JP3368139B2 - Sample stage for electron beam writing system - Google Patents
Sample stage for electron beam writing systemInfo
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画装
置においてマスクブランクを装着する試料ステージに係
り、特に、平面寸法及び板厚が異なる各種サイズのマス
クブランクの取扱いが容易な電子ビーム描画装置用試料
ステージに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sample stage on which a mask blank is mounted in an electron beam writing apparatus, and more particularly to an electron beam writing apparatus for easily handling mask blanks of various sizes having different plane dimensions and plate thicknesses. Regarding the sample stage.
【０００２】[0002]
【従来の技術】電子ビーム描画装置において、平面寸法
及び板厚が異なる各種サイズのマスクブランクを取扱う
場合、マスクブランクの各種サイズに応じたカセットホ
ルダを準備して、このカセットホルダにマスクブランク
を装填して、試料ステージに装着する方式が、一般的に
採用されている。2. Description of the Related Art In an electron beam drawing apparatus, when handling mask blanks of various sizes having different plane dimensions and plate thicknesses, a cassette holder corresponding to each size of the mask blank is prepared and the mask blank is loaded into the cassette holder. Then, the method of mounting on the sample stage is generally adopted.
【０００３】図４に、マスクブランクを装着する試料ス
テージの例を示す。外形寸法を共通とするカセットホル
ダ４２をマスクブランクの各種サイズ毎に準備し、これ
にマスクブランク４３を装填して、ステージ基板１上に
配置された支持部材４１で支持することによって、単一
の試料ステージを用いて、各種サイズ（例えば、５イン
チ、６インチ及び７インチ）のマスクブランクの取扱い
を可能にしている。FIG. 4 shows an example of a sample stage on which a mask blank is mounted. A cassette holder 42 having a common outer dimension is prepared for each size of the mask blank, the mask blank 43 is loaded into the cassette holder 42, and the mask holder 43 is supported by the supporting member 41 arranged on the stage substrate 1. The sample stage is used to enable the handling of mask blanks of various sizes (eg, 5 inch, 6 inch, and 7 inch).
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】マスクブランクをカセ
ットホルダに装填して試料ステージに装着する方式の場
合、処理対象サイズの種類の数倍に相当する数のカセッ
トホルダが必要となる。また、試料ステージとマスクブ
ランクとの間にカセットホルダが介在しているので、マ
スクブランクの位置精度に限界があり、電子ビーム描画
におけるパターン位置精度として０．０５μｍを確保す
ることが容易ではない。更に、マスクブランクの単体重
量と比較して、カセットホルダの重量がかなり大きくな
るので、カセットホルダをステージに装着するための自
動搬送装置の搬送アーム等の剛性を、マスクブランクを
単体で搬送する場合と比較して、かなり高く設計しなけ
ればならず、装置全体の大型化を招く要因ともなってい
た。In the case of the method of mounting the mask blank on the cassette holder and mounting it on the sample stage, the number of cassette holders corresponding to several times the size of the size to be processed is required. Further, since the cassette holder is interposed between the sample stage and the mask blank, there is a limit to the positional accuracy of the mask blank, and it is not easy to secure the pattern positional accuracy of 0.05 μm in electron beam writing. Furthermore, since the weight of the cassette holder is considerably larger than the weight of the mask blank as a single unit, the rigidity of the carrier arm of the automatic carrier for mounting the cassette holder on the stage can be increased when the mask blank is transferred as a single unit. Compared with the above, it had to be designed to be considerably higher, which was also a factor for increasing the size of the entire apparatus.
