JPH06173045A - 金属表面処理剤 - Google Patents
金属表面処理剤Info
- Publication number
- JPH06173045A JPH06173045A JP32930792A JP32930792A JPH06173045A JP H06173045 A JPH06173045 A JP H06173045A JP 32930792 A JP32930792 A JP 32930792A JP 32930792 A JP32930792 A JP 32930792A JP H06173045 A JPH06173045 A JP H06173045A
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- JP
- Japan
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- copper foil
- treating agent
- ch3o
- och3
- resin substrate
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/12—Oxygen-containing compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属表面に対する防錆作用が高く、しかも金
属と樹脂基板との接着性を著しく向上させることができ
る。金属表面処理剤、とくに銅箔用表面処理剤を提供す
ること。 【構成】 一般式 （Ｒ1Ｏ）3ＳｉＲ2Ｓｉ（ＯＲ3）3 （ただし、式中Ｒ1Ｏ及びＲ3Ｏは炭素数１〜８のアルコ
キシ基を示し、Ｒ2は二価の有機基を示す）で表わされ
るビストリアルコキシシリル化合物の少なくとも１種を
有効成分とする金属表面処理剤。
属と樹脂基板との接着性を著しく向上させることができ
る。金属表面処理剤、とくに銅箔用表面処理剤を提供す
ること。 【構成】 一般式 （Ｒ1Ｏ）3ＳｉＲ2Ｓｉ（ＯＲ3）3 （ただし、式中Ｒ1Ｏ及びＲ3Ｏは炭素数１〜８のアルコ
キシ基を示し、Ｒ2は二価の有機基を示す）で表わされ
るビストリアルコキシシリル化合物の少なくとも１種を
有効成分とする金属表面処理剤。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は金属表面の防錆あるいは
接着性の改善等を行うための金属表面処理剤に関する。
接着性の改善等を行うための金属表面処理剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】プリント回路用の銅張積層板は銅箔を紙
−フェノール樹脂含浸基材やガラス−エポキシ樹脂含浸
基材等に加熱、加圧して積層して形成され、これをエッ
チングして回路網を形成し、これに半導体装置等の素子
を搭載することにより電子機器用のボードが作られる。
これらの過程では、基材との接着、加熱、酸やアルカリ
液への浸漬、レジストインクの塗布、ハンダ付け等が行
われるため、銅箔には各種の性能が要求される。たとえ
ば、通常Ｍ面（粗化面、以下同様）と呼称されている基
材と接着される側には主として基材との接着性、耐薬品
性等が要求され、又Ｍ面の反対側の通常Ｓ面（光沢面、
以下同様）と呼称されている側には主として耐熱性、耐
湿性等が要求されている。又これらの両面には保管時に
銅箔の酸化変色のないことも要求されている。これらの
要求を満たすために、銅箔のＭ面には黄銅層形成処理
（特公昭５１−３５７１１号公報、同５４−６７０１号
公報）、Ｍ、Ｓ双方の面にはクロメート処理、亜鉛また
は酸化亜鉛とクロム酸化物とからなる亜鉛−クロム基混
合物被覆処理等（特公昭５８−７０７７号公報）が行わ
れている。ところで、最近銅箔のＳ面の耐熱性に関して
は、高耐熱樹脂等の出現により、従来の２００℃×３０
分からより高温の例えば２２０℃又は２４０℃×３０分
の高温条件下でも酸化変色が起こらないこと等が要求さ
れるようになってきている。加えて、近年プリント配線
板の微細化への要請がますます増大化しているが、これ
に伴うエッチング精度の向上に対応するためＭ面にはさ
らに低い表面粗さ（ロープロファイル）も求められてい
る。しかし、Ｍ面の表面粗さは一方では基材との接着に
あたって、アンカー効果をもたらしているので、Ｍ面に
対するこのロープロファイルの要求と接着力の向上とは
二律背反の関係にあり、ロープロファイル化によるアン
カー効果の低減分は別の手段による接着力の向上で補償
することが必要である。
−フェノール樹脂含浸基材やガラス−エポキシ樹脂含浸
基材等に加熱、加圧して積層して形成され、これをエッ
チングして回路網を形成し、これに半導体装置等の素子
を搭載することにより電子機器用のボードが作られる。
これらの過程では、基材との接着、加熱、酸やアルカリ
