を190°〜450℃
まで上昇した。触媒をこれらの条件下に3時間保つてか
ら、窒素流中で140℃まで冷却してから、上記したの
と同様にして、水素で活性化した。
次に、上記の周期を24時間で実施した。第1周期後、
触媒の活性は、第1通路と比較して増大している。数週
間後にやつと、選択性の低下が認められた。
触媒の活性は、第1通路と比較して増大している。数週
間後にやつと、選択性の低下が認められた。
同じ触媒を使用して、以下の実施例を行つた。
結果は下記の表に示す通りであつた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 309/32 7729−4C // C07B 61/00 300
Claims (19)
- 【請求項1】式(I) (式中、R1およびR2は、各々独立してC1〜C6ア
ルキル基、C1〜C6アルコキシ基または水素であり、 R3は、C1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアル
キル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4アルコキ
シ−C1〜C4アルキル基、フェニル基または水素であ
り、 R4はC1〜C6アルキル基、C1〜C4アルコキシ
基、フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基または水
素であり、R3とR4とがそれらが結合している炭素で
たがいに連結して、1つまたは2つのC1〜C4アルキ
ル基で置換されているか、または置換されていない4〜
7員のイソ環状環を形成しているか、ピラン環またはテ
トラヒドロピラン環を形成していてもよい。) で示されるN−アルキルアニリンを、式(II) (式中、R1およびR2は式(I)におけるのと同様で
ある。) で示されるアニリンと、式(III) (式中、R3およびR4は式(I)におけるのと同様で
ある。) で示されるアルコールと、水素および触媒の存在下反応
させて製造する際、150〜300℃の温度下、0.5〜6パー
ルの気圧下に、担体としてのシリカゲル、0.2〜10%の
白金、0.05〜3%のカルシウムおよび/またはバリウム
元素の化合物の1種以上、および付加的にスズ化合物を
含み、スズに対する白金の原子比が1〜6になるように
含有し、シリカゲルが、300〜700m2/gの比表面積、0.
25〜1.0ml/gの気孔容積、1〜8のnmを平均気孔半
径、0.25〜0.9g/mlを嵩密度、1〜5%の合水率を持
ち、鉄、アルミニウムおよびチタンの全含有率が750ppm
以下である触媒の存在下に製造する方法。 - 【請求項2】反応を175〜225℃の範囲で行う特許請求の
範囲第1項記載の製造方法。 - 【請求項3】反応を1〜4バールの圧力下に行う特許請
求の範囲第1項記載の製造方法。 - 【請求項4】反応を時速で、0.5〜10モルの式(II)の
アニリン/l触媒の添加で行う特許請求の範囲第1項記
載の製造方法。 - 【請求項5】反応を時速で1〜5モルの式(II)のアニ
リン/l触媒の添加で行う特許請求の範囲第1項記載の
製造方法。 - 【請求項6】式(III)のアルコール式(II)のアニリ
ンに対するモル比を、0.1〜10にする特許請求の範囲第
1項記載の製造方法。 - 【請求項7】式(III)のアルコールの式(II)のアニ
リンに対するモル比を1.1〜2.1にする特許請求の範囲第
6項記載の製造方法。 - 【請求項8】水素の添加を0.5〜10モル/式(II)のア
ニリンのモルのモルのモル比で行う特許請求の範囲第1
項記載の製造方法。 - 【請求項9】水素の添加を0.8〜1.2モル/式(II)のア
ニリンのモルのモル比で行う特許請求の範囲第8項記載
の製造方法。 - 【請求項10】触媒が0.5〜6%の白金、0.1〜2%のカ
ルシウムまたはバリウムからなる元素から選択された1
種以上の化合物およびスズ化合物からなり、白金のスズ
に対する原子比が2.5〜3.5である特許請求の範囲第1項
記載の製造方法。 - 【請求項11】R1がC1〜C3アルキル基または水素
であり、R2がC1〜C3アルキル基またはC1〜C2
アルコキシ基であり、R3がC1〜C3アルコキシメチ
ル基であり、R4がメチル基または水素であり、R3と
R4がそれらが結合している炭素原子で互いに連結し
て、シクロヘキシル、2−メチルシクロヘキシルまたは
2,6−ジメチルシクロヘキシル基を形成している特許
請求の範囲第1項記載の製造方法。 - 【請求項12】R4がC1〜C6アルキル基、C1〜C
4アルコキシ基、フルフリル基またはテトラヒドロフル
フリル基である特許請求の範囲第1項記載の製造方法。 - 【請求項13】R3とR4が、それらが結合している炭
素と互いに連結してピラン環またはテトラヒドロピラン
環を形成している特許請求の範囲第1項記載の製造方
法。 - 【請求項14】2−メチル−6−エチルアニリンと、1
−メトキシプロパノール−2とを、1:1〜2:1のモ
ル比で、2−メチル−6−エチルアニリンのモル当り1
モルの水素を加え、3〜5%の白金、0.1〜2%のカル
シウム化合物および、白金/スズの原子比が2.5〜3.5の
スズ(II)化合物からなる触媒の存在下に、200℃で常
圧下に反応させて、2−メチル−6−エチル−N−(1