【０００５】上記の様な状況に鑑み、本発明は、カセッ
トホルダを使用せずに、平面寸法及び板厚が異なる各種
サイズのマスクブランクを直接、保持することが可能
で、且つ、マスクブランクの位置精度に優れ、従って、
パターン位置精度に優れた電子ビーム描画装置用試料ス
テージを提供することを目的とする。In view of the above situation, according to the present invention, it is possible to directly hold mask blanks of various sizes having different plane dimensions and plate thicknesses without using a cassette holder, and Excellent positioning accuracy, therefore
It is an object of the present invention to provide a sample stage for an electron beam drawing apparatus which is excellent in pattern position accuracy.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の電子ビーム描画
装置用試料ステージは、その上にマスクブランクが装着
されるステージ基板と、ステージ基板に対向する基準面
を有する基準片、この基準片を支持する基部、及びこの
基部に上下移動自在に係合され、マスクブランクの周縁
部を裏面から支持してマスクブランクの表面を基準面に
対して押圧する支持ピンを備え、マスクブランクの一辺
に沿って配置された第一及び第二のクランプ片と、前記
第一及び第二のクランプ片と同様な構造を備え、マスク
ブランクの前記一辺の対辺に沿って配置された第三のク
ランプ片と、前記各クランプ片を、前記一辺及び前記対
辺に対して直交する方向に、ステージ基板に対して平行
に移動させる第一の駆動手段と、前記支持ピンを、上下
方向、即ちステージ基板に対して垂直方向に移動させる
第二の駆動手段と、を備えたことを特徴とする。A sample stage for an electron beam drawing apparatus according to the present invention includes a stage substrate on which a mask blank is mounted, a reference piece having a reference surface facing the stage substrate, and the reference piece. A support base and a support pin that is vertically movably engaged with the base and supports the peripheral edge of the mask blank from the back surface and presses the front surface of the mask blank against the reference surface. The first and second clamp pieces arranged in a manner similar to the first and second clamp pieces, and a third clamp piece arranged along the opposite side of the one side of the mask blank, A first driving unit that moves each of the clamp pieces in parallel to the stage substrate in a direction orthogonal to the one side and the opposite side is provided with a vertical direction, that is, a stay. Characterized in that and a second driving means for moving in a direction perpendicular to the substrate.
【０００７】以下に本発明の電子ビーム描画装置用試料
ステージの機能を説明する。本発明の電子ビーム描画装
置用試料ステージでは、マスクブランクをステージに装
着する際、各クランプ片の基部に係合された支持ピン
を、第二の駆動手段によって押上げて、マスクブランク
の周縁部の表面を、三つクランプ片の各基準片に対して
押圧することにより、マスクブランクの周縁部を保持す
る。各基準片は、ステージに対向する方向に基準面を有
しているので、マスクブランクをステージに装着するだ
けで、ステージ基板を基準としたマスクブランク表面の
高さを一定に維持することができる。The function of the sample stage for the electron beam writing apparatus of the present invention will be described below. In the sample stage for the electron beam drawing apparatus of the present invention, when the mask blank is mounted on the stage, the support pins engaged with the bases of the respective clamp pieces are pushed up by the second driving means to move the peripheral edge of the mask blank. The peripheral surface of the mask blank is held by pressing the surface of the mask blank against the reference pieces of the three clamp pieces. Since each reference piece has a reference surface in the direction facing the stage, the height of the mask blank surface with respect to the stage substrate can be kept constant simply by mounting the mask blank on the stage. .
【０００８】また、第一及び第二のクランプ片と第三の
クランプ片との間隔を、第一の駆動手段によって調整す
ることにより、各種平面サイズ（幅）のマスクブランク
の取扱いが可能となっている。By adjusting the distance between the first and second clamp pieces and the third clamp piece by the first driving means, it is possible to handle mask blanks of various plane sizes (widths). ing.
【０００９】従って、本発明の電子ビーム描画装置用試
料ステージは、平面寸法及び板厚が異なる各種サイズの
被処理材を、直接、単一のステージに装着することが可
能となっている。Therefore, in the sample stage for an electron beam drawing apparatus of the present invention, it is possible to directly mount the materials to be treated of various sizes having different plane dimensions and plate thickness on a single stage.
