JPH0617299Y2 - Device for fixing processed material to the stage for semiconductor manufacturing equipment - Google Patents

Device for fixing processed material to the stage for semiconductor manufacturing equipment

Info

Publication number
JPH0617299Y2
JPH0617299Y2 JP1987155789U JP15578987U JPH0617299Y2 JP H0617299 Y2 JPH0617299 Y2 JP H0617299Y2 JP 1987155789 U JP1987155789 U JP 1987155789U JP 15578987 U JP15578987 U JP 15578987U JP H0617299 Y2 JPH0617299 Y2 JP H0617299Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processed
stage
edge portion
size
semiconductor manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1987155789U
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0160538U (en
Inventor
章 鈴木
昭 岩瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Machine Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Machine Co Ltd filed Critical Toshiba Machine Co Ltd
Priority to JP1987155789U priority Critical patent/JPH0617299Y2/en
Publication of JPH0160538U publication Critical patent/JPH0160538U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0617299Y2 publication Critical patent/JPH0617299Y2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Jigs For Machine Tools (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の目的〕 (産業上の利用分野) 本考案は、電子ビーム描画装置やマスク検査装置などの
半導体製造装置のステージに対する被処理材の固定装置
に係り、特に各種サイズの被処理材をステージに固定す
ることのできる装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a device for fixing a material to be processed to a stage of a semiconductor manufacturing apparatus such as an electron beam drawing apparatus or a mask inspection apparatus, and particularly The present invention relates to an apparatus capable of fixing a size-processed material to a stage.

(従来の技術) 従来、この種の半導体製造装置は、被処理材がガラス基
板の場合には、一般に第3図に示すように、被処理材1
をカセット2に入れ、このカセット2をステージ3上に
取付けていた。なお、第3図において、4は被処理材1
をカセット2に固定するためカセット2に設けられたク
ランプ片、5はカセット2をステージ3に固定するため
ステージ3に設けられたクランプ片、6,7はステージ
位置測定用のレーザミラーである。カセット2の外側サ
イズは、対象とする被処理材1の最大サイズに対応でき
る一定の寸法になされ、被処理材1を受入れる内側サイ
ズを被処理材1の各種サイズに対応すべく変えたものを
数種類用意して使い分けることにより、1台の装置で各
種サイズの被処理材1を処理していた。
(Prior Art) Conventionally, in a semiconductor manufacturing apparatus of this type, when a material to be processed is a glass substrate, as shown in FIG.
Was placed in the cassette 2, and the cassette 2 was mounted on the stage 3. Incidentally, in FIG.
Is a clamp piece provided on the cassette 2 to fix the cassette 2 to the cassette 2, 5 is a clamp piece provided on the stage 3 to fix the cassette 2 to the stage 3, and 6 and 7 are laser mirrors for measuring the stage position. The outer size of the cassette 2 is set to a fixed size that can accommodate the maximum size of the target material 1, and the inner size that receives the target material 1 is changed to correspond to various sizes of the target material 1. By preparing several types and using them properly, the material 1 to be treated of various sizes was processed by one device.

また、被処理材1がウエハの場合は、一般に直接ステー
ジ上にロードするが、固定には真空チャックを用い、さ
らに装置はサイズ別の専用機であり、各種サイズに対応
することができなかった。
In addition, when the material 1 to be processed is a wafer, it is generally loaded directly onto the stage, but a vacuum chuck is used for fixing, and the apparatus is a dedicated machine for each size, and it was not possible to support various sizes. .

(考案が解決しようとする問題点) 最近、特に流れ生産や単品低コスト生産の要求が強く、
従来のようにカセットを使ったり、バッチ式で処理した
りせず、1枚ずつで高能率に生産する方向にある。ま
た、電子ビーム描画装置は高価なためもあり、サイズ別
に装置を設備することもできず、真空中で処理するため
真空チャックも使用できず、機械的にクランプする場合
が多い。この際、クランプ点を移動型にすると、構造が
複雑になる上に、精度の低下を招き、さらに動作に時間
が掛る等の問題を生ずる。なお、前述したようなカセッ
ト2に被処理材1を自動装填し、1枚ずつ真空中に入れ
る方法もあるが、自動装填のための複雑な装置を必要と
する。
(Problems to be solved by the invention) Recently, there are strong demands for flow production and low-cost single-unit production.
There is a trend toward high-efficiency production one by one without using cassettes or batch-type processing as in the past. Further, since the electron beam drawing apparatus is expensive, it is not possible to install the apparatus according to size, and since it is processed in a vacuum, a vacuum chuck cannot be used, and it is often mechanically clamped. At this time, if the clamp point is of a movable type, the structure becomes complicated, accuracy is deteriorated, and further, it takes a long time to operate. There is also a method of automatically loading the material to be processed 1 into the cassette 2 as described above and placing the material 1 in a vacuum one by one, but a complicated device for automatic loading is required.

本考案の目的は、簡単な装置で、かつ簡単な動作で、真
空中でも各種サイズの被処理材をステージ上により確実
に固定することのできる装置を提供するにある。
It is an object of the present invention to provide a device which is a simple device and is capable of easily fixing materials to be processed of various sizes on a stage even in a vacuum by a simple operation.

〔考案の構成〕[Constitution of device]

(問題点を解決するための手段) 本考案は、かかる目的を達成するため、半導体製造装置
のステージ上に被処理材を固定する装置において、固定
対象である各種サイズの被処理材のうち最大サイズの被
処理材の縁部のみを支持すべき大きさ及び形状の凹部を
ステージ上面に形成し、この凹部内には最大サイズより
小さいサイズの被処理材の一側縁部を前記凹部の一側縁
部に載置したとき該被処理材の他側の縁部の少なくとも
一部を支持する凸部を設けると共に、前記凹部の一側縁
部上に位置する各種サイズの被処理材の一側縁部の2個
所を上方から押圧する2つのクランプ片をステージ上に
設け、該クランプ片によって被処理材をステージ上に押
圧するようにしたものである。
(Means for Solving the Problems) In order to achieve such an object, the present invention is an apparatus for fixing a material to be processed on a stage of a semiconductor manufacturing apparatus, in which a maximum of the material to be processed of various sizes to be fixed is fixed. The stage upper surface is formed with a recess having a size and shape that should support only the edge of the processing target material having a size, and one side edge of the processing target material having a size smaller than the maximum size is formed in the recess. A convex portion that supports at least a part of the edge portion on the other side of the material to be processed when placed on the side edge portion is provided, and one of the material to be processed of various sizes positioned on one side edge portion of the concave portion is provided. Two clamp pieces for pressing two side edge portions from above are provided on the stage, and the material to be processed is pressed on the stage by the clamp pieces.

(作用) 被処理材はステージ上の凹部の縁部又は凸部によって縁
部のみがステージ上面に接触するため、裏面の汚染や損
傷が少ないと同時により安定的に支持される。クランプ
片は被処理材の一側の縁部に対応して設けられているた
め、被処理材のサイズが変ってもクランプすることがで
きる。被処理材は平板であり、ステージはその上面と平
行な平面に沿って移動するのみであるため、前記のよう
な2つのクランプ片によって十分に必要なクランプを達
成できる。
(Operation) Since the edge of the concave portion or the convex portion of the stage on which the material to be processed is in contact with the upper surface of the stage only, the back surface is less contaminated or damaged and is more stably supported. Since the clamp piece is provided corresponding to the edge portion on one side of the material to be processed, it can be clamped even if the size of the material to be processed changes. Since the material to be processed is a flat plate and the stage only moves along a plane parallel to the upper surface of the flat plate, the two clamp pieces as described above can achieve a sufficient clamp.

(実施例) 以下本考案の一実施例を示す第1図ないし第2図につい
て説明する。10はステージで、図示しないガイドおよび
駆動装置により第1図に示すX,Y方向へ移動されるよ
うになっている。6,7はステージ位置測定用のレーザ
ミラーである。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2. Reference numeral 10 denotes a stage, which is moved in the X and Y directions shown in FIG. 1 by a guide and a drive device (not shown). Reference numerals 6 and 7 are laser mirrors for measuring the stage position.

仮想線で示す11,12は大小サイズの異なる被処理材で、
ステージ10上に載置された状態を示す。
11 and 12 shown by imaginary lines are different sizes of workpieces,
The state of being mounted on the stage 10 is shown.

13,13はクランプ片で、前記被処理材11,12の一側縁部、
第1図および第2図においては左辺の縁部上面に対向す
るように配置され、第2図に示すステージ10のガイド穴
14に上下動自在に係合されている。これらのクランプ片
13は、圧縮バネ15により下向きのクランプ力を付与され
ている。クランプ片13,13の下端には、ピン16により揺
動可能に取付けられ先端(第2図において左端)が左右
に伸びるT字形のレバー17の先端が当接するようになっ
ており、このレバー17の右端側を図示しないアンクラン
プ駆動装置で押下げることにより、圧縮バネ15に抗して
クランプ片13を押上げるようになっている。
13,13 is a clamp piece, one side edge portion of the processed material 11,12,
In FIG. 1 and FIG. 2, the guide hole of the stage 10 shown in FIG.
It is engaged with 14 so that it can move up and down. These clamp pieces
A downward clamping force is applied to the compression spring 13 by the compression spring 15. To the lower ends of the clamp pieces 13, 13, a tip of a T-shaped lever 17 having a tip (the left end in FIG. 2) that is swingably attached by a pin 16 extends to the left and right is brought into contact. The unclamp driving device (not shown) pushes down the right end side of the above to push up the clamp piece 13 against the compression spring 15.

クランプ片13の間隔lは、ステージ10に載置される被処
理材11,12のうち最もサイズが小さい被処理材12の一辺
の長さの70%より大きな寸法になされ、できるだけ前
記間隔lを大きく取って、ステージ10がY方向へ移動す
る際に被処理材11,12が回転ずれを生じないように配慮
されている。
The interval l of the clamp pieces 13 is set to be larger than 70% of the length of one side of the material 12 to be processed having the smallest size among the materials 11 and 12 to be mounted on the stage 10. By taking it large, consideration is given so that the workpieces 11 and 12 do not rotate when the stage 10 moves in the Y direction.

ステージ10の被処理材11,12を載置する部分の上面はそ
れ自身が基準面となっており、全体が平面であってもよ
いが、被処理材11,12の裏面の損傷を押えるため、凹部1
8を有している。この凹部18は、載置対象のうち最大サ
イズの被処理材11の縁より若干小さく形成され、被処理
材11の縁部の比較的狭い部分を支持するようになってい
る。
The upper surface of the portion of the stage 10 on which the material to be processed 11, 12 is placed is itself the reference surface, and the entire surface may be a flat surface, but in order to suppress damage to the back surface of the material to be processed 11, 12. , Recess 1
Have eight. The concave portion 18 is formed to be slightly smaller than the edge of the workpiece 11 having the maximum size of the placement target, and supports a relatively narrow portion of the edge of the workpiece 11.

前記凹部18内には、前記被処理材11より小さなサイズの
被処理材12の縁部に対応する凸部19が設けられている。
この凸部19は、クランプ片13によって押圧される縁部と
反対側の縁部(第1図において右辺側)のみに直線状に
設けるか、またはその縁部から上下辺に沿ってそれらの
途中まで伸びるコ字形に形成され、その高さは第2図に
示すように、凹部18を囲む被処理材11の支持部より寸法
δだけ低く設定されている。この寸法δは被処理材11の
自重によるたわみによって該被処理材11の裏面が接触し
ないか、もしくはわずかに接触する程度にするため、1
〜数μmである。なお、第1図および第2図に示すもの
は、被処理材11,12の2種のサイズのみの場合を示して
いるが、3種以上の場合もあり、その場合には凸部19を
各サイズに応じて複数設け、サイズが小さくなるに従っ
てその高さを順次低く設定する。
Inside the concave portion 18, a convex portion 19 corresponding to an edge portion of the material 12 to be processed having a size smaller than that of the material 11 to be processed is provided.
This convex portion 19 is linearly provided only on the edge portion (on the right side in FIG. 1) opposite to the edge pressed by the clamp piece 13, or along the upper and lower sides from the edge portion. As shown in FIG. 2, the height is set to be lower than the supporting portion of the material 11 to be processed surrounding the recess 18 by a dimension δ. This dimension δ is set so that the back surface of the material to be processed 11 does not come into contact with the surface of the material to be processed 11 due to the deflection of the material to be processed 11 due to its own weight, or slightly contacts the back surface of the material to be processed 11.
~ Several μm. 1 and 2 show the case where there are only two sizes of the processed materials 11 and 12, but there are cases where there are three or more kinds, and in that case, the convex portion 19 is formed. A plurality is provided according to each size, and the height is set to be gradually lower as the size becomes smaller.

次いで本装置の作用について説明する。図示しないアン
クランプ駆動装置によって、第2図に示すレバー17の右
端を押下げ、このレバー17の左端で圧縮バネ15に抗して
クランプ片13,13を押上げる。この状態で図示しないロ
ーディング装置により、被処理材11または12を第1図に
示すようにステージ10上に載置する。このとき最大サイ
ズの被処理材11は凹部18を囲むステージ10の上面すなわ
ち基準面によって縁部のみを支持され、凹部18内にある
凸部19の高さも前記基準面より若干低く形成されている
ため、被処理材11の裏面は縁部を除くほとんどが非接触
で支持される。このため、該裏面の損傷はより少なく押
えられる。また、最大サイズより小さな被処理材12はク
ランプ片13,13が存在する部分の縁部はステージ10の上
面すなわち基準面によって最大サイズの被処理材11と同
様に支持されるが、他の縁部は凸部19によって部分的に
支持される。凸部19の高さは前述したようにステージ10
の上面すなわち基準面より1〜数μm低く設定されてい
るため被処理材11はわずかに傾斜して支持されるが、そ
の傾斜量は処理に支障がない範囲に定められているた
め、問題はない。
Next, the operation of this device will be described. An unclamp drive device (not shown) pushes down the right end of the lever 17 shown in FIG. 2, and the left end of the lever 17 pushes up the clamp pieces 13, 13 against the compression spring 15. In this state, the material 11 or 12 to be processed is placed on the stage 10 as shown in FIG. 1 by a loading device (not shown). At this time, the workpiece 11 having the maximum size is supported only on the edge by the upper surface of the stage 10 surrounding the recess 18, that is, the reference surface, and the height of the protrusion 19 in the recess 18 is also formed slightly lower than the reference surface. Therefore, most of the back surface of the material 11 to be processed is supported in a non-contact manner except for the edge portion. Therefore, the damage on the back surface is suppressed less. Further, the workpiece 12 smaller than the maximum size has the edge portion of the portion where the clamp pieces 13 and 13 are present supported by the upper surface of the stage 10, that is, the reference surface, similarly to the workpiece 11 of the maximum size, but other edges. The part is partially supported by the convex part 19. The height of the convex portion 19 is set to the stage 10 as described above.
The material 11 to be treated is supported with a slight inclination because it is set lower than the upper surface, that is, the reference surface by 1 μm to a few μm, but the amount of inclination is determined within a range that does not hinder the processing. Absent.