液への浸漬、レジストインクの塗布、ハンダ付け等が行
われるため、銅箔には各種の性能が要求される。たとえ
ば、通常Ｍ面（粗化面、以下同様）と呼称されている基
材と接着される側には主として基材との接着性、耐薬品
性等が要求され、又Ｍ面の反対側の通常Ｓ面（光沢面、
以下同様）と呼称されている側には主として耐熱性、耐
湿性等が要求されている。又これらの両面には保管時に
銅箔の酸化変色のないことも要求されている。これらの
要求を満たすために、銅箔のＭ面には黄銅層形成処理
（特公昭５１−３５７１１号公報、同５４−６７０１号
公報）、Ｍ、Ｓ双方の面にはクロメート処理、亜鉛また
は酸化亜鉛とクロム酸化物とからなる亜鉛−クロム基混
合物被覆処理等（特公昭５８−７０７７号公報）が行わ
れている。ところで、最近銅箔のＳ面の耐熱性に関して
は、高耐熱樹脂等の出現により、従来の２００℃×３０
分からより高温の例えば２２０℃又は２４０℃×３０分
の高温条件下でも酸化変色が起こらないこと等が要求さ
れるようになってきている。加えて、近年プリント配線
板の微細化への要請がますます増大化しているが、これ
に伴うエッチング精度の向上に対応するためＭ面にはさ
らに低い表面粗さ（ロープロファイル）も求められてい
る。しかし、Ｍ面の表面粗さは一方では基材との接着に
あたって、アンカー効果をもたらしているので、Ｍ面に
対するこのロープロファイルの要求と接着力の向上とは
二律背反の関係にあり、ロープロファイル化によるアン
カー効果の低減分は別の手段による接着力の向上で補償
することが必要である。
【０００３】また接着力の増強手段としてあるいは前記
したロープロファイル化に伴う接着力の増強手段として
Ｍ面にシランカップリング剤を塗布する方法も提案され
ている（特公平２−１９９９４号公報、特開昭６３−１
８３１７８号公報、特開平２−２６０９７号公報）。
したロープロファイル化に伴う接着力の増強手段として
Ｍ面にシランカップリング剤を塗布する方法も提案され
ている（特公平２−１９９９４号公報、特開昭６３−１
８３１７８号公報、特開平２−２６０９７号公報）。
【０００４】この種のシランカップリング剤としては、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキ
シエトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（ア
ミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フ
ェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン等が知られている［「高分子
添加剤の最新技術」１２０〜１３４頁、シーエムシー、
１９８８年１月６日発行］。
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキ
シエトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（ア
ミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フ
ェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン等が知られている［「高分子
添加剤の最新技術」１２０〜１３４頁、シーエムシー、
１９８８年１月６日発行］。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
たように最近プリント回路が緻密化しているので、使用
されるプリント回路用銅箔に要求される特性はますます
厳しくなっている。本発明は、こうした要請に対応でき
る、すなわち、金属表面に対する防錆作用が高く、しか
も金属と樹脂基板との接着性を著しく向上させることが
できる特定のシラン化合物を用いた金属表面処理剤、特
に銅箔用表面処理剤を提供することを目的とするもので
ある。
たように最近プリント回路が緻密化しているので、使用
されるプリント回路用銅箔に要求される特性はますます
厳しくなっている。本発明は、こうした要請に対応でき
る、すなわち、金属表面に対する防錆作用が高く、しか
も金属と樹脂基板との接着性を著しく向上させることが
できる特定のシラン化合物を用いた金属表面処理剤、特
に銅箔用表面処理剤を提供することを目的とするもので
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究を
進めた結果、特定のビストリアルコキシシラン化合物が
金属表面に対し優れた防錆作用を有するとともに、金属
と樹脂基板との接着性を著しく向上させることを見出し
た。
進めた結果、特定のビストリアルコキシシラン化合物が
金属表面に対し優れた防錆作用を有するとともに、金属
と樹脂基板との接着性を著しく向上させることを見出し
た。
