JPH06184032A - 脂環式ジオールの製造方法 - Google Patents
脂環式ジオールの製造方法Info
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- JPH06184032A JPH06184032A JP4354518A JP35451892A JPH06184032A JP H06184032 A JPH06184032 A JP H06184032A JP 4354518 A JP4354518 A JP 4354518A JP 35451892 A JP35451892 A JP 35451892A JP H06184032 A JPH06184032 A JP H06184032A
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 高選択率、且つ高収率で脂環式ジオール類を
工業的に製造する方法を提供する。 【構成】 ルテニウム系触媒、パラジウム系触媒、ロジ
ウム系触媒から選ばれる少なくとも１種の貴金属系触媒
をＣａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ及びＺｒから選
ばれる金属酸化物に担持してなる貴金属担持触媒の存在
下、一般式１の芳香族ジオールを核水素化する一般式２
の脂環式ジオールの製造方法。 ［Ｒ１、Ｒ２はＨ、Ｃ１〜５アルキル基；ｐ、ｑは１〜
４の整数を示す。Ｘは単結合、Ｃ１〜１５アルキレン基
又はシクロアルキレン基を示す。ＡＯはＣ２〜４オキシ
アルキレン基を表し、ｍ、ｎは１〜５０の整数を示
す。］
工業的に製造する方法を提供する。 【構成】 ルテニウム系触媒、パラジウム系触媒、ロジ
ウム系触媒から選ばれる少なくとも１種の貴金属系触媒
をＣａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ及びＺｒから選
ばれる金属酸化物に担持してなる貴金属担持触媒の存在
下、一般式１の芳香族ジオールを核水素化する一般式２
の脂環式ジオールの製造方法。 ［Ｒ１、Ｒ２はＨ、Ｃ１〜５アルキル基；ｐ、ｑは１〜
４の整数を示す。Ｘは単結合、Ｃ１〜１５アルキレン基
又はシクロアルキレン基を示す。ＡＯはＣ２〜４オキシ
アルキレン基を表し、ｍ、ｎは１〜５０の整数を示
す。］
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高純度の脂環式ジオー
ルの製造方法に関する。当該脂環式ジオールの一種であ
る２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシ
ル）プロパンは、エポキシ、ポリエステル、ポリウレタ
ン及びアクリレート等の樹脂原料として有用な化合物で
ある。
ルの製造方法に関する。当該脂環式ジオールの一種であ
る２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシ
ル）プロパンは、エポキシ、ポリエステル、ポリウレタ
ン及びアクリレート等の樹脂原料として有用な化合物で
ある。
【０００２】
【従来の技術】２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシ
シクロヘキシル）プロパンの製造方法としては、水素化
ビスフェノールＡにエチレンオキシドを付加する方法が
考えられる。しかしながら、第二アルコールへのエチレ
ンオキシドの付加速度は、第一アルコールと比較して約
１／２であるとの報告があり（石井義郎、非イオン界面
活性剤、第３２頁、誠文堂新光社、昭和３７年発行）、
事実、本発明者らによる検討においても、当該方法にお
いては、水素化ビスフェノールＡとエチレンオキシドと
の反応性は極めて悪く、未反応の水素化ビスフェノール
Ａが残存するのみでなく、エチレンオキシド付加モル数
の分布が極めて広く、その結果、目的物である２，２−
ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシル）プロパ
ンの純度は極めて低い結果を認めた。
シクロヘキシル）プロパンの製造方法としては、水素化
ビスフェノールＡにエチレンオキシドを付加する方法が
考えられる。しかしながら、第二アルコールへのエチレ
ンオキシドの付加速度は、第一アルコールと比較して約
１／２であるとの報告があり（石井義郎、非イオン界面
活性剤、第３２頁、誠文堂新光社、昭和３７年発行）、
事実、本発明者らによる検討においても、当該方法にお
いては、水素化ビスフェノールＡとエチレンオキシドと
の反応性は極めて悪く、未反応の水素化ビスフェノール
