JPH06211755A - ２−メチル−３−アミノベンゾトリフロライドの製造方法 - Google Patents

２−メチル−３−アミノベンゾトリフロライドの製造方法

Info

Publication number
JPH06211755A
JPH06211755A JP5006184A JP618493A JPH06211755A JP H06211755 A JPH06211755 A JP H06211755A JP 5006184 A JP5006184 A JP 5006184A JP 618493 A JP618493 A JP 618493A JP H06211755 A JPH06211755 A JP H06211755A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
methyl
reaction
nitro
trifluoromethyl
aminobenzotrifluoride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5006184A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2698306B2 (ja
Inventor
Takayuki Nishinomiya
孝之 西宮
Masatomi Kanai
正富 金井
Toshikazu Kawai
俊和 河合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Central Glass Co Ltd filed Critical Central Glass Co Ltd
Priority to JP5006184A priority Critical patent/JP2698306B2/ja
Priority to US08/177,490 priority patent/US5449831A/en
Priority to GB9400447A priority patent/GB2275266B/en
Priority to FR9400435A priority patent/FR2700538B1/fr
Priority to DE4401124A priority patent/DE4401124C2/de
Publication of JPH06211755A publication Critical patent/JPH06211755A/ja
Priority to US08/467,678 priority patent/US5600036A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2698306B2 publication Critical patent/JP2698306B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C201/00—Preparation of esters of nitric or nitrous acid or of compounds containing nitro or nitroso groups bound to a carbon skeleton
    • C07C201/06—Preparation of nitro compounds
    • C07C201/08—Preparation of nitro compounds by substitution of hydrogen atoms by nitro groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
    • C07C17/10—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms
    • C07C17/12—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms in the ring of aromatic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/23—Preparation of halogenated hydrocarbons by dehalogenation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C209/30—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of nitrogen-to-oxygen or nitrogen-to-nitrogen bonds
    • C07C209/32—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of nitrogen-to-oxygen or nitrogen-to-nitrogen bonds by reduction of nitro groups
