JPH06214110A - カラ−フィルタ及びカラ−液晶表示装置 - Google Patents
カラ−フィルタ及びカラ−液晶表示装置Info
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- JPH06214110A JPH06214110A JP577893A JP577893A JPH06214110A JP H06214110 A JPH06214110 A JP H06214110A JP 577893 A JP577893 A JP 577893A JP 577893 A JP577893 A JP 577893A JP H06214110 A JPH06214110 A JP H06214110A
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- liquid crystal
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- color filter
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Abstract
(57)【要約】
【目的】この発明は、ダミ−画素への応力発生によるシ
−ル材の剥がれ発生が防止出され、表示領域周辺部の間
隙むらも解消出来るカラ−フィルタ及びカラ−液晶表示
装置を提供することを目的とする。 【構成】この発明のカラ−フィルタは、透明基板1上に
遮光層2が所定パタ−ンに形成され、この遮光層を覆っ
て透明基板上に表示領域周辺部のダミ−画素3eを含む
着色層3a,3b,3cが形成されてなり、更にダミ−
画素は単位面積当りの密度が周辺にいくほど小さく形成
されてなる。又、この発明のカラ−液晶表示装置は、第
1の基板と、この第1の基板と所定の間隙を介して対向
配置され周辺部がシ−ル材11,12により封着され対
向面側に少なくとも電極を有する第2の基板と、間隙に
挾持された液晶13とを具備してなり、更に第1の基板
は上記のカラ−フィルタ8であることにより、上記の目
的を達成することが出来る。
−ル材の剥がれ発生が防止出され、表示領域周辺部の間
隙むらも解消出来るカラ−フィルタ及びカラ−液晶表示
装置を提供することを目的とする。 【構成】この発明のカラ−フィルタは、透明基板1上に
遮光層2が所定パタ−ンに形成され、この遮光層を覆っ
て透明基板上に表示領域周辺部のダミ−画素3eを含む
着色層3a,3b,3cが形成されてなり、更にダミ−
画素は単位面積当りの密度が周辺にいくほど小さく形成
されてなる。又、この発明のカラ−液晶表示装置は、第
1の基板と、この第1の基板と所定の間隙を介して対向
配置され周辺部がシ−ル材11,12により封着され対
向面側に少なくとも電極を有する第2の基板と、間隙に
挾持された液晶13とを具備してなり、更に第1の基板
は上記のカラ−フィルタ8であることにより、上記の目
的を達成することが出来る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、フルカラ−表示の可
能な液晶表示装置に使用して好適なカラ−フィルタ及び
カラ−液晶表示装置に関する。
能な液晶表示装置に使用して好適なカラ−フィルタ及び
カラ−液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に液晶による表示装置は、軽量,薄
形化が可能で、而も低電圧駆動,低消費電力という発光
型ディスプレイには見られない特長を有することから、
ラップトップタイプやブックタイプのパソコンやワ−プ
ロのディスプレイを始め、各種OA機器のディスプレイ
として広く用いられている。特に近年は、カラ−ブラウ
ン管以外では唯一フルカラ−表示が可能なディスプレイ
として注目されている。このカラ−液晶表示装置は、駆
動方式により単純マトリックス型及びアクティブマトリ
ックス型に大きく分けられ、基本的に対向配置した透明
基板の対向面に多数の画素を構成するように透明電極を
形成し、これらの電極間に液晶組成物を保持させた構造
を有し、フルカラ−表示のためにカラ−フィルタを使用
している。
形化が可能で、而も低電圧駆動,低消費電力という発光
型ディスプレイには見られない特長を有することから、
ラップトップタイプやブックタイプのパソコンやワ−プ
ロのディスプレイを始め、各種OA機器のディスプレイ
として広く用いられている。特に近年は、カラ−ブラウ