【０００７】本発明は、かかる知見に基づきなされたも
のであり、その要旨は、一般式 （Ｒ1Ｏ）3ＳｉＲ2Ｓｉ（ＯＲ3）3 （ただし、式中Ｒ1Ｏ及びＲ3Ｏは炭素数１〜８のアルコ
キシ基を示し、Ｒ2は二価の有機基を示す）で表わされ
るビストリアルコキシシリル化合物の少なくとも１種を
有効成分とする金属表面処理剤にある。
のであり、その要旨は、一般式 （Ｒ1Ｏ）3ＳｉＲ2Ｓｉ（ＯＲ3）3 （ただし、式中Ｒ1Ｏ及びＲ3Ｏは炭素数１〜８のアルコ
キシ基を示し、Ｒ2は二価の有機基を示す）で表わされ
るビストリアルコキシシリル化合物の少なくとも１種を
有効成分とする金属表面処理剤にある。
【０００８】本発明に使用するビストリアルコキシシリ
ル化合物を表わす前記一般式において、Ｒ1Ｏ及びＲ3Ｏ
は炭素数１〜８を有するアルコキシ基であるが炭素数１
〜４の低級アルコキシ基が好ましい。又、Ｒ2は二価の
有機基を示すが、この有機基としては、炭素数１〜８を
有するアルキレン基、フェニレン基などの二価の芳香族
基、シロキサン結合を含む二価の脂肪族基、あるいは二
価の有機酸エステル残基等がある。
ル化合物を表わす前記一般式において、Ｒ1Ｏ及びＲ3Ｏ
は炭素数１〜８を有するアルコキシ基であるが炭素数１
〜４の低級アルコキシ基が好ましい。又、Ｒ2は二価の
有機基を示すが、この有機基としては、炭素数１〜８を
有するアルキレン基、フェニレン基などの二価の芳香族
基、シロキサン結合を含む二価の脂肪族基、あるいは二
価の有機酸エステル残基等がある。
【０００９】本発明において使用するビストリアルコキ
シシラン化合物の好ましいものを例示すると以下のもの
を挙げることができる。
シシラン化合物の好ましいものを例示すると以下のもの
を挙げることができる。
【００１０】（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ
3）3、（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）4Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、（ＣＨ
3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）6Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
3）3、（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
（ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）4Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、（ＣＨ
3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）6Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、
【００１１】
【化１】
【００１２】本発明に使用するビストリアルコキシシリ
ル化合物は、いずれも公知の方法により合成することが
できる。例えば、ビストリアルコキシシリルアルキレン
化合物はリチウムの存在下でクロロアルキルトリアルコ
キシシラン、テトラアルコキシシランを反応させること
により合成することができる。本発明の処理剤の合成法
については特開昭６４−６０３６のＰ（７）〜（８）に
記載されている。あるいは市販品［例えばチッ素
（株）、東芝シリコーン（株）製等］を利用することも
できる。
ル化合物は、いずれも公知の方法により合成することが
できる。例えば、ビストリアルコキシシリルアルキレン
化合物はリチウムの存在下でクロロアルキルトリアルコ
キシシラン、テトラアルコキシシランを反応させること
により合成することができる。本発明の処理剤の合成法
については特開昭６４−６０３６のＰ（７）〜（８）に
記載されている。あるいは市販品［例えばチッ素
（株）、東芝シリコーン（株）製等］を利用することも
できる。
【００１３】上記ビストリアルコキシシリル化合物の少
なくとも１種を有効成分とする金属表面処理剤が対象と
する金属には特に制限はない。たとえば銅、亜鉛及びこ
れらの合金等の表面処理剤として有用である。しかし、
銅の表面処理剤として用いることが好適であり、特には
プリント回路用銅張積層板等に用いられる銅箔の表面処
理剤として用いると本発明の効果を十分に発揮すること
ができる。この銅箔には銅箔の表面を粗面化処理したも
の、銅箔に黄銅層形成処理したもの、クロメート処理し
たもの、亜鉛−クロム基混合物被覆処理したもの等も包
含される。
なくとも１種を有効成分とする金属表面処理剤が対象と
する金属には特に制限はない。たとえば銅、亜鉛及びこ
れらの合金等の表面処理剤として有用である。しかし、
