JPH06178565A - マイクロポジショナ - Google Patents
マイクロポジショナInfo
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- JPH06178565A JPH06178565A JP4331533A JP33153392A JPH06178565A JP H06178565 A JPH06178565 A JP H06178565A JP 4331533 A JP4331533 A JP 4331533A JP 33153392 A JP33153392 A JP 33153392A JP H06178565 A JPH06178565 A JP H06178565A
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- arm portion
- electrode
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- ring
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- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q10/00—Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
- G01Q10/04—Fine scanning or positioning
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/54—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head into or out of its operative position or across tracks
- G11B5/55—Track change, selection or acquisition by displacement of the head
- G11B5/5521—Track change, selection or acquisition by displacement of the head across disk tracks
- G11B5/5526—Control therefor; circuits, track configurations or relative disposition of servo-information transducers and servo-information tracks for control thereof
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/56—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head support for the purpose of adjusting the position of the head relative to the record carrier, e.g. manual adjustment for azimuth correction or track centering
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B9/00—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor
- G11B9/12—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor using near-field interactions; Record carriers therefor
- G11B9/14—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor using near-field interactions; Record carriers therefor using microscopic probe means, i.e. recording or reproducing by means directly associated with the tip of a microscopic electrical probe as used in Scanning Tunneling Microscopy [STM] or Atomic Force Microscopy [AFM] for inducing physical or electrical perturbations in a recording medium; Record carriers or media specially adapted for such transducing of information
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B9/00—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor
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- G11B9/1418—Disposition or mounting of heads or record carriers
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- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N1/00—Electrostatic generators or motors using a solid moving electrostatic charge carrier
- H02N1/002—Electrostatic motors
- H02N1/004—Electrostatic motors in which a body is moved along a path due to interaction with an electric field travelling along the path
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Micromachines (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウォブル駆動の持つ高トルクという特徴を活
かし、高精度な位置決めが可能なマイクロポジショナを
提供する。 【構成】 基板14上に円周状に配した電極16a〜16iに順
次静電気的に吸引され公転かつ自転するリンク゛部11と、ヒ゜
エソ゛ハ゛イモルフにより微細な駆動が可能なアーム部12とを一体的
に構成する。リンク゛部11は螺旋状の梁13a〜13cにより基板
14上に弾性支持される。アーム部12を含む移動板10全体の
位置決めをリンク゛部11の静電駆動により行ない、簡単な構
成で微細な位置決め機構を実現でき、駆動の安定性は高
い。また摩擦が極めて小さく長寿命化も図れる。
かし、高精度な位置決めが可能なマイクロポジショナを
提供する。 【構成】 基板14上に円周状に配した電極16a〜16iに順
次静電気的に吸引され公転かつ自転するリンク゛部11と、ヒ゜
エソ゛ハ゛イモルフにより微細な駆動が可能なアーム部12とを一体的
に構成する。リンク゛部11は螺旋状の梁13a〜13cにより基板
14上に弾性支持される。アーム部12を含む移動板10全体の
位置決めをリンク゛部11の静電駆動により行ない、簡単な構
成で微細な位置決め機構を実現でき、駆動の安定性は高
い。また摩擦が極めて小さく長寿命化も図れる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばエッチングやリ
ソグラフィなどのＩＣ製造方法によって作製されるマイ
クロアクチュエータに関し、特にその応用展開の１つと
して考えられるマイクロポジショナに関するものであ
る。
ソグラフィなどのＩＣ製造方法によって作製されるマイ
クロアクチュエータに関し、特にその応用展開の１つと
して考えられるマイクロポジショナに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のマイクロアクチュエータとして
は、例えば Mehreganyらの論文（"Operation of microf
abricated harmonic and ordinary side-drive motor
s",in Proceedings of the third IEEE Workshop on Mi
cro Electro MechanicalSystems, Napa Valley, Califo
rnia, USA, February 11-14, 1990, pp.1-8.）に示され
ている静電型マイクロウォブルモータが挙げられる。