    • C07C209/36—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of nitrogen-to-oxygen or nitrogen-to-nitrogen bonds by reduction of nitro groups by reduction of nitro groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings in presence of hydrogen-containing gases and a catalyst
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C25/00—Compounds containing at least one halogen atom bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C25/02—Monocyclic aromatic halogenated hydrocarbons
    • C07C25/13—Monocyclic aromatic halogenated hydrocarbons containing fluorine

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 ｏ−トリフルオロメチルベンザルハラ
イドをハロゲン化して２−トリフルオロメチル−４−ハ
ロゲノベンザルハライドとする工程、 ２−トリフルオロメチル−４−ハロゲノベンザルハ
ライドを水素還元して２−メチルモノハロゲノベンゾト
リフロライドとする工程、 ２−メチルモノハロゲノベンゾトリフロライドをニ
トロ化して２−メチル−３−ニトロ−５−ハロゲノベン
ゾトリフロライドとする工程、 ２−メチル−３−ニトロ−５−ハロゲノベンゾトリ
フロライドを水素還元する四工程からなることを特徴と
する２−メチル−３−アミノベンゾトリフロライドの製
造方法。 【効果】 本発明の方法では、将来使用の規制される四
塩化炭素を原料として用いることなく、且つ高収率、高
生産性で２−メチル−３−アミノベンゾトリフロライド
を製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は２−メチル−３−アミノ
ベンゾトリフロライド（ＭＡ−ＢＴＦ）の製造法に関す
る。
【０００２】ＭＡ−ＢＴＦは医薬、農薬、化学製品の中
間体として有用な化合物であり、例えば米国特許３８９
１７６１号及び米国特許３８３９３４４号にはフルニキ
シンに誘導し、消炎鎮痛剤として使用することが記載さ
れている。
【０００３】
【従来の技術】ＭＡ−ＢＴＦを製造する公知の方法とし
ては、米国特許４２０９４６４号明細書に開示された、
３−アミノ−４−クロロベンゾトリフロライドを五酸化
リンおよびトリエチルアミンの存在下でジメチルスルホ
キシドと反応させ、Ｎ−（２−クロロ−５−トリフルオ
ロメチル）フェニル−Ｓ，Ｓ−ジメチルスルファミドを
製造し、これを転位反応により３−アミノ−４−クロロ
−２−メチルチオメチルベンゾトリフロライドとし、つ
いでラネ−ニッケルを用いて還元しＭＡ−ＢＴＦを製造
する方法がある。また、特開昭６２−１０６５７１号、
特開昭６２−１０６５７２号の各明細書には、３，４−
ジクロロトルエンを塩化アルミニウムの存在下で四塩化
炭素によりトリクロロメチル化し２−メチル−４，５−
ジクロロベンゾトリクロライドとし、フッ素化し２−メ
チル−４，５−ジクロロベンゾトリフロライドとし、ニ
トロ化により２−メチル−３−ニトロ−４，５−ジクロ
ロベンゾトリフロライドとし、これを水素還元反応によ
りニトロ基の還元と共に脱クロル化によってＭＡ−ＢＴ
Ｆを製造する方法が記載されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】米国特許４２０９４６
４号明細書の方法では、多量の五酸化リンを使用するの
で生成物の回収方法、処理方法に問題があり、工業的に
実施するのは適さない。また、特開昭６２−１０６５７
１号または特開昭６２−１０６５７２号の各明細書の方
法では四塩化炭素を原料として使用しているが、四塩化
炭素は環境問題（オゾン層の破壊）により使用が規制さ
れ、今後はこの方法ではＭＡ−ＢＴＦを製造することは
できなくなることも予想される。
【０００５】上述の様に、将来にわたって実施できる工
業的なＭＡ−ＢＴＦの製造方法が確立されているとはい
えない。
【０００６】
【問題を解決するための手段】本発明者らは、ＭＡ−Ｂ
ＴＦの新規製造法について検討したところ、特定の反応
原料と反応経路を選定することにより、上記の問題点を
回避し得ることを見出し、本発明に到達したものであ
る。
【０００７】すなわち、本発明は式１に示すように ｏ
−トリフルオロメチルベンザルハライドから２−メチル
−３−アミノベンゾトリフロライドを製造する方法であ
って、次式において、 化合物〔Ｉ〕をハロゲン化して化合物〔ＩＩ〕とす
る工程、 化合物〔ＩＩ〕を水素還元して化合物〔ＩＩＩ〕と
