JPH06198160A - 真空容器並びに該真空容器を用いた真空処理方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウエハ等の被搬送物の保管中にゲートを使用
して簡易に真空容器内を真空引きでき、真空容器内の真
空度の低下を防止して被搬送物の劣化（ウエハの場合に
はウエハ表面の自然酸化膜の発生）を防止できる真空容
器を提供する。 【構成】 被搬送物の出入用の主開口部を有した容器本
体２と、容器本体２の開口部を開閉可能に閉塞する蓋３
からなる搬送可能な真空容器１において、容器本体２又
は蓋３に容器内の真空排気及び／又は真空破壊用のゲー
トが設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は真空容器並びに該真空容
器を用いた真空処理方法及び装置に係り、特にウエハ等
の被搬送物を真空下で保管及び搬送する真空容器並びに
この真空容器を用いウエハ等の被搬送物に各種処理を行
うための真空処理方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体を製造する過程で、ウエハ表面の
酸化等を防止する為に、ウエハを半導体プロセス装置に
搬入する前や、所定の工程を経て次の工程に搬送する
間、真空容器に入れて保管及び搬送することが提案され
ている。斯かる真空容器の一例として特開昭６２−１８
１４４１号に示されている真空キャリアがある。この真
空キャリアはキャリア本体と、キャリアカバーとからな
り、キャリア本体にはスリットが形成され、このスリッ
トにウエハが載置されるようになっている。

【０００３】真空キャリアのキャリア本体とキャリアカ
バーとは、真空シールを介してその内外の圧力差によっ
て閉じられ、真空キャリア内は真空に保持されるように
なっている。

【０００４】ウエハを真空キャリア内に入れる際には、
真空キャリア全体を上部ロードロック室に入れ、上部ロ
ードロック室の扉を閉じ、上部ロードロック室の内部を
真空排気装置により真空にした後、キャリアカバーを上
部ロードロック室に残したまま、エレベータを下降させ
てキャリア本体のみを下部ロードロック室へ移動する。
そして、ウエハ移載ロボットによってウエハをプロセス
チャンバからキャリア本体へ移載した後、エレベータを
上昇させてキャリア本体をキャリアカバーに接続する。
次に上部ロードロック室の真空破壊を行い、ウエハを収
容した真空キャリアを搬送し、次のプロセス装置にもっ
ていく。

【０００５】次のプロセス装置にウエハを真空キャリア
から移載する際には、前述の動作と同様に、真空キャリ
アを上部ロードロック室に入れ、上部ロードロック室の
扉を閉じ、上部ロードロック室の内部を真空排気装置に
より真空にした後、キャリアカバーは上部ロードロック
室に残したまま、エレベータを下降させてキャリア本体
のみを下部ロードロック室へ移動する。そして、ウエハ
移載ロボットによってウエハをキャリア本体からプロセ
スチャンバへ移載する。上記工程を繰り返すことによっ
て、真空プロセス装置から次の真空プロセス装置へ、ウ
エハを真空雰囲気に保持したまま搬送することができ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の装置においては、搬送される真空キャリア自体
には真空排気装置がついていないため、ロードロック室
から切り離されている間は、容器内面等からのガス放出
や、真空シールを経由して容器内部に入ってくる外部か
らの漏れ込みにより、真空キャリア内部の真空度は、時
間の経過と共に、低下していく。一方、実際のウエハ製
造工程では、１つのプロセスが終了して次のプロセスへ
ウエハを持っていった時に、ウエハをプロセス装置に直
ちに移載できることは少なく、通常は前のウエハの処理
が終了するのを、待機することになる。この間に、真空
キャリア内部の真空度は低下し、真空キャリア内部にあ
るウエハ表面に自然酸化膜が発生してしまうという問題
点があった。

【０００７】本発明は上述の事情に鑑みてなされたもの
で、ウエハ等の被搬送物の保管中にゲートを使用して簡
易に真空容器内を真空排気でき、真空容器内の真空度の
低下を防止して被搬送物の劣化（ウエハの場合にはウエ
ハ表面の自然酸化膜の発生）を防止できる真空容器を提
供することを目的とする。