−メチル−2−メトキシエチル)アニリンを製造する特
許請求の範囲第1項記載の製造方法。 - 【請求項15】2,6−ジメチルアニリンと2−プロポ
キシエタノールを1:1〜2:1のモル比で、2,6−
ジメチルアニリンのモル当り1モルの水素を添加して、
3〜5%の白金、0.1〜2%のカルシウム化合物および
白金/スズの原子比が2.5〜3.5となる量のスズ(II)化
合物からなる触媒の存在下に、190℃で常圧下に反応さ
せて、2,6−ジエチル−N−2−プロポキシエチルア
ニリンを製造する特許請求の範囲第1項記載の製造方
法。 - 【請求項16】(I) (式中、R1およびR2は、各々独立してC1〜C6ア
ルキル基、C1〜C6アルコキシ基または水素であり、 R3は、C1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアル
キル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4アルコキ
シ−C1〜C4アルキル基、フェニル基または水素であ
り、 R4はC1〜C6アルキル基、C1〜C4アルコキシ
基、フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基または水
素であり、R3とR4とがそれらが結合している炭素で
たがいに連結し、1つまたは2つのC1〜C4アルキル
基で置換されているか、または置換されていない4〜7
員のイソ環状環を形成しているか、ピラン環またはテト
ラヒドロピラン環を形成していてもよい。) で示されるN−アルキルアニリンを、式(II) (式中、R1およびR2は式(I)におけるのと同様で
ある。) で示されるアニリンと、式(III) (式中、R3およびR4は式(I)におけるのと同様で
ある。) で示されるアルコールとを、水素および触媒の存在下反
応させて製造する際、担体としてのシリカゲル、0.2〜1
0%の白金、0.05〜3%のカルシウムおよび/またはバ
リウム元素の化合物の1種以上、および付加的にスズ化
合物を含み、スズに対する白金の原子比が1〜6になる
ように含有している触媒の存在下に製造する方法に用い
られ、シリカゲルが、300〜700m2/gの比表面積、0.25
〜1.0ml/gの気孔容積、1〜8nmの平均気孔半径、0.2
5〜0.9g/mlを嵩密度、1〜5%の合水率を持ち、鉄、
アルミニウムおよびチタンの全含有率が750ppm以下であ
るN−アルキルアニリンの製造用触媒。 - 【請求項17】シリカゲルが、400〜600m2/gの比表面
積、0.35〜0.75ml/gの気孔容積、2〜4nmの平均気孔
半径、0.65〜0.75g/mlの嵩密度および1.5〜2.5%の含
水率を持つものであり、鉄、アルミニウムおよびチタン
の全含有率が500ppmである特許請求の範囲第16項記載
の触媒。 - 【請求項18】0.5〜6%の白金、0.1〜2%のカルシウ
ムおよびバリウムからなる元素から選択された1種以上
の化合物、およびスズの化合物からなり、スズに対する
白金の原子比が2.5〜3.5である特許請求の範囲第16項
記載の触媒。 - 【請求項19】3〜5%の白金、0.1〜2%のカルシウ
ム化合物および白金/スズの原子比が2.5〜3.5のスズ
(II)化合物からなる特許請求の範囲第16項記載の触
媒。
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---|---|---|---|
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---|---|
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JP (1) | JPH062230B2 (ja) |
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CN102617355B (zh) * | 2011-01-26 | 2013-11-20 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种经由伯胺脱氨制备仲胺的方法 |
CN111100019B (zh) * | 2020-01-08 | 2023-04-07 | 浙江工业大学 | N,n-二正丙基-2-丙氧基乙胺及其制备方法与应用 |
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US4183868A (en) * | 1978-04-26 | 1980-01-15 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of 2,6-dialkyl-N-alkylanilines |
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-
1986
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- 1986-01-28 JP JP61014892A patent/JPH062230B2/ja not_active Expired - Lifetime
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