する工程、 化合物〔ＩＩＩ〕をニトロ化して化合物〔ＩＶ〕と
する工程、 化合物〔ＩＶ〕を水素還元して化合物〔Ｖ〕とする
工程、の四工程からなることを特徴とする２−メチル−
３−アミノベンゾトリフロライドの製造方法である。
【０００８】
【化１】
【０００９】（式中、Ｘ、Ｙは同一または異なるハロゲ
ン原子を表す。）第一段階は、ｏ−トリフルオロメチル
ベンザルハライドを触媒の存在下でハロゲンと接触させ
るモノハロゲン化反応であり、さらに反応後の反応液を
水洗浄する工程である。生成物は２−トリフルオロメチ
ル−４−ハロゲノベンザルハライドを主生成物とした核
モノハロゲン化物の混合物である。第二段階は、第一段
階で得たモノハロゲン化物を金属坦持触媒、および任意
的に塩基性物質の存在下において、液相状態で水素と接
触せしめるベンザル基の脱ハロゲン反応であり、反応
後、濾過により触媒および塩を除き、さらに水洗後、乾
燥剤を用いて乾燥し濾過により乾燥剤を除くことよりな
る工程である。生成物は２−メチル−５−ハロゲノベン
ゾトリフロライドを主生成物とした２−メチルモノハロ
ゲノベンゾトリフロライドの混合物である。第三段階
は、第二段階で得た２−メチルモノハロゲノベンゾトリ
フロライドを硫酸の存在下で硝酸でニトロ化し、反応
後、生成物を混酸相から二液分離し、水洗、アルカリ水
洗後再度水洗することよりなる工程である。生成物は２
−メチル−３−ニトロ−５−ハロゲノベンゾトリフロラ
イドを主生成物としたニトロ化物の混合物である。第四
段階は、第三段階で得たニトロ化物を金属坦持触媒、お
よび任意的に塩基性物質の存在下において、液相状態で
水素と接触せしめニトロ基の還元反応と併せて脱ハロゲ
ン化反応をおこない、反応後に濾過により触媒および塩
を除き、ついで水洗後、乾燥剤を用いて乾燥し濾過によ
り乾燥剤を除くことよりなる工程である。生成物は２−
メチル−３−アミノベンゾトリフロライド（ＭＡ−ＢＴ
Ｆ）を主生成物とした異性体の混合物である。以上の四
工程の後、再結晶、晶析、蒸留などによりＭＡ−ＢＴＦ
のみを取り出すことを特徴とする製造方法である。
【００１０】第一段階で原料となるｏ−トリフルオロメ
チルベンザルハライドとはｏ−トリフルオロメチルベン
ザルクロライド、ｏ−トリフルオロメチルベンザルブロ
マイド、ｏ−トリフルオロメチルベンザルアイオダイド
などをいい、一方、ハロゲン化に用いるハロゲンとは塩
素、臭素が使用できるが、工業的にはｏ−トリフルオロ
メチルベンザルクロライドと塩素の組合せが最も好まし
い組合せである。また、触媒は塩化第二鉄、臭化第二
鉄、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、五塩化アン
チモン等が好ましく、ヨウ素等の助触媒を添加すること
も可能である。ハロゲン化の反応温度は６０〜１００℃
が好ましい。６０℃以下では反応の進行が遅く、また１
００℃以上では多ハロゲン化物の生成が多くなり好まし
くない。
【００１１】第二段階の反応で使用する金属担持触媒
は、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈなどの貴金属もしくはニッケルな
どを活性炭、アルミナ、ゼオライト、シリカアルミナな
どに担持した担持触媒であり、Ｐｄ／Ｃ、Ｐｄ／アルミ
ナ、Ｐｄ／ゼオライト、Ｐｄ／シリカアルミナなどが好
ましく、その使用量は基質に対して０．１〜５．０重量
％の範囲が好ましい。使用量が０．１重量％以下では反
応が遅くなり、５．０重量％以上であることは特に問題
ではないが不必要である。担体へ担持された金属量は
０．１〜１０重量％であるが、通常市販され用いられる
０．５〜５．０重量％で十分である。ここで任意的に用
いられる塩基性物質はアルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属の水酸化物、炭酸塩、酢酸塩、ホウ酸塩であり、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、
酢酸カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、リ
ン酸二ナトリウム、リン酸三ナトリウム等が好ましい。
また、反応温度は６０〜１００℃の範囲が好ましく、６
０℃以下では反応が遅くなり、１００℃以上では過水素
化反応により核ハロゲンの水素化が起こり好ましくな
い。水素圧力は１〜２０Ｋｇ／ｃｍ2の範囲が好まし
い。１Ｋｇ／ｃｍ2以下では反応が遅く、２０Ｋｇ／ｃ
ｍ 2以上でも反応の点からは問題はないが、装置が構造
上制限を受けるので好ましくない。本発明は気液反応で
あり、気液の接触効率は反応速度に大きな影響を与える
のでこの目的のために工夫された装置を用いるのが好ま
しく、例えば、十分な攪拌を行うことが好ましい。本発
明においてこの反応は水中で行い、その他不活性な有機
溶媒のジエチルエ−テル、メタノ−ル、エタノ−ル、イ
ソプロパノ−ル等の中でも実施できる。
【００１２】第三段階の反応で使用する硫酸は濃硫酸、
発煙硫酸、無水硫酸が用いられ、硝酸は濃硝酸、発煙硝
酸が好ましい。本発明において反応温度は０〜８０℃が