【０００８】また、本発明は上記真空容器のゲートを使
用して真空排気しつつ被搬送物を保管できるとともに真
空下で真空プロセス装置との間でウエハ等の被搬送物の
移載を行うことができ、又、真空容器のゲートを使用し
て真空容器内の真空を破壊して大気圧下でも真空プロセ
ス装置との間でウエハ等の被搬送物の移載を行うことが
できる真空処理方法及び装置を提供することを目的とす
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ため、本発明の真空容器は被搬送物出入用の主開口部を
有した容器本体と、前記容器本体の開口部を開閉可能に
閉塞する蓋からなる搬送可能な真空容器において、前記
容器本体又は前記蓋に容器内の真空排気及び／又は真空
破壊用のゲートが設けられていることを特徴とするもの
である。

【００１０】本発明の真空処理方法の第１の態様は、請
求項１記載の真空容器の蓋を開けて真空容器内に被搬送
物を入れた後に蓋を閉める工程と、被搬送物の保管中に
容器内を所定真空度に保つために、前記ゲートを開いて
真空容器内部を真空排気しつつ保管する工程と、前記ゲ
ートを閉塞して前記真空容器をロードロック室まで搬送
する工程と、前記真空容器とロードロック室とを接続
し、真空下で真空容器の蓋を開放し被搬送物をロードロ
ック室に移送する工程と、を備えたことを特徴とするも
のである。

【００１１】本発明の真空処理方法の第２の態様は、請
求項１記載の真空容器の蓋を開けて真空容器内に被搬送
物を入れた後に蓋を閉める工程と、被搬送物の保管中に
容器内を所定真空度に保つために、前記ゲートを開いて
真空容器内部を真空排気しつつ保管する工程と、前記ゲ
ートを介して前記真空容器内の真空破壊を行う工程と、
大気圧下で真空容器の蓋を開放した後に被搬送物を真空
容器から取り出してロードロック室に移送する工程と、
を備えたことを特徴とするものである。

【００１２】本発明の真空処理装置の第１の態様は、請
求項１記載の真空容器と、前記真空容器のゲートに接続
可能であり被搬送物を収容した状態で真空容器内を真空
排気するとともに、容器内の真空破壊を行う真空排気真
空破壊装置と、前記真空容器と接続可能であり真空下で
真空容器内から被搬送物を取り出して移送するための真
空プロセス室に連通したロードロック室と、を備えたこ
とを特徴とするものである。

【００１３】本発明の真空処理装置の第２の態様は、請
求項１記載の真空容器と、前記真空容器のゲートに接続
可能であり被搬送物を収容した状態で真空容器内を真空
排気するとともに、容器内の真空破壊を行う真空排気真
空破壊装置と、前記真空容器内を真空破壊した後に大気
圧下で真空容器内から被搬送物を取り出して移送するた
めの真空プロセス室に連通したロードロック室と、を備
えたことを特徴とするものである。

【００１４】

【作用】前述した構成からなる真空容器によれば、真空
容器に設けられたゲートを介して真空容器内を真空排気
することができる。したがって、真空容器内に被搬送物
を保管中に真空容器内の真空度が低下して酸化等により
被搬送物が劣化することを防止できる。

【００１５】また、本発明の真空処理方法及び装置の１
態様によれば、真空容器内を真空排気しつつ被搬送物を
保管した後、真空容器を真空プロセス装置までもってい
き、真空下で被搬送物をロードロック室に移載すること
ができる。

【００１６】さらに、本発明の真空処理方法及び装置の
他の態様によれば、真空容器内を真空排気しつつ被搬送
物を保管した後に真空容器内の真空破壊を行い、大気圧
下で被搬送物をロードロック室に移載することができ
る。

【００１７】

【実施例】以下、本発明に係る真空容器並びに該真空容
器を用いた真空処理方法及び装置の実施例を図面を参照
して説明する。実施例の説明においては、被搬送物とし
てウエハを例に挙げて説明する。

【００１８】図１は本発明の搬送可能な真空容器の一実
施例を示す断面図である。真空容器１は略円筒容器状の
容器本体２と、この容器本体２の下端にある主開口部２
ａを開閉可能に閉塞する蓋３とから構成されている。被
搬送物であるウエハ４は蓋３上に載置されたウエハキャ
リア５に搭載して搬送保管されるようになっている。

【００１９】容器本体２と蓋３との接触面にはＯリング
からなる真空シール６が介装されている。蓋３にはその
中央部に真空排気及び真空破壊用の補助開口部３ａが形
成され、その周縁には磁性材リング７が設けられてい
る。補助開口部３ａを開閉するプレート８には、永久磁
石１０ａと、永久磁石１０ａの下方にある磁性材プレー
ト１０ｂとが設けられており、蓋３とプレート８との接
触面にはＯリングからなる真空シール９が介装されてい
る。