Ａが残存するのみでなく、エチレンオキシド付加モル数
の分布が極めて広く、その結果、目的物である２，２−
ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシル）プロパ
ンの純度は極めて低い結果を認めた。
【０００３】一方、当該目的物は、予めビスフェノール
類にエチレンオキシドを付加し、次いで水素化すること
によっても得られるものと考えられるが、これまでにか
かる方法は提案されていない。
類にエチレンオキシドを付加し、次いで水素化すること
によっても得られるものと考えられるが、これまでにか
かる方法は提案されていない。
【０００４】一般に、ベンゼン環を有する化合物の核水
素化に有効な触媒としては、ニッケル、コバルト、ルテ
ニウム、ロジウム、パラジウム、白金等の金属触媒或い
はこれらの金属を担体上に担持させた触媒が知られてい
る。更に、フェニルエーテル類は、水素化の際、炭素−
酸素結合の水素化分解を起し易く、多量の副生物を生
じ、収率が非常に低下することが知られている（例え
ば、触媒工学講座、第６卷、第２６７頁、地人書館発
行）。
素化に有効な触媒としては、ニッケル、コバルト、ルテ
ニウム、ロジウム、パラジウム、白金等の金属触媒或い
はこれらの金属を担体上に担持させた触媒が知られてい
る。更に、フェニルエーテル類は、水素化の際、炭素−
酸素結合の水素化分解を起し易く、多量の副生物を生
じ、収率が非常に低下することが知られている（例え
ば、触媒工学講座、第６卷、第２６７頁、地人書館発
行）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来方法の
問題点を解消し、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキ
シシクロヘキシル）プロパンに例示される脂環式ジオー
ルを効率よく製造し得る新規有用な方法を提供すること
を目的とする。
問題点を解消し、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキ
シシクロヘキシル）プロパンに例示される脂環式ジオー
ルを効率よく製造し得る新規有用な方法を提供すること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討の結果、以下の事実を見いだし
た。 （１）ビスフェノールＡに対する所定のエチレンオキシ
ドの付加は、水素化ビスフェノールＡと比較して容易で
あり、付加モル数の分布は狭く、高純度物を得ることが
できる。
を解決すべく鋭意検討の結果、以下の事実を見いだし
た。 （１）ビスフェノールＡに対する所定のエチレンオキシ
ドの付加は、水素化ビスフェノールＡと比較して容易で
あり、付加モル数の分布は狭く、高純度物を得ることが
できる。
【０００７】（２）核水素化触媒として特定の貴金属担
持触媒を適用することにより、ニッケル系の核水素化触
媒と比較して、極めて選択率が高く、高純度の目的物を
高収率で工業的に製造することができる。
持触媒を適用することにより、ニッケル系の核水素化触
媒と比較して、極めて選択率が高く、高純度の目的物を
高収率で工業的に製造することができる。
【０００８】（３）特定の貴金属担持触媒の存在下、炭
素数１〜１０のアルコール性溶媒中で核水素化すること
により、より一層高い活性及び選択率が得られ、高純度
の目的物を高収率で工業的に製造することができる。
素数１〜１０のアルコール性溶媒中で核水素化すること
により、より一層高い活性及び選択率が得られ、高純度
の目的物を高収率で工業的に製造することができる。
【０００９】（４）上記方法は、単にビスフェノールＡ
のみならず、各種のビスフェノール類の核置換体にも適
用できる。
のみならず、各種のビスフェノール類の核置換体にも適
用できる。
【００１０】即ち、本発明に係る一般式（２）で表され
る脂環式ジオールの製造方法は、上記知見に基づいて完
成されたものであって、ルテニウム系触媒、パラジウム
系触媒、ロジウム系触媒よりなる群から選ばれる少なく
とも１種の貴金属系触媒（以下「本貴金属触媒」とい
う。）をＣａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ及びＺｒ
から選ばれる１種若しくは２種以上の金属酸化物に担持
してなる貴金属担持触媒（以下「本貴金属担持触媒」と
いう。）の存在下、一般式（１）で表される芳香族ジオ
ールを核水素化することを特徴とする。
る脂環式ジオールの製造方法は、上記知見に基づいて完
成されたものであって、ルテニウム系触媒、パラジウム