ン管以外では唯一フルカラ−表示が可能なディスプレイ
として注目されている。このカラ−液晶表示装置は、駆
動方式により単純マトリックス型及びアクティブマトリ
ックス型に大きく分けられ、基本的に対向配置した透明
基板の対向面に多数の画素を構成するように透明電極を
形成し、これらの電極間に液晶組成物を保持させた構造
を有し、フルカラ−表示のためにカラ−フィルタを使用
している。
【0003】この種のカラ−フィルタは、従来、図4お
よび図5に示すように構成され、透明基板1の一方の面
上に遮光層(ブラックマトリックス)2が所定パタ−ン
つまり個々の画素を仕切る部分に形成される。更に、こ
の遮光層2により区画形成された画素部にR(赤),G
(緑),B(青)の着色層3a,3b,3cが形成さ
れ、更に遮光層2の額縁7にR(赤),G(緑),B
(青)のダミ−画素3dが形成され、これらの上に透明
保護膜4,透明導電膜5および配向膜6が順次積層して
形成されている。
よび図5に示すように構成され、透明基板1の一方の面
上に遮光層(ブラックマトリックス)2が所定パタ−ン
つまり個々の画素を仕切る部分に形成される。更に、こ
の遮光層2により区画形成された画素部にR(赤),G
(緑),B(青)の着色層3a,3b,3cが形成さ
れ、更に遮光層2の額縁7にR(赤),G(緑),B
(青)のダミ−画素3dが形成され、これらの上に透明
保護膜4,透明導電膜5および配向膜6が順次積層して
形成されている。
【0004】この場合、一般に透明基板1にはガラス基
板などが用いられ、又、遮光層2はスパッタリング法に
より形成したCr薄膜をパタ−ンエッチングする方法に
より形成されている。更に、着色層3a,3b,3cは
R(赤),G(緑),B(青)の3原色に対応する3種
類の色素を1種類づつ各画素部に配置する方法が用いら
れ、その配置の方法としては、染色法,染料分散法,顔
料分散法,印刷法,電着法,色素蒸着法などが知られて
いる。又、透明保護膜4にはアクリル樹脂やエポキシ樹
脂などが、透明導電膜5にはITO(Indium Tin Oxid
e)薄膜が、配向膜6にはポリイミド薄膜がそれぞれ一
般に用いられている。
板などが用いられ、又、遮光層2はスパッタリング法に
より形成したCr薄膜をパタ−ンエッチングする方法に
より形成されている。更に、着色層3a,3b,3cは
R(赤),G(緑),B(青)の3原色に対応する3種
類の色素を1種類づつ各画素部に配置する方法が用いら
れ、その配置の方法としては、染色法,染料分散法,顔
料分散法,印刷法,電着法,色素蒸着法などが知られて
いる。又、透明保護膜4にはアクリル樹脂やエポキシ樹
脂などが、透明導電膜5にはITO(Indium Tin Oxid
e)薄膜が、配向膜6にはポリイミド薄膜がそれぞれ一
般に用いられている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な従来のカラ−フィルタにおいては、セルに組み込んだ
時に生じる周辺部の間隙を防止するために、ダミ−画素
3dを形成しているが、ダミ−画素3dを形成する幅が
スペ−スの点で制約されていることが多い。そこで、通
常、本画素と同一形状の2〜3絵素分のダミ−画素3d
を形成している場合が多く、その場合、ダミ−画素3d
の直ぐ近傍でシ−ル材により封着している。従って、着
色層の厚さがばらついて、シ−ル材のファイバ径より着
色層が厚い場合、ダミ−画素3d端部に応力が発生し、
シ−ル材の剥がれが生じ易い。
な従来のカラ−フィルタにおいては、セルに組み込んだ
時に生じる周辺部の間隙を防止するために、ダミ−画素
3dを形成しているが、ダミ−画素3dを形成する幅が
スペ−スの点で制約されていることが多い。そこで、通
常、本画素と同一形状の2〜3絵素分のダミ−画素3d
を形成している場合が多く、その場合、ダミ−画素3d
の直ぐ近傍でシ−ル材により封着している。従って、着
色層の厚さがばらついて、シ−ル材のファイバ径より着
色層が厚い場合、ダミ−画素3d端部に応力が発生し、
シ−ル材の剥がれが生じ易い。
【0006】この発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、セル組み込みの際、応力の発生を低下させ、シ−ル
材の剥がれを防止し、且つ表示領域周辺部の間隙むらも
解消したカラ−フィルタ及びカラ−液晶表示装置を提供
することを目的とする。
で、セル組み込みの際、応力の発生を低下させ、シ−ル
材の剥がれを防止し、且つ表示領域周辺部の間隙むらも