好ましく、０℃以下では反応が遅く、８０℃以上では多
ニトロ化が起こり好ましくない。本反応は塩化メチレ
ン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン
等の不活性な有機溶媒の中でも実施できる。
【００１３】第四段階の反応で使用する金属担持触媒
は、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈなどの貴金属もしくはニッケルな
どを活性炭、アルミナ、ゼオライト、シリカアルミナな
どに担持した担持触媒であり、Ｐｄ／Ｃ、Ｐｄ／アルミ
ナ、Ｐｄ／ゼオライト、Ｐｄ／シリカアルミナなどが好
ましく、その使用量は基質に対して０．１〜５．０重量
％の範囲が好ましい。使用量が０．１重量％以下では反
応が遅くなり、５．０重量％以上であることは特に問題
ではないが不必要である。担体へ担持された金属量は
０．１〜１０重量％であるが、通常市販され用いられる
０．５〜５．０重量％で十分である。ここで任意的に用
いられる塩基性物質はアルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属の水酸物、炭酸塩、酢酸塩、ホウ酸塩であり、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸
カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、リン酸
二ナトリウム、リン酸三ナトリウム等が好ましい。ま
た、反応温度は６０〜１３０℃の範囲が好ましく、６０
℃以下では反応が遅くなり、１３０℃以上では過水素化
反応によりトリフルオロメチル基の水素化が起こり好ま
しくない。水素圧力は１〜２０Ｋｇ／ｃｍ2の範囲が好
ましい。１Ｋｇ／ｃｍ2以下では反応が遅く、２０Ｋｇ
／ｃｍ2以上でも反応の点からは問題はないが、装置が
構造上制限を受けるので好ましくない。本発明は気液反
応であり、気液の接触効率は反応速度に大きな影響を与
えるのでこの目的のために工夫された装置を用いるのが
好ましく、例えば、十分な攪拌を行うことが好ましい。
本発明においてこの反応は水中で行い、その他不活性な
有機溶媒のジエチルエ−テル、メタノ−ル、エタノ−
ル、イソプロパノ−ル等の中でも実施できる。
【００１４】本発明において、各段階で蒸留、再結晶、
晶析などの操作に付することにより主生成物を濃縮また
は単離して実施することもできる。また、本発明におい
て各工程で得られる異性体を含む混合物を、その都度蒸
留または再結晶すれば異性体を除去することは可能であ
るが、第四段階で目的とするＭＡ−ＢＴＦを得るために
は、必ずしもその必要はない。
【００１５】なお、各工程で精製して得られる新規化合
物の物性は次の通りであった。 ２−トリフルオロメチル−４−クロロベンザルクロライド ｂｐ： ８６〜８８℃（４〜５ｍｍＨｇ） ＭＡＳＳ： ｍ／ｚ ２６２（Ｍ＋） ２２７（Ｍ＋−Ｃｌ） １９２（Ｍ＋−Ｃｌ−Ｃｌ） １７７（Ｍ＋−Ｃｌ−ＣＦ3） １５７（Ｍ＋−Ｃｌ−Ｃｌ−Ｃｌ） ＮＭＲ：（1Ｈ in CDCl3、TMS ） δ ７．０２ppm （Ｓ、１Ｈ） ７．５７〜８．１２ppm （ｍ、３Ｈ） （19Ｆ in CFCl3、TMS ） −５９．３４ppm （Ｓ、３Ｆ） ２−メチル−３−ニトロ−５−クロロベンゾトリフロライド ｂｐ： １１９〜１２２℃（２１〜２３ｍｍＨｇ） ＭＡＳＳ： ｍ／ｚ ２３９（Ｍ＋） ２２２（Ｍ＋−Ｏ−Ｈ） １９４（Ｍ＋−ＣＨ3−ＮＯ） ＮＭＲ：（1Ｈ in CDCl3、TMS ） δ ２．５３ppm （Ｓ、３Ｈ） ７．５７〜７．９１ppm （ｍ、２Ｈ） （19Ｆ in CFCl3、TMS ） −６１．５６ppm （Ｓ、３Ｆ） 以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
【００１６】分析はいずれもガスクロマトグラフィ−に
より行なった。
【００１７】
【実施例】２−トリフルオロメチル−４−クロロベンザルクロライ
ドの製造 温度計、攪拌機、ジムロ−ト冷却管、塩素導入管を備え
た５００ｍｌの四口丸底フラスコ内に、ｏ−トリフルオ
ロメチルベンザルクロライド５７０．０ｇ（２．５ｍｏ
ｌ）と塩化第二鉄１１．５ｇ（２．５ｍｏｌ％）、ヨウ
素１．５ｇ（０．５ｍｏｌ％）を仕込み、攪拌を開始す
ると共に反応温度を６０℃へ昇温を開始した。反応温度
が６０℃に達したところで塩素を０．５ｍｏｌ／Ｈｒの
流速で導入し反応を開始した。２時間経過したところで
反応温度を８０℃に上げ、さらに５時間反応し分析した
ところ、反応率９７．０％であった。この反応液を１０
００ｍｌの分液ロ−トに移し５００ｍｌの水で２回洗浄
した。分液した有機物相に硫酸マグネシウムを添加して
乾燥し、減圧濾過により硫酸マグネシウムを除くと、純
度７２．１％の２−トリフルオロメチル−４−クロロベ
ンザルクロライドが６３４．２ｇ得られた。このときの
粗収率は６９．４％であった。
【００１８】２−メチル−５−クロロベンゾトリフロラ
イドの製造 攪拌装置を備えた１０００ｍｌのＳＵＳ−３１６製オ−
トクレ−ブに純度７２．１％の２−トリフルオロメチル