は、例えば Mehreganyらの論文（"Operation of microf
abricated harmonic and ordinary side-drive motor
s",in Proceedings of the third IEEE Workshop on Mi
cro Electro MechanicalSystems, Napa Valley, Califo
rnia, USA, February 11-14, 1990, pp.1-8.）に示され
ている静電型マイクロウォブルモータが挙げられる。
【０００３】図２６はこの従来の静電型マイクロウォブ
ルモータの構成を模式的に示した平面図を示し、図２７
に同静電型マイクロウォブルモータの断面図を示す。
ルモータの構成を模式的に示した平面図を示し、図２７
に同静電型マイクロウォブルモータの断面図を示す。
【０００４】図２６および図２７において１はベアリン
グ、２は外径１００μｍ程度のロータ、また３ａ〜３ｈ
がロータ２の周囲に円周状に設けられた８個の電極（論
文で紹介されているモータの写真には１２個の電極が見
られる）である。これらの電極３ａ〜３ｈには、図は省
略するが電源よりそれぞれ配線がなされており、任意に
選択して電圧を印加することができる。
グ、２は外径１００μｍ程度のロータ、また３ａ〜３ｈ
がロータ２の周囲に円周状に設けられた８個の電極（論
文で紹介されているモータの写真には１２個の電極が見
られる）である。これらの電極３ａ〜３ｈには、図は省
略するが電源よりそれぞれ配線がなされており、任意に
選択して電圧を印加することができる。
【０００５】図に示すようにロータ２が円環形状をな
し、その内周とベアリング１との間にはクリアランスＣ
が設けられているので、通常のモータとは異なり、ロー
タ２がベアリング１に軸支されて回動するという動作に
はならない。すなわち、電極３ａ〜３ｈへの電圧の印加
にともない、ロータ２は励起された電極３ａ〜３ｈに順
次吸引されながら公転することになる。
し、その内周とベアリング１との間にはクリアランスＣ
が設けられているので、通常のモータとは異なり、ロー
タ２がベアリング１に軸支されて回動するという動作に
はならない。すなわち、電極３ａ〜３ｈへの電圧の印加
にともない、ロータ２は励起された電極３ａ〜３ｈに順
次吸引されながら公転することになる。
【０００６】しかし、同時にロータ２とベアリング１と
が接点２ａの部分でころがり接触をしながら移動するた
め、ベアリング１の外周とロータ２の内周との差の分だ
けロータ２が自転する。この動作に関しては後に詳述す
る。
が接点２ａの部分でころがり接触をしながら移動するた
め、ベアリング１の外周とロータ２の内周との差の分だ
けロータ２が自転する。この動作に関しては後に詳述す
る。
【０００７】ロータ２はベアリング１のフランジ１ａに
よって、ベアリング１から抜けないように支持されてい
る。また、電極３ａ〜３ｈ（図は３ａ、３ｅのみ示して
いる）とロータ２とはほぼ同じ高さになっているが、ロ
ータ２の下面には環状ではなくポイント的に設けられた
複数の突起２ｂがあり、シールド層４上をスライドして
電気的な接触を得るように構成されている。
よって、ベアリング１から抜けないように支持されてい
る。また、電極３ａ〜３ｈ（図は３ａ、３ｅのみ示して
いる）とロータ２とはほぼ同じ高さになっているが、ロ
ータ２の下面には環状ではなくポイント的に設けられた
複数の突起２ｂがあり、シールド層４上をスライドして
電気的な接触を得るように構成されている。
【０００８】図２８〜図３２はそれぞれ、以下に説明す
るこの静電型マイクロウォブルモータの作製工程（ａ）
〜（ｅ）を示す図であるが、作製にはエッチングやリソ
グラフィなどの一般的なＩＣ製造方法が用いられてい
る。以下、工程図にしたがって簡単に作製方法を説明す
る。
るこの静電型マイクロウォブルモータの作製工程（ａ）
〜（ｅ）を示す図であるが、作製にはエッチングやリソ
グラフィなどの一般的なＩＣ製造方法が用いられてい
る。以下、工程図にしたがって簡単に作製方法を説明す
る。
【０００９】（ａ）まず図２８に示すように、シリコン
基板５の上に、熱成長させた１μｍ厚の酸化膜およびＬ
ＰＣＶＤで堆積させた１μｍ厚の窒化シリコン層とを重
ねることによって絶縁層６を形成する。
基板５の上に、熱成長させた１μｍ厚の酸化膜およびＬ
ＰＣＶＤで堆積させた１μｍ厚の窒化シリコン層とを重
ねることによって絶縁層６を形成する。
【００１０】この上に、リンを十分に拡散させた３５０
０Å厚のＬＰＣＶＤ多結晶シリコン薄膜を形成し、パタ
ーンニングを行なって電気的なシールド層４とする。
０Å厚のＬＰＣＶＤ多結晶シリコン薄膜を形成し、パタ
ーンニングを行なって電気的なシールド層４とする。
【００１１】さらに第１の犠牲層となる２．２μｍ厚の
低温酸化（ＬＴＯ）膜７を堆積させ、電極３ａ〜３ｈの
固定部７ａとロータ２の突起２ｂを形成する凹部７ｂの
ためのパターニングを２段階に分けて行なう。
低温酸化（ＬＴＯ）膜７を堆積させ、電極３ａ〜３ｈの
固定部７ａとロータ２の突起２ｂを形成する凹部７ｂの
ためのパターニングを２段階に分けて行なう。
【００１２】（ｂ）次に図２９に示すように、リンを十
分に拡散させた２．５μｍ厚のＬＰＣＶＤ多結晶シリコ
ン層を堆積させ、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を
用いて、図２６および図２７に示すロータ２、電極３ａ
〜３ｈ（図示は３ａ、３ｅのみ）を形成する。電極３ａ
〜３ｈはシリコン基板５上に固定され、ロータ２には複
数の突起２ｂが形成される。
分に拡散させた２．５μｍ厚のＬＰＣＶＤ多結晶シリコ
ン層を堆積させ、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を
用いて、図２６および図２７に示すロータ２、電極３ａ
〜３ｈ（図示は３ａ、３ｅのみ）を形成する。電極３ａ
〜３ｈはシリコン基板５上に固定され、ロータ２には複
数の突起２ｂが形成される。
【００１３】この多結晶シリコン層のＲＩＥ用のマスク
としてはパターンニングされた熱酸化膜を用いるため、
この段階でロータ２や電極３ａ〜３ｈの厚みは２．２μ
ｍ程度になっている。
としてはパターンニングされた熱酸化膜を用いるため、
この段階でロータ２や電極３ａ〜３ｈの厚みは２．２μ
ｍ程度になっている。
【００１４】（ｃ）図３０に示すように、約０．３μｍ
厚の第２の犠牲層となるＬＴＯ膜８を堆積させ、ベアリ
ング１とロータ２のクリアランスＣを確保するととも
に、ベアリング１の固定部８ａをパターンニングする。
なお、このベアリング１の直径は約３６μｍであるが、
ここで用いているプロセス上の制約から２６μｍが最小
値とされている。
厚の第２の犠牲層となるＬＴＯ膜８を堆積させ、ベアリ
ング１とロータ２のクリアランスＣを確保するととも
に、ベアリング１の固定部８ａをパターンニングする。
なお、このベアリング１の直径は約３６μｍであるが、
ここで用いているプロセス上の制約から２６μｍが最小
値とされている。
【００１５】（ｄ）図３１に示すように、リンを十分に
拡散させた１μｍ厚のＬＰＣＶＤ多結晶シリコン層を堆
積させ、フランジ１ａを備えたベアリング１を形成す
る。
拡散させた１μｍ厚のＬＰＣＶＤ多結晶シリコン層を堆
積させ、フランジ１ａを備えたベアリング１を形成す
る。
【００１６】（ｅ）図３２に示すように、第１および第
２の犠牲層であるＬＴＯ膜７および８を緩衝フッ酸（Ｈ
Ｆ）で溶解し、ロータ２を完全にリリースすることによ
り図２７に示すような構成が完成する。
２の犠牲層であるＬＴＯ膜７および８を緩衝フッ酸（Ｈ
Ｆ）で溶解し、ロータ２を完全にリリースすることによ
り図２７に示すような構成が完成する。
【００１７】以上のように構成された従来の静電型マイ
クロウォブルモータにおいて、以下その動作について図
２６を用いて説明を行なう。
クロウォブルモータにおいて、以下その動作について図
２６を用いて説明を行なう。
【００１８】前述のように、ロータ２はベアリング１に
軸支されて回動するのではなく、励起された電極３ａ〜
３ｈに順次吸引されながら公転し、同時に接点２ａでこ
ろがり接触をしながらベアリング１の外周とロータ２の
内周との差の分だけ自転するのである。
軸支されて回動するのではなく、励起された電極３ａ〜
３ｈに順次吸引されながら公転し、同時に接点２ａでこ
ろがり接触をしながらベアリング１の外周とロータ２の
内周との差の分だけ自転するのである。
【００１９】すなわち、図のＸ方向に電極３ａ、次に電
極３ｂ、電極３ｃというように順番に励起して行くもの
とすると、まず、図に示すようにロータ２は励起された
電極３ａに吸引された状態になる。そして次には励起さ
れた電極３ｂに吸引され、その次には電極３ｃに吸引さ
れ、という具合に作動するため、ロータ２も図のＸ方向
に公転することになる。
極３ｂ、電極３ｃというように順番に励起して行くもの
とすると、まず、図に示すようにロータ２は励起された
電極３ａに吸引された状態になる。そして次には励起さ
れた電極３ｂに吸引され、その次には電極３ｃに吸引さ
れ、という具合に作動するため、ロータ２も図のＸ方向
に公転することになる。
