JPH06207691A - 真空シール用コンフラットフランジ及びその製造方法 - Google Patents
真空シール用コンフラットフランジ及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH06207691A JPH06207691A JP5003739A JP373993A JPH06207691A JP H06207691 A JPH06207691 A JP H06207691A JP 5003739 A JP5003739 A JP 5003739A JP 373993 A JP373993 A JP 373993A JP H06207691 A JPH06207691 A JP H06207691A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flange
- conflat
- vacuum
- annular gasket
- plasma
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- Pending
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- Flanged Joints, Insulating Joints, And Other Joints (AREA)
- Gasket Seals (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 安価で溶接性の良いフランジと，それを製造
する方法とを提供すること。 【構成】 真空シール用コンフラットフランジは，少な
くとも環状ガスケット４に接触する部分にアルミナ改質
層８を備えている。この真空シール用コンフラットフラ
ンジを製造するには，フランジの少なくとも環状ガスケ
ット４に接触する部分にＯ2 プラズマ法によってアルミ
ナ改質層８を形成する。
する方法とを提供すること。 【構成】 真空シール用コンフラットフランジは，少な
くとも環状ガスケット４に接触する部分にアルミナ改質
層８を備えている。この真空シール用コンフラットフラ
ンジを製造するには，フランジの少なくとも環状ガスケ
ット４に接触する部分にＯ2 プラズマ法によってアルミ
ナ改質層８を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，超高真空を必要とする
粒子加速器等に用いられるフランジ継ぎ手構造に関する
ものである。
粒子加速器等に用いられるフランジ継ぎ手構造に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来，この種のフランジ継ぎ手構造とし
て，特公昭５８−２１１５８号公報（以下，従来技術１
と呼ぶ），特公昭６０−１１２７８号公報（以下，従来
技術２と呼ぶ），特開昭６３−５７９８９号公報（以
下，従来技術３と呼ぶ）に提案されたものが知られてい
る。
て，特公昭５８−２１１５８号公報（以下，従来技術１
と呼ぶ），特公昭６０−１１２７８号公報（以下，従来
技術２と呼ぶ），特開昭６３−５７９８９号公報（以
下，従来技術３と呼ぶ）に提案されたものが知られてい
る。
【０００３】従来技術１に示されたフランジ継ぎ手構造
は，対向するアルミニウム合金製フンランジ間に形成さ
れた環状スペース内に，軟質金属で作られた環状ガスケ
ットを介装している。（但し，スペースは空間であるか
ら，内壁があるという表現は，不適当であるが，公報で
は，そのような表現が用いられているので，そのままと
する。）このガスケットは，鏡面研削を施された表面を
備えるとともに，上記ナイフエッジが鏡面研削を施され
た面部にイオンプレーティング処理による窒化チタン
（ＴｉＮ）または窒化クロム（ＣｒＮ）の硬質表層を備
えているものである。
は，対向するアルミニウム合金製フンランジ間に形成さ
れた環状スペース内に，軟質金属で作られた環状ガスケ
ットを介装している。（但し，スペースは空間であるか
ら，内壁があるという表現は，不適当であるが，公報で
は，そのような表現が用いられているので，そのままと
する。）このガスケットは，鏡面研削を施された表面を
備えるとともに，上記ナイフエッジが鏡面研削を施され