【００１０】なお、前記第一の駆動手段は、前記第一及
び第二のクランプ片の基部を支持し、前記一辺及び前記
対辺に対して直交する方向に、ステージ基板に対して平
行に移動可能な第一のスライド台と、前記第三のクラン
プ片の基部を支持し、前記一辺及び前記対辺に対して直
交する方向に、ステージ基板に対して平行に移動可能な
第二のスライド台とを、ステージ基板の下側に配置する
ことによって構成することができる。The first driving means supports the bases of the first and second clamp pieces and is movable in a direction orthogonal to the one side and the opposite side in parallel to the stage substrate. A first slide base and a second slide base that supports the base of the third clamp piece and is movable parallel to the stage substrate in a direction orthogonal to the one side and the opposite side. , And can be configured by arranging it on the lower side of the stage substrate.
【００１１】また、前記第二の駆動手段は、前記各支持
ピンの基端部を前記各スライド台の移動方向に対して摺
動自在に支持し、ステージ基板に対して垂直方向に移動
可能な支持板を、前記第一及び第二のスライド台の下側
に配置することによって構成することができる。The second driving means slidably supports the base end portions of the respective support pins in the moving direction of the respective slide bases and is movable in the vertical direction with respect to the stage substrate. The support plate can be constructed by arranging the support plate below the first and second slide bases.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態の一例を図
１、図２及び図３に示す。図１は電子ビーム描画装置の
試料用ステージの平面図であり、図２は図１のＡ−Ａ断
面図、図３は図１のＢ−Ｂ断面図である。図中、２０は
マスクブランク、１はステージ基板、３ａ、３ｂ、３ｃ
はクランプ片、３１は基準片、３２は基部、３３は支持
ピン、４は開口部、５ａ、５ｂはスライド台、６は支持
板、８はロッド、９はモータ、１０は親ネジ、１１はモ
ータ、１３は軸受を表す。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An example of an embodiment of the present invention is shown in FIGS. 1, 2 and 3. 1 is a plan view of a sample stage of an electron beam drawing apparatus, FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG. 1, and FIG. 3 is a sectional view taken along line BB of FIG. In the figure, 20 is a mask blank, 1 is a stage substrate, 3a, 3b, 3c.
Is a clamp piece, 31 is a reference piece, 32 is a base portion, 33 is a support pin, 4 is an opening portion, 5a and 5b are slide bases, 6 is a support plate, 8 is a rod, 9 is a motor, 10 is a lead screw, and 11 is A motor and 13 are bearings.
【００１３】マスクブランク２０は、矩形のステージ基
板１上の中央に装着される。ステージ基板１の周縁部、
互いに隣接する二辺に沿って位置測定用のレーザミラー
２が配置されている。マスクブランク２０は、レーザミ
ラー２が配置されていない側の辺から、図１の矢印３０
の方向（図の上下方向）に従って、ステージ基板１と平
行に出し入れされる。The mask blank 20 is mounted in the center of the rectangular stage substrate 1. The periphery of the stage substrate 1,
A laser mirror 2 for position measurement is arranged along two sides adjacent to each other. The mask blank 20 is indicated by the arrow 30 in FIG.
In parallel with the stage substrate 1 according to the direction (vertical direction in the figure).
【００１４】装着されるマスクブランク２０の一辺に沿
って、二個のクランプ片３ａ、３ｂが配置され、その対
辺側には一個のクランプ片３ｃが配置されている（図
１）。これらの各クランプ片は、ステージ基板に対向す
る基準面を有する基準片３１と、、基準片３１を支持す
る基部３２と、基部３２に上下移動自在に係合された支
持ピン３３とから構成されている。各クランプ片３ａ、
３ｂ、３ｃの基準面と、各支持ピン３３の先端部との間
で、マスクブランク２０の周縁部を挟んで、マスクブラ
ンク２０を保持することができる。基部３２は、ステー
ジ基板１に設けられたスリット状の開口部４の中を貫通
し、基部３２の下端はステージ基板１の裏面側に位置し
ている（図２）。Two clamp pieces 3a and 3b are arranged along one side of the mask blank 20 to be mounted, and one clamp piece 3c is arranged on the opposite side (FIG. 1). Each of these clamp pieces includes a reference piece 31 having a reference surface facing the stage substrate, a base portion 32 that supports the reference piece 31, and a support pin 33 that is vertically movably engaged with the base portion 32. ing. Each clamp piece 3a,
The mask blank 20 can be held by sandwiching the peripheral edge portion of the mask blank 20 between the reference surfaces of 3b and 3c and the tip end portion of each support pin 33. The base 32 penetrates through the slit-shaped opening 4 provided in the stage substrate 1, and the lower end of the base 32 is located on the back surface side of the stage substrate 1 (FIG. 2).