−４−クロロベンザルクロライドを主成分とした異性体
混合物２６３．６ｇ（１．０ｍｏｌ）（２−トリフルオ
ロメチル−４−クロロベンザルクロライドとしては０．
７２ｍｏｌ）と水酸化ナトリウム８４ｇ（２．１ｍｏ
ｌ）および水４２０ｇを入れ５％−Ｐｄ／カ−ボン坦持
触媒５．３ｇ（２．０重量％）を添加した。容器内を水
素で置換し油浴にて３０℃に昇温すると共に水素圧力を
５Ｋｇ／ｃｍ2に保ち攪拌を開始すると水素の吸収が始
った。４時間後に加熱、攪拌を止め冷却後、分析したと
ころ純度７２．１％、２−トリフルオロメチル−４−ク
ロロベンザルクロライドの反応率９９．９％であった。
反応後は減圧濾過にて触媒および塩を除去した後、１０
００ｍｌの分液ロ−トに移し水相分離後５００ｍｌの水
で洗浄した。分液した有機物相に硫酸マグネシウムを添
加して乾燥し、減圧濾過により硫酸マグネシウムを除く
と、純度６３．８％の粗２−メチル−５−クロロベンゾ
トリフロライドが１７１．６ｇ得られた。このときの粗
収率は７９．０％であった。
【００１９】２−メチル−３−ニトロ−５−クロロベン
ゾトリフロライドの製造 温度計、攪拌機、ジムロ−ト冷却管、２００ｍｌの滴下
ロ−トを備えた３００ｍｌの四口丸底フラスコ内に、純
度６３．８％の２−メチル−５−クロロベンゾトリフロ
ライドを主成分とする異性体混合物を１４４．４ｇ
（０．７５ｍｏｌ）（２−メチル−５−クロロベンゾト
リフロライドとしては０．４８ｍｏｌ）仕込み、攪拌を
開始すると共に反応温度を３０℃以下とし、予め発煙硝
酸５２．０ｇ（０．８３ｍｏｌ）と濃硫酸２２０．５ｇ
（２．２５ｍｏｌ）を混合して調製した混酸を仕込んだ
滴下ロートから混酸の滴下を開始した。混酸の滴下は反
応温度を２０〜３０℃に保ちながら１時間かけて全量滴
下した。混酸滴下後さらに２０〜３０℃に保ち３時間反
応を継続した後、攪拌を止め分析したところ、反応率は
９９．８％で、このときの２−メチル−３−ニトロ−５
−クロロベンゾトリフロライドの純度は５２．２％であ
った。反応後、１０００ｍｌの分液ロ−トに移し混酸相
を分離後５００ｍｌの水で洗浄したうえで、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液５００ｍｌで洗浄、さらに水５００
ｍｌで洗浄した。分液した有機物相に硫酸マグネシウム
を添加して乾燥し、減圧濾過により硫酸マグネシウムを
除き、減圧蒸留にて２−メチル−３−ニトロ−５−クロ
ロベンゾトリフロライドを濃縮すると純度８９．０％の
２−メチル−３−ニトロ−５−クロロベンゾトリフロラ
イドを９７．２ｇ得た（１１９〜１２５℃／２１〜２６
ｍｍＨｇ）。このときの収率は７５．９％であった。
【００２０】２−メチル−３−ニトロ−５−クロロベン
ゾトリフロライドの製造 攪拌装置を備えた５００ｍｌのＳＵＳ−３１６製オ−ト
クレ−ブに純度８９．０％の２−メチル−３−ニトロ−
５−クロロベンゾトリフロライドを主成分とした異性体
混合物７１．１ｇ（０．３ｍｏｌ）（２−メチル−３−
ニトロ−５−クロロベンゾトリフロライドとしては０．
２７ｍｏｌ）と水酸化ナトリウム１３．２ｇ（０．３３
ｍｏｌ）および水１００ｇを入れ５％−Ｐｄ／カ−ボン
坦持触媒１．４ｇ（２．０重量％）を添加した。容器内
を水素で置換し油浴にて８０℃に昇温すると共に水素圧
力を５Ｋｇ／ｃｍ2に保ち攪拌を開始すると水素の吸収
が始った。４時間後に加熱、攪拌を止め冷却後、分析し
たところ２−メチル−３−ニトロ−５−クロロベンゾト
リフロライドの反応率は９９．９％であった。反応後は
減圧濾過で触媒および塩を除去した後、１０００ｍｌの
分液ロ−トに移し水相分離後５００ｍｌの水で洗浄し
た。分液した有機物相に硫酸マグネシウムを添加して乾
燥し、減圧濾過により硫酸マグネシウムを除くと、純度
９４．４％の粗２−メチル−３−ニトロ−５−クロロベ
ンゾトリフロライドが４４．３ｇ得られた。このときの
粗収率は８８．５％であった。この粗２−メチル−３−
ニトロ−５−クロロベンゾトリフロライドを２００ｍｌ
のビ−カ−に移し、ｎ−ヘキサンを１００ｍｌ加え、攪
拌しながら−１０℃まで冷やすと２−メチル−３−ニト
ロ−５−クロロベンゾトリフロライドの結晶が析出して
きた。これをすばやく濾過し結晶を取り出すと純度９
９．５％の２−メチル−３−ニトロ−５−クロロベンゾ
トリフロライドが得られ、これからエバポレ−ションで
残留溶媒を除くと３４．３ｇであった。このときの収率
は７２．６％（晶析収率は８２．０％）であった。
【００２１】
【発明の効果】新規化合物である２−トリフルオロメチ
ル−４−クロロベンザルクロライドもしくは２−メチル
−３−ニトロ−５−クロロベンゾトリフロライドまたは
そのハロゲン交換体を経由することにより、本発明の方
法は、工業的に実施の困難な工程を経ることなく、また
将来使用できなくなる可能性の大きな原料を使うことな
く、高い収率かつ高い生産性で２−メチル−３−アミノ
ベンゾトリフロライドを製造し得るという効果を奏す