系触媒、ロジウム系触媒よりなる群から選ばれる少なく
とも１種の貴金属系触媒（以下「本貴金属触媒」とい
う。）をＣａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ及びＺｒ
から選ばれる１種若しくは２種以上の金属酸化物に担持
してなる貴金属担持触媒（以下「本貴金属担持触媒」と
いう。）の存在下、一般式（１）で表される芳香族ジオ
ールを核水素化することを特徴とする。
【００１１】
【化３】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なって、水素原子又は炭
素数１〜５のアルキル基を表し、ｐ、ｑは１〜４の整数
を示す。Ｘは単結合、炭素数１〜１５のアルキレン基又
はシクロアルキレン基を示す。ＡＯは炭素数２〜４のオ
キシアルキレン基を表し、ｍ、ｎは同一又は異なって１
〜５０の整数を示す。］
素数１〜５のアルキル基を表し、ｐ、ｑは１〜４の整数
を示す。Ｘは単結合、炭素数１〜１５のアルキレン基又
はシクロアルキレン基を示す。ＡＯは炭素数２〜４のオ
キシアルキレン基を表し、ｍ、ｎは同一又は異なって１
〜５０の整数を示す。］
【００１２】
【化４】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、ｐ、ｑ、Ｘ、ＡＯ、ｍ及びｎは一般
式（１）と同義である。］
式（１）と同義である。］
【００１３】一般式（１）で表される芳香族ジオール
（以下「原料ジオール」という。）は、例えばビスフェ
ノールＡや所定の当該核置換体（以下「ビスフェノール
類」と総称する。）に対し、１種又は２種以上のアルキ
レンオキシドを常法に従って所定量付加することにより
容易に製造される。
（以下「原料ジオール」という。）は、例えばビスフェ
ノールＡや所定の当該核置換体（以下「ビスフェノール
類」と総称する。）に対し、１種又は２種以上のアルキ
レンオキシドを常法に従って所定量付加することにより
容易に製造される。
【００１４】上記アルキレンオキシドとしては、エチレ
ンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド及
びそれらの共付加体が挙げられる。
ンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド及
びそれらの共付加体が挙げられる。
【００１５】アルキレンオキシドの付加モル数は、ビス
フェノール類１モルに対し２〜５０モルである。
フェノール類１モルに対し２〜５０モルである。
【００１６】本貴金属触媒として、より具体的には、そ
れぞれ該当する金属単体及びそれらの水酸化物を必須の
成分として含有する触媒が例示される。中でもルテニウ
ム単体、パラジウム単体及びそれらの水酸化物を成分と
する触媒が好ましい。
れぞれ該当する金属単体及びそれらの水酸化物を必須の
成分として含有する触媒が例示される。中でもルテニウ
ム単体、パラジウム単体及びそれらの水酸化物を成分と
する触媒が好ましい。
【００１７】本貴金属触媒成分として、所定の効果を奏
する限り、上記必須成分と共に他の金属触媒成分を含む
ことも差し支えなく、かかる併用成分としてはレニウム
が例示される。
する限り、上記必須成分と共に他の金属触媒成分を含む
ことも差し支えなく、かかる併用成分としてはレニウム
が例示される。
【００１８】本発明に係る担体は、Ｃａ、Ｍｇ、Ａｌ、
Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ及びＺｒから選ばれる１種若しくは２
種以上の金属酸化物を成分とする担体であって、具体的
には、酸化カルシウム、マグネシア、アルミナ、シリ
カ、シリカ・アルミナ、チタニア、ジルコニア等の金属
酸化物を成分としてなる担体が例示され、中でもアルミ
ナ系、シリカ系、シリカ・アルミナ系等の担体が好まし
い。
Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ及びＺｒから選ばれる１種若しくは２
種以上の金属酸化物を成分とする担体であって、具体的
には、酸化カルシウム、マグネシア、アルミナ、シリ
カ、シリカ・アルミナ、チタニア、ジルコニア等の金属
酸化物を成分としてなる担体が例示され、中でもアルミ
ナ系、シリカ系、シリカ・アルミナ系等の担体が好まし
い。
【００１９】好ましい本貴金属担持触媒として、特にル
テニウム／アルミナ、水酸化ルテニウム／アルミナ、ル
テニウム／シリカ・アルミナ、パラジウム／アルミナ、
パラジウム／シリカ、水酸化パラジウム／アルミナ等の
各系の触媒が推奨される。