【００２０】前記プレート８は容器内部が真空の時はそ
の圧力差による力により真空シール９を介して補助開口
部３ａを閉塞するようになっており、これによって容器
内部は真空に保持される。そして、このプレート８を開
くことにより、真空容器１の内部を真空排気あるいは真
空破壊することができる。

【００２１】図２は図１に示す真空容器１と真空排気真
空破壊装置１１との接続状態を示す断面図である。真空
排気真空破壊装置１１は真空容器１の蓋３に接続可能な
ハウジング１２と、このハウジング１２内に昇降可能に
設けられた昇降台１６を有したエレベータ機構１３とを
備えている。ハウジング１２と真空容器１の蓋３との接
触面には、Ｏリングからなる真空シール１４が介装され
ている。

【００２２】前記エレベータ機構１３は、上端部に電磁
石１５を具備した昇降台１６と、この昇降台１６を昇降
させるエアシリンダ１７とを備えている。そして、昇降
台１６を上昇させて電磁石１５によってプレート８を吸
着してプレート８を蓋３から離接させることによって真
空容器１の蓋３に形成された補助開口部３ａの開閉操作
を行うことができるようになっている。

【００２３】昇降台１６の下面とハウジング１２に固定
されたプレート１９との間にはベローズ２０が介装され
ており、昇降台１６の外側の空間Ａと内側の空間Ｂとを
画成し、空間Ａに真空状態が形成できるようになってい
る。そして、空間Ａは、バルブＶ１を介して真空排気ポ
ンプ２１に連通されるとともにバルブＶ２を介して大気
２２に連通されるようになっている。

【００２４】次に、前述のように構成された真空排気真
空破壊装置の動作を図３及び図４を参照して説明する。
図３はプレート８を補助開口部３ａより離脱させ、補助
開口部３ａを開く動作を示す。このとき、真空容器１内
の空間Ｃと、空間Ａとは同圧状態（ともに大気圧又はと
もに真空圧）にある。プレート８を補助開口部３ａより
離脱させ開く場合には、先ずエアシリンダ１７を作動さ
せて昇降台１６を上昇させ、電磁石１５をプレート８の
磁性材プレート１０ｂに近接させる。プレート８に内蔵
された永久磁石１０ａの磁力による磁力線は、磁性材プ
レート１０ｂを通して電磁石１５の磁極に作用し、プレ
ート８は電磁石１５の磁極に吸着される。

【００２５】この状態で昇降台１６をエアシリンダ１７
により下降させることによって、プレート８を蓋３の補
助開口部３ａより離脱させ、補助開口部３ａを開く。補
助開口部３ａを開放した状態でバルブＶ１を開けて真空
排気ポンプ２１を稼働させ、空間Ａを介して真空容器１
内の空間Ｃの真空排気を行うことができる。また、真空
容器１内の空間Ｃが真空状態にあるときには、バルブＶ
２を開け（このときバルブＶ１は閉）、空間Ａ内に大気
を導入し真空容器１内の真空破壊を行うことができる。

【００２６】図４はプレート８を補助開口部３ａに係合
させ、補助開口部３ａを閉じる動作を示す。図３に示す
状態で真空容器１内の真空排気を行った後、プレート８
を補助開口部３ａに係合させ補助開口部３ａを閉じる。
この動作は、まず昇降台１６にプレート８を保持させた
状態で昇降台１６を上昇させプレート８を補助開口部３
ａに係合させる。そして、電磁石１５に永久磁石１０ａ
に対して反発する方向に磁力が形成されるように通電
し、プレート８を昇降台１６から離脱させた後に昇降台
１６を下降させる。

【００２７】プレート８の永久磁石１０ａの磁力が磁性
材プレート１０ｂを通して蓋３の磁性材リング７に作用
し吸着力が働き、プレート８は蓋３に吸着し、真空シー
ル９により真空容器１内は真空封止される。そして、電
磁石１５に永久磁石１０ａに対して反発力を生じる方向
に通電しながら昇降台１６が下降するので、プレート８
は電磁石１５と切り離される。