銅の表面処理剤として用いることが好適であり、特には
プリント回路用銅張積層板等に用いられる銅箔の表面処
理剤として用いると本発明の効果を十分に発揮すること
ができる。この銅箔には銅箔の表面を粗面化処理したも
の、銅箔に黄銅層形成処理したもの、クロメート処理し
たもの、亜鉛−クロム基混合物被覆処理したもの等も包
含される。
【００１４】上記ビストリアルコキシシリル化合物は、
少なくともその一種をそのまま直接金属表面に塗布して
もよいが、水、メタノール、エタノール等のアルコール
類、更には、アセトン、酢酸エチル、トルエン等の溶剤
で０．００１〜１０重量％、好ましくは０．０１〜６重
量％になるように希釈し、この液に金属を浸漬させる方
法で塗布することが簡便で好ましい。尚、このビストリ
アルコキシシラン化合物は単独で用いてもよいが、複数
のビストリアルコキシシラン化合物を混合して用いても
よく、また他の防錆剤、或いは、カップリング剤等と混
合して用いてもよい。
少なくともその一種をそのまま直接金属表面に塗布して
もよいが、水、メタノール、エタノール等のアルコール
類、更には、アセトン、酢酸エチル、トルエン等の溶剤
で０．００１〜１０重量％、好ましくは０．０１〜６重
量％になるように希釈し、この液に金属を浸漬させる方
法で塗布することが簡便で好ましい。尚、このビストリ
アルコキシシラン化合物は単独で用いてもよいが、複数
のビストリアルコキシシラン化合物を混合して用いても
よく、また他の防錆剤、或いは、カップリング剤等と混
合して用いてもよい。
【００１５】
実施例１ 処理剤有効成分として１，２−ビストリメトキシシリル
エタン［（ＭｅＯ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＭｅ）3］
を用いて、以下のようにして各サンプルを調製した。次
いでそれらについて耐湿性及び接着性の評価を行った。
エタン［（ＭｅＯ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＭｅ）3］
を用いて、以下のようにして各サンプルを調製した。次
いでそれらについて耐湿性及び接着性の評価を行った。
【００１６】耐湿性評価サンプル ２ｏｚ生箔（４．５×４．５ｃｍ）をアセトンで５分間
超音波洗浄した。水でアセトンを除去し、３％Ｈ2ＳＯ4
ａｑ．で１分間洗浄した後、水、アセトンの順で洗浄し
ドライヤーで乾燥した。この銅箔のＳ面上に１，２−ビ
ストリメトキシシリルエタンのメタノール溶液（０．６
％濃度）をスピンコーターで６×１０-4ｇ塗布し（比重
１と仮定したときの膜厚は約０．３μｍ）、表面処理箔
を作成した。
超音波洗浄した。水でアセトンを除去し、３％Ｈ2ＳＯ4
ａｑ．で１分間洗浄した後、水、アセトンの順で洗浄し
ドライヤーで乾燥した。この銅箔のＳ面上に１，２−ビ
ストリメトキシシリルエタンのメタノール溶液（０．６
％濃度）をスピンコーターで６×１０-4ｇ塗布し（比重
１と仮定したときの膜厚は約０．３μｍ）、表面処理箔
を作成した。
【００１７】接着性評価サンプル １ｏｚＪＴＣ箔（Ｓ面に亜鉛又は酸化亜鉛とクロム酸化
物との亜鉛−クロム基混合物層を有し、Ｍ面に黄銅層を
介して前記亜鉛−クロム基混合物層を有する箔；２５×
２５ｃｍ）のＭ面上に酢酸でｐＨ５に調整した１，２−
ビストリメトキシシリルエタンの水溶液（０．４％濃
度）を少量滴下し、ＳＵＳ製ロールをころがし処理剤を
塗布した。塗布後、１００℃で５分間乾燥器で乾燥し
た。
物との亜鉛−クロム基混合物層を有し、Ｍ面に黄銅層を
介して前記亜鉛−クロム基混合物層を有する箔；２５×
２５ｃｍ）のＭ面上に酢酸でｐＨ５に調整した１，２−
ビストリメトキシシリルエタンの水溶液（０．４％濃
度）を少量滴下し、ＳＵＳ製ロールをころがし処理剤を
塗布した。塗布後、１００℃で５分間乾燥器で乾燥し
た。
【００１８】（１）耐湿性試験 前記耐湿性評価用サンプルを８０℃、９５％（相対湿
度）の恒温槽で２４時間放置し、銅箔の変色を目視によ
り評価した。その結果、本発明の処理剤で処理された銅
箔は、未処理のものあるいは公知の代表的シラン剤であ
るエポキシシラン処理剤（３−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン）により処理されたものより耐湿性が
向上していた。
度）の恒温槽で２４時間放置し、銅箔の変色を目視によ
り評価した。その結果、本発明の処理剤で処理された銅
箔は、未処理のものあるいは公知の代表的シラン剤であ
るエポキシシラン処理剤（３−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン）により処理されたものより耐湿性が
向上していた。
【００１９】（２）接着性試験 前記接着性評価用サンプルを、エポキシ樹脂が含浸され
たプリプレグと加熱プレスし、銅張積層体を作成した。