【００２０】ここで、ロータ２とベアリング１とのクリ
アランスＣが、ロータ２と電極３ａ〜３ｈとのギャップ
Ｇより小さく設定されているので、ロータ２がベアリン
グ１と接触して接点２ａが生じる。なお、ロータ２と電
極３ａ〜３ｈとのギャップは正しくは図のＧ＋Ｅに相当
するが、このＥはモータのトルクを生み出す実効ギャッ
プ長を意味しており、モータの構成から必然的にＥ＝Ｇ
−Ｃ＞０となる（電極３ｅを励起した状態を想定すれば
明白である）。この実効ギャップ長Ｅの値は可能な限り
小さく設定するため、便宜上ロータ２と電極３ａ〜３ｈ
とのギャップとしてＧで取り扱う。
アランスＣが、ロータ２と電極３ａ〜３ｈとのギャップ
Ｇより小さく設定されているので、ロータ２がベアリン
グ１と接触して接点２ａが生じる。なお、ロータ２と電
極３ａ〜３ｈとのギャップは正しくは図のＧ＋Ｅに相当
するが、このＥはモータのトルクを生み出す実効ギャッ
プ長を意味しており、モータの構成から必然的にＥ＝Ｇ
−Ｃ＞０となる（電極３ｅを励起した状態を想定すれば
明白である）。この実効ギャップ長Ｅの値は可能な限り
小さく設定するため、便宜上ロータ２と電極３ａ〜３ｈ
とのギャップとしてＧで取り扱う。
【００２１】さて、ロータ２のＸ方向への公転にともな
って接点２ａも同様にＸ方向に移動するが、このときベ
アリング１が固定されているため、ロータ２が自転しな
ければ接点２ａの部分でベアリング１の外周とロータ２
の内周との差の分滑りを生じることになる。しかし、ロ
ータ２にはベアリング１を押圧する方向に吸引力が働い
ており、実際には接点２ａでの滑りがほとんど生じな
い。
って接点２ａも同様にＸ方向に移動するが、このときベ
アリング１が固定されているため、ロータ２が自転しな
ければ接点２ａの部分でベアリング１の外周とロータ２
の内周との差の分滑りを生じることになる。しかし、ロ
ータ２にはベアリング１を押圧する方向に吸引力が働い
ており、実際には接点２ａでの滑りがほとんど生じな
い。
【００２２】従ってロータ２は、電極３ａ〜３ｈへの印
加電圧の回転方向（Ｘ方向）と同じ方向への公転にとも
ない、同じ方向（図のＹ方向）にベアリング１の外周と
ロータ２の内周の差に相当する分だけ自転することにな
る。もちろん接点２ａはころがり接触をしながらＸ方向
に移動する。
加電圧の回転方向（Ｘ方向）と同じ方向への公転にとも
ない、同じ方向（図のＹ方向）にベアリング１の外周と
ロータ２の内周の差に相当する分だけ自転することにな
る。もちろん接点２ａはころがり接触をしながらＸ方向
に移動する。
【００２３】この静電型マイクロウォブルモータの特徴
は、ロータ２の自転の回転周波数がベアリング１の外径
Ｂとロータ２の内径Ｒとによって決定され、通常のモー
タに比べて入力電圧の回転周波数Ｆ（この例で言えば電
極３ａ〜３ｈへ印加される電圧の物理的な回転周波数）
に対して、著しくロータ２の自転の回転周波数Ｓが小さ
くなることにある。
は、ロータ２の自転の回転周波数がベアリング１の外径
Ｂとロータ２の内径Ｒとによって決定され、通常のモー
タに比べて入力電圧の回転周波数Ｆ（この例で言えば電
極３ａ〜３ｈへ印加される電圧の物理的な回転周波数）
に対して、著しくロータ２の自転の回転周波数Ｓが小さ
くなることにある。
【００２４】ロータ２の公転の回転周波数が入力電圧の
回転周波数Ｆに等しい場合、ロータ２の自転の回転周波
数Ｓは Ｓ＝Ｆ×（Ｒ−Ｂ）／Ｒ＝Ｆ×Ｃ／Ｒ で表わされ、通常のモータに比べれば回転数がＳ／Ｆ、
すなわちＣ／Ｒになるため、逆にトルクはＲ／Ｃ倍に増
大する。しかも、クリアランスＣを小さくすることによ
り、接点２ａでの滑りをなくし、かつ公転によるロータ
２の揺動を抑えるのにも都合がよい、という利点も合わ
せ持っている。
回転周波数Ｆに等しい場合、ロータ２の自転の回転周波
数Ｓは Ｓ＝Ｆ×（Ｒ−Ｂ）／Ｒ＝Ｆ×Ｃ／Ｒ で表わされ、通常のモータに比べれば回転数がＳ／Ｆ、
すなわちＣ／Ｒになるため、逆にトルクはＲ／Ｃ倍に増
大する。しかも、クリアランスＣを小さくすることによ
り、接点２ａでの滑りをなくし、かつ公転によるロータ
２の揺動を抑えるのにも都合がよい、という利点も合わ
せ持っている。
【００２５】この結果、特に減速手段などを用いずに低
速高トルクのモータが構成できることになり、マイクロ
マシンの駆動源などに利用できるのではないかという期
待が大きい。
速高トルクのモータが構成できることになり、マイクロ
マシンの駆動源などに利用できるのではないかという期
待が大きい。
【００２６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成では、ロータが電極の内部空間のみを移動す
るため、このロータの回転トルクを取り出したり、回転
動作を利用してマイクロポジショナへの展開を図ること
は困難である。またロータ下面の突起とシールド層もし
くはフランジとロータとの間にすべり摩擦が発生するた
め、トルクにロスが生じる。さらにロータ下面の突起が
シールド層上をすべりながら電気的な接触を得るため、
ロータとシールド層とが安定して同電位にならず、ロー
タに安定した力が働かないという課題を有していた。
ような構成では、ロータが電極の内部空間のみを移動す
るため、このロータの回転トルクを取り出したり、回転
動作を利用してマイクロポジショナへの展開を図ること
は困難である。またロータ下面の突起とシールド層もし
くはフランジとロータとの間にすべり摩擦が発生するた
め、トルクにロスが生じる。さらにロータ下面の突起が
シールド層上をすべりながら電気的な接触を得るため、
ロータとシールド層とが安定して同電位にならず、ロー
タに安定した力が働かないという課題を有していた。
【００２７】本発明はかかる点に鑑み、量産性に優れた
ＩＣ製造方法により作製でき、高精度な位置決めが可能
で、長寿命かつ信頼性の高いマイクロポジショナを提供
することを目的とする。
ＩＣ製造方法により作製でき、高精度な位置決めが可能
で、長寿命かつ信頼性の高いマイクロポジショナを提供
することを目的とする。
【００２８】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、リング部とアーム部とを一体的に備えた移動板を、
前記リング部の外周に配した複数の電極に順次静電気的
に吸着させることで転動させ、前記電極よりも外側に位
置する前記アーム部の先端の位置決めを行なうように構
成したマイクロポジショナである。
は、リング部とアーム部とを一体的に備えた移動板を、
前記リング部の外周に配した複数の電極に順次静電気的
に吸着させることで転動させ、前記電極よりも外側に位
置する前記アーム部の先端の位置決めを行なうように構
成したマイクロポジショナである。
【００２９】請求項２に記載の発明は、リング部とアー
ム部とを一体的に備えた移動板と、前記リング部の内側
に点対称に配され基板上に固定端を有する同一螺旋形状
の複数の梁と、前記リング部の外周の基板上に所定の範
囲にわたって円周状に配されかつその間隙から前記アー
ム部が外側に向かって突出するよう構成された複数の電
極と、前記電極に選択的に電圧を印加することにより前
記リング部を前記電極に静電気的に吸引して転動させア
ーム部先端の位置決めを制御する電圧印加手段とを備え
たマイクロポジショナである。
ム部とを一体的に備えた移動板と、前記リング部の内側
に点対称に配され基板上に固定端を有する同一螺旋形状
の複数の梁と、前記リング部の外周の基板上に所定の範
囲にわたって円周状に配されかつその間隙から前記アー
ム部が外側に向かって突出するよう構成された複数の電
極と、前記電極に選択的に電圧を印加することにより前
記リング部を前記電極に静電気的に吸引して転動させア
ーム部先端の位置決めを制御する電圧印加手段とを備え
たマイクロポジショナである。
【００３０】請求項６に記載の発明は、リング部とアー
ム部とを一体的に備えた移動板と、前記リング部の内側
に点対称に配され基板上に固定端を有する同一螺旋形状
の複数の梁と、前記リング部の外周の基板上に所定の範
囲にわたって円周状に配されかつその間隙から前記アー
ム部が外側に向かって突出するよう構成された複数の電
極と、前記電極に選択的に電圧を印加することにより前
記リング部を前記電極に静電気的に吸引して転動させア
ーム部先端の位置決めを制御する電圧印加手段と、前記
基板上に前記アーム部の少なくとも一部と対向するよう
構成された電極とを備えたマイクロポジショナである。
ム部とを一体的に備えた移動板と、前記リング部の内側
に点対称に配され基板上に固定端を有する同一螺旋形状
の複数の梁と、前記リング部の外周の基板上に所定の範
囲にわたって円周状に配されかつその間隙から前記アー
ム部が外側に向かって突出するよう構成された複数の電
極と、前記電極に選択的に電圧を印加することにより前
記リング部を前記電極に静電気的に吸引して転動させア
ーム部先端の位置決めを制御する電圧印加手段と、前記
基板上に前記アーム部の少なくとも一部と対向するよう
構成された電極とを備えたマイクロポジショナである。
【００３１】請求項７に記載の発明は、リング部とアー
ム部とを一体的に備えた移動板を、リング部の外周に配
した複数の電極に順次静電気的に吸着させることで転動