【００２８】このような状態では、プレート８の永久磁
石１０ａによって、その磁力線が磁性材プレート１０ｂ
を通って蓋３の磁性材リング７を通る磁気回路が形成さ
れる。そのため、プレート８は蓋３の補助開口部３ａに
しっかりと吸着保持される。したがって、補助開口部３
を閉じた後には、常に真空シール９がプレート８の磁力
により押圧されているので、隣接する空間Ａを大気解放
しても、真空容器１内の真空状態を安定に維持すること
ができる。更に、何らかの原因によりリークがあって、
真空容器１内の真空度が低下した場合も、プレート８は
蓋３の補助開口部３ａに磁力により吸着されているの
で、プレート８が脱落することが防止される。また開閉
動作が昇降台１６の昇降動作と電磁石１５への通電のみ
によって行われるので、ワンタッチで自動開閉が可能で
ある。

【００２９】上述の動作によって、プレート８により蓋
３の補助開口部３ａを閉塞した後、バルブＶ２を開け
（このときバルブＶ１は閉）、空間Ａ内に大気導入を行
い、真空容器１を真空排気真空破壊装置１１から切り離
して搬送可能にする。

【００３０】図５は本発明に係る搬送可能な真空容器の
第２実施例を示す。本実施例では、搬送可能な真空容器
３１は容器本体３２と、容器本体３２の主開口部３２ａ
を開閉可能に閉塞する蓋３３とから構成されている。そ
して容器本体３２の側壁部に真空排気及び真空破壊用の
補助開口部３２ｂが形成され、この補助開口部３２ｂが
プレート３４によって開閉可能に閉塞されるようになっ
ている。

【００３１】前記容器本体３２と蓋３３との接触面には
Ｏリングからなる真空シール３５が介装されている。ま
た補助開口部３２ｂの内側には、支持板３６によって支
持された補助板３７が設けられており、この補助板３７
の中央には磁性体３８が取り付けられている。

【００３２】一方、補助開口部３２ｂを閉塞するプレー
ト３４は突出部３４ａを有し、この突出部３４ａに永久
磁石３９が内設されている。また、プレート３４には容
器本体３２との接触面にＯリングからなる真空シール４
０が設けられるとともに突出部３４ａの反対側の面に磁
性体４１が取り付けられている。プレート３４は、真空
容器３１の内部が真空状態の時にはその圧力差により補
助開口部３２ｂを閉塞するようになっている。なお、永
久磁石３９と補助板３７の磁性体３８との間にも磁力が
作用して吸着するが、これはプレート３４が容器本体３
２から外れないようにするための予備の吸着手段であ
り、必ずしも必要ではない。

【００３３】また、容器本体３２の頂部壁には、測定用
孔３２ｃが形成されており、この測定用孔３２ｃに真空
容器３１内の圧力を測定する真空計４３が取り付けられ
ている。そして、容器本体３２の測定用孔３２ｃよりや
や離間した位置に、Ｔ字状に形成されたメス端子を有す
る接触コネクタ４４が固定されている。そして、接触コ
ネクタ４４に真空計４３のコード４５の先端に設置され
たプラグ４６が接続されている。

【００３４】図６は図５に示す真空容器３１と真空排気
真空破壊装置５１を示す断面図である。図２に示す実施
例と同様に真空容器３１は真空排気真空破壊装置５１に
着脱可能に接続され、この真空排気真空破壊装置５１に
よって真空容器３１のプレート３４を取り外して真空容
器３１の内部の気体を排気し、その真空を維持せしめる
ように構成されている。以下、真空排気真空破壊装置５
１について説明する。

【００３５】真空排気真空破壊装置５１は、真空容器３
１の容器本体３２に接続可能なハウジング５２と、この
ハウジング５２内に昇降可能に設けられた昇降台５７を
有したエレベータ機構５３とを備えている。ハウジング
５２と真空容器３１の容器本体３２との接触面にはＯリ
ングからなる真空シール５４が介装されている。ハウジ
ング５２の内部には空間Ｄが形成され、ハウジング５２
の上部開口５２ａは真空容器３１のプレート３４を囲む
大きさに形成され、側部開口５２ｂは配管５５を介して
真空排気ポンプ（図示せず）及び大気（図示せず）に連
通されている。

【００３６】前記エレベータ機構５３は、上部に永久磁
石５６ａと、この永久磁石５６ａに巻回された電磁コイ
ル５６ｂとからなる電磁石５６を具備した昇降台５７
と、この昇降台５７を昇降させるためのねじ棒５８と、
このねじ棒５８に螺合されたプーリ６０とを備えてい
る。プーリ６０はベルト６１を介してモータ６２に連結
されるとともに軸受部６３に回転可能に支持されてい
る。したがって、モータ６２を正逆回転させることによ
ってプーリ６０が回転し、プーリ６０に螺合されたねじ
棒５８が上下動し昇降台５７が昇降するようになってい
る。