た面部にイオンプレーティング処理による窒化チタン
（ＴｉＮ）または窒化クロム（ＣｒＮ）の硬質表層を備
えているものである。
【０００４】また，従来技術２に示されたフランジ継ぎ
手構造は，対向するフランジ間に軟質金属で作られ且つ
円環コイルスプリングを内蔵したメタルガスケットを介
装されている。そのフランジを形成するアルミニウム材
に，イオンプレーティング処理によって形成された窒化
チタン又は窒化クロムの硬質表層を備えているものであ
る。
手構造は，対向するフランジ間に軟質金属で作られ且つ
円環コイルスプリングを内蔵したメタルガスケットを介
装されている。そのフランジを形成するアルミニウム材
に，イオンプレーティング処理によって形成された窒化
チタン又は窒化クロムの硬質表層を備えているものであ
る。
【０００５】このように，従来技術１及び２のフランジ
継ぎ手は，表面にＴｉＮ又はＣｒＮのコーティングを行
い，放出ガスの低減及びシールつめ部の面圧を下げてい
る。
継ぎ手は，表面にＴｉＮ又はＣｒＮのコーティングを行
い，放出ガスの低減及びシールつめ部の面圧を下げてい
る。
【０００６】また，従来技術３に示されたフランジ継ぎ
手構造は，軟質金属製メタルガスケットを対向するフラ
ンジの硬質カーボン膜からなる硬質表層が被覆されてい
るナイフエッジ部によって押圧する構成を有するもので
ある。
手構造は，軟質金属製メタルガスケットを対向するフラ
ンジの硬質カーボン膜からなる硬質表層が被覆されてい
るナイフエッジ部によって押圧する構成を有するもので
ある。
【０００７】このように，従来技術は，フランジのシー
ル面に硬質膜を被着形成するものであった。ところで，
Ａｌ（エル）製真空容器の製作にあたり，ベーキングが
必要となる装置においては，シール部をコンフラット型
とし，シール材にメタルリングを用いている。
ル面に硬質膜を被着形成するものであった。ところで，
Ａｌ（エル）製真空容器の製作にあたり，ベーキングが
必要となる装置においては，シール部をコンフラット型
とし，シール材にメタルリングを用いている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし，真空容器がＡ
ｌ（エル）であるため，フランジもＡｌ（エル）を用い
て製作する必要がある。この時，Ａｌ（エル）材の耐面
圧が低く，メタルオー（Ｏ）リングを塑性変形させられ
ないため，表面硬度を上昇させておく必要がある。その
表面硬度を上昇させる手段として，硬質膜（ＴｉＮ，Ｔ
ｉＣ）等を用いる方法がある。
ｌ（エル）であるため，フランジもＡｌ（エル）を用い
て製作する必要がある。この時，Ａｌ（エル）材の耐面
圧が低く，メタルオー（Ｏ）リングを塑性変形させられ
ないため，表面硬度を上昇させておく必要がある。その
表面硬度を上昇させる手段として，硬質膜（ＴｉＮ，Ｔ
ｉＣ）等を用いる方法がある。
【０００９】しかし，ＴｉＮ，ＴｉＣのコーティングは
高価であり，また，溶接時，母材に対して，熱膨脹差が
大きく，剥離，破損する虞がある。
高価であり，また，溶接時，母材に対して，熱膨脹差が
大きく，剥離，破損する虞がある。
【００１０】一方，従来において，Ａｌ（エル）材の表
面硬化方法としては，上記した硬質膜のコーティングの
他に，陽極酸化法（アルマイト加工）がある。この陽極
酸化法は，リン酸を含む溶液中で電解研磨したのち，ク
ロム酸もしくは硫酸等を含む溶液中において，このＡｌ
（エル）材を陽極として電解酸化処理を行い，酸化膜
（Ａｌ（エル）2 Ｏ3 ）を形成して，表面硬度や耐蝕性
を増加させる方法である。
面硬化方法としては，上記した硬質膜のコーティングの
他に，陽極酸化法（アルマイト加工）がある。この陽極
酸化法は，リン酸を含む溶液中で電解研磨したのち，ク
ロム酸もしくは硫酸等を含む溶液中において，このＡｌ
（エル）材を陽極として電解酸化処理を行い，酸化膜
（Ａｌ（エル）2 Ｏ3 ）を形成して，表面硬度や耐蝕性
を増加させる方法である。
【００１１】一般に，真空容器に用いる部品は，真空に
対する放出ガス量を低減する必要がある。その目的の
為，表面は実表面積を下げる為に，粗さを小さくする必
要がある。また，表面の性状としては，放出ガス量の小
さい物質が好ましい。
対する放出ガス量を低減する必要がある。その目的の
為，表面は実表面積を下げる為に，粗さを小さくする必