る。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年２月２６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】第二段階の反応で使用する金属担持触媒
は、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈなどの貴金属もしくはニッケルな
どを活性炭、アルミナ、ゼオライト、シリカアルミナな
どに担持した担持触媒であり、Ｐｄ／Ｃ、Ｐｄ／アルミ
ナ、Ｐｄ／ゼオライト、Ｐｄ／シリカアルミナなどが好
ましく、その使用量は基質に対して０．１〜５．０重量
％の範囲が好ましい。使用量が０．１重量％以下では反
応が遅くなり、５．０重量％以上であることは特に問題
ではないが不必要である。担体へ担持された金属量は
０．１〜１０重量％であるが、通常市販され用いられる
０．５〜５．０重量％で十分である。ここで任意的に用
いられる塩基性物質はアルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属の水酸化物、炭酸塩、酢酸塩、ホウ酸塩であり、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、
酢酸カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、リ
ン酸二ナトリウム、リン酸三ナトリウム等が好ましい。
また、反応温度は０〜１００℃の範囲が好ましく、０℃
以下では反応が遅くなり、１００℃以上では過水素化反
応により核ハロゲンの水素化が起こり好ましくない。水
素圧力は１〜２０Ｋｇ／ｃｍ2の範囲が好ましい。１Ｋ
ｇ／ｃｍ2以下では反応が遅く、２０Ｋｇ／ｃｍ2以上で
も反応の点からは問題はないが、装置が構造上制限を受
けるので好ましくない。本発明は気液反応であり、気液
の接触効率は反応速度に大きな影響を与えるのでこの目
的のために工夫された装置を用いるのが好ましく、例え
ば、十分な攪拌を行うことが好ましい。本発明において
この反応は水中で行え、その他不活性な有機溶媒のジエ
チルエ−テル、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ
−ル等の中でも実施できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 205/12 7188−4Ｈ 209/36 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ｏ−トリフルオロメチルベンザルハライド
    から２−メチル−３−アミノベンゾトリフロライドを製
    造する方法であって、 ｏ−トリフルオロメチルベンザルハライドをハロゲ
    ン化して２−トリフルオロメチル−４−ハロゲノベンザ
    ルハライドとする工程、 ２−トリフルオロメチル−４−ハロゲノベンザルハ
    ライドを水素還元して２−メチルモノハロゲノベンゾト
    リフロライドとする工程、 ２−メチルモノハロゲノベンゾトリフロライドをニ
    トロ化して２−メチル−３−ニトロ−５−ハロゲノベン
    ゾトリフロライドとする工程、 ２−メチル−３−ニトロ−５−ハロゲノベンゾトリ
    フロライドを水素還元して２−メチル−３−アミノベン
    ゾトリフロライドとする工程、の四工程からなることを
    特徴とする２−メチル−３−アミノベンゾトリフロライ
    ドの製造方法。
  2. 【請求項２】２−トリフルオロメチル−４−クロロベン
    ザルクロライド。
  3. 【請求項３】２−メチル−３−ニトロ−５−クロロベン
    ゾトリフロライド。
JP5006184A 1993-01-18 1993-01-18 ２−メチル−３−アミノベンゾトリフロライドの製造方法 Expired - Fee Related JP2698306B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5006184A JP2698306B2 (ja) 1993-01-18 1993-01-18 ２−メチル−３−アミノベンゾトリフロライドの製造方法
US08/177,490 US5449831A (en) 1993-01-18 1994-01-05 Process of preparing 2-methyl-3-aminobenzotrifluoride
GB9400447A GB2275266B (en) 1993-01-18 1994-01-12 Process of preparing 2-methyl-3-aminobenzotrifluoride
FR9400435A FR2700538B1 (fr) 1993-01-18 1994-01-17 Procédé de préparation de 2-méthyl-3-aminobenzotrifluorure.
DE4401124A DE4401124C2 (de) 1993-01-18 1994-01-17 2-Trifluormethyl-4-chlorbenzalchlorid, 2-Methyl-3-nitro-5-chlorbenzotrifluorid und Verfahren zur Herstellung von 2-Methyl-3-aminobenzotrifluorid