【００３７】なお、ハウジング５２の下端に固定された
プレート６４と昇降台５７の下部との間にはベローズ６
５が介装されており、空間Ｄが密封されるようになって
いる。

【００３８】また、ハウジング５２の側面にはガイドベ
アリング６７が取付けられ、一方、固定台６８にはガイ
ドレール６９が固定され、両者によってハウジング５２
は固定台６８に対して上下動自在に支持されている。

【００３９】また、軸受部６３の下端はねじ棒７０を介
してハウジング昇降装置７１に連結されている。そし
て、ハウジング昇降装置７１はねじ棒７０を上下動させ
るためのプーリ、モータ等（図示せず）を備え、モータ
を駆動させることによってねじ棒７０が上下動し、ハウ
ジング５２が昇降するようになっている。

【００４０】一方、前記配管５５には真空計７３が取付
けられ、配管５５内の圧力を測定している。この真空計
７３からコード７５が導出され、図示しないゲージアン
プに接続されている。また、前記コネクタ４４にはコー
ド７６のプラグ７７が差し込まれて前記コード４５と電
気的に接続されている。そしてコード７６の他端は図示
しないゲージアンプに接続されている。

【００４１】また、配管５５は図示しない真空排気ポン
プに連通された真空バルブと大気に連通されたリークバ
ルブに接続され、リークバルブを閉じて真空バルブを開
くと配管５５内は真空となり、真空バルブを閉じてリー
クバルブを開くと配管５５内は真空破壊されるようにな
っている。

【００４２】次に前述のように構成された真空排気真空
破壊装置の動作を図６を参照して説明する。まず真空容
器３１を搬送して固定台６８上に載置し、図示しない固
定装置で真空容器３１を固定する。真空容器３１が固定
台６８上に載置されたことをセンサ（図示せず）が検出
すると、ハウジング昇降装置７１が作動してハウジング
５２が真空容器３１に当接するまで上昇する。

【００４３】次に電磁コイル５６ｂを励磁して永久磁石
５６ａの磁力を打ち消した状態で、モータ６２を駆動し
てねじ棒５８を介して昇降台５７を上昇させて昇降台５
７の上面を容器本体３２の補助開口部３２ｂを閉塞して
いるプレート３４に当接させる。このとき電磁石５６は
消磁されているので、プレート３４の磁性体４１に接近
しても何ら磁力を生じず、吸着時の衝撃によって塵埃等
が発生することはない。そして、次に電磁コイル５６ｂ
の励磁をオフして永久磁石５６ａの磁力によって電磁石
５６をプレート３４の磁性体４１に吸着させる。

【００４４】次に配管５５の図示しないリークバルブを
閉じて真空バルブを開き、配管５５及び空間Ｄ内を真空
にする。そして真空計７３によって検出された配管５５
内の圧力が、真空計４３によって検出された真空容器３
１内の圧力と同じか又はそれ以下になったときに、モー
タ６２を逆回転させて昇降台５７を下降させる。このと
き、真空容器３１内の圧力と配管５５内の圧力はほぼ同
一なので、プレート３４は容器本体３２に吸着しておら
ず、従ってプレート３４は電磁石５６の永久磁石５６ａ
の磁力によって昇降台５７上に吸着された状態で、昇降
台５７とともに下降する（図６に示す状態となる）。

【００４５】これによって真空容器３１の内部は配管５
５を介して真空排気ポンプと連通され、真空容器３１の
内部は真空排気され、その真空度は一定値以下に保たれ
る。なお真空容器３１を真空排気真空破壊装置５１上に
取り付けて保管しておく間は、常時真空容器３１の真空
排気を継続しておいてもよいし、常時でなく定期的（断
続的）に真空排気してもよい。

【００４６】次に真空容器３１を真空排気真空破壊装置
５１から取り外す際には、まずモータ６２を駆動して昇
降台５７を上昇させてプレート３４を容器本体３２の補
助開口部３２ｂに係合させてこれを閉塞する。このとき
プレート３４は永久磁石３９の磁力によって磁性体３８
に吸着し、仮止めされる。

【００４７】次に、前記配管５５に接続された図示しな
い真空バルブを閉じてリークバルブを開き、配管５５内
及び空間Ｄ内を大気圧にする。これによって空間Ｄ内の
圧力は真空容器３１の圧力よりも大きくなり、この圧力
差によって、プレート３４は容器本体３２に吸着され確
実に固定される。そして、モータ６２を駆動して昇降台
５７を下降させ、真空容器３１を真空排気真空破壊装置
５１から切り離して搬送可能にする。なお上記真空排気
真空破壊装置５１を多数台並べて設置し、これらにそれ
ぞれ真空容器３１を取り付けて、長期保管を行ってもよ
い。