この銅張積層体の銅箔側をエッチングして０．２ｍｍ幅
回路×１０本を形成し、沸騰水に２時間浸漬後ピール強
度を測定し、その強度と煮沸処理前のピール強度との差
を求め、それを後者で除して得られた％を劣化率とし
た。
たプリプレグと加熱プレスし、銅張積層体を作成した。
この銅張積層体の銅箔側をエッチングして０．２ｍｍ幅
回路×１０本を形成し、沸騰水に２時間浸漬後ピール強
度を測定し、その強度と煮沸処理前のピール強度との差
を求め、それを後者で除して得られた％を劣化率とし
た。
【００２０】その結果、本発明の処理剤で処理されたサ
ンプルは煮沸後のピール強度の劣化率が２３．０％に止
まっているのに対して、未処理の場合の劣化率は５５．
０％、また公知の代表的シラン剤であるエポキシシラン
剤（３−グリシドキシプロピルシラン）で処理した場合
の劣化率は３０．０％と本発明に比べて著しく劣ってい
る。
ンプルは煮沸後のピール強度の劣化率が２３．０％に止
まっているのに対して、未処理の場合の劣化率は５５．
０％、また公知の代表的シラン剤であるエポキシシラン
剤（３−グリシドキシプロピルシラン）で処理した場合
の劣化率は３０．０％と本発明に比べて著しく劣ってい
る。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の処理剤に
より金属表面の防錆性及びその樹脂との接着性を著しく
向上することができる。
より金属表面の防錆性及びその樹脂との接着性を著しく
向上することができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式 （Ｒ1Ｏ）3ＳｉＲ2Ｓｉ（ＯＲ3）3 （ただし、式中Ｒ1Ｏ及びＲ3Ｏは炭素数１〜８のアルコ
キシ基を示し、Ｒ2は二価の有機基を示す）で表わされ
るビストリアルコキシシリル化合物の少なくとも１種を
有効成分とする金属表面処理剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32930792A JPH06173045A (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | 金属表面処理剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32930792A JPH06173045A (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | 金属表面処理剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06173045A true JPH06173045A (ja) | 1994-06-21 |
Family
ID=18220002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32930792A Pending JPH06173045A (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | 金属表面処理剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06173045A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012007058A (ja) * | 2010-06-24 | 2012-01-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 液状シリコーンゴムコーティング剤組成物、カーテンエアーバッグ及びその製造方法 |
| JP2019178221A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 信越化学工業株式会社 | ポリシラザン組成物、並びにこれを塗布した基材および多層体 |
-
1992
- 1992-12-09 JP JP32930792A patent/JPH06173045A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012007058A (ja) * | 2010-06-24 | 2012-01-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 液状シリコーンゴムコーティング剤組成物、カーテンエアーバッグ及びその製造方法 |
| JP2019178221A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 信越化学工業株式会社 | ポリシラザン組成物、並びにこれを塗布した基材および多層体 |
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