要がある。また，表面の性状としては，放出ガス量の小
さい物質が好ましい。
【００１２】そのため，一般には，表面にセラミックス
系の硬質コーティングすることが，好ましいとされてい
る。しかし，セラミック系の硬質コーティングは，溶接
の際，剥離するという欠点があった。
系の硬質コーティングすることが，好ましいとされてい
る。しかし，セラミック系の硬質コーティングは，溶接
の際，剥離するという欠点があった。
【００１３】そこで，本発明の技術的課題は，安価で溶
接性の良いフランジを製作する手法を提供することにあ
る。
接性の良いフランジを製作する手法を提供することにあ
る。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明では，前述した硬
質膜にかわり，Ａｌ（エル）2 Ｏ3 の改質層にて，表面
を覆い，耐面圧及び放出ガス量を低減したものである。
質膜にかわり，Ａｌ（エル）2 Ｏ3 の改質層にて，表面
を覆い，耐面圧及び放出ガス量を低減したものである。
【００１５】本発明によれば，互いに対向するアルミニ
ウム合金製フランジ間に，軟質金属で作られた環状ガス
ケットを介装した真空シール用コンフラットフランジに
おいて，前記フランジの少なくとも前記環状ガスケット
に接触する部分にアルミナ改質層を備えたことを特徴と
する真空用コンフラットフランジが得られる。
ウム合金製フランジ間に，軟質金属で作られた環状ガス
ケットを介装した真空シール用コンフラットフランジに
おいて，前記フランジの少なくとも前記環状ガスケット
に接触する部分にアルミナ改質層を備えたことを特徴と
する真空用コンフラットフランジが得られる。
【００１６】本発明によれば，対向するアルミニウム合
金製フランジ間に，軟質金属で作られた環状ガスケット
を介装した真空シール用コンフラットフランジの製造方
法において，前記フランジの少なくとも前記環状ガスケ
ットに接触する部分にＯ2 プラズマ法によってアルミナ
改質層を形成することを特徴とする真空シール用コンフ
ラットフランジの製造方法が得られる。
金製フランジ間に，軟質金属で作られた環状ガスケット
を介装した真空シール用コンフラットフランジの製造方
法において，前記フランジの少なくとも前記環状ガスケ
ットに接触する部分にＯ2 プラズマ法によってアルミナ
改質層を形成することを特徴とする真空シール用コンフ
ラットフランジの製造方法が得られる。
【００１７】ここで，本発明において，Ｏ2 プラズマに
よる酸化層の形成，プラズマプロセスにおいて，アルゴ
ンボンドバード（Ａｒ衝撃）を行い，表面の不純酸化膜
を除去後，Ｏ2 プラズマに表面をさらすことにより，表
面に緻密なＡｌ（エル）2 Ｏ3 改質層を形成する。この
ようなＯ2 プラズマの発生手段としては，圧力勾配型プ
ラズマ銃によるＯ2 プラズマ，グロー放電によるＯ2 プ
ラズマ，高周波（ＲＦ）放電によるＯ2 プラズマなどが
例示できるがこれらに限定されるものではない。
よる酸化層の形成，プラズマプロセスにおいて，アルゴ
ンボンドバード（Ａｒ衝撃）を行い，表面の不純酸化膜
を除去後，Ｏ2 プラズマに表面をさらすことにより，表
面に緻密なＡｌ（エル）2 Ｏ3 改質層を形成する。この
ようなＯ2 プラズマの発生手段としては，圧力勾配型プ
ラズマ銃によるＯ2 プラズマ，グロー放電によるＯ2 プ
ラズマ，高周波（ＲＦ）放電によるＯ2 プラズマなどが
例示できるがこれらに限定されるものではない。
【００１８】
【実施例】以下，本発明の実施例について，図面を参照
して説明する。
して説明する。
【００１９】図１は，本発明の第１実施例に係る真空シ
ール用コンフラットフランジを示す断面図である。図１
で示すように，接続されるべき一対のアルミニウム製パ
イプ１，１の端部に，それぞれアルミニウム合金製フラ
ンジ２，２が互いに対向するように設けられている。両
フランジ２，２の間に形成された環状スペース３内に，
Ｏリングとしての軟質アルミニウム製環状ガスケット４
が介装されている。そして，このガスケット４に食い込
むようにして，密着し得るナイフエッジ２ａが，環状ス
ペース３の内壁において，フランジ２に形成されてい
る。
ール用コンフラットフランジを示す断面図である。図１
で示すように，接続されるべき一対のアルミニウム製パ