US08/467,678 US5600036A (en) 1993-01-18 1995-06-06 2-trifluoromethyl-4-chlorobenzalchloride and 2-methyl-3-nitro-5-chlorobenzotrifluoride useful as intermediates for preparing 2-methyl-3-aminobenzotrifluoride

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5006184A JP2698306B2 (ja) 1993-01-18 1993-01-18 ２−メチル−３−アミノベンゾトリフロライドの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06211755A true JPH06211755A (ja) 1994-08-02
JP2698306B2 JP2698306B2 (ja) 1998-01-19

Family

ID=11631472

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5006184A Expired - Fee Related JP2698306B2 (ja) 1993-01-18 1993-01-18 ２−メチル−３−アミノベンゾトリフロライドの製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (2) US5449831A (ja)
JP (1) JP2698306B2 (ja)
DE (1) DE4401124C2 (ja)
FR (1) FR2700538B1 (ja)
GB (1) GB2275266B (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106278837A (zh) * 2015-05-28 2017-01-04 联化科技（台州）有限公司 邻三氟甲基-4-卤代苯甲醛的制备方法及其中间体
CN108003034B (zh) * 2017-12-26 2020-07-03 金凯(辽宁)化工有限公司 一种2-甲基-5-氨基三氟甲苯的制备方法
CN108911989B (zh) * 2018-08-15 2020-11-03 济南悟通生物科技有限公司 一种2-甲基-3-三氟甲基苯胺的合成方法
CN110698353B (zh) * 2019-11-20 2022-11-22 河北彩客新材料科技股份有限公司 一种4-氯-2,5-二甲氧基苯胺的制备方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3839344A (en) * 1973-03-28 1974-10-01 Schering Corp N-methyl d-glucamine salt of 2(2'-methyl-3'-trifluoromethylanilino)nicotinic acid
US3891761A (en) * 1973-03-28 1975-06-24 Schering Corp N-Methyl-d-glucamine salt of 2(2-methyl-3{40 -trifluoro-methylanilino) nicotinic acid in the treatment of pain
IT1075720B (it) * 1977-03-03 1985-04-22 Montedison Spa Processo per la preparazione di alfa-formilacidi e loro derivati
US4172095A (en) * 1977-06-10 1979-10-23 Schering Corporation Novel synthesis of 3-amino-2-methylbenzotrifluoride and the intermediates thereof
US4132737A (en) * 1978-02-27 1979-01-02 Eli Lilly And Company Trifluoromethyl substituted 1-aminoindanes
DE3201112A1 (de) * 1982-01-15 1983-07-28 Bayer Ag, 5090 Leverkusen 4-alkyl-2-trifluormethyl-aniline
US4503276A (en) * 1984-01-09 1985-03-05 Monsanto Company Process for separating nitration isomers of substituted benzene compounds
US4815940A (en) * 1986-08-04 1989-03-28 United Technologies Corporation Fatigue strengthened composite article