【００１５】図２に示す様に、ステージ基板１の下側に
は、ステージ基板１に対して平行に、マスクブランク２
０の前記一辺及び前記対辺に沿って、一対のスライド台
５ａ、５ｂが配置され、前記二個のクランプ片３ａ、３
ｂの基部の下端は、一方のスライド台５ａの上に固定さ
れている。同様に、前記一個の基準片３ｃの基部の下端
は、他方のスライド台５ｂの上に固定されている。これ
ら一対のスライド台５ａ、５ｂは、ステージ基板１の裏
面で支持され、ステージ基板１の裏面に対して摺動可能
であり、各クランプ片３ａ、３ｂ、３ｃの前記基準面の
高さ（ステージ基板１を基準とした高さ）は、常に、一
定に維持されている。As shown in FIG. 2, the mask blank 2 is provided below the stage substrate 1 in parallel with the stage substrate 1.
A pair of slides 5a and 5b are arranged along the one side and the opposite side of 0, and the two clamp pieces 3a and 3
The lower end of the base portion of b is fixed on one slide base 5a. Similarly, the lower end of the base portion of the one reference piece 3c is fixed on the other slide base 5b. The pair of slide bases 5a and 5b are supported on the back surface of the stage substrate 1 and are slidable with respect to the back surface of the stage substrate 1, and the height of the reference surface of each clamp piece 3a, 3b, 3c (stage). The height with respect to the substrate 1) is always kept constant.
【００１６】また、図３に示す様に、ステージ基板１の
下側には、ステージ基板１に対して平行に、マスクブラ
ンク２０の前記一辺及び前記対辺に対して直交して、親
ネジ１０が配置されている。親ネジ１０は、前記の一対
のスライド台５ａ、５ｂを貫通していて、その貫通部分
には送り用のネジ山が形成されている。この内、スライ
ド台５ａ側には左ネジ１０ａが、スライド台５ｂ側には
右ネジ１０ｂが形成されている。親ネジ１０の基部は、
モータ１１に接続されている。モータ１１は、ブラケッ
ト１２を介して、ステージ基板１によって支持され、親
ネジ１０の先端部は、ステージ基板１に固定された軸受
１３で支持されている。クランプ片３ａ、３ｂとクラン
プ片３ｃとの間隔の設定は、モータ１１で親ネジ１０を
回転させて、スライド台５ａとスライド台５ｂとの間隔
を調整することによって行われる。As shown in FIG. 3, a lead screw 10 is provided below the stage substrate 1 in parallel with the stage substrate 1 and orthogonal to the one side and the opposite side of the mask blank 20. It is arranged. The lead screw 10 penetrates the pair of slide bases 5a and 5b, and a screw thread for feeding is formed in the penetrating portion. Of these, a left screw 10a is formed on the slide base 5a side, and a right screw 10b is formed on the slide base 5b side. The base of the lead screw 10 is
It is connected to the motor 11. The motor 11 is supported by the stage substrate 1 via the bracket 12, and the tip of the lead screw 10 is supported by a bearing 13 fixed to the stage substrate 1. The distance between the clamp pieces 3a and 3b and the clamp piece 3c is set by rotating the lead screw 10 by the motor 11 and adjusting the distance between the slide bases 5a and 5b.