解消したカラ−フィルタ及びカラ−液晶表示装置を提供
することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明は、透明基板上
に遮光層が所定パタ−ンに形成され、この遮光層を覆っ
て透明基板上に表示領域周辺部のダミ−画素を含む着色
層が形成されてなり、更にダミ−画素は単位面積当りの
密度が周辺にいくほど小さく形成されてなるカラ−フィ
ルタである。
に遮光層が所定パタ−ンに形成され、この遮光層を覆っ
て透明基板上に表示領域周辺部のダミ−画素を含む着色
層が形成されてなり、更にダミ−画素は単位面積当りの
密度が周辺にいくほど小さく形成されてなるカラ−フィ
ルタである。
【0008】又、この発明は、第1の基板と、この第1
の基板と所定の間隙を介して対向配置され周辺部がシ−
ル材により封着され対向面側に少なくとも電極を有する
第2の基板と、間隙に挾持された液晶とを具備してな
り、更に第1の基板は上記のカラ−フィルタであるカラ
−液晶表示装置である。
の基板と所定の間隙を介して対向配置され周辺部がシ−
ル材により封着され対向面側に少なくとも電極を有する
第2の基板と、間隙に挾持された液晶とを具備してな
り、更に第1の基板は上記のカラ−フィルタであるカラ
−液晶表示装置である。
【0009】
【作用】一般にセル組込みの際に端部に最も応力がかか
るが、この発明によれば、ダミ−画素は単位面積当りの
密度が周辺にいくほど小さく形成されているので、ダミ
−画素が潰され易く応力が緩和出来、その結果、シ−ル
材の剥がれが防止される。又、ダミ−画素の領域で間隙
が吸収され、むらも解消出来、高品位のカラ−液晶表示
装置が得られる。
るが、この発明によれば、ダミ−画素は単位面積当りの
密度が周辺にいくほど小さく形成されているので、ダミ
−画素が潰され易く応力が緩和出来、その結果、シ−ル
材の剥がれが防止される。又、ダミ−画素の領域で間隙
が吸収され、むらも解消出来、高品位のカラ−液晶表示
装置が得られる。
【0010】
【実施例】以下、図面を参照して、この発明の一実施例
を詳細に説明する。
を詳細に説明する。
【0011】この発明のカラ−フィルタは図1および図
2に示すように構成され、従来例(図4および図5)と
同一箇所には同一符号を付すことにし、製造方法的に述
べる。図1において符号1は、例えば厚さ1.1mmの
硼硅酸ガラス板に表面洗浄処理を施して得られた透明基
板1である。この透明基板1の一主面上には、例えば厚
さ0.15mmのCr膜をスパッタリング法などにより
成膜した後、フォトリソグラフィ法により不要部分をエ
ッチング除去して、遮光層(ブラックマトリックス)2
が所定パタ−ンに形成されている。図中の符号7は遮光
層2の額縁である。この遮光層2を覆って、R(赤),
G(緑),B(青)の着色層3a,3b,3cが、例え
ばそれぞれの着色顔料を含有するカラ−レジストを用い
るフォトリソグラフィ法、あるいは着色顔料を含有のイ
ンクを印刷する印刷法などにより所定のパタ−ンで、即
ち、各着色層3a,3b,3cが少なくとも画素を構成
する遮光層2の開口部のそれぞれの所要位置に配置され
るように形成されている。又、遮光層2の額縁7上つま
り表示領域周辺部に複数のダミ−画素3eが形成されて
いる。この場合、ダミ−画素3eもR(赤),G
(緑),B(青)の着色層であるが、単位面積当りの密
度が周辺にいくほど小さく形成されており、この実施例
では図示のように表示領域の着色層3a,3b,3cよ
りも面積が小さく、周辺にいくほどより小さくなってい
る。
2に示すように構成され、従来例(図4および図5)と
同一箇所には同一符号を付すことにし、製造方法的に述
べる。図1において符号1は、例えば厚さ1.1mmの
硼硅酸ガラス板に表面洗浄処理を施して得られた透明基
板1である。この透明基板1の一主面上には、例えば厚
さ0.15mmのCr膜をスパッタリング法などにより
成膜した後、フォトリソグラフィ法により不要部分をエ
ッチング除去して、遮光層(ブラックマトリックス)2
が所定パタ−ンに形成されている。図中の符号7は遮光
層2の額縁である。この遮光層2を覆って、R(赤),
G(緑),B(青)の着色層3a,3b,3cが、例え
ばそれぞれの着色顔料を含有するカラ−レジストを用い
るフォトリソグラフィ法、あるいは着色顔料を含有のイ
ンクを印刷する印刷法などにより所定のパタ−ンで、即
ち、各着色層3a,3b,3cが少なくとも画素を構成
する遮光層2の開口部のそれぞれの所要位置に配置され