テニウム／アルミナ、水酸化ルテニウム／アルミナ、ル
テニウム／シリカ・アルミナ、パラジウム／アルミナ、
パラジウム／シリカ、水酸化パラジウム／アルミナ等の
各系の触媒が推奨される。
【００２０】本発明に係る製造方法は、懸濁床反応方
式、流動床反応方式のみならず、固定床を用いた連続方
式においても適用される。
式、流動床反応方式のみならず、固定床を用いた連続方
式においても適用される。
【００２１】水素化条件は、原料ジオールの種類、本貴
金属担持触媒の種類及びその適用量、反応方式等によっ
て適宜選択されるが、通常適用される条件を以下に示
す。
金属担持触媒の種類及びその適用量、反応方式等によっ
て適宜選択されるが、通常適用される条件を以下に示
す。
【００２２】本貴金属触媒の担体に対する担持量は、反
応方式により種々選択される。例えば、懸濁方式におい
て適用される貴金属触媒の担持量としては、０．３〜７
重量％程度、特に０．５〜５重量％程度が推奨される。
又、固定床方式では、０．０５〜３重量％程度、特に
０．１〜１重量％程度が推奨される。
応方式により種々選択される。例えば、懸濁方式におい
て適用される貴金属触媒の担持量としては、０．３〜７
重量％程度、特に０．５〜５重量％程度が推奨される。
又、固定床方式では、０．０５〜３重量％程度、特に
０．１〜１重量％程度が推奨される。
【００２３】貴金属担持触媒量は、例えば、懸濁方式の
場合、原料ジオールに対して０．５〜１５重量％程度、
好ましくは１〜１０重量％程度であり、反応後、濾別等
により触媒を回収し、再使用することも可能である。
場合、原料ジオールに対して０．５〜１５重量％程度、
好ましくは１〜１０重量％程度であり、反応後、濾別等
により触媒を回収し、再使用することも可能である。
【００２４】反応温度としては、貴金属担持触媒の種
類、その使用量により異なるが、ルテニウム系触媒やロ
ジウム系触媒では、６０℃〜１７０℃程度が好ましい。
又、パラジウム系触媒では、１２０℃〜２２０℃が好ま
しい。上記各下限温度未満では反応速度が遅く、上記上
限温度を越える温度では水素化分解が起こり易くなる。
類、その使用量により異なるが、ルテニウム系触媒やロ
ジウム系触媒では、６０℃〜１７０℃程度が好ましい。
又、パラジウム系触媒では、１２０℃〜２２０℃が好ま
しい。上記各下限温度未満では反応速度が遅く、上記上
限温度を越える温度では水素化分解が起こり易くなる。
【００２５】水素圧力は、２０〜３００Kg／cm2Ｇ程
度、好ましくは３０〜２００Kg／cm2Ｇ程度である。２
０Kg／cm2Ｇ未満では反応速度が遅い上、水素化分解も
起こり易く目的物への選択性が大幅に低下する。３００
Kg／cm2Ｇを越える圧力では特殊な耐圧設備が必要とな
り、経済的でない。
度、好ましくは３０〜２００Kg／cm2Ｇ程度である。２
０Kg／cm2Ｇ未満では反応速度が遅い上、水素化分解も
起こり易く目的物への選択性が大幅に低下する。３００
Kg／cm2Ｇを越える圧力では特殊な耐圧設備が必要とな
り、経済的でない。
【００２６】反応時間は、通常、１〜７時間程度であ
る。
る。
【００２７】核水素化するに際し、溶媒を用いなくても
所定の効果が得られるものの、溶媒を用いることにより
目的物の選択率を大幅に改善することができる。
所定の効果が得られるものの、溶媒を用いることにより
目的物の選択率を大幅に改善することができる。
【００２８】反応溶媒の種類は、当該反応に悪影響を与
えない限り特に限定されず、具体的には炭素数１〜１０
の脂肪族又は脂環式のアルコールが例示される。
えない限り特に限定されず、具体的には炭素数１〜１０
の脂肪族又は脂環式のアルコールが例示される。
【００２９】かかるアルコール性溶媒として、中でもイ
ソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、te
rt−ブタノール、ヘキサノール、２−エチルヘキサノー
ル、シクロヘキサノール及びそれらと水との混合溶媒が
好ましく、特にｎ−ブタノール、イソブタノール、tert
−ブタノール等が推奨される。
ソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、te
rt−ブタノール、ヘキサノール、２−エチルヘキサノー
ル、シクロヘキサノール及びそれらと水との混合溶媒が
好ましく、特にｎ−ブタノール、イソブタノール、tert
−ブタノール等が推奨される。
【００３０】又、ジオキサン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル等のエーテル系溶媒を適用することもできる。
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル等のエーテル系溶媒を適用することもできる。
【００３１】反応溶媒の適用量は、原料ジオールに対し
て０〜３００重量％程度、好ましくは２００重量％程度
以下である。３００重量％を越えて適用したとしても顕
著な効果上の有意差は認められず、経済上不利となる。
て０〜３００重量％程度、好ましくは２００重量％程度
以下である。３００重量％を越えて適用したとしても顕
著な効果上の有意差は認められず、経済上不利となる。
【００３２】本発明に係る核水素化物は、必要に応じ
て、蒸留等、従来公知の方法を用いて容易に精製するこ
とができる。
て、蒸留等、従来公知の方法を用いて容易に精製するこ
とができる。
【００３３】かくして得られる脂環式ジオールは、特に
高純度品が要求される用途に推奨される。
高純度品が要求される用途に推奨される。
【００３４】
【実施例】以下に実施例を掲げて、本発明を詳しく説明
する。尚、各例における原料ジオールの転化率及び目的
物への選択率は、ガスクロマトグラフィー（Silicone G
ESE-30 5%/Chromosorb W 60/80mesh,内径3mm、長さ2m、
ガラス製）で分析した。
する。尚、各例における原料ジオールの転化率及び目的
物への選択率は、ガスクロマトグラフィー（Silicone G
ESE-30 5%/Chromosorb W 60/80mesh,内径3mm、長さ2m、
ガラス製）で分析した。
【００３５】実施例１ 電磁攪拌機を備えた５００mlのステンレス製オートクレ
ーブに２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニ
ル）プロパン１００ｇ及び５重量％ルテニウム／アルミ
ナ触媒１０ｇを仕込み、系内を水素で置換した後、攪拌
しながら１００℃、２００Kg／cm2Ｇの条件下で７時間
水素化を行った。反応終了後、触媒を濾別し、得られた
無色透明の濾液を分析した。得られた結果を第１表に示
す。
ーブに２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニ
ル）プロパン１００ｇ及び５重量％ルテニウム／アルミ
ナ触媒１０ｇを仕込み、系内を水素で置換した後、攪拌
しながら１００℃、２００Kg／cm2Ｇの条件下で７時間
水素化を行った。反応終了後、触媒を濾別し、得られた
無色透明の濾液を分析した。得られた結果を第１表に示
す。
【００３６】実施例２ 実施例１と同様の装置に２，２−ビス（４−ヒドロキシ
エトキシフェニル）プロパン３０ｇ、５重量％ルテニウ
ム／アルミナ触媒（以下「Ｒｕ／アルミナ」と略記す
る。）３ｇ及び反応溶媒としてｎ−ブタノール７０ｇを
仕込み、１００℃、２００Kg／cm2Ｇの加熱加圧条件下
で３時間水素化して２，２−ビス（４−ヒドロキシエト
キシシクロヘキシル）プロパンを調製した。反応終了
後、触媒を濾別し、得られた無色透明の濾液を分析し
た。転化率及び選択率をそれぞれ第１表に示す。
エトキシフェニル）プロパン３０ｇ、５重量％ルテニウ
ム／アルミナ触媒（以下「Ｒｕ／アルミナ」と略記す
る。）３ｇ及び反応溶媒としてｎ−ブタノール７０ｇを
仕込み、１００℃、２００Kg／cm2Ｇの加熱加圧条件下
で３時間水素化して２，２−ビス（４−ヒドロキシエト
キシシクロヘキシル）プロパンを調製した。反応終了
後、触媒を濾別し、得られた無色透明の濾液を分析し
た。転化率及び選択率をそれぞれ第１表に示す。
【００３７】実施例３〜１１ 貴金属担持触媒の種類、反応溶媒の種類、反応圧力及び
反応時間を種々選択し、実施例２と同様にして２，２−
ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシル）プロパ
ンを調製した。転化率及び選択率をそれぞれ第１表に示
す。尚、第１表中において、各例で用いた貴金属担持触
媒を、それぞれ以下のとおりに略記する。
反応時間を種々選択し、実施例２と同様にして２，２−
ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシル）プロパ
ンを調製した。転化率及び選択率をそれぞれ第１表に示
す。尚、第１表中において、各例で用いた貴金属担持触
媒を、それぞれ以下のとおりに略記する。
【００３８】 ４重量％水酸化ルテニウム／アルミナ ：Ｒｕ−ＯＨ／アルミナ ５重量％ルテニウム／シリカ・アルミナ：Ｒｕ／シリカ・アルミナ ５重量％ルテニウム／チタニア ：Ｒｕ／チタニア ５重量％ルテニウム／ジルコニア ：Ｒｕ／ジルコニア ５重量％パラジウム／アルミナ ：Ｐｄ／アルミナ ５重量％パラジウム／シリカ ：Ｐｄ／シリカ ５重量％ロジウム／アルミナ ：Ｒｈ／アルミナ