【００４８】図７は本発明に係る搬送可能な真空容器の
第３実施例を示す。本実施例では、図１に示す真空容器
に更にもう１個の補助開口部３ａを設け、この補助開口
部３ａを開閉する別のプレート８を設けたものである。
即ち、真空容器１は２個の補助開口部３ａ，３ａと、２
個のプレート８，８を備えている。各プレート８が永久
磁石１０ａ、磁性材プレート１０ｂを備え、各補助開口
部３ａの周縁には磁性材リング７が設けられていること
は図１の真空容器と同様である。

【００４９】本実施例の真空容器１においては、１方の
補助開口部３ａが真空排気用になっていて真空排気装置
１１Ａに接続可能であり、他方の補助開口部３ａが真空
破壊用になっていて真空破壊装置１１Ｂに接続可能であ
る。そして、真空排気装置１１ＡはバルブＶ１を介して
真空ポンプ２１に連通され、真空破壊装置１１Ｂはバル
ブＶ２を介して大気２２に連通されている。

【００５０】一般に、真空排気時には、真空容器内部に
浮遊している粒子が、補助開口部を経由して真空容器か
ら真空排気系に吸引される。但しその吸引された粒子の
一部は真空排気真空破壊装置の内部の壁やベローズ等に
付着する。補助開口部が１箇所で真空排気と真空破壊を
１台の真空排気真空破壊装置で共用する場合、真空排気
時に真空排気真空破壊装置内部に付着した粒子が、真空
破壊時にその空気の流れにより剥離し、搬送用容器内部
に再び入り、保管されたウエハを汚染する可能性があ
る。

【００５１】しかしながら、本実施例によれば、補助開
口部を真空容器に２箇所つけ、真空排気用と真空破壊用
の補助開口部３ａ，３ａとし、これら補助開口部３ａ，
３ａをそれぞれ真空排気装置１１Ａと真空破壊装置１１
Ｂに接続可能としたため、真空破壊時の粒子汚染を更に
少なくすることができる。

【００５２】次に図１及び図２に示す真空容器１及び真
空排気真空破壊装置１１を用いた真空処理方法及び装置
の一実施例を説明する。本実施例においては、搬送用の
真空容器１に入ったウエハは、真空雰囲気のまま真空プ
ロセス室に移載される。真空処理装置は図８に示される
ように、ウエハを収納して搬送する真空容器１と、この
真空容器１内の真空排気及び真空破壊を行う真空排気真
空破壊装置１１と、真空容器１に接続可能でありウエハ
を真空容器１との間で出し入れするロードロック室８１
と、このロードロック室８１にゲートバルブ８２を介し
て接続されウエハの移載を行うロボット８３ａが配置さ
れているロボット室８３と、ウエハに真空処理を施す真
空プロセス室８４とを備えている。また、ロードロック
室８１内には昇降機構８６により昇降する昇降台８７が
配設されている。なお、ロードロック室８１は上部ロー
ドロック室８１Ａと下部ロードロック室８１Ｂに画成さ
れている。

【００５３】次に、前述のように構成された真空処理装
置による真空処理方法について説明する。まず大気圧下
で、プレート８が補助開口部３ａを閉塞している蓋３を
真空排気真空破壊装置１１の上におく。次にウエハを収
容したウエハキャリア５を蓋３上に載置し、蓋３上に容
器本体２をおく。図３に示す実施例で説明した方法によ
り、真空容器１の内部の真空排気を行い、ウエハを真空
状態で保管する。

【００５４】次に、図４に示す実施例で説明した方法に
より、真空容器１を真空排気真空破壊装置１１から切り
離して搬送可能な状態にする。この真空容器１をプロセ
ス装置へ搬送し、装置の近くにある別の真空排気真空破
壊装置１１の上におき、真空容器１の内部の真空排気を
行い真空容器内部の真空度を一定に保つ。プロセス装置
があいたのを待ち、真空容器１をプロセス装置の上部ロ
ードロック室８１Ａに入れ、上部ロードロック室８１Ａ
の扉を閉じ上下部ロードロック室８１Ａ、８１Ｂを真空
排気ポンプ（図示せず）により真空にした後、容器本体
２を上部ロードロック室８１Ａに残したまま昇降台８７
を下降させてウエハキャリア５を載置した蓋３のみを下
部ロードロック室８１Ｂへ移動する。そして、ウエハ移
載ロボット８３ａによってウエハをウエハキャリア５か
ら真空プロセス室８４へ移載する。