るように形成されている。又、遮光層2の額縁7上つま
り表示領域周辺部に複数のダミ−画素3eが形成されて
いる。この場合、ダミ−画素3eもR(赤),G
(緑),B(青)の着色層であるが、単位面積当りの密
度が周辺にいくほど小さく形成されており、この実施例
では図示のように表示領域の着色層3a,3b,3cよ
りも面積が小さく、周辺にいくほどより小さくなってい
る。
【0012】更に、この着色層3a,3b,3cおよび
ダミ−画素3e上に、例えばアクリル樹脂をスピンコ−
トして厚さ1.0μmの透明保護膜4が形成される。次
いで、この透明保護膜4上に,ITOをスパッタリング
法により成膜し、加熱処理して厚さ0.1μmの透明導
電膜5が形成され、更にポリイミド樹脂をスクリ−ン印
刷して厚さ30nmの配向膜6が形成されている。
ダミ−画素3e上に、例えばアクリル樹脂をスピンコ−
トして厚さ1.0μmの透明保護膜4が形成される。次
いで、この透明保護膜4上に,ITOをスパッタリング
法により成膜し、加熱処理して厚さ0.1μmの透明導
電膜5が形成され、更にポリイミド樹脂をスクリ−ン印
刷して厚さ30nmの配向膜6が形成されている。
【0013】上記のようなダミ−画素3eを設けること
で、セル組込みの際にダミ−画素3eに応力がかかって
も、その部分の密度が小さくなっているので、その応力
によりダミ−画素が潰れ易く、又、シ−ル材(後述)が
めり込み易くなり、応力が緩和出来る。その結果、シ−
ル材の剥がれ発生がなくなり、且つ表示領域周辺部の間
隙むらの発生も防止出来る。
で、セル組込みの際にダミ−画素3eに応力がかかって
も、その部分の密度が小さくなっているので、その応力
によりダミ−画素が潰れ易く、又、シ−ル材(後述)が
めり込み易くなり、応力が緩和出来る。その結果、シ−
ル材の剥がれ発生がなくなり、且つ表示領域周辺部の間
隙むらの発生も防止出来る。
【0014】さて次に、この発明のカラ−フィルタを用
いたカラ−液晶表示装置について説明する。このカラ−
液晶表示装置は図3に示すように構成され、図中の符号
8が第1の基板であるこの発明のカラ−フィルタであ
る。このカラ−フィルタ8と個別電極9を有する第2の
基板である透明基板10とは、所定の間隙を介して対向
配置され周辺部がシ−ル材11,12により封着されて
いる。そして、間隙には液晶13が充填されている。更
にカラ−フィルタ8と透明基板10のそれぞれ外側に、
偏光板14,15が配置されている。尚、図3では便宜
上、配向膜6とダミ−画素3eは省略して図示していな
い。
いたカラ−液晶表示装置について説明する。このカラ−
液晶表示装置は図3に示すように構成され、図中の符号
8が第1の基板であるこの発明のカラ−フィルタであ
る。このカラ−フィルタ8と個別電極9を有する第2の
基板である透明基板10とは、所定の間隙を介して対向
配置され周辺部がシ−ル材11,12により封着されて
いる。そして、間隙には液晶13が充填されている。更
にカラ−フィルタ8と透明基板10のそれぞれ外側に、
偏光板14,15が配置されている。尚、図3では便宜
上、配向膜6とダミ−画素3eは省略して図示していな
い。
【0015】
【発明の効果】この発明によれば、ダミ−画素は単位面
積当りの密度が周辺にいくほど小さく形成されているの
で、製造時にダミ−画素への応力発生によるシ−ル材の
剥がれ発生が防止出来る。又、表示領域周辺部の間隙む
らも解消出来、高品位のカラ−液晶表示装置が得られ
る。
積当りの密度が周辺にいくほど小さく形成されているの
で、製造時にダミ−画素への応力発生によるシ−ル材の
剥がれ発生が防止出来る。又、表示領域周辺部の間隙む
らも解消出来、高品位のカラ−液晶表示装置が得られ
る。
【図1】この発明のカラ−フィルタを示す平面図。
【図2】図1のA−A′線に沿って切断し矢印方向に見
た断面図。
た断面図。
【図3】この発明のカラ−液晶表示装置を示す断面図。
【図4】従来のカラ−フィルタを示す平面図。
【図5】図4のB−B′線に沿って切断し矢印方向に見
た断面図。
た断面図。
1…透明基板、2…遮光層、3a,3b,3c…着色
層、3e…ダミ−画素、4…透明保護膜、5…透明導電
膜、6…配向膜、7…遮光層の額縁、8…カラ−フィル
タ(第1の基板)、9…個別電極、10…透明基板(第
2の基板)、11,12…シ−ル材、13…液晶、1
4,15…偏光板。
層、3e…ダミ−画素、4…透明保護膜、5…透明導電
膜、6…配向膜、7…遮光層の額縁、8…カラ−フィル
タ(第1の基板)、9…個別電極、10…透明基板(第