【００１７】更に、図２に示す様に、スライド台５ａ、
５ｂの下側には、ステージ基板１に対して平行に、支持
板６が配置され、各支持ピン３３の基端部は、共に支持
板６によって支持されている。なお、各支持ピン３３の
基端部は、支持板６の表面上を摺動することができる。
支持板６の中央部には雌ネジ部７が形成され、雌ネジ部
７にはロッド８のネジ部が嵌合している。ロッド８の基
部は、モータ９に接続されている。モータ９は、ブラケ
ット１５を介して、ステージ基板１によって支持されて
いる。支持ピン３３の上下方向（ステージ基板に対して
垂直方向）の駆動は、モータ９でロッド８を回転させ
て、支持板６の高さを調整することによって行われる。Further, as shown in FIG. 2, a slide base 5a,
A support plate 6 is arranged below the stage 5b in parallel with the stage substrate 1, and the base ends of the support pins 33 are both supported by the support plate 6. The base end of each support pin 33 can slide on the surface of the support plate 6.
A female screw portion 7 is formed in the center of the support plate 6, and a screw portion of a rod 8 is fitted in the female screw portion 7. The base of the rod 8 is connected to the motor 9. The motor 9 is supported by the stage substrate 1 via the bracket 15. Driving of the support pins 33 in the vertical direction (vertical direction to the stage substrate) is performed by rotating the rod 8 by the motor 9 and adjusting the height of the support plate 6.
【００１８】この試料ステージにマスクブランク２０を
装着するには、先ず、マスクブランク２０の平面寸法
（幅）に対応して、クランプ片３ａ、３ｂとクランプ片
３ｃとの間隔を、親ネジ１０を用いて設定した後、マス
クブランク２０を、クランプ片３ａ、３ｂとクランプ片
３ｃとの間に、ステージ基板１と平行に挿入する。次
に、支持ピン３３をロッド８を用いて押上げて、マスク
ブランク２０の周縁部を、クランプ片３ａ、３ｂ，３ｃ
の基準面と各支持ピン３３の先端部との間で挟んで保持
する。In order to mount the mask blank 20 on this sample stage, first, in accordance with the plane dimension (width) of the mask blank 20, the distance between the clamp pieces 3a, 3b and the clamp piece 3c, and the lead screw 10 are set. After setting by using, the mask blank 20 is inserted between the clamp pieces 3a and 3b and the clamp piece 3c in parallel with the stage substrate 1. Next, the support pin 33 is pushed up using the rod 8 so that the peripheral portion of the mask blank 20 is clamped by the clamp pieces 3a, 3b, 3c.
It is held by sandwiching it between the reference surface of (1) and the tip of each support pin 33.
【００１９】以上の様に、マスクブランク２０が装着さ
れた状態では、マスクブランク２０の周縁部の３箇所に
おいて、その表面が各クランプ片３ａ、３ｂ、３ｃの基
準面に押付けられて、その高さが決定されるので、ステ
ージ基板１を基準にしたマスクブランク２０の表面の高
さは、常に、一定に維持される。As described above, when the mask blank 20 is mounted, the surface of the mask blank 20 is pressed against the reference surfaces of the clamp pieces 3a, 3b, 3c at three positions on the peripheral portion of the mask blank 20, and the height of the clamp blanks is increased. Since the height is determined, the height of the surface of the mask blank 20 with respect to the stage substrate 1 is always maintained constant.
【００２０】[0020]
【発明の効果】本発明の電子ビーム描画装置用試料ステ
ージでは、マスクブランクの周縁部に三個のクランプ片
を配置し、このクランプ片のステージに対向する部位に
基準面を設けるとともに、各クランプ片の基部にマスク
ブランクを裏面から支持する支持ピンを上下移動自在に
係合させた結果、マスクブランクの板厚の相違に拘ら
ず、マスクブランク表面の高さを常に一定の位置に維持
することができる。また、第一及び第二のクランプ片と
第三のクランプ片との間隔を調整可能としたので、各種
平面サイズ（幅）のマスクブランクを取扱うことができ
る。According to the sample stage for the electron beam drawing apparatus of the present invention, three clamp pieces are arranged on the peripheral edge of the mask blank, and a reference surface is provided at a portion of the clamp piece facing the stage. As a result of vertically movably engaging a support pin that supports the mask blank from the back side to the base of one piece, the height of the mask blank surface is always maintained at a constant position regardless of the difference in the plate thickness of the mask blank. You can Moreover, since the distance between the first and second clamp pieces and the third clamp piece can be adjusted, mask blanks of various plane sizes (widths) can be handled.
【００２１】この結果、本発明の電子ビーム描画装置用
試料ステージは、カセットホルダ等を使用することな
く、単一のステージを用いて、平面寸法及び板厚が異な
る各種サイズのマスクブランクを直接、装着することが
可能であり、簡素な構造を備えるとともに装着されるマ
スクブランクの位置精度にも優れている。As a result, the sample stage for the electron beam drawing apparatus of the present invention can directly use mask blanks of various sizes having different plane dimensions and plate thicknesses by using a single stage without using a cassette holder or the like. It can be mounted, has a simple structure, and is excellent in the positional accuracy of the mask blank to be mounted.
【図１】本発明に基づく電子ビーム描画装置用試料ステ
ージの例を示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing an example of a sample stage for an electron beam drawing apparatus according to the present invention.
【図２】図１の電子ビーム描画装置用試料ステージのＡ
−Ａ断面図。2A of the sample stage for the electron beam drawing apparatus of FIG.
-A sectional view.
【図３】図１の電子ビーム描画装置用試料ステージのＢ
−Ｂ断面図。3 is a sample stage B for the electron beam drawing apparatus of FIG.
-B sectional drawing.
【図４】従来の電子ビーム描画装置用試料ステージの例
を示す平面図。FIG. 4 is a plan view showing an example of a conventional sample stage for an electron beam drawing apparatus.
１・・・ステージ基板、 ３ａ、３ｂ、３ｃ・・・クランプ片、 ５ａ、５ｂ・・・スライド台、 ６・・・支持板、 ７・・・雌ネジ部、 ８・・・ロッド、 ９・・・モータ、 １０・・・親ネジ、 １１・・・モータ、 １３・・・軸受、 ２０・・・マスクブランク、 ３１・・・基準片、 ３２・・・基部、 ３３・・・支持ピン。 1 ... Stage substrate, 3a, 3b, 3c ... Clamp piece, 5a, 5b ... slide base, 6 ... Support plate, 7 ... female screw part, 8 ... rod, 9 ... motor, 10 ... lead screw, 11 ... motor, 13 ... Bearing, 20 ... Mask blank, 31 ... Reference piece, 32 ... the base, 33 ... Support pin.
フロントページの続き (72)発明者 安田 聡 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１番地 株式会社東芝研究開発センター内 (56)参考文献 特開 平５−301710（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−153665（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−80036（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−153664（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−2646（ＪＰ，Ｕ) 実開 平１−60538（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭61−151333（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/68 B23Q 3/06 303 G03F 7/20 504 G03F 9/00 H01L 21/027 Front page continuation (72) Inventor Satoshi Yasuda 1 Komukai Toshiba-cho, Sachi-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa, Toshiba Research & Development Center Co., Ltd. (56) Reference JP-A-5-301710 (JP, A) JP-A-8 -153665 (JP, A) JP 64-80036 (JP, A) JP 7-153664 (JP, A) Actual flat 3-2646 (JP, U) Actual flat 1-60538 (JP, U) ) Actual Development Sho 61-151333 (JP, U) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/68 B23Q 3/06 303 G03F 7/20 504 G03F 9/00 H01L 21/027
Claims (2)
スクブランクが装着される試料ステージであって、 ステージ基板と、 ステージ基板に対向する基準面を有する基準片、この基
準片を支持する基部、及びこの基部に上下移動自在に係
合され、マスクブランクの周縁部を裏面から支持してマ
スクブランクの表面を基準面に対して押圧する支持ピン
を備え、マスクブランクの一辺に沿って配置された第一
及び第二のクランプ片と、 ステージ基板に対向する基準面を有する基準片、この基
準片を支持する基部、及びこの基部に上下移動自在に係
合され、マスクブランクの周縁部を裏面から支持してマ
スクブランクの表面を基準片に対して押圧する支持ピン
を備え、マスクブランクの前記一辺の対辺に沿って配置
された第三のクランプ片と、 前記各クランプ片を、前記一辺及び前記対辺に対して直
交する方向に、ステージ基板に対して平行に移動させる
第一の駆動手段と、 前記支持ピンを、上下方向に移動させる第二の駆動手段
と、 を備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置用試料ス
テージ。1. A sample stage on which a mask blank is mounted in an electron beam drawing apparatus, the stage substrate, a reference piece having a reference surface facing the stage substrate, a base portion supporting the reference piece, and A support pin that is movably engaged in the vertical direction and that supports the peripheral edge of the mask blank from the back surface and presses the front surface of the mask blank against the reference surface is arranged along one side of the mask blank. The first and second clamp pieces, a reference piece having a reference surface facing the stage substrate, a base for supporting the reference piece, and vertically movable engagement with the base to support the peripheral edge of the mask blank from the back surface. A support pin for pressing the surface of the mask blank against the reference piece, and a third clamp piece arranged along the opposite side of the one side of the mask blank; First driving means for moving each clamp piece parallel to the stage substrate in a direction orthogonal to the one side and the opposite side; and second driving means for moving the support pin in the vertical direction. A sample stage for an electron beam writing apparatus, comprising:
スクブランクが装着される試料ステージであって、 ステージ基板と、 ステージ基板に対向する基準面を有する基準片、この基
準片を支持する基部、及びこの基部に上下移動自在に係
合され、マスクブランクの周縁部を裏面から支持してマ
スクブランクの表面を基準片に対して押圧する支持ピン
を備え、マスクブランクの一辺に沿って配置された第一
及び第二のクランプ片と、 ステージ基板に対向する基準面を有する基準片、この基
準片を支持する基部、及びこの基部に上下移動自在に係
合され、マスクブランクの周縁部を裏面から支持してマ
スクブランクの表面を基準面に対して押圧する支持ピン
を備え、マスクブランクの前記一辺の対辺に沿って配置
された第三のクランプ片と、 ステージ基板の下側に配置され、前記第一及び第二のク
ランプ片の基部を支持し、前記一辺及び前記対辺に対し
て直交する方向に、ステージ基板に対して平行に移動可
能な第一のスライド台と、 ステージ基板の下側に配置され、前記第三のクランプ片
の基部を支持し、前記一辺及び前記対辺に対して直交す
る方向に、ステージ基板に対して平行に移動可能な第二
のスライド台と、 第一及び第二のスライド台の下側に配置され、前記各支
持ピンの基端部を前記各スライド台の移動方向に対して
摺動自在に支持し、ステージ基板に対して垂直方向に移
動可能な支持板と、 を備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置用試料ス
テージ。2. A sample stage on which a mask blank is mounted in an electron beam drawing apparatus, the stage substrate, a reference piece having a reference surface facing the stage substrate, a base portion supporting the reference piece, and A support pin, which is vertically movably engaged with the base and supports the peripheral edge of the mask blank from the back side and presses the surface of the mask blank against the reference piece, is arranged along one side of the mask blank. The first and second clamp pieces, a reference piece having a reference surface facing the stage substrate, a base for supporting the reference piece, and vertically movable engagement with the base to support the peripheral edge of the mask blank from the back surface. A support pin for pressing the surface of the mask blank against the reference surface, and a third clamp piece arranged along the opposite side of the one side of the mask blank; A first substrate disposed on the lower side of the stage substrate, supporting the bases of the first and second clamp pieces, and movable parallel to the stage substrate in a direction orthogonal to the one side and the opposite side. And a slide base that is arranged below the stage substrate, supports the base of the third clamp piece, and is movable in parallel to the stage substrate in a direction orthogonal to the one side and the opposite side. The second slide base and the lower sides of the first and second slide bases are supported, and the base end portions of the support pins are slidably supported in the moving direction of the slide bases, and are mounted on the stage substrate. A sample stage for an electron beam writing apparatus, comprising: a support plate that is vertically movable.
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| JP06335796A JP3368139B2 (en) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | Sample stage for electron beam writing system |
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