【００３９】比較例１ 水素化触媒として５重量％ルテニウム／カーボン（Ｒｕ
／カーボン）３ｇを用い、１００℃、１５０Kg／cm2Ｇ
の加熱加圧下で水素化した他は実施例２と同様にして
２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシ
ル）プロパンを調製した。このときの転化率及び選択率
をそれぞれ第１表に示す。
／カーボン）３ｇを用い、１００℃、１５０Kg／cm2Ｇ
の加熱加圧下で水素化した他は実施例２と同様にして
２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシ
ル）プロパンを調製した。このときの転化率及び選択率
をそれぞれ第１表に示す。
【００４０】比較例２ 水素化触媒として５重量％パラジウム／カーボン（Ｐｄ
／カーボン）３ｇを用いた他は実施例１０と同様にして
２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシ
ル）プロパンを調製した。このときの転化率及び選択率
をそれぞれ第１表に示す。
／カーボン）３ｇを用いた他は実施例１０と同様にして
２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシ
ル）プロパンを調製した。このときの転化率及び選択率
をそれぞれ第１表に示す。
【００４１】比較例３ 水素化触媒として４０重量％ニッケル／珪藻土（Ｎｉ／
珪藻土）３ｇを用い、１４０℃、２００Kg／cm2Ｇの加
熱加圧下で６．５時間水素化した他は実施例２と同様に
して２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキ
シル）プロパンを調製した。このときの転化率及び選択
率をそれぞれ第１表に示す。
珪藻土）３ｇを用い、１４０℃、２００Kg／cm2Ｇの加
熱加圧下で６．５時間水素化した他は実施例２と同様に
して２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキ
シル）プロパンを調製した。このときの転化率及び選択
率をそれぞれ第１表に示す。
【表１】
【００４２】実施例１２ 内径２０mm、塔長８００mmの反応器に０．５重量％ルテ
ニウム／アルミナ成型触媒（３mm×３mm、円筒状）を２
５０ｇ充填し、反応温度１００℃、反応圧力５０Kg／cm
2Ｇ、水素線速度２cm／ｓとし、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシエトキシフェニル）プロパンの３０％のｎ−ブ
タノール溶液を２５０ml／ｈの送液速度で反応塔の下部
から水素と共に供給して水素化した。この固定床連続反
応で１０時間反応した後の粗物を分析した結果、２，２
−（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパンの転化
率は９９．５％、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキ
シシクロヘキシル）プロパンへの選択率は７５．０％で
あった。
ニウム／アルミナ成型触媒（３mm×３mm、円筒状）を２
５０ｇ充填し、反応温度１００℃、反応圧力５０Kg／cm
2Ｇ、水素線速度２cm／ｓとし、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシエトキシフェニル）プロパンの３０％のｎ−ブ
タノール溶液を２５０ml／ｈの送液速度で反応塔の下部
から水素と共に供給して水素化した。この固定床連続反
応で１０時間反応した後の粗物を分析した結果、２，２
−（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパンの転化
率は９９．５％、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキ
シシクロヘキシル）プロパンへの選択率は７５．０％で
あった。
【００４３】実施例１３ 実施例１２と同様の反応器に０．５％パラジウム／アル
ミナ成型触媒（３mm×３mm、円筒状）を２５０ｇ充填
し、反応温度１８０℃、反応圧力２００Kg／cm2Ｇ、水
素線速度２cm／ｓとし、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
エトキシフェニル）プロパンの３０％のｎ−ブタノ−ル
溶液を２５０ml／ｈの送液速度で反応塔の下部から水素
と共に供給して水素化した。この固定床連続反応で１０
時間反応した後の粗物を分析した結果、２，２−（４−
ヒドロキシエトキシフェニル）プロパンの転化率は１０
０％、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘ
キシル）プロパンへの選択率は９５．６％であった。
ミナ成型触媒（３mm×３mm、円筒状）を２５０ｇ充填
し、反応温度１８０℃、反応圧力２００Kg／cm2Ｇ、水
素線速度２cm／ｓとし、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
エトキシフェニル）プロパンの３０％のｎ−ブタノ−ル
溶液を２５０ml／ｈの送液速度で反応塔の下部から水素
と共に供給して水素化した。この固定床連続反応で１０
時間反応した後の粗物を分析した結果、２，２−（４−
ヒドロキシエトキシフェニル）プロパンの転化率は１０
０％、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘ
キシル）プロパンへの選択率は９５．６％であった。
【００４４】実施例１４ 反応圧力５０Kg／cm2Ｇ、送液速度１３０ml／ｈを適用
した他は実施例１３と同様にして、固定床連続反応によ
り２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシ
ル）プロパンを調製した。分析の結果、２，２−（４−
ヒドロキシエトキシフェニル）プロパンの転化率は９
９．３％、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシク
ロヘキシル）プロパンへの選択率は８５．１％であっ
た。
した他は実施例１３と同様にして、固定床連続反応によ
り２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシ
ル）プロパンを調製した。分析の結果、２，２−（４−
ヒドロキシエトキシフェニル）プロパンの転化率は９
９．３％、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシク
ロヘキシル）プロパンへの選択率は８５．１％であっ
た。
【００４５】実施例１５ 原料ジオールとして２，２−ビス（４−ヒドロキシエト
キシフェニル）メタンを３０ｇ用いた他は実施例２と同
様にして、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシク
ロヘキシル）メタンを調製した。反応終了後、触媒を濾
別し、濾液を分析したところ、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシエトキシフェニル）メタンの転化率は１００％、
２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシ
ル）メタンへの選択率は８９．７％であった。
キシフェニル）メタンを３０ｇ用いた他は実施例２と同
様にして、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシク
ロヘキシル）メタンを調製した。反応終了後、触媒を濾
別し、濾液を分析したところ、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシエトキシフェニル）メタンの転化率は１００％、
２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキシ
ル）メタンへの選択率は８９．７％であった。
【００４６】実施例１６ 原料ジオールとして２，２−ビス（４−ヒドロキシエト
キシフェニル）を３０ｇ用いた他は実施例２と同様にし
て、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキ
シル）を調製した。反応終了後、触媒を濾別し、濾液を
分析したところ、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキ
シフェニル）の転化率は１００％、２，２−ビス（４−
ヒドロキシエトキシシクロヘキシル）への選択率は８
８．１％であった。
キシフェニル）を３０ｇ用いた他は実施例２と同様にし
て、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシシクロヘキ
シル）を調製した。反応終了後、触媒を濾別し、濾液を
分析したところ、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキ
シフェニル）の転化率は１００％、２，２−ビス（４−
ヒドロキシエトキシシクロヘキシル）への選択率は８
８．１％であった。
【００４７】
【発明の効果】本発明に係る貴金属担持触媒を適用して
芳香族ジオールを核水素化することにより、高選択率、
且つ高収率で、目的とする脂環式ジオール類を工業的に
製造することができる。
芳香族ジオールを核水素化することにより、高選択率、
且つ高収率で、目的とする脂環式ジオール類を工業的に
製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 23/64 １０３ Ｘ 8017−4Ｇ Ｃ０７Ｃ 41/20 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 中澤 幹郎 京都府京都市伏見区葭島矢倉町13番地 新 日本理化株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 ルテニウム系触媒、パラジウム系触媒、
ロジウム系触媒よりなる群から選ばれる少なくとも１種
の貴金属系触媒をＣａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ
及びＺｒから選ばれる１種若しくは２種以上の金属酸化
物に担持してなる貴金属担持触媒の存在下、一般式
（１）で表される芳香族ジオールを核水素化することを
特徴とする一般式（２）で表される脂環式ジオールの製
造方法。 【化１】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なって、水素原子又は炭
素数１〜５のアルキル基を表し、ｐ、ｑは１〜４の整数
を示す。Ｘは単結合、炭素数１〜１５のアルキレン基又
はシクロアルキレン基を示す。ＡＯは炭素数２〜４のオ
キシアルキレン基を表し、ｍ、ｎは同一又は異なって１
〜５０の整数を示す。］ 【化２】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、ｐ、ｑ、Ｘ、ＡＯ、ｍ及びｎは一般
式（１）と同義である。］］
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35451892A JP3387131B2 (ja) | 1992-10-22 | 1992-12-15 | 脂環式ジオールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30823292 | 1992-10-22 | ||
| JP4-308232 | 1992-10-22 | ||
| JP35451892A JP3387131B2 (ja) | 1992-10-22 | 1992-12-15 | 脂環式ジオールの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06184032A true JPH06184032A (ja) | 1994-07-05 |
| JP3387131B2 JP3387131B2 (ja) | 2003-03-17 |
Family
ID=26565464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35451892A Expired - Fee Related JP3387131B2 (ja) | 1992-10-22 | 1992-12-15 | 脂環式ジオールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3387131B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021138657A (ja) * | 2020-03-06 | 2021-09-16 | 台灣中油股▲ふん▼有限公司 | 脂環式ジオールの作製方法 |
-
1992
- 1992-12-15 JP JP35451892A patent/JP3387131B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021138657A (ja) * | 2020-03-06 | 2021-09-16 | 台灣中油股▲ふん▼有限公司 | 脂環式ジオールの作製方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3387131B2 (ja) | 2003-03-17 |
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