2の基板)、11,12…シ−ル材、13…液晶、1
4,15…偏光板。
Claims (2)
- 【請求項1】 透明基板上に遮光層が所定パタ−ンに形
成され、該遮光層を覆って上記透明基板上に表示領域周
辺部のダミ−画素を含む着色層が形成されてなるカラ−
フィルタにおいて、 上記ダミ−画素は単位面積当りの密度が周辺にいくほど
小さく形成されてなることを特徴とするカラ−フィル
タ。 - 【請求項2】 第1の基板と、この第1の基板と所定の
間隙を介して対向配置され周辺部がシ−ル材により封着
され対向面側に少なくとも電極を有する第2の基板と、
上記間隙に挾持された液晶とを具備するカラ−液晶表示
装置において、 上記第1の基板は請求項1記載のカラ−フィルタである
ことを特徴とするカラ−液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP577893A JPH06214110A (ja) | 1993-01-18 | 1993-01-18 | カラ−フィルタ及びカラ−液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP577893A JPH06214110A (ja) | 1993-01-18 | 1993-01-18 | カラ−フィルタ及びカラ−液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06214110A true JPH06214110A (ja) | 1994-08-05 |
Family
ID=11620573
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP577893A Pending JPH06214110A (ja) | 1993-01-18 | 1993-01-18 | カラ−フィルタ及びカラ−液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06214110A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100691707B1 (ko) * | 2004-05-19 | 2007-03-09 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 컬러 필터 기판의 제조 방법, 전기 광학 장치의 제조 방법,전기 광학 장치, 전자 기기 |
JP2007171560A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶装置および電子機器 |
WO2023142173A1 (zh) * | 2022-01-25 | 2023-08-03 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其制作方法 |
-
1993
- 1993-01-18 JP JP577893A patent/JPH06214110A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100691707B1 (ko) * | 2004-05-19 | 2007-03-09 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 컬러 필터 기판의 제조 방법, 전기 광학 장치의 제조 방법,전기 광학 장치, 전자 기기 |
US7459177B2 (en) | 2004-05-19 | 2008-12-02 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing color filter substrate, method of manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus |
JP2007171560A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶装置および電子機器 |
WO2023142173A1 (zh) * | 2022-01-25 | 2023-08-03 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其制作方法 |
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