させ、さらにアーム部に積層化したピエゾ素子を駆動し
てアーム部を変形させることにより、アーム部の先端の
位置決めを行なうように構成したマイクロポジショナで
ある。
ム部とを一体的に備えた移動板を、リング部の外周に配
した複数の電極に順次静電気的に吸着させることで転動
させ、さらにアーム部に積層化したピエゾ素子を駆動し
てアーム部を変形させることにより、アーム部の先端の
位置決めを行なうように構成したマイクロポジショナで
ある。
【００３２】
【作用】請求項１に記載の発明は、移動板のリング部の
外周に配した複数の電極に選択的に電圧を印加し、この
リング部を順次静電気的に吸着させて転動させ、移動板
全体を駆動する。このときリング部と一体的に設けたア
ーム部もともに駆動され、その先端は先に示した電極よ
りも外側に位置するため、ほぼ直線状の軌跡を描く。し
たがって、リング部の転動運動がアーム部先端の略直線
運動に効率よく変換され、この動きを用いた高精度な位
置決め機構を実現できる。
外周に配した複数の電極に選択的に電圧を印加し、この
リング部を順次静電気的に吸着させて転動させ、移動板
全体を駆動する。このときリング部と一体的に設けたア
ーム部もともに駆動され、その先端は先に示した電極よ
りも外側に位置するため、ほぼ直線状の軌跡を描く。し
たがって、リング部の転動運動がアーム部先端の略直線
運動に効率よく変換され、この動きを用いた高精度な位
置決め機構を実現できる。
【００３３】請求項２に記載の発明は、移動板のリング
部が梁により基板上に支持され、その基板との導通が確
実に得られるため、信頼性の高い駆動特性が得られる。
また駆動中にリング部と電極とが転がり接触するため、
摩擦が極めて小さくなり長寿命化を図ることもできる。
さらに移動板が螺旋梁を弾性変形させながら運動を行な
うため、電極の励起を解除すれば梁の復元力により容易
に移動板が初期位置へ復帰する。したがって、高精度か
つ再現性の良い位置決め機構を実現できる。さらに各要
素を平面的に構成することができるため、ＩＣ製造方法
を用いて作製でき、小型軽量化や量産性に優れる。
部が梁により基板上に支持され、その基板との導通が確
実に得られるため、信頼性の高い駆動特性が得られる。
また駆動中にリング部と電極とが転がり接触するため、
摩擦が極めて小さくなり長寿命化を図ることもできる。
さらに移動板が螺旋梁を弾性変形させながら運動を行な
うため、電極の励起を解除すれば梁の復元力により容易
に移動板が初期位置へ復帰する。したがって、高精度か
つ再現性の良い位置決め機構を実現できる。さらに各要
素を平面的に構成することができるため、ＩＣ製造方法
を用いて作製でき、小型軽量化や量産性に優れる。
【００３４】請求項６に記載の発明は、移動板のアーム
部と対向する基板上に設けた電極を励起し、アーム部を
基板方向に静電的に吸引することにより、アーム部の位
置を確実に保持し、信頼性の高い位置決めを行なう。
部と対向する基板上に設けた電極を励起し、アーム部を
基板方向に静電的に吸引することにより、アーム部の位
置を確実に保持し、信頼性の高い位置決めを行なう。
【００３５】請求項７に記載の発明は、アーム部を含む
移動板全体の位置決めをまずリング部の静電駆動により
行ない、アーム部先端のさらに微細な位置決めと基板と
垂直な方向への位置決めをアーム部に積層化したピエゾ
素子を駆動することによりアーム部を変形させて行な
う。したがって、簡単な構成で微細な位置決め機構が実
現できる。
移動板全体の位置決めをまずリング部の静電駆動により
行ない、アーム部先端のさらに微細な位置決めと基板と
垂直な方向への位置決めをアーム部に積層化したピエゾ
素子を駆動することによりアーム部を変形させて行な
う。したがって、簡単な構成で微細な位置決め機構が実
現できる。
【００３６】
【実施例】以下本発明の一実施例について図面を参照し
ながら説明する。図１は本発明の第１の実施例における
マイクロポジショナの構成を表わす平面図である。図２
は図１に示す切断線ＰＯＱＲＳに関する同マイクロポジ
ショナの断面図である。また、図３は同マイクロポジシ
ョナの図１に示す切断線ＴＵに関する断面図である。
ながら説明する。図１は本発明の第１の実施例における
マイクロポジショナの構成を表わす平面図である。図２
は図１に示す切断線ＰＯＱＲＳに関する同マイクロポジ
ショナの断面図である。また、図３は同マイクロポジシ
ョナの図１に示す切断線ＴＵに関する断面図である。
【００３７】図に示したように、移動板１０は導電性を
有する薄い板状の部材であり、リング部１１とアーム部
１２とから構成される。後で詳述するが、移動板１０は
その全体がリング部１１において静電的に回転駆動され
るとともに、そのアーム部１２がバイモルフにより圧電
駆動される。
有する薄い板状の部材であり、リング部１１とアーム部
１２とから構成される。後で詳述するが、移動板１０は
その全体がリング部１１において静電的に回転駆動され
るとともに、そのアーム部１２がバイモルフにより圧電
駆動される。
【００３８】まずリング部１１周辺の構成を説明する。
リング部１１の内周には幅が細く同一螺旋形状の３本の
梁１３ａ〜１３ｃが１２０度間隔で点対称に配置され、
これらは一端を基板１４上に植立したアンカー１５に固
定されている。つまり移動板１０は梁１３ａ〜１３ｃに
よってアンカー１５に弾性支持されることになる。
リング部１１の内周には幅が細く同一螺旋形状の３本の
梁１３ａ〜１３ｃが１２０度間隔で点対称に配置され、
これらは一端を基板１４上に植立したアンカー１５に固
定されている。つまり移動板１０は梁１３ａ〜１３ｃに
よってアンカー１５に弾性支持されることになる。
【００３９】リング部１１外周の基板１４上には、リン
グ部１１と僅かな間隙を開けて円周状に９個の電極１６
ａ〜１６ｉ（図２では１６ｅのみ呈示）が設けられてい
る。各電極の内周は１６ａを除いて全て同一の円弧形状
をしている。ただし各電極は一定のピッチ角では配置さ
れていない。直線ＯＢ〜ＯＨは隣接する２つの電極の線
対称となる基準線を表わすが、そのピッチ角である∠Ａ
ＯＢ、∠ＢＯＣ、∠ＣＯＤ、∠ＤＯＥ、∠ＥＯＦ、∠Ｆ
ＯＧ、∠ＧＯＨは一定ではない。なお電極１６ａ〜１６
ｉには、従来例と同様に図は省略するが電圧印加手段よ
りそれぞれ配線がなされており、任意に選択して電圧を
印加することができる。
グ部１１と僅かな間隙を開けて円周状に９個の電極１６
ａ〜１６ｉ（図２では１６ｅのみ呈示）が設けられてい
る。各電極の内周は１６ａを除いて全て同一の円弧形状
をしている。ただし各電極は一定のピッチ角では配置さ
れていない。直線ＯＢ〜ＯＨは隣接する２つの電極の線
対称となる基準線を表わすが、そのピッチ角である∠Ａ
ＯＢ、∠ＢＯＣ、∠ＣＯＤ、∠ＤＯＥ、∠ＥＯＦ、∠Ｆ
ＯＧ、∠ＧＯＨは一定ではない。なお電極１６ａ〜１６
ｉには、従来例と同様に図は省略するが電圧印加手段よ
りそれぞれ配線がなされており、任意に選択して電圧を
印加することができる。
【００４０】移動板１０は電極１６ａと対向する部分に
凹状の位置規制部２６を備えている。また電極１６ａも
この位置規制部２６と係合し、移動板１０を案内するよ
うな凸形状を有する案内部２７を備えている。
凹状の位置規制部２６を備えている。また電極１６ａも
この位置規制部２６と係合し、移動板１０を案内するよ
うな凸形状を有する案内部２７を備えている。
【００４１】さらに電極１６ａ〜１６ｉの内周には絶縁
膜２４が設けられ、リング部１１と直接電気的に接触し
ないようになっている。またアンカー１５と基板１４と
の間にはリング部１１と略同一形状かつ導電性のシール
ド層２１が設けられ、リング部１１との間で常に電気的
な導通が得られるようになっている。
膜２４が設けられ、リング部１１と直接電気的に接触し
ないようになっている。またアンカー１５と基板１４と
の間にはリング部１１と略同一形状かつ導電性のシール
ド層２１が設けられ、リング部１１との間で常に電気的
な導通が得られるようになっている。
【００４２】次にアーム部１２周辺の構成を説明する。
図１および図３に示したように、アーム部１２のほぼ全
面にはこれを上下から挟み込むように圧電層１７および
１８が設けられている。さらに圧電層１７の上には電極
１９ａ〜１９ｃが、圧電層１８の下には電極１９ａおよ
び１９ｂとほぼ同一形状の電極２０ａおよび２０ｂが設
けられている。また電極１９ｃ上には円錐状の金属電極
３６が構成されている。
図１および図３に示したように、アーム部１２のほぼ全
面にはこれを上下から挟み込むように圧電層１７および
１８が設けられている。さらに圧電層１７の上には電極
１９ａ〜１９ｃが、圧電層１８の下には電極１９ａおよ
び１９ｂとほぼ同一形状の電極２０ａおよび２０ｂが設
けられている。また電極１９ｃ上には円錐状の金属電極
３６が構成されている。
【００４３】さらにアーム部１２と対向して基板１４上
に電極２２が設けられている。この電極２２上には絶縁
層２５が形成され、アーム部１２と電極２２とが直接電
気的な接触をしないようにしている。また基板１４の電
極２０ａおよび２０ｂと対向した部分にはキャビティ２
３が設けられている。
に電極２２が設けられている。この電極２２上には絶縁
層２５が形成され、アーム部１２と電極２２とが直接電