GB2194533B (en) * 1986-08-13 1990-08-22 Central Glass Co Ltd Dichlorotrifluoromethyl nitrotoluenes and pharmaceutical and herbicidal amino derivatives thereof
US4831193A (en) * 1987-06-19 1989-05-16 Schering Corporation Synthesis of 3-amino-2-methylbenzotrifluoride
ES2079242T3 (es) * 1991-12-20 1996-01-01 Schering Corp Prcedimiento para preparar flunixina y sus productos intermedios.

Also Published As

Publication number Publication date
DE4401124A1 (de) 1994-07-21
GB2275266A (en) 1994-08-24
GB2275266B (en) 1996-03-20
JP2698306B2 (ja) 1998-01-19
GB2275266A8 (en) 1996-08-26
DE4401124C2 (de) 1995-08-24
US5600036A (en) 1997-02-04
US5449831A (en) 1995-09-12
GB9400447D0 (en) 1994-03-09
FR2700538B1 (fr) 1995-07-28
FR2700538A1 (fr) 1994-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4489210A (en) Process for the halogenation of organic compounds
US4966988A (en) Process for preparing acetonitrile 3-trifluoromethyl benzene
US4792618A (en) Fluorinated carbocylic compounds
JPH06211755A (ja) ２−メチル−３−アミノベンゾトリフロライドの製造方法
JP2542683B2 (ja) ベンゾトリフルオライドの製造方法
US5227545A (en) Process for the preparation of 2,4-dichlorofluorobenzene
JPH07110827B2 (ja) テトラブロムビスフエノ−ルａの製造方法
JP4255446B2 (ja) ２−トリフルオロメチル−６−フルオロベンズアルデヒドおよびその誘導体の製造方法
EP1127865B1 (en) Process for producing 1,1,1-Trifluoroacetone
US4469890A (en) Preparation of ortho-aminobenzotrifluoride
JP4260133B2 (ja) ２−トリフルオロメチル−６−フルオロベンザルクロリドおよびその誘導体の製造方法
US4876404A (en) Preparation of dichlorotrifluoromethyltoluenes including novel isomers
JPS6345230A (ja) ブロモベンゾトリフルオリドの製造方法
JP3193421B2 (ja) ２−アミノ−４−フルオロ安息香酸の製造方法
JP2897833B2 (ja) ２―クロロ―４―フルオロフェノールの製造方法
US5489715A (en) Process for preparing 4,5-difluorobenzaldehydes
JP2000212104A (ja) ビス（トリフルオロメチル）モノブロモベンゼンの製造方法
JP2502936B2 (ja) 新規なアセチレン系誘導体
EP0029575B1 (en) 1-halo-4-decene compounds
FR2602766A1 (fr) Composes dichlorotrifluoromethylnitrotoluenes et procede de preparation d'aminotrifluoromethyltoluenes a partir de ces composes
JP4287814B2 (ja) ２−トリフルオロメチル−５−フルオロベンズアルデヒドおよびその誘導体の製造方法
JP3952514B2 (ja) ７−メチル−２−ナフタレンカルボニトリルの製造方法
JPH07165638A (ja) 新規フルオロベンゾトリクロリド化合物
KR20010060278A (ko) 트리플루오로메틸아닐린의 제법
CN116802170A (zh) 3-氯-1,1,2,2-四氟丙烷的制造方法和1-氯-2,3,3-三氟丙烯的制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees