JP3340151B2 - Wafer mounting device - Google Patents

Wafer mounting device

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JP3340151B2
JP3340151B2 JP15435092A JP15435092A JP3340151B2 JP 3340151 B2 JP3340151 B2 JP 3340151B2 JP 15435092 A JP15435092 A JP 15435092A JP 15435092 A JP15435092 A JP 15435092A JP 3340151 B2 JP3340151 B2 JP 3340151B2
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wafer
template
mounting device
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index table
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安雄 稲田
政法 福島
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FUJIKOSHI MACHINE INDUSTRY CO.,LTD.
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハー(以下
ウエハーという)を研磨加工するため、平坦なプレート
上に設けられたテンプレート内にウエハーを載置、保持
するウエハー載置装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer mounting apparatus for mounting and holding a wafer in a template provided on a flat plate for polishing a semiconductor wafer (hereinafter, referred to as a wafer).

【0002】[0002]

【従来の技術】ウエハーを研磨するポリッシング装置で
は、複数のウエハーを平坦な研磨プレートに保持し、研
磨プレートのウエハー保持面を下にして、研磨布を貼っ
た研磨定盤に接触させ、プレートの上から負荷をかけ
て、ウエハーを研磨布に押圧し、スラリーを供給しなが
ら前記定盤とウエハーを保持する研磨プレートとを相対
的に回転させながら研磨している。
2. Description of the Related Art In a polishing apparatus for polishing a wafer, a plurality of wafers are held on a flat polishing plate, and the wafer holding surface of the polishing plate is turned down to contact a polishing platen on which a polishing cloth is stuck. The wafer is pressed against the polishing pad by applying a load from above, and the polishing is performed while the slurry is supplied and the platen and the polishing plate holding the wafer are relatively rotated.

【0003】ウエハーを研磨プレートに保持する手段と
して、従来はワックスを介して接着する方法が一般的で
あったが、この方法では、中間にワックスを介している
ため、加工精度を向上させることが困難であり、また、
ウエハー接着装置、剥離装置が必要で、付帯設備が大規
模化し、工程も複雑化する等の欠点があるので、ワック
スを用いずに研磨プレートにウエハーを保持する方法が
多くなっている。この方法では、例えば研磨プレートの
ウエハー保持面に、テンプレートと呼ばれるウエハーの
外径よりも大きく、ウエハーの厚さよりも浅い複数の凹
所を形成し、この中にウエハーを投入し圧着、保持させ
ている。
Conventionally, as a means for holding a wafer on a polishing plate, a method of bonding via a wax has been generally used. However, in this method, since a wax is provided in the middle, processing accuracy can be improved. Difficult, and
Since a wafer bonding apparatus and a peeling apparatus are required, and there are drawbacks such as an increase in scale of ancillary equipment and a complicated process, there are many methods of holding a wafer on a polishing plate without using wax. In this method, for example, a plurality of recesses, which are larger than the outer diameter of the wafer and are shallower than the thickness of the wafer, are formed on the wafer holding surface of the polishing plate, and the wafer is put into this and pressed and held. I have.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】一般に、前記テンプレ
ートの内径は、保持するウエハーの外径と極力近いほう
が望ましいことが知られており、実際には、ウエハーの
外周縁のうち円弧部とテンプレートの内周縁との間隔は
1mm以下を要求されている。このためテンプレート内
に、ウエハーを載置するまでの工程を機械化することは
非常に困難で、従来はほとんど手作業で載置している
が、ウエハーを汚染したり、破損する危険が大きかっ
た。
In general, it is known that the inner diameter of the template is preferably as close as possible to the outer diameter of the wafer to be held. The distance from the inner peripheral edge is required to be 1 mm or less. For this reason, it is extremely difficult to mechanize the process until the wafer is placed in the template. Conventionally, the wafer is placed by hand, but the risk of contaminating the wafer and damaging it is great.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の問題点
に鑑み、研磨プレートのテンプレート内中央に、正確に
ウエハーを載置する、すなわちウエハーの外周縁のうち
円弧部とテンプレートの内周縁との間隔を1mm以下の
等しい値に保つことが可能なウエハー載置装置を提供す
ることを目的とするもので、研磨プレート上に設けられ
たテンプレート内に半導体ウエハーを載置して研磨する
にあたり、半導体ウエハーをテンプレート内の中央に正
しく載置するため、半導体ウエハー及びテンプレートの
位置を画像処理装置を用いて数値解析し、半導体ウエハ
ーの外周縁の円弧部とテンプレートの内周縁とが等間隔
を保つように、半導体ウエハーの位置を微調整すること
ができるように構成した装置である。すなわち、本発明
のウエハー載置装置は、半導体ウエハーを、研磨プレー
ト上に設けたテンプレート内に載置するウエハー載置装
置において、研磨プレートを保持して回転するインデッ
クステーブルと、ウエハーを吸着して水平、垂直方向に
移動し、テンプレート内にウエハーを載置するウエハー
搬送アームと、前記ウエハーを載置するテンプレートの
上方に設けたテンプレート検出カメラ及びテンプレート
の内周縁とウエハーの外周縁を検出可能に設けられた3
つまたはそれ以上のウエハー検出カメラからなる画像処
理装置とを具備することを特徴としている。なお、前記
インデックステーブルは、水平方向に移動可能である。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, the present invention accurately places a wafer on the center of a polishing plate in a template, that is, an arc portion of an outer peripheral edge of a wafer and an inner peripheral edge of the template. The purpose of the present invention is to provide a wafer mounting apparatus capable of maintaining an equal distance of 1 mm or less with respect to a semiconductor wafer mounted on a template provided on a polishing plate. In order to correctly place the semiconductor wafer in the center of the template, the positions of the semiconductor wafer and the template are numerically analyzed using an image processing apparatus, and the arc of the outer peripheral edge of the semiconductor wafer and the inner peripheral edge of the template are equally spaced. Fine-tuning the position of the semiconductor wafer to keep it
It is a device configured to be able to perform. That is, the present invention
The wafer mounting device is a wafer mounting device that mounts a semiconductor wafer in a template provided on a polishing plate. In the wafer mounting device, an index table that rotates while holding the polishing plate, and a horizontal and vertical And a wafer transfer arm for placing a wafer in the template, a template detection camera provided above the template on which the wafer is placed, and an inner peripheral edge of the template and an outer peripheral edge of the wafer provided for detection.
And an image processing apparatus comprising one or more wafer detection cameras . The index table can be moved in the horizontal direction.

【0006】[0006]

【作用】以下本発明におけるウエハー載置装置の作用
を、図1(a),(b)によって順に説明する。なお、
図1の(a)は本発明の装置を説明するための概略平面
図であり、(b)は側面図である。 1. 円形の研磨プレート1をインデックステーブル2
上の所定位置に保持する。研磨プレート1上には6個の
円形のテンプレート3が同一円周上に等間隔に設けられ
ている。 2. テンプレート検出カメラ4により、研磨プレート
1上のテンプレート3の位置を解析し、これらが所定の
位置にくるようにインデックステーブル2を回転する。 3. ウエハー搬送アーム5の下面に、オリフラ部6を
一定方向に向けてウエハー7を吸着保持し、前記所定位
置に置かれたテンプレート3上の所定位置まで搬送す
る。ウエハー搬送アーム5は伸縮してY方向、レール8
上を走行してX方向支柱9の伸縮によってZ方向の移
動が可能である。 4. 3個のウエハー検出カメラ10、11、12によ
り、ウエハー7の位置を検出し、ウエハー搬送アーム5
を水平方向(X,Y方向)に移動させて、ウエハー7が
所定の原点位置にくるように微調整する。 5. ウエハー検出カメラ10、11、12でウエハー
7とテンプレート3の位置関係を割り出し、ウエハー7
の位置をウエハー搬送アーム5により微調整し、ウエハ
ー7の外周縁の円弧部13とテンプレート3の内周縁と
が等間隔を保つようにする。 6. ウエハー搬送アーム5の吸着を解放してウエハー
7をテンプレート3内に投入、載置する。 7. インデックステーブル2を回転して隣接のテンプ
レート3に新しいウエハー7を上記の方法によって載置
する。同一円周上にないテンプレートがあるとき、例え
ば研磨プレートの回転中心にもテンプレートがあるとき
は、インデックステーブルを水平方向(X,Y方向)に
移動させて、前記のウエハーの投入、載置を行う。
The operation of the wafer mounting apparatus according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 (a) and 1 (b). In addition,
FIG. 1A is a schematic plan view for explaining the device of the present invention, and FIG. 1B is a side view. 1. Insert circular polishing plate 1 into index table 2
Hold it in the upper predetermined position. Six circular templates 3 are provided on the polishing plate 1 at equal intervals on the same circumference. 2. The position of the template 3 on the polishing plate 1 is analyzed by the template detection camera 4, and the index table 2 is rotated so that they are at predetermined positions. 3. The wafer 7 is sucked and held on the lower surface of the wafer transfer arm 5 with the orientation flat portion 6 oriented in a predetermined direction, and transferred to a predetermined position on the template 3 placed at the predetermined position. The wafer transfer arm 5 expands and contracts in the Y direction,
It is possible to move in the X direction by traveling on the top, and to move in the Z direction by expansion and contraction of the column 9. 4. The position of the wafer 7 is detected by three wafer detection cameras 10, 11, and 12, and the wafer transfer arm 5
Is moved in the horizontal direction (X, Y directions), and fine adjustment is performed so that the wafer 7 is at a predetermined origin position. 5. The positional relationship between the wafer 7 and the template 3 is determined by the wafer detection cameras 10, 11, and 12, and the wafer 7 is detected.
Is finely adjusted by the wafer transfer arm 5 so that the arc 13 on the outer peripheral edge of the wafer 7 and the inner peripheral edge of the template 3 are kept at equal intervals. 6. The suction of the wafer transfer arm 5 is released, and the wafer 7 is loaded and placed in the template 3. 7. The index table 2 is rotated to place a new wafer 7 on the adjacent template 3 by the above-described method. When there is a template that is not on the same circumference, for example, when there is also a template at the center of rotation of the polishing plate, the index table is moved in the horizontal direction (X, Y directions) to load and place the wafer. Do.

【0007】[0007]

【発明の効果】ウエハーとテンプレートの相対的な位置
関係を解析してからテンプレート内にウエハーを載置す
るため、ウエハーはテンプレート内の所定の位置に正確
に収納され、テンプレートのエッヂに乗り上げるような
ことはない。なおカメラでテンプレートとウエハーとの
位置関係を解析する関係上、テンプレート検出カメラ及
びウエハー検出カメラは、ウエハー搬送アームその他と
干渉しない範囲で被検出物に近い位置に配置するほうが
望ましい。
According to the present invention, since the relative positional relationship between the wafer and the template is analyzed, and then the wafer is placed in the template, the wafer is accurately stored in a predetermined position in the template, so that the wafer rides on the edge of the template. Never. Because the camera analyzes the positional relationship between the template and the wafer, it is desirable that the template detection camera and the wafer detection camera are arranged at positions near the object to be detected within a range that does not interfere with the wafer transfer arm and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 (a)は本発明の装置の説明用平面図、
(b)は側面図である。
FIG. 1A is a plan view for explaining an apparatus of the present invention,
(B) is a side view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 研磨プレート、2 インデックステーブル、3
テンプレート、4 テンプレート検出カメラ、5
ウエハー搬送アーム、6 オリフラ部、7 ウ
エハー、8 レール、9 支柱、10 ウエハー
検出カメラ、11 ウエハー検出カメラ、12 ウ
エハー検出カメラ、13 円弧部。
1 polishing plate, 2 index table, 3
Template, 4 Template detection camera, 5
Wafer transfer arm, 6 orientation flats, 7 wafers, 8 rails, 9 columns, 10 wafer detection camera, 11 wafer detection camera, 12 wafer detection camera, 13 arc section.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−138933(JP,A) 特開 昭63−144956(JP,A) 特開 昭62−123509(JP,A) 特開 平2−290040(JP,A) 特開 昭63−191589(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B24B 37/00 - 37/04 H01L 21/304 H01L 21/68 B23P 19/02 H05K 13/08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-3-138933 (JP, A) JP-A-63-144956 (JP, A) JP-A-62-123509 (JP, A) JP-A-2- 290040 (JP, A) JP-A-63-191589 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B24B 37/00-37/04 H01L 21/304 H01L 21/68 B23P 19/02 H05K 13/08

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体ウエハーを、研磨プレート上に設
けたテンプレート内に載置するウエハー載置装置におい
て、研磨プレートを保持して回転するインデックステー
ブルと、ウエハーを吸着して水平、垂直方向に移動し、
テンプレート内にウエハーを載置するウエハー搬送アー
ムと、前記ウエハーを載置するテンプレートの上方に設
けたテンプレート検出カメラ及びテンプレートの内周縁
とウエハーの外周縁を検出可能に設けられた3つまたは
それ以上のウエハー検出カメラからなる画像処理装置と
を具備することを特徴とするウエハー載置装置。
A semiconductor wafer is mounted on a polishing plate.
In the wafer loading device placed in the beam template
Index table that rotates while holding the polishing plate.
To move the wafer horizontally and vertically
Wafer transfer arm for placing wafers in template
And a template above the template on which the wafer is placed.
Digit detection camera and inner edge of template
And three provided so that the outer peripheral edge of the wafer can be detected or
An image processing device consisting of more wafer detection cameras
A wafer mounting device, comprising:
【請求項2】 前記インデックステーブルは、水平方向
に移動可能である請求項2に記載のウエハー載置装置。
2. The method according to claim 1, wherein the index table is in a horizontal direction.
3. The wafer mounting device according to claim 2, wherein the wafer mounting device is movable .
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