気的な接触をしないようにしている。また基板１４の電
極２０ａおよび２０ｂと対向した部分にはキャビティ２
３が設けられている。
【００４４】なお電極１９ａ〜１９ｃ、電極２０ａ〜２
０ｂ、電極２２および電極３６には、図は省略するが電
圧印加手段よりそれぞれ配線がなされており、任意に選
択して電圧を印加することができる。
０ｂ、電極２２および電極３６には、図は省略するが電
圧印加手段よりそれぞれ配線がなされており、任意に選
択して電圧を印加することができる。
【００４５】図４〜図１８は以下に説明するこのマイク
ロポジショナの作製工程（ａ）〜（ｏ）を示す図であ
る。作製にはエッチングやリソグラフィなどの一般的な
ＩＣ製造方法が用いられる。以下、工程図にしたがって
簡単に作製方法を説明する。
ロポジショナの作製工程（ａ）〜（ｏ）を示す図であ
る。作製にはエッチングやリソグラフィなどの一般的な
ＩＣ製造方法が用いられる。以下、工程図にしたがって
簡単に作製方法を説明する。
【００４６】（ａ）図４に示すように、シリコン基板１
４の上に、熱成長させた１μｍ厚の酸化シリコン膜およ
びプラズマＣＶＤで堆積させた１μｍ厚の窒化シリコン
膜とを重ねることによって絶縁層３０を形成する。
４の上に、熱成長させた１μｍ厚の酸化シリコン膜およ
びプラズマＣＶＤで堆積させた１μｍ厚の窒化シリコン
膜とを重ねることによって絶縁層３０を形成する。
【００４７】（ｂ）図５に示すように、この上にリンを
十分に拡散させた０．３５μｍ厚のＬＰＣＶＤ多結晶シ
リコン薄膜からなる導電層を形成し、パターンニングを
行なって電極２２とする。
十分に拡散させた０．３５μｍ厚のＬＰＣＶＤ多結晶シ
リコン薄膜からなる導電層を形成し、パターンニングを
行なって電極２２とする。
【００４８】（ｃ）さらに図６に示すように、０．１μ
ｍ厚の酸化シリコン膜と、プラズマＣＶＤで０．３４μ
ｍ厚の窒化シリコン膜とを堆積させ、パターンニングを
行なって電極２２上に絶縁層２５を形成する。
ｍ厚の酸化シリコン膜と、プラズマＣＶＤで０．３４μ
ｍ厚の窒化シリコン膜とを堆積させ、パターンニングを
行なって電極２２上に絶縁層２５を形成する。
【００４９】（ｄ）図７に示すように、犠牲層となる
２．２μｍ厚の酸化シリコン膜３２を堆積させる。
２．２μｍ厚の酸化シリコン膜３２を堆積させる。
【００５０】（ｅ）図８に示すように、Ａｌを０．５μ
ｍ厚だけ電子ビーム蒸着し、パターンニングを行なっ
て、アーム部１２駆動用の電極２０ａおよび２０ｂを形
成する。
ｍ厚だけ電子ビーム蒸着し、パターンニングを行なっ
て、アーム部１２駆動用の電極２０ａおよび２０ｂを形
成する。
【００５１】（ｆ）この上に、図９に示すように、プラ
ズマＣＶＤにより０．２μｍ厚の窒化シリコン膜と、反
応性スパッタリングにより３μｍ厚の酸化亜鉛膜と、再
び同様に０．２μｍ厚の窒化シリコン膜とを重ねること
によって、圧電層１８を形成する。そして、窒化シリコ
ン膜にはプラズマエッチングを、酸化亜鉛膜にはウェッ
トエッチングをそれぞれ用いてパターンニングを行な
う。
ズマＣＶＤにより０．２μｍ厚の窒化シリコン膜と、反
応性スパッタリングにより３μｍ厚の酸化亜鉛膜と、再
び同様に０．２μｍ厚の窒化シリコン膜とを重ねること
によって、圧電層１８を形成する。そして、窒化シリコ
ン膜にはプラズマエッチングを、酸化亜鉛膜にはウェッ
トエッチングをそれぞれ用いてパターンニングを行な
う。
【００５２】（ｇ）図１０に示すように、犠牲層である
酸化シリコン膜３２に対して、電極固定部３３とアンカ
ー固定部３４のパターニングを行なう。
酸化シリコン膜３２に対して、電極固定部３３とアンカ
ー固定部３４のパターニングを行なう。
【００５３】（ｈ）図１１に示すように、リンを十分に
拡散させた２．５μｍ厚のＬＰＣＶＤ多結晶シリコン層
３５を堆積させる。
拡散させた２．５μｍ厚のＬＰＣＶＤ多結晶シリコン層
３５を堆積させる。
【００５４】（ｉ）この上に、図１２に示すように、再
びプラズマＣＶＤあるいは反応性スパッタリングによ
り、０．２μｍ厚の窒化シリコン膜と３μｍ厚の酸化亜
鉛膜と０．２μｍ厚の窒化シリコン膜とを重ねて圧電層
１７を形成する。そして、同様にプラズマエッチングあ
るいはウェットエッチングを用いてパターンニングを行
なう。
びプラズマＣＶＤあるいは反応性スパッタリングによ
り、０．２μｍ厚の窒化シリコン膜と３μｍ厚の酸化亜
鉛膜と０．２μｍ厚の窒化シリコン膜とを重ねて圧電層
１７を形成する。そして、同様にプラズマエッチングあ
るいはウェットエッチングを用いてパターンニングを行
なう。
【００５５】（ｊ）図１３に示すように、０．５μｍ厚
のＡｌ膜を形成し、パターンニングを行なって、アーム
部１２駆動用の電極１９ａおよび１９ｂ（図示せず）
と、電極３６設置用の電極１９ｃ（図示せず）とを形成
する。
のＡｌ膜を形成し、パターンニングを行なって、アーム
部１２駆動用の電極１９ａおよび１９ｂ（図示せず）
と、電極３６設置用の電極１９ｃ（図示せず）とを形成
する。
【００５６】（ｋ）図１４に示すように、電極１９ｃの
先端に、リフトオフ法によって円錐状の電極３６を形成
する。
先端に、リフトオフ法によって円錐状の電極３６を形成
する。
【００５７】（ｌ）図１５に示すように、反応性イオン
エッチング（ＲＩＥ）を用いて、図１および図２に示す
移動板１０、梁１３ａ〜１３ｃ、アンカー１５と電極１
６ａ〜１６ｉ（図示は１６ｅのみ）を形成する。このと
き、アンカー１５および電極１６ａ〜１６ｉはシリコン
基板１４上に固定される。この多結晶シリコン層のＲＩ
Ｅ用のマスクとしてはパターンニングされた熱酸化膜を
用いるため、この段階で移動板１０や梁１３ａ〜１３
ｃ、および電極１６ａ〜１６ｉの厚みは２．２μｍ程度
になっている。また電極１６ａ〜１６ｉの内径は、後の
工程で形成される絶縁膜２４の分だけ大きく設定されて
いる。
エッチング（ＲＩＥ）を用いて、図１および図２に示す
移動板１０、梁１３ａ〜１３ｃ、アンカー１５と電極１
６ａ〜１６ｉ（図示は１６ｅのみ）を形成する。このと
き、アンカー１５および電極１６ａ〜１６ｉはシリコン
基板１４上に固定される。この多結晶シリコン層のＲＩ
Ｅ用のマスクとしてはパターンニングされた熱酸化膜を
用いるため、この段階で移動板１０や梁１３ａ〜１３
ｃ、および電極１６ａ〜１６ｉの厚みは２．２μｍ程度
になっている。また電極１６ａ〜１６ｉの内径は、後の
工程で形成される絶縁膜２４の分だけ大きく設定されて
いる。
【００５８】（ｍ）図１６に示すように、０．１μｍの
高温酸化膜とその上に０．３４μｍ厚の窒化シリコン層
を堆積させ、電極１６ａ〜１６ｉの内周に絶縁膜２４を
形成するように、ＲＩＥによりパターンニングする。こ
の段階で移動板１０のリング部１１の外径と電極１６ａ
〜１６ｉとのクリアランスが得られる。
高温酸化膜とその上に０．３４μｍ厚の窒化シリコン層
を堆積させ、電極１６ａ〜１６ｉの内周に絶縁膜２４を
形成するように、ＲＩＥによりパターンニングする。こ
の段階で移動板１０のリング部１１の外径と電極１６ａ
〜１６ｉとのクリアランスが得られる。
【００５９】（ｎ）図１７に示すように、犠牲層である
酸化シリコン膜３２を緩衝フッ酸（ＨＦ）で溶解し、移
動板１０と梁１３ａ〜１３ｃとを基板１４からリリース
する。このとき、ここでは特に詳述しないが、圧電層１
７および１８と絶縁膜２４の周辺をあらかじめ被覆して
おき、緩衝フッ酸による溶解を未然に防止する。
酸化シリコン膜３２を緩衝フッ酸（ＨＦ）で溶解し、移
動板１０と梁１３ａ〜１３ｃとを基板１４からリリース
する。このとき、ここでは特に詳述しないが、圧電層１
７および１８と絶縁膜２４の周辺をあらかじめ被覆して
おき、緩衝フッ酸による溶解を未然に防止する。
【００６０】（ｏ）最後に、ここでは特に詳述しない
が、図１８に示すようにアーム部１２直下のシリコン基
板１４にエッチングによりキャビティ２３を形成するこ
とにより、図２に示すような構成が完成する。
が、図１８に示すようにアーム部１２直下のシリコン基
板１４にエッチングによりキャビティ２３を形成するこ
とにより、図２に示すような構成が完成する。
【００６１】次に、以上のように構成された本実施例の
マイクロポジショナの動作を図１９〜図２２を用いて説
明する。
マイクロポジショナの動作を図１９〜図２２を用いて説
明する。
【００６２】まず電極１６ａおよび１６ｂに同電圧を印
加し励起すると、移動板１０のリング部１１はこれらの
電極に静電気的に吸引され、図１９に示すようにＯＡ方
向に絶縁膜２４と接触するまで移動する。このとき移動
板１０の位置規制部２６が電極１６ａの案内部２７と当
接し、またリング部１１外周が電極１６ａおよび１６ｂ
と密着することにより、移動板１０は所定の位置に案内
され確実に初期化される。同時にアーム部１２先端に設
けた電極３６は、図に示した３７ａの位置に案内され
る。
加し励起すると、移動板１０のリング部１１はこれらの
電極に静電気的に吸引され、図１９に示すようにＯＡ方
向に絶縁膜２４と接触するまで移動する。このとき移動
板１０の位置規制部２６が電極１６ａの案内部２７と当
接し、またリング部１１外周が電極１６ａおよび１６ｂ
と密着することにより、移動板１０は所定の位置に案内
され確実に初期化される。同時にアーム部１２先端に設
けた電極３６は、図に示した３７ａの位置に案内され
る。
【００６３】次に電極１６ａの励起を解除し電極１６ｂ
および１６ｃに電圧を印加すると、図２０に示すよう
に、リング部１１は新たに励起された２つの電極に静電
気的に吸引され、直線ＯＢに関して対称な位置に転がり
ながら移動する。このときアーム部１２先端に設けた電
極３６は、図に示した３７ｂの位置に案内される。
および１６ｃに電圧を印加すると、図２０に示すよう
に、リング部１１は新たに励起された２つの電極に静電
気的に吸引され、直線ＯＢに関して対称な位置に転がり
ながら移動する。このときアーム部１２先端に設けた電
極３６は、図に示した３７ｂの位置に案内される。
【００６４】このように励起する電極の組を１電極分だ
け順にずらしていくと、リング部１１は励起された２つ
の電極に順次吸引されながら矢印Ｘ方向に公転する。そ
して、最終的に電極１６ｈおよび１６ｉに電圧を印加す
ると、図２１に示したように、リング部１１は直線ＯＨ
に関して対称な位置まで移動する。このときアーム部１
２先端に設けた電極３６は、図２１に示した３７ｈの位
置まで案内される。
け順にずらしていくと、リング部１１は励起された２つ
の電極に順次吸引されながら矢印Ｘ方向に公転する。そ
して、最終的に電極１６ｈおよび１６ｉに電圧を印加す
ると、図２１に示したように、リング部１１は直線ＯＨ
に関して対称な位置まで移動する。このときアーム部１
２先端に設けた電極３６は、図２１に示した３７ｈの位
置まで案内される。
【００６５】なおリング部１１は電極１６ａ〜１６ｉに
対して転がり接触しながら移動するため、その外周と電
極１６ａ〜１６ｉの内周との長さの差の分だけ自転する
ことになる。そしてその自転方向は公転方向とは逆の矢
印Ｙ方向となる。
対して転がり接触しながら移動するため、その外周と電
極１６ａ〜１６ｉの内周との長さの差の分だけ自転する
ことになる。そしてその自転方向は公転方向とは逆の矢
印Ｙ方向となる。
【００６６】ここで電極１６ｂ〜１６ｉが同一円弧形状
であるため、隣接する電極に同じ大きさの電圧を印加す
れば、リング部１１はこの２つの電極のほぼ中心に静電
吸引されることになる。したがって、励起する電極の組
を１電極分だけずらすことにより、リング部１１をステ
ップ状に回転駆動することができる。さらに隣接する電
極のピッチ角を変化させ、リング部１１の回転角を適宜
変化させることで、アーム部１２先端を等ピッチで送る
ことも可能となる。このようにして、アーム部１２先端
の電極３６を図２１に示す３７ａから３７ｈに至る位置
に等ピッチで案内する高精度かつ確実な位置決め機構を
実現することができる。
であるため、隣接する電極に同じ大きさの電圧を印加す
れば、リング部１１はこの２つの電極のほぼ中心に静電
吸引されることになる。したがって、励起する電極の組
を１電極分だけずらすことにより、リング部１１をステ
ップ状に回転駆動することができる。さらに隣接する電
極のピッチ角を変化させ、リング部１１の回転角を適宜
変化させることで、アーム部１２先端を等ピッチで送る
ことも可能となる。このようにして、アーム部１２先端
の電極３６を図２１に示す３７ａから３７ｈに至る位置
に等ピッチで案内する高精度かつ確実な位置決め機構を
実現することができる。
【００６７】なおリング部１１は梁１３ａ〜１３ｃによ
りアンカー１５に支持されているが、梁１３ａ〜１３ｃ
が弾性変形することで、所定角度分だけ自転することが
できる。図に示したように、梁１３ａ〜１３ｃの幅を細
くして剛性を下げ、形状を螺旋状としてある程度の長さ
を確保してやれば、これらの弾性変形は可能となる。
りアンカー１５に支持されているが、梁１３ａ〜１３ｃ
が弾性変形することで、所定角度分だけ自転することが
できる。図に示したように、梁１３ａ〜１３ｃの幅を細
くして剛性を下げ、形状を螺旋状としてある程度の長さ
を確保してやれば、これらの弾性変形は可能となる。
【００６８】またリング部１１を所定の角度だけ回転さ
せた状態で、基板１４上の電極２２に電圧を印加する
と、図２２に示したように、アーム部１２は基板１４方
向に静電的に吸引されこの電極２２に吸着する。そうす
れば電極１６ａ〜１６ｉの励起を解除しても、アーム部
１２の位置は保持され、確実な位置決めを行なうことが
できる。
せた状態で、基板１４上の電極２２に電圧を印加する
と、図２２に示したように、アーム部１２は基板１４方
向に静電的に吸引されこの電極２２に吸着する。そうす
れば電極１６ａ〜１６ｉの励起を解除しても、アーム部
１２の位置は保持され、確実な位置決めを行なうことが
できる。
【００６９】このようにリング部１１を所定の角度だけ
回転駆動して移動板１０全体の位置決めを行なった後、
こんどはピエゾバイモルフを用いてアーム部１２先端の
微細な位置決めを行なう。以下に図３および図２２を用
いてその動作を説明する。
回転駆動して移動板１０全体の位置決めを行なった後、
こんどはピエゾバイモルフを用いてアーム部１２先端の
微細な位置決めを行なう。以下に図３および図２２を用
いてその動作を説明する。
【００７０】まず電極１９ａと２０ａとの間、電極１９
ｂと２０ｂとの間で圧電層１７および１８に与えられる
電界がそれぞれ反対方向となるようにそれぞれの電極に
電圧を印加する。圧電層は電界の方向に応じて伸長ある
いは収縮する性質を持つため、この場合アーム部１２の
左右で圧電層の伸縮状態が異なることになる。したがっ
て、片持ち梁であるアーム部１２は与えた電界の向きと
大きさに応じて左右に変形する。すなわち、図３に示し
たように、アーム部１２を基板１４と平行な矢印Ｖある
いはＷ方向に対して圧電的に駆動し、その先端の電極３
６をさらに微細に位置決めすることができる。
ｂと２０ｂとの間で圧電層１７および１８に与えられる
電界がそれぞれ反対方向となるようにそれぞれの電極に
電圧を印加する。圧電層は電界の方向に応じて伸長ある
いは収縮する性質を持つため、この場合アーム部１２の
左右で圧電層の伸縮状態が異なることになる。したがっ
て、片持ち梁であるアーム部１２は与えた電界の向きと
大きさに応じて左右に変形する。すなわち、図３に示し
たように、アーム部１２を基板１４と平行な矢印Ｖある
いはＷ方向に対して圧電的に駆動し、その先端の電極３
６をさらに微細に位置決めすることができる。
【００７１】また圧電層１７上面の電極１９ａおよび１
９ｂと、圧電層１８下面の電極２０ａおよび２０ｂとに
それぞれ同極性の電圧を印加し、圧電層１７と１８にそ
れぞれ反対方向の電界を与える。この場合はアーム部１
２の上下で圧電層の伸縮状態が異なることになる。した
がって、アーム部１２は与えた電界の向きと大きさに応
じて上下に変形する。すなわち、図２２に示したよう
に、アーム部１２先端に設けた電極３６を基板１４と垂
直な方向に対して圧電的に駆動し、高精度な位置決めを
行なうことができる。
９ｂと、圧電層１８下面の電極２０ａおよび２０ｂとに
それぞれ同極性の電圧を印加し、圧電層１７と１８にそ
れぞれ反対方向の電界を与える。この場合はアーム部１
２の上下で圧電層の伸縮状態が異なることになる。した
がって、アーム部１２は与えた電界の向きと大きさに応
じて上下に変形する。すなわち、図２２に示したよう
に、アーム部１２先端に設けた電極３６を基板１４と垂
直な方向に対して圧電的に駆動し、高精度な位置決めを
行なうことができる。
【００７２】さらに電極１９ａ、１９ｂ、２０ａ、２０
ｂに同極性の電圧を印加し、圧電層１７と１８に同じ方
向の電界を与えると、圧電層全体の伸縮状態が同じにな
り、アーム部１２はその長手方向に伸縮することにな
る。すなわち、図２２に示したように、アーム部１２先
端に設けた電極３６を基板１４と平行な矢印ＬおよびＭ
方向に対して圧電的に駆動し、高精度な位置決めを行な
うこともできる。
ｂに同極性の電圧を印加し、圧電層１７と１８に同じ方
向の電界を与えると、圧電層全体の伸縮状態が同じにな
り、アーム部１２はその長手方向に伸縮することにな
る。すなわち、図２２に示したように、アーム部１２先
端に設けた電極３６を基板１４と平行な矢印ＬおよびＭ
方向に対して圧電的に駆動し、高精度な位置決めを行な
うこともできる。
【００７３】最後に、電極１６ａ〜１６ｉおよび電極２
２の励起を一斉に解除すれば、弾性変形した梁１３ａ〜
１３ｃの復元力により、リング部１１は図１に示した初
期位置へ容易に復帰する。
２の励起を一斉に解除すれば、弾性変形した梁１３ａ〜
１３ｃの復元力により、リング部１１は図１に示した初
期位置へ容易に復帰する。
【００７４】以上に説明した本実施例のマイクロポジシ
ョナの特徴を以下に列記する。まずリング部１１の転動
運動がアーム部１２先端の略直線運動に効率よく変換か
つ拡大されるため、この動きを用いた高精度な位置決め
機構を実現できる。
ョナの特徴を以下に列記する。まずリング部１１の転動
運動がアーム部１２先端の略直線運動に効率よく変換か
つ拡大されるため、この動きを用いた高精度な位置決め
機構を実現できる。
【００７５】またリング部１１が電極１６ａ〜１６ｉと
転がり接触しながら回転駆動されるため、従来例に比べ
て摩擦の影響が極めて小さくなり、摩耗に伴う特性劣化