クランプ片13,13は、レバー17に対するアンクランプ装
置の作用を解除することにより、圧縮バネ15のバネ力に
よって下方へ付勢され、被処理材11,12の縁部をステー
ジ10の上面すなわち基準面または凸部19の上面に接触さ
せた状態で該被処理材11,12をステージ10に固定する。
The clamp pieces 13 and 13 are urged downward by the spring force of the compression spring 15 by releasing the action of the unclamping device with respect to the lever 17, and the edges of the materials to be treated 11 and 12 are set to the upper surface of the stage 10, that is, the reference. The materials 11 and 12 to be processed are fixed to the stage 10 while being in contact with the surface or the upper surface of the convex portion 19.

クランプ片13,13は、ステージ10がその上面と平行なX
Y平面内において移動する際に、被処理材11,12が自重
による慣性力によって移動するこを阻止すればよく、そ
の目的を十分に達成する。
The clamp pieces 13 and 13 have an X-axis on which the stage 10 is parallel to the upper surface.
When the workpieces 11 and 12 are moved in the Y plane, it is sufficient to prevent the workpieces 11 and 12 from being moved by the inertial force due to their own weight, and the purpose is sufficiently achieved.

前述した実施例は、4角な板の被処理材11,12を対象と
した例を示したが、本考案はウエハのように円板の被処
理材に対しても適用できる。
Although the above-described embodiment shows an example in which the processing target materials 11 and 12 are square plates, the present invention can be applied to a processing target material having a circular plate like a wafer.

〔考案の効果〕[Effect of device]

以上述べたように本考案によれば、簡単な装置と簡単な
動作で各種サイズの被処理材をステージ上により確実に
固定することができ、機械的な固定方式であるため、真
空中でも使用できる等の効果が得られる。
As described above, according to the present invention, various sizes of workpieces can be securely fixed on the stage with a simple device and simple operation, and since it is a mechanical fixing system, it can be used even in a vacuum. And so on.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本考案の一実施例を示す平面図、第2図は第1
図のII−II線断面図、第3図は従来装置の平面図であ
る。 10……ステージ、11,12……被処理材、13……クランプ
片、15……圧縮バネ、17……レバー、18……凹部、19…
…凸部。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 3 is a sectional view taken along line II-II of FIG. 3, and FIG. 3 is a plan view of a conventional device. 10 …… Stage, 11, 12 …… Processed material, 13 …… Clamping piece, 15 …… Compression spring, 17 …… Lever, 18 …… Recess, 19…
… Convex part.

Claims (3)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】半導体製造装置のステージ上に被処理材を
固定する装置において、固定対象である各種サイズの被
処理材のうち最大サイズの被処理材の縁部のみを支持す
べき大きさ及び形状の凹部をステージ上面に形成し、こ
の凹部内には最大サイズより小さいサイズの被処理材の
一側縁部を前記凹部の一側縁部に載置したとき該被処理
材の他側の縁部の少なくとも一部を支持する凸部を設け
ると共に、前記凹部の一側縁部上に位置する各種サイズ
の被処理材の一側縁部の2個所を上方から押圧する2つ
のクランプ片をステージ上に設け、該クランプ片によっ
て被処理材をステージ上に押圧するようにしたことを特
徴とする半導体製造装置用ステージへの被処理材固定装
置。
1. In a device for fixing a material to be processed on a stage of a semiconductor manufacturing apparatus, a size to support only an edge portion of a material to be processed having a maximum size among materials to be fixed of various sizes, and A concave portion having a shape is formed on the upper surface of the stage, and when one side edge portion of the material to be processed having a size smaller than the maximum size is placed on the one side edge portion of the concave portion inside the concave portion, A convex portion that supports at least a part of the edge portion is provided, and two clamp pieces that press the two side portions of the one side edge portion of the workpieces of various sizes located on the one side edge portion of the concave portion from above are provided. An apparatus for fixing a material to be processed to a stage for a semiconductor manufacturing apparatus, which is provided on a stage, and the material to be processed is pressed onto the stage by the clamp piece.
【請求項2】被処理材が4角の板であるとき、クランプ
片が被処理材の一辺に沿いかつその間隔が固定対象被処
理材の最小サイズの一辺の長さの70%より大きな寸法
であることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第1項
記載の半導体製造装置用ステージへの被処理材固定装
置。
2. When the material to be processed is a square plate, the clamp pieces are arranged along one side of the material to be processed and the distance between them is larger than 70% of the length of one side of the minimum size of the material to be fixed. The apparatus for fixing a material to be processed to a stage for a semiconductor manufacturing apparatus according to claim 1, wherein:
【請求項3】凸部の高さが、凹部の縁部よりわずかに低
く形成されると共に、対応する被処理材のサイズが小さ
くなるにしたがって順次わずかに低く形成されているこ
とを特徴とする実用新案登録請求の範囲第1または2項
記載の半導体製造装置用ステージへの被処理材固定装
置。
3. The height of the convex portion is formed to be slightly lower than the edge portion of the concave portion, and is gradually formed to be slightly lower as the size of the corresponding material to be treated becomes smaller. The apparatus for fixing a material to be processed to a stage for a semiconductor manufacturing apparatus according to claim 1 or 2, which is a utility model registration claim.
JP1987155789U 1987-10-12 1987-10-12 Device for fixing processed material to the stage for semiconductor manufacturing equipment Expired - Lifetime JPH0617299Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1987155789U JPH0617299Y2 (en) 1987-10-12 1987-10-12 Device for fixing processed material to the stage for semiconductor manufacturing equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1987155789U JPH0617299Y2 (en) 1987-10-12 1987-10-12 Device for fixing processed material to the stage for semiconductor manufacturing equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0160538U JPH0160538U (en) 1989-04-17
JPH0617299Y2 true JPH0617299Y2 (en) 1994-05-02

Family

ID=31433727

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1987155789U Expired - Lifetime JPH0617299Y2 (en) 1987-10-12 1987-10-12 Device for fixing processed material to the stage for semiconductor manufacturing equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0617299Y2 (en)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3323291C2 (en) * 1983-06-28 1985-04-25 Windmöller & Hölscher, 4540 Lengerich Device for transferring flat workpieces into a workpiece shingle
JPS6010983U (en) * 1983-07-02 1985-01-25 住友電気工業株式会社 Reinforced polyethylene pipe

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0160538U (en) 1989-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05102056A (en) Wafer support jig
KR19990077855A (en) Nest for dicing, and Method and Apparatus for cutting Tapeless Substrate Using the Same
JPH0617299Y2 (en) Device for fixing processed material to the stage for semiconductor manufacturing equipment
JPH0831514B2 (en) Substrate suction device
JP3349572B2 (en) Thin plate fixing device
JPH0648853Y2 (en) Device for fixing processed material to the stage for semiconductor manufacturing equipment
JPH07335725A (en) Substrate holder
JP3340151B2 (en) Wafer mounting device
JP2000306982A (en) Wafer side conversion holder and method for retaining wafer using the same
JP3368139B2 (en) Sample stage for electron beam writing system
JPH07302831A (en) Sample holder
US4646418A (en) Carrier for photomask substrate
JP3708984B2 (en) Fixing device for workpiece
JPH0215934A (en) Holding device
JP2573759B2 (en) Substrate positioning device
JP2526199Y2 (en) Wafer holder fixing structure
JPH09205131A (en) Apparatus for fixing material to be treated to stage for manufacture of semiconductor
KR100238947B1 (en) Semiconductor wafer slider
JPH068100Y2 (en) Wafer transfer push-up device
JPH02312259A (en) Semiconductor wafer inspection jig
JPH0637860Y2 (en) Work clamp mechanism
JP2846423B2 (en) Disk centering device
JPS6322673Y2 (en)
JPH10218339A (en) Carrying device
JPH03116942A (en) Holding apparatus for electronic device