イプ１，１の端部に，それぞれアルミニウム合金製フラ
ンジ２，２が互いに対向するように設けられている。両
フランジ２，２の間に形成された環状スペース３内に，
Ｏリングとしての軟質アルミニウム製環状ガスケット４
が介装されている。そして，このガスケット４に食い込
むようにして，密着し得るナイフエッジ２ａが，環状ス
ペース３の内壁において，フランジ２に形成されてい
る。
【００２０】なお，環状スペース３の形状としては，円
環状に限らず，角型の任意の形状にすることができる。
環状に限らず，角型の任意の形状にすることができる。
【００２１】このようにして，両フランジ２，２は，締
め付けボルト５及びその締め付けナット６により，ワッ
シャー７を介して締め付けられるようになっている。
め付けボルト５及びその締め付けナット６により，ワッ
シャー７を介して締め付けられるようになっている。
【００２２】フランジ２と一体のナイフエッジ２ａの材
料であるアルミ合金としては，アルミニウムを主成分と
する硬質のものが用いられ，また，パイプ１の材料につ
いても，適宜のアルミニウム合金を用いることができ
る。
料であるアルミ合金としては，アルミニウムを主成分と
する硬質のものが用いられ，また，パイプ１の材料につ
いても，適宜のアルミニウム合金を用いることができ
る。
【００２３】ところで，軟質アルミニウム製ガスケット
４の表面処理については，まず酸化変質層や圧延による
ロールマークが除去され，ついで鏡面研削が施される。
４の表面処理については，まず酸化変質層や圧延による
ロールマークが除去され，ついで鏡面研削が施される。
【００２４】このようにして，鏡平面を形成されたガス
ケット４に食い込むべきナイフエッッジ２ａは，鏡面研
削を施された面部に，Ｏ2 プラズマ処理によるＡｌ（エ
ル）2 Ｏ3 膜生成による硬質表層を付けられるのであ
る。
ケット４に食い込むべきナイフエッッジ２ａは，鏡面研
削を施された面部に，Ｏ2 プラズマ処理によるＡｌ（エ
ル）2 Ｏ3 膜生成による硬質表層を付けられるのであ
る。
【００２５】図２は，本発明の第２実施例に係る真空シ
ール用コンフラットフランジを示す断面図である。図２
で示すように，左右のアルミニウム製パイプ１，１の端
部に，それぞれアルミニウム製フランジ１２，１２が互
いに対向するように，溶接１３により設けられ，両フラ
ンジ１２，１２の間に形成された円環状のスペース１４
内に，Ｏリングとしてのメタルガスケット１５が介装さ
れている。そして，両フランジ１２，１２は，締め付け
ボルト１６による締め付けられるようになっている。
ール用コンフラットフランジを示す断面図である。図２
で示すように，左右のアルミニウム製パイプ１，１の端
部に，それぞれアルミニウム製フランジ１２，１２が互
いに対向するように，溶接１３により設けられ，両フラ
ンジ１２，１２の間に形成された円環状のスペース１４
内に，Ｏリングとしてのメタルガスケット１５が介装さ
れている。そして，両フランジ１２，１２は，締め付け
ボルト１６による締め付けられるようになっている。
【００２６】ところで，各フランジ１２，１２は，これ
を形成するアルミニウム材に，Ｏ2プラズマ処理による
Ａｌ（エル）2 Ｏ3 改質層生成による硬質表層１７が設
けられている。
を形成するアルミニウム材に，Ｏ2プラズマ処理による
Ａｌ（エル）2 Ｏ3 改質層生成による硬質表層１７が設
けられている。
【００２７】図３は，本発明の実施例に係る真空シール
用コンフラットフランジを製造する装置の例を示す断面
図である。図３で示すように，反応容器２１の一側部に
圧力勾配型のプラズマ銃３０が設けられ，これに対向す
る位置にプラズマビームを収束する陽極２５が設けられ
ている。この陽極２５の同じ側壁の上部には，図示しな
い流量調節機構を備えたＯ2 ガス導入管２２が設けら
れ，一方，この陽極２５の同じ側壁の下部には，図示し
ない排気ポンプに接続された排気管２３が設けられてい
る。また，容器上部には，真空シール用コンフラットフ
ランジの基板２８が固定されている。
用コンフラットフランジを製造する装置の例を示す断面
図である。図３で示すように，反応容器２１の一側部に
圧力勾配型のプラズマ銃３０が設けられ，これに対向す
る位置にプラズマビームを収束する陽極２５が設けられ
ている。この陽極２５の同じ側壁の上部には，図示しな
い流量調節機構を備えたＯ2 ガス導入管２２が設けら
れ，一方，この陽極２５の同じ側壁の下部には，図示し
ない排気ポンプに接続された排気管２３が設けられてい
る。また，容器上部には，真空シール用コンフラットフ
ランジの基板２８が固定されている。
【００２８】プラズマ銃３０は，アルゴンガス導入口３
４を有する陰極３３と，この陰極３３に接続された第１
の中間電極及び環状永久磁石３２と，容器外壁に接続さ
れる第２中間電極及び空心磁石３１とを備えている（詳
しくは，特公平２−５０５７７号公報及び特開昭５６−
１０２１００号公報を参照されたい。）。
４を有する陰極３３と，この陰極３３に接続された第１
の中間電極及び環状永久磁石３２と，容器外壁に接続さ
れる第２中間電極及び空心磁石３１とを備えている（詳
しくは，特公平２−５０５７７号公報及び特開昭５６−
１０２１００号公報を参照されたい。）。
【００２９】次に，図３の装置を用いた本発明の実施例
による真空シール用コンフラットフランジを製造する方
法について，具体的に説明する。
による真空シール用コンフラットフランジを製造する方
法について，具体的に説明する。
【００３０】まず，アルミニウム合金からなる一対のフ
ランジを準備した。ついで，フランジの基体２８の表面
にＯ2 プラズマ法によって，次のように改質層を形成し
た。
ランジを準備した。ついで，フランジの基体２８の表面
にＯ2 プラズマ法によって，次のように改質層を形成し
た。
【００３１】フランジの基板２８を取付部２４に取り付
け，排気ガスポンプにより真空排気を行い，反応室２１
内を高真空状態とした。まず，アルゴンガス（Ａｒ）を
導入して，１０-5Ｐａ（イオン加速電圧を約８００
Ｖ），１５００〜１８００Ｖのバイアス電圧を印加，Ａ
ｒイオン衝撃により基板表面の不純酸化物を除去した。
ついで，供給装置から反応室２１内にＯ2 ガスを供給し
て室内の圧力を１０-1ｔｏｒｒとした。そして，電源２
６により１ｋＶの高電圧を印加して，プラズマを発生さ
せ，フランジ基板にＡｌ（エル）2 Ｏ3 改質層を形成し
た。なお，フランジの加熱温度は，略２００℃，作業に
要した時間は６０分であった。このＡｌ（エル）2 Ｏ3
改質層のビッカース硬度（Ｈv ）は，１５００〜３００
０であった。
け，排気ガスポンプにより真空排気を行い，反応室２１
内を高真空状態とした。まず，アルゴンガス（Ａｒ）を
導入して，１０-5Ｐａ（イオン加速電圧を約８００
Ｖ），１５００〜１８００Ｖのバイアス電圧を印加，Ａ
ｒイオン衝撃により基板表面の不純酸化物を除去した。
ついで，供給装置から反応室２１内にＯ2 ガスを供給し
て室内の圧力を１０-1ｔｏｒｒとした。そして，電源２
６により１ｋＶの高電圧を印加して，プラズマを発生さ
せ，フランジ基板にＡｌ（エル）2 Ｏ3 改質層を形成し
た。なお，フランジの加熱温度は，略２００℃，作業に
要した時間は６０分であった。このＡｌ（エル）2 Ｏ3
改質層のビッカース硬度（Ｈv ）は，１５００〜３００
０であった。
【００３２】
【発明の効果】以上，説明したように，本発明によれ
ば，Ａｌ（エル）2 Ｏ3 改質層を形成することによっ
て，放出ガス量を低減させることができる。
ば，Ａｌ（エル）2 Ｏ3 改質層を形成することによっ
て，放出ガス量を低減させることができる。
【００３３】また，本発明によれば，シール部の耐面圧
を向上させることができる。
を向上させることができる。
【００３４】さらに，本発明によれば，溶接時の膜破壊
がなくなる。
がなくなる。
【図１】本発明の第１実施例に係る真空シール用コンフ
ラットフランジを示す断面図である。
ラットフランジを示す断面図である。
【図２】本発明の第２実施例に係る真空シール用コンフ
ラットフランジを示す断面図である。
ラットフランジを示す断面図である。
【図３】本発明の実施例に係る真空シール用コンフラッ
トフランジを製造する装置の例を示す断面図である。
トフランジを製造する装置の例を示す断面図である。
１ アルミニウム製パイプ ２ アルミニウム合金製フランジ ２ａ ナイフエッジ ３ 環状スペース ４ 環状ガスケット ５ 締め付けボルト ８ 改質層 １２ アルミニウム製フランジ １３ 溶接 １４ スペース １５ メタルガスケット １６ 締め付けボルト １７ 硬質表層 ２２ Ｏ2 ガス導入管 ２３ 排気管 ２５ 陽極 ２６ 電源 ２８ 基板 ３０ プラズマ銃 ３１ 第２中間電極及び空心磁石 ３２ 第１の中間電極及び環状永久磁石 ３３ 陰極 ３４ アルゴンガス導入口
Claims (2)
- 【請求項１】 互いに対向するアルミニウム合金製フラ
ンジ間に，軟質金属で作られた環状ガスケットを介装し
た真空シール用コンフラットフランジにおいて，前記フ
ランジの少なくとも前記環状ガスケットに接触する部分
にアルミナ改質層を備えたことを特徴とする真空用コン
フラットフランジ。 - 【請求項２】 対向するアルミニウム合金製フランジ間
に，軟質金属で作られた環状ガスケットが介装される真
空シール用コンフラットフランジの製造方法において，
前記フランジの少なくとも前記環状ガスケットに接触す
る部分にＯ2プラズマ法によってアルミナ改質層を形成
することを特徴とする真空シール用コンフラットフラン
ジの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5003739A JPH06207691A (ja) | 1993-01-13 | 1993-01-13 | 真空シール用コンフラットフランジ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5003739A JPH06207691A (ja) | 1993-01-13 | 1993-01-13 | 真空シール用コンフラットフランジ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06207691A true JPH06207691A (ja) | 1994-07-26 |
Family
ID=11565596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5003739A Pending JPH06207691A (ja) | 1993-01-13 | 1993-01-13 | 真空シール用コンフラットフランジ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06207691A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011094778A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Ulvac Japan Ltd | フランジ及びフランジの製造方法 |
| CN104498866A (zh) * | 2014-12-24 | 2015-04-08 | 上海联合滚动轴承有限公司 | 一种用于铁路轴承渗碳工艺的工装 |
| JP2016504487A (ja) * | 2012-11-07 | 2016-02-12 | アレバ・エヌペ | 一部を被覆しながら部品を熱化学的に処理する方法、及び対応するマスク |
-
1993
- 1993-01-13 JP JP5003739A patent/JPH06207691A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011094778A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Ulvac Japan Ltd | フランジ及びフランジの製造方法 |
| JP2016504487A (ja) * | 2012-11-07 | 2016-02-12 | アレバ・エヌペ | 一部を被覆しながら部品を熱化学的に処理する方法、及び対応するマスク |
| US10625300B2 (en) | 2012-11-07 | 2020-04-21 | Areva Np | Method for thermochemically treating a part while masking a portion and corresponding mask |
| CN104498866A (zh) * | 2014-12-24 | 2015-04-08 | 上海联合滚动轴承有限公司 | 一种用于铁路轴承渗碳工艺的工装 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990407 |