も少なく長寿命化が図れる。
転がり接触しながら回転駆動されるため、従来例に比べ
て摩擦の影響が極めて小さくなり、摩耗に伴う特性劣化
も少なく長寿命化が図れる。
【００７６】移動板１０と基板１４上のシールド層１４
との導通が梁１３ａ〜１３ｃを通じて確実に得られるた
め、移動板１０とシールド層１４とが常時同電位に保た
れ、信頼性の高い駆動特性が得られる。
との導通が梁１３ａ〜１３ｃを通じて確実に得られるた
め、移動板１０とシールド層１４とが常時同電位に保た
れ、信頼性の高い駆動特性が得られる。
【００７７】移動板１０の駆動開始時に、その位置規制
部２６と電極１６ａの案内部２７とを静電気的に係合か
つ密着させることで、移動板１０の確実な初期化が行え
る。
部２６と電極１６ａの案内部２７とを静電気的に係合か
つ密着させることで、移動板１０の確実な初期化が行え
る。
【００７８】電極を同一円弧形状とし、隣接する電極を
同電圧で励起し１電極分ずつずらしながら駆動すること
で、リング部１１をステップ状に回転駆動することがで
きる。さらに、隣接電極のピッチ角を適当に変化させる
ことで、アーム部１２先端を等ピッチで送ることが可能
となり、さらに高精度な位置決め機構を実現できる。
同電圧で励起し１電極分ずつずらしながら駆動すること
で、リング部１１をステップ状に回転駆動することがで
きる。さらに、隣接電極のピッチ角を適当に変化させる
ことで、アーム部１２先端を等ピッチで送ることが可能
となり、さらに高精度な位置決め機構を実現できる。
【００７９】移動板１０の駆動停止時に、基板１４上に
設けた電極２２を励起しアーム部１２を静電吸引するこ
とにより、アーム部１２の確実な位置保持が行なえ、位
置決めの信頼性が向上する。
設けた電極２２を励起しアーム部１２を静電吸引するこ
とにより、アーム部１２の確実な位置保持が行なえ、位
置決めの信頼性が向上する。
【００８０】移動板１０のアーム部１２にピエゾバイモ
ルフを構成することで、さらに微細にかつ基板１４と垂
直な方向についてもアーム部１２を位置決めすることが
できる。したがって、簡単な構成で微細な位置決め機構
を実現することができる。
ルフを構成することで、さらに微細にかつ基板１４と垂
直な方向についてもアーム部１２を位置決めすることが
できる。したがって、簡単な構成で微細な位置決め機構
を実現することができる。
【００８１】移動板１０の駆動終了時に、電極１６ａ〜
１６ｉおよび電極２２の励起を解除するだけで、梁１３
ａ〜１３ｃの復元力により容易に移動板１０を初期位置
へ復帰させることができる。よって、移動板１０を再現
性良く制御することができる。
１６ｉおよび電極２２の励起を解除するだけで、梁１３
ａ〜１３ｃの復元力により容易に移動板１０を初期位置
へ復帰させることができる。よって、移動板１０を再現
性良く制御することができる。
【００８２】さらに従来例に示したウォブル駆動が本来
持つ高トルクという特徴を活かすこともできる。また、
各要素が平面的に構成され、ＩＣ製造方法を用いて作製
できるので、小型軽量化や量産性に優れる。
持つ高トルクという特徴を活かすこともできる。また、
各要素が平面的に構成され、ＩＣ製造方法を用いて作製
できるので、小型軽量化や量産性に優れる。
【００８３】なお、アーム部を軸に回動自在に支持し、
その先端に対向して円周状の電極を設け、これらの電極
を順次励起して、アーム部の回動を制御し位置決めを行
なう構成も考えられる。しかし、このような構成にする
と、ウォブル駆動による減速効果が得られず、アーム部
を駆動するトルクが小さくなってしまうという問題点が
発生する。
その先端に対向して円周状の電極を設け、これらの電極
を順次励起して、アーム部の回動を制御し位置決めを行
なう構成も考えられる。しかし、このような構成にする
と、ウォブル駆動による減速効果が得られず、アーム部
を駆動するトルクが小さくなってしまうという問題点が
発生する。
【００８４】また、リング部および電極の径を大きく
し、その外周よりも内側にアーム部およびその先端を配
置するような構成も考えられる。この構成を用いれば高
トルクにはなるが、コンパクト化は難しくなる。本実施
例のように転動による変位を略直線状の変位に変換かつ
拡大する構成の方が、コンパクト化には望ましい。
し、その外周よりも内側にアーム部およびその先端を配
置するような構成も考えられる。この構成を用いれば高
トルクにはなるが、コンパクト化は難しくなる。本実施
例のように転動による変位を略直線状の変位に変換かつ
拡大する構成の方が、コンパクト化には望ましい。
【００８５】以下、本発明の第２の実施例であるマイク
ロポジショナの構成について図を用いて簡単に説明す
る。第１の実施例と異なるのは、リング部１１の外周お
よび電極１６ａ〜１６ｉの内周がともに凹凸形状をして
いるところである。
ロポジショナの構成について図を用いて簡単に説明す
る。第１の実施例と異なるのは、リング部１１の外周お
よび電極１６ａ〜１６ｉの内周がともに凹凸形状をして
いるところである。
【００８６】図２３に、同マイクロポジショナの平面図
を示す。リング部１１の外周および電極１６ａ〜１６ｉ
の内周がともに、各基準円に対して同一の波長と振幅を
有する正弦波状となっている。なお電極１６ａ〜１６ｉ
の内周には第１の実施例と同様に絶縁膜が設けられてい
るが、図が煩雑となるためここでは省略する。
を示す。リング部１１の外周および電極１６ａ〜１６ｉ
の内周がともに、各基準円に対して同一の波長と振幅を
有する正弦波状となっている。なお電極１６ａ〜１６ｉ
の内周には第１の実施例と同様に絶縁膜が設けられてい
るが、図が煩雑となるためここでは省略する。
【００８７】例えば、リング部１１外周および電極１６
ａ〜１６ｉ内周の基準円直径がそれぞれ２７２μｍ、２
８０μｍである場合を考える。このときギャップ長は４
μｍとなるから、振幅１．５μｍの正弦波状とすれば互
いに干渉することなく作成できる。また基準円の円周を
それぞれ３４分割および３５分割することにより、同一
波長（２５．１μｍ）の正弦波状とすることができる。
ａ〜１６ｉ内周の基準円直径がそれぞれ２７２μｍ、２
８０μｍである場合を考える。このときギャップ長は４
μｍとなるから、振幅１．５μｍの正弦波状とすれば互
いに干渉することなく作成できる。また基準円の円周を
それぞれ３４分割および３５分割することにより、同一
波長（２５．１μｍ）の正弦波状とすることができる。
【００８８】なお、本マイクロポジショナの作製工程は
第１の実施例とほぼ同じである。ただ、図１５に示した
（ｌ）の工程において、反応性イオンエッチング（ＲＩ
Ｅ）によるパターンニングに用いるマスクの形状を変更
すればよい。
第１の実施例とほぼ同じである。ただ、図１５に示した
（ｌ）の工程において、反応性イオンエッチング（ＲＩ
Ｅ）によるパターンニングに用いるマスクの形状を変更
すればよい。
【００８９】次に、本実施例のマイクロポジショナの動
作を図２４および図２５を用いて説明する。
作を図２４および図２５を用いて説明する。
【００９０】まず電極１６ａおよび１６ｂに同電圧を印
加すると、リング部１１はこれらに静電吸引され、図２
４に示すＯＡ方向に電極表面の絶縁膜（図示せず）と接
触するまで移動する。このとき移動板１０の位置規制部
２６が電極１６ａの案内部２７と当接し、またリング部
１１外周が電極１６ｂと密着することで、移動板１０は
所定の位置に案内され初期化される。同時にアーム部１
２先端の電極３６は図示した３７ａの位置に案内され
る。
加すると、リング部１１はこれらに静電吸引され、図２
４に示すＯＡ方向に電極表面の絶縁膜（図示せず）と接
触するまで移動する。このとき移動板１０の位置規制部
２６が電極１６ａの案内部２７と当接し、またリング部
１１外周が電極１６ｂと密着することで、移動板１０は
所定の位置に案内され初期化される。同時にアーム部１
２先端の電極３６は図示した３７ａの位置に案内され
る。
【００９１】以下、第１の実施例と同様に励起する電極
の組を１電極分だけ順にずらしていくと、リング部１１
は励起された２つの電極に順次吸引されながら矢印Ｘ方
向に公転する。そして、最終的に電極１６ｈおよび１６
ｉに電圧を印加すると、図２５に示すようにアーム部１
２先端に設けた電極３６は、図示した３７ｈの位置まで
案内される。
の組を１電極分だけ順にずらしていくと、リング部１１
は励起された２つの電極に順次吸引されながら矢印Ｘ方
向に公転する。そして、最終的に電極１６ｈおよび１６
ｉに電圧を印加すると、図２５に示すようにアーム部１
２先端に設けた電極３６は、図示した３７ｈの位置まで
案内される。
【００９２】リング部１１が回転駆動されるに従って梁
１３ａ〜１３ｃの変形量は大きくなり、リング部１１を
押し戻そうとするエネルギーが蓄えられる。よってリン
グ部１１と電極１６ａ〜１６ｉとの当接部で滑りが発生
しやすくなる。
１３ａ〜１３ｃの変形量は大きくなり、リング部１１を
押し戻そうとするエネルギーが蓄えられる。よってリン
グ部１１と電極１６ａ〜１６ｉとの当接部で滑りが発生
しやすくなる。
【００９３】本実施例のマイクロポジショナによれば、
移動板１０はそのリング部１１外周において電極内周の
凹凸部分と噛み合いながら移動する。したがって、リン