【００５５】このように図８に示す方法によれば、真空
を破壊せずにウエハを搬送用の真空容器１から、真空プ
ロセス室８４内に移載し、所定の真空処理を行うことが
できる。所定の真空処理を行った後、ウエハを搬送用の
真空容器１内に戻し、先と逆の操作を行い、内部が真空
状態の真空容器１にウエハを入れた状態とする。そし
て、この真空容器１を次のプロセス装置へ搬送し、先と
同じ操作を行うことにより、真空を破壊せずに次のプロ
セス装置にウエハを移載することができる。

【００５６】次に図１及び図２に示す真空容器１及び真
空排気真空破壊装置１１を用いた真空処理方法及び装置
の別の実施例を図９を参照して説明する。本実施例にお
いては、搬送用の真空容器１に入ったウエハは、真空雰
囲気で真空プロセス装置近くまで搬送され、真空雰囲気
中で保管されプロセス処理を待機する。プロセス装置に
ウエハを入れる時は、真空容器１内の真空破壊を行い、
一旦ウエハキャリア５に入ったウエハを真空容器１から
大気に出して、次に通常のプロセス装置のロードロック
室にウエハキャリア５ごとウエハを入れる。

【００５７】真空処理装置は図９に示されるように、ウ
エハを入れて搬送する真空容器１と、真空排気真空破壊
装置１１と、ウエハキャリア５に入ったウエハを大気圧
状態で内部に入れて扉を閉めて真空排気する通常のロー
ドロック室９１と、このロードロック室９１にゲートバ
ルブ９２を介して接続されウエハの移載を行うロボット
９３ａが配置されているロボット室９３と、ウエハに真
空処理を施す真空プロセス室９４とを備えている。ま
た、ロードロック室９１内には昇降機構９６により昇降
する昇降台９７が配設されている。

【００５８】次に前述のように構成された真空処理装置
による真空処理方法について説明する。プロセス装置ま
で真空容器１を搬送し、プロセス装置近くに設置されて
いる真空排気真空破壊装置１１を使用して、真空容器１
内の真空度を維持して待機するまでは図８に示す実施例
と同様である。次に真空排気真空破壊装置１１を使用し
て、図４に示す実施例で説明した方法により、真空容器
１内を真空破壊した後、一旦ウエハキャリア５に入った
ウエハを真空容器１から大気に出して、次に通常のプロ
セス装置のロードロック室９１にウエハキャリア５ごと
ウエハを入れる。この後はロードロック室９１内の圧力
を真空にし、ゲートバルブ９２を開き、ロボット室９３
内のロボット９３ａにより、ウエハを真空プロセス室９
４内に移載し、所定の真空処理を行う。所定の真空処理
を行った後、ウエハを搬送用の真空容器１内に戻し、真
空排気真空破壊装置１１により真空容器１内を真空排気
しウエハの保管を行い、次の真空処理のために待機す
る。

【００５９】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、真
空容器に設けられたゲートを介して真空容器内を真空排
気することができる。したがって、真空容器内に被搬送
物を保管中に真空容器内の真空度が低下して酸化等によ
り被搬送物が劣化することを防止できる。

【００６０】また、本発明の真空処理方法及び装置の１
態様によれば、真空容器内を真空排気しつつ被搬送物を
保管した後、真空容器を真空プロセス装置までもってい
き、真空下で被搬送物を真空プロセス装置に移載するこ
とができる。

【００６１】さらに、本発明の真空処理方法及び装置の
他の態様によれば、真空容器内を真空排気しつつ被搬送
物を保管した後に真空容器内の真空破壊を行い、大気圧
下で被搬送物を真空プロセス装置に移載することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る真空容器の一実施例を示す断面図
である。

【図２】本発明に係る真空容器及び真空排気真空破壊装
置の一実施例を示す断面図である。

【図３】図２に示す真空容器及び真空排気真空破壊装置
の動作説明図である。

【図４】図２に示す真空容器及び真空排気真空破壊装置
の動作説明図である。

【図５】本発明に係る真空容器の第２実施例を示す断面
図である。

【図６】本発明に係る真空容器及び真空排気真空破壊装
置の他の実施例を示す断面図である。

【図７】本発明に係る真空容器の第３実施例を示す断面
図である。

【図８】本発明に係る真空処理方法及び装置の一実施例
を示す説明図である。

【図９】本発明に係る真空処理方法及び装置の他の実施
例を示す説明図である。

【符号の説明】

１，３１ 真空容器 ２，３２ 容器本体 ３，３３ 蓋 ４，３４ プレート ５ ウエハキャリア ８ プレート １１，５１ 真空排気真空破壊装置 １２，５２ ハウジング １６，５７ 昇降台 ２１ 真空排気ポンプ ８１，９１ ロードロック室 ８３，９３ ロボット室 ８４，９４ 真空プロセス室

フロントページの続き (72)発明者 松村 正夫 神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号 株 式会社荏原総合研究所内 (72)発明者 吉岡 毅 神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号 株 式会社荏原総合研究所内

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被搬送物の出入用の主開口部を有した容
   器本体と、前記容器本体の開口部を開閉可能に閉塞する
   蓋からなる搬送可能な真空容器において、前記容器本体
   又は前記蓋に容器内の真空排気及び／又は真空破壊用の
   ゲートが設けられていることを特徴とする搬送可能な真
   空容器。
2. 【請求項２】 前記ゲートは、前記容器本体又は前記蓋
   に設けられた補助開口部と、該補助開口部を開閉可能に
   閉塞するプレートとからなり、該プレートは真空容器内
   外の差圧によって閉塞することを特徴とする請求項１記
   載の搬送可能な真空容器。
3. 【請求項３】 前記プレートは永久磁石を具備し、前記
   補助開口部の近傍には前記永久磁石の磁力が作用する磁
   性体が設けられていることを特徴とする請求項２記載の
   搬送可能な真空容器。
4. 【請求項４】 請求項１記載の真空容器の蓋を開けて真
   空容器内に被搬送物を入れた後に蓋を閉める工程と、 被搬送物の保管中に容器内を所定真空度に保つために、
   前記ゲートを開いて真空容器内部を真空排気しつつ保管
   する工程と、 前記ゲートを閉塞して前記真空容器をロードロック室ま
   で搬送する工程と、 前記真空容器とロードロック室とを接続し、真空下で真
   空容器の蓋を開放し被搬送物をロードロック室に移送す
   る工程と、 を備えたことを特徴とする真空処理方法。
5. 【請求項５】 請求項１記載の真空容器の蓋を開けて真
   空容器内に被搬送物を入れた後に蓋を閉める工程と、 被搬送物の保管中に容器内を所定真空度に保つために、
   前記ゲートを開いて真空容器内部を真空排気しつつ保管
   する工程と、 前記ゲートを介して前記真空容器内の真空破壊を行う工
   程と、 大気圧下で真空容器の蓋を開放した後に被搬送物を真空
   容器から取り出してロードロック室に移送する工程と、 を備えたことを特徴とする真空処理方法。
6. 【請求項６】 請求項１記載の真空容器と、 前記真空容器のゲートに接続可能であり被搬送物を収容
   した状態で真空容器内を真空排気するとともに、容器内
   の真空破壊を行う真空排気真空破壊装置と、 前記真空容器と接続可能であり真空下で真空容器内から
   被搬送物を取り出して移送するための真空プロセス室に
   連通したロードロック室と、 を備えたことを特徴とする真空処理装置。
7. 【請求項７】 前記真空排気真空破壊装置は、前記ゲー
   トのプレートを保持する機構を有しかつ昇降機構と接続
   された昇降台と、内部が真空排気系及び大気開放系に接
   続されるとともに前記ゲートと気密に接続可能なハウジ
   ングとからなることを特徴とする請求項６記載の真空処
   理装置。
8. 【請求項８】 請求項１記載の真空容器と、 前記真空容器のゲートに接続可能であり被搬送物を収容
   した状態で真空容器内を真空排気するとともに、容器内
   の真空破壊を行う真空排気真空破壊装置と、 前記真空容器内を真空破壊した後に大気圧下で真空容器
   内から被搬送物を取り出して移送するための真空プロセ
   ス室に連通したロードロック室と、 を備えたことを特徴とする真空処理装置。
9. 【請求項９】 前記真空排気真空破壊装置は、前記ゲー
   トのプレートを保持する機構を有しかつ昇降機構と接続
   された昇降台と、内部が真空排気系及び大気開放系に接
   続されるとともに前記ゲートと気密に接続可能なハウジ
   ングとからなることを特徴とする請求項８記載の真空処
   理装置。