グ部１１と電極１６ａ〜１６ｉとの当接部で滑りを発生
させることなく、移動板１０を確実に駆動することがで
きる。
移動板１０はそのリング部１１外周において電極内周の
凹凸部分と噛み合いながら移動する。したがって、リン
グ部１１と電極１６ａ〜１６ｉとの当接部で滑りを発生
させることなく、移動板１０を確実に駆動することがで
きる。
【００９４】また、駆動力として用いる静電気力は表面
積に比例する力である。電極内周を凹凸形状とすること
により表面積が増大し、同様に移動板１０の確実な駆動
が行える。
積に比例する力である。電極内周を凹凸形状とすること
により表面積が増大し、同様に移動板１０の確実な駆動
が行える。
【００９５】したがって、本実施例によれば、第１の実
施例による特徴に加えて、さらに信頼性の高いマイクロ
ポジショナが得られる。
施例による特徴に加えて、さらに信頼性の高いマイクロ
ポジショナが得られる。
【００９６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、リング
部とアーム部とを一体的に備えた移動板を、前記リング
部の外周に配した複数の電極に順次静電気的に吸着させ
ることで転動させ、前記電極よりも外側に位置する前記
アーム部の先端の位置決めを行なうように構成したマイ
クロポジショナであるため、量産性に優れたＩＣ製造方
法で作製が可能であり、長寿命かつ信頼性が高く、高精
度で再現性の高い位置決めが可能なマイクロポジショナ
を提供することができ、その工業的価値は極めて大き
い。
部とアーム部とを一体的に備えた移動板を、前記リング
部の外周に配した複数の電極に順次静電気的に吸着させ
ることで転動させ、前記電極よりも外側に位置する前記
アーム部の先端の位置決めを行なうように構成したマイ
クロポジショナであるため、量産性に優れたＩＣ製造方
法で作製が可能であり、長寿命かつ信頼性が高く、高精
度で再現性の高い位置決めが可能なマイクロポジショナ
を提供することができ、その工業的価値は極めて大き
い。
【図１】本発明のマイクロポジショナの第１の実施例の
構成を示す平面図
構成を示す平面図
【図２】同実施例における断面図
【図３】同実施例における断面図
【図４】同実施例の作製工程図
【図５】同実施例の作製工程図
【図６】同実施例の作製工程図
【図７】同実施例の作製工程図
【図８】同実施例の作製工程図
【図９】同実施例の作製工程図
【図１０】同実施例の作製工程図
【図１１】同実施例の作製工程図
【図１２】同実施例の作製工程図
【図１３】同実施例の作製工程図
【図１４】同実施例の作製工程図
【図１５】同実施例の作製工程図
【図１６】同実施例の作製工程図
【図１７】同実施例の作製工程図
【図１８】同実施例の作製工程図
【図１９】同実施例の動作説明図
【図２０】同実施例の動作説明図
【図２１】同実施例の動作説明図
【図２２】同実施例の動作説明図
【図２３】本発明のマイクロポジショナの第２の実施例
の構成を示す平面図
の構成を示す平面図
【図２４】同実施例の動作説明図
【図２５】同実施例の動作説明図
【図２６】従来の静電型マイクロウォブルモータの構成
を模式的に示す平面図
を模式的に示す平面図
【図２７】同従来例における断面図
【図２８】同従来例の作製工程図
【図２９】同従来例の作製工程図
【図３０】同従来例の作製工程図
【図３１】同従来例の作製工程図
【図３２】同従来例の作製工程図
１０ 移動板 １１ リング部 １２ アーム部 １３ａ〜１３ｃ 梁 １４ 基板 １５ アンカー １６ａ〜１６ｉ 電極 １７、１８ 圧電層 １９ａ〜１９ｃ、２０ａ〜２０ｂ 電極 ２２ 電極
Claims (7)
- 【請求項１】リング部とアーム部とを一体的に備えた移
動板を、前記リング部の外周に配した複数の電極に順次
静電気的に吸着させることで転動させ、前記電極よりも
外側に位置する前記アーム部の先端の位置決めを行なう
ように構成したことを特徴とするマイクロポジショナ。 - 【請求項２】リング部とアーム部とを一体的に備えた移
動板と、前記リング部の内側に点対称に配され基板上に
固定端を有する同一螺旋形状の複数の梁と、前記リング
部の外周の基板上に所定の範囲にわたって円周状に配さ
れかつその間隙から前記アーム部が外側に向かって突出
するよう構成された複数の電極と、前記電極に選択的に
電圧を印加することにより前記リング部を前記電極に静
電気的に吸引して転動させアーム部先端の位置決めを制
御する電圧印加手段とを備えたことを特徴とするマイク
ロポジショナ。 - 【請求項３】複数の電極を同一円弧形状としかつ異なる
ピッチ角で配したことを特徴とする請求項２記載のマイ
クロポジショナ。 - 【請求項４】移動板および電極の一部に、互いに係合す
る案内部を設けたことを特徴とする請求項２記載のマイ
クロポジショナ。 - 【請求項５】移動板のリング部外周および電極の内周に
それぞれ凹凸部を設け、前記リング部がその外周におい
て前記電極の内周と噛み合いながら移動するように構成
したことを特徴とする請求項２記載のマイクロポジショ
ナ。 - 【請求項６】リング部とアーム部とを一体的に備えた移
動板と、前記リング部の内側に点対称に配され基板上に
固定端を有する同一螺旋形状の複数の梁と、前記リング
部の外周の基板上に所定の範囲にわたって円周状に配さ
れかつその間隙から前記アーム部が外側に向かって突出
するよう構成された複数の電極と、前記電極に選択的に
電圧を印加することにより前記リング部を前記電極に静
電気的に吸引して転動させアーム部先端の位置決めを制
御する電圧印加手段と、前記基板上に前記アーム部の少
なくとも一部と対向するよう構成された電極とを備えた
ことを特徴とするマイクロポジショナ。 - 【請求項７】リング部とアーム部とを一体的に備えた移
動板を、前記リング部の外周に配した複数の電極に順次
静電気的に吸着させることで転動させ、さらに前記アー
ム部に積層化したピエゾ素子を駆動して前記アーム部を
変形させることにより、前記アーム部の先端の位置決め
を行なうように構成したことを特徴とするマイクロポジ
ショナ。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33153392A JP3389621B2 (ja) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | マイクロポジショナ |
| US08/082,956 US6472794B1 (en) | 1992-07-10 | 1993-06-29 | Microactuator |
| EP93110880A EP0578228B1 (en) | 1992-07-10 | 1993-07-07 | Microactuator |
| DE69314708T DE69314708T2 (de) | 1992-07-10 | 1993-07-07 | Microantrieb |
| US10/212,749 US6734598B2 (en) | 1992-07-10 | 2002-08-07 | Microactuator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33153392A JP3389621B2 (ja) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | マイクロポジショナ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06178565A true JPH06178565A (ja) | 1994-06-24 |
| JP3389621B2 JP3389621B2 (ja) | 2003-03-24 |
Family
ID=18244727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33153392A Expired - Fee Related JP3389621B2 (ja) | 1992-07-10 | 1992-12-11 | マイクロポジショナ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3389621B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016054646A (ja) * | 2016-01-20 | 2016-04-14 | シチズンホールディングス株式会社 | 発電装置 |
-
1992
- 1992-12-11 JP JP33153392A patent/JP3389621B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016054646A (ja) * | 2016-01-20 | 2016-04-14 | シチズンホールディングス株式会社 | 発電装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3389621B2 (ja) | 2003-03-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |