JP2901469B2 - Substrate transfer device - Google Patents

Substrate transfer device

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JP2901469B2
JP2901469B2 JP5245914A JP24591493A JP2901469B2 JP 2901469 B2 JP2901469 B2 JP 2901469B2 JP 5245914 A JP5245914 A JP 5245914A JP 24591493 A JP24591493 A JP 24591493A JP 2901469 B2 JP2901469 B2 JP 2901469B2
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喜之 中澤
達文 楠田
郁祥 中谷
康浩 今岡
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板などの円弧
状の外周面を有する基板をカセットなどから取り出し、
基板表面に形成されたフォトレジスト膜やシリコン酸化
膜等の透明薄膜の厚さを光学的に測定するとか、それら
透明薄膜の他に金属薄膜等を含む各種薄膜の線幅を顕微
鏡で拡大した映像を分析することで非接触で測定すると
か、更には、容量−電圧測定法のような物性値を測定す
るといった表面評価装置や検査装置、あるいは、回転塗
布装置のような各種の処理装置などに搬送するために使
用する基板搬送装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention takes out a substrate having an arc-shaped outer peripheral surface such as a semiconductor substrate from a cassette or the like,
Optically measuring the thickness of transparent thin films such as photoresist films and silicon oxide films formed on the substrate surface, or using a microscope to enlarge the line width of various thin films including metal thin films in addition to these transparent thin films It can be measured in a non-contact manner by analyzing the surface, and furthermore, it can be applied to various types of processing equipment such as a surface evaluation device or an inspection device that measures physical properties such as a capacitance-voltage measurement method, or a spin coating device. The present invention relates to a substrate transfer device used for transferring.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の基板搬送装置において基板を搬
送する場合、従来、例えば、実開平2−122306号
公報に開示されるように構成されている。すなわち、こ
の従来例によれば、カセットなどに収容された基板を膜
厚測定用のX−Yテーブル上のZテーブルに搬送する場
合、カセットから取り出した基板を位置決め部に一旦搬
送し、その位置決め部において、基板を当て板に当接さ
せるとともに、基板を保持部材に真空吸着によって吸着
保持させ、更に、センタリング部材などによってセンタ
リングを行った後、別の搬送機構によりZテーブルに搬
送していくように構成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a substrate is transported in a substrate transport apparatus of this type, it is conventionally configured as disclosed in Japanese Utility Model Laid-Open No. 2-122306. That is, according to this conventional example, when a substrate housed in a cassette or the like is transported to a Z table on an XY table for film thickness measurement, the substrate taken out of the cassette is once transported to a positioning unit, and the positioning is performed. In this section, the substrate is brought into contact with the backing plate, the substrate is sucked and held by the holding member by vacuum suction, the centering is performed by a centering member or the like, and then the sheet is transferred to the Z table by another transfer mechanism. Is configured.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
では、当て板によってセンタリングを行うために、位置
決め部に搬送した基板を保持部材に受け渡し、その保持
部材により保持させて基板のセンタリングを行った後
に、保持部材から別の搬送機構に基板を受け渡して所定
の処理部に搬送するように構成しているため、搬送とは
無関係の専用の位置決め部が必要であり、装置全体が大
型化する欠点があった。
However, in the prior art, in order to carry out centering by the backing plate, the substrate conveyed to the positioning portion is delivered to the holding member, and is held by the holding member to perform centering of the substrate. However, since the substrate is transferred from the holding member to another transfer mechanism and transferred to a predetermined processing unit, a dedicated positioning unit irrelevant to the transfer is required, and the disadvantage that the entire apparatus becomes large is disadvantageous. there were.

【0004】そこで、上述のような専用の位置決め部を
不要にして装置全体を小型化するために、特開平4−3
0549号公報に開示されるように、基板を搬送する基
板搬送装置そのものに、基板の位置決めを行う基板整合
手段を備えさせ、基板搬送装置を構成する基板載置具に
基板を載置させた状態で、基板整合手段の当接片を基板
の外縁に当接離間させることにより基板の位置決めを行
うように構成したものも提案されたが、基板搬送装置に
基板整合手段を備えさせるために、その構成が複雑化し
て高価になってしまう欠点があった。
Therefore, in order to reduce the size of the entire apparatus by eliminating the need for the dedicated positioning section as described above, Japanese Patent Laid-Open No. 4-3 is disclosed.
As disclosed in Japanese Patent No. 0549, a state in which a substrate transfer device itself for transferring a substrate is provided with a substrate aligning means for positioning the substrate, and the substrate is mounted on a substrate mounting tool constituting the substrate transfer device. In the meantime, it has been proposed that the substrate is positioned by contacting and separating the contact piece of the substrate alignment means with the outer edge of the substrate.However, in order to provide the substrate transfer device with the substrate alignment means, There was a drawback that the configuration became complicated and expensive.

【0005】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、請求項1に係る発明の基板搬送装置
は、センタリングを行うための専用の位置決め部や装置
を不要にして、装置全体を小型化できるものでありなが
ら安価に構成できるようにすることを目的とし、また、
請求項2に係る発明の基板搬送装置は、センタリングを
行うための制御構成を簡単にできるようにすることを目
的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and the substrate transfer apparatus according to the first aspect of the present invention eliminates the need for a dedicated positioning section or apparatus for performing centering. The purpose is to be able to be configured at a low cost while being able to reduce the size of the whole,
A second object of the present invention is to simplify a control structure for performing centering.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明の基
板搬送装置は、上述のような目的を達成するために、基
板の裏面を載置支持する第1の基板搬送アームを上下方
向に移動可能に設けるとともに、基板受け渡し位置にお
いて前記第1の基板搬送アームに支持された前記基板
受け渡される第2の基板搬送アームを水平方向に移動可
能に設け、前記第1の基板搬送アームに、前記基板の外
周端面に当接する第1の位置決めガイドを付設するとと
もに、基板受け渡し位置における前記第2の基板搬送ア
ームの上方位置に、前記第1の位置決めガイドに対向し
て前記基板の外周端面に当接する第2の位置決めガイド
を設け、かつ、前記第1および第2の位置決めガイドの
いずれか一方を対向方向に遠近変位可能に設け、さら
に、基板を載置支持した前記第1の基板搬送アームを基
板受け渡し位置にまで下降させて基板を第2の基板搬送
アームに受け渡した直後に第1の基板搬送アームの下降
移動を停止させ、続いて前記第1および第2の位置決め
ガイドで基板を挟むことにより、受け渡された前記第2
の基板搬送アーム上で基板の位置決めを行うように構成
する。
Means for Solving the Problems] substrate transfer apparatus of the invention according to claim 1, in order to achieve the above-described object, a first substrate for mounting supporting the back surface of the base <br/> plate conveyance An arm is provided movably in the vertical direction, and the substrate supported by the first substrate transfer arm at the substrate transfer position is
A second substrate transfer arm to be transferred is provided so as to be movable in the horizontal direction, a first positioning guide is provided on the first substrate transfer arm to abut on an outer peripheral end surface of the substrate, and the first substrate transfer arm is provided at the substrate transfer position . A second positioning guide is provided at a position above the second substrate transfer arm and is in contact with the first positioning guide and abuts on the outer peripheral end surface of the substrate, and any one of the first and second positioning guides is provided. or one of them arranged to be perspective displaced in the opposite direction, further
The first substrate transfer arm on which the substrate is placed and supported
Lowers the board to the board transfer position and transports the board to the second board
Immediately after the transfer to the arm, the first substrate transfer arm descends
Stopping the movement, followed by said first and second positioning
By holding the substrate between the guides, the second
Is configured to position the substrate on the substrate transfer arm .

【0007】また、請求項2に係る発明の基板搬送治具
は、上述のような目的を達成するために、請求項1に記
載の第1の位置決めガイドを、第2の位置決めガイドに
対して遠近するように第1の基板搬送アームに相対移動
可能に設けて構成する。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate transfer jig wherein the first positioning guide according to the first aspect is moved relative to the second positioning guide. The first substrate transfer arm is provided so as to be relatively movable so as to be far away.

【0008】[0008]

【作用】請求項1に係る発明の基板搬送装置の構成によ
れば、例えば、カセットや適所から基板を取り出して適
所に基板を搬送するときに、第1の基板搬送アームから
第2の基板搬送アームに受け渡す際に、基板を載置支持
した第1の基板搬送アームを基板受け渡し位置にまで下
降させて基板を第2の基板搬送アームに受け渡した直後
に第1の基板搬送アームを停止させ、続いて第1の基板
搬送アームに付設した第1の位置決めガイドと、基板受
け渡し位置の第2の基板搬送アームの上方位置に設け
第2の位置決めガイドとによって、第2の基板搬送アー
ム上で基板のセンタリングを行い、その基板受け渡しに
伴ってセンタリングを行った基板を第2の基板搬送アー
ムで適所に搬送することができる。
According to the structure of the substrate transfer apparatus of the first aspect of the present invention, for example, when a substrate is taken out of a cassette or an appropriate place and transported to the appropriate place, the second substrate transfer arm is transferred from the first substrate transfer arm. Place and support the substrate when transferring it to the arm
The first substrate transfer arm that has been moved down to the substrate transfer position
Immediately after dropping and transferring the substrate to the second substrate transfer arm
The first substrate transfer arm is stopped, and then a first positioning guide attached to the first substrate transfer arm , and a second positioning guide provided above the second substrate transfer arm at the substrate transfer position The second substrate transfer arm
The centering of the substrate is performed on the system, and the centered substrate can be transferred to an appropriate position by the second substrate transfer arm in accordance with the transfer of the substrate.

【0009】また、請求項2に係る発明の基板搬送装置
の構成によれば、第1の基板搬送アームに付設した第1
の位置決めガイドを、第1の基板搬送アームに対して移
動させ、第1の基板搬送アームに載置支持された基板の
外周端面に第1の位置決めガイドを当接させて基板を押
し込み、固定の第2の位置決めガイドに基板の外周端面
を当接させて基板のセンタリングを行うことができる。
Further, according to the structure of the substrate transfer apparatus of the present invention, the first substrate transfer arm is provided with the first substrate transfer arm.
Is moved relative to the first substrate transfer arm, the first positioning guide is brought into contact with the outer peripheral end surface of the substrate placed and supported on the first substrate transfer arm, and the substrate is pushed in, thereby fixing the substrate. Centering of the substrate can be performed by bringing the outer peripheral end surface of the substrate into contact with the second positioning guide.

【0010】[0010]

【実施例】【Example】

<実施例>次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
<Embodiment> Next, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0011】図1は、本発明に係る基板搬送装置を適用
した、電気的特性を測定する装置の平面図、図2は図1
の側面図であり、台1上に、カセット載置部2、基板搬
送装置3、および、電気的特性を測定する測定ステージ
4が設けられている。
FIG. 1 is a plan view of an apparatus for measuring electrical characteristics to which a substrate transfer apparatus according to the present invention is applied, and FIG.
FIG. 2 is a side view of the first embodiment. On a table 1, a cassette mounting section 2, a substrate transfer device 3, and a measurement stage 4 for measuring electrical characteristics are provided.

【0012】カセット載置部2は、図3の要部の一部切
欠拡大側面図、および、図4の要部の一部切欠拡大平面
図それぞれに示すように、それぞれオリエンテーション
フラットを有する複数個の基板Wを上下方向に多段状に
収納したカセット5を載置して構成されている。カセッ
ト5は、上下方向に所定間隔を隔てて基板嵌入溝6を形
成した溝形成部材7を対向状態で連結して構成され、か
つ、溝形成部材7,7それぞれの奥側に基板Wの外周端
面と当接するテーパ面Fが付設されている。なお、図3
および図4それぞれにおいては、後述する第2の基板搬
送装置9は省略している。
The cassette mounting portion 2 has a plurality of orientation flats as shown in a partially cut-away enlarged side view of a main portion of FIG. 3 and a partially cut-out enlarged plan view of a main portion of FIG. The cassette 5 which accommodates the substrates W in multiple stages in the vertical direction is placed. The cassette 5 is configured by connecting groove forming members 7 having substrate insertion grooves 6 formed at predetermined intervals in a vertical direction in an opposed state, and has an outer periphery of the substrate W on the back side of each of the groove forming members 7. A tapered surface F that is in contact with the end surface is provided. Note that FIG.
4 and FIG. 4, a second substrate transfer device 9 described later is omitted.

【0013】前記基板搬送装置3は、図5の要部の斜視
図に示すように、基板Wをカセット5とカセット載置部
2の下方の基板受け渡し位置とにわたって搬送する第1
の基板搬送装置8と、基板受け渡し位置と測定ステージ
4とにわたって基板Wを搬送する第2の基板搬送装置9
とから構成されている。
As shown in the perspective view of the main part of FIG. 5, the substrate transporting device 3 transports the substrate W between the cassette 5 and the substrate transfer position below the cassette mounting portion 2.
And a second substrate transfer device 9 for transferring the substrate W across the substrate transfer position and the measurement stage 4
It is composed of

【0014】第1の基板搬送装置8は、第1の電動モー
タ10により正逆転されるネジ軸11と一対の第1のガ
イド12,12とによって昇降可能に設けられた第1の
支持体13に、正逆転可能な第2の電動モータ14によ
って往復移動される第1のワイヤー15と第2のガイド
16とによって水平方向に移動可能に第2の支持体17
が設けられ、その第2の支持体17の先端側に、基板W
の外周端面に当接する円弧面18aを有する第1の位置
決めガイド18と基板Wの中央部を含んだ裏面を真空吸
着によって載置支持する第1の基板搬送アーム19とを
設けて構成されている。
The first substrate transfer device 8 is provided with a first support 13 provided so as to be able to ascend and descend by a screw shaft 11 rotated forward and reverse by a first electric motor 10 and a pair of first guides 12 and 12. The second support 17 is movably movable in the horizontal direction by a first wire 15 and a second guide 16 which are reciprocated by a second electric motor 14 which can be rotated forward and backward.
Is provided on the front end side of the second support member 17.
A first positioning guide 18 having an arc surface 18a in contact with the outer peripheral end surface of the substrate W and a first substrate transfer arm 19 for mounting and supporting the back surface including the central portion of the substrate W by vacuum suction are provided. .

【0015】図6の要部の分解斜視図に示すように、第
2の支持体17の先端側に支持ブラケット20が取り付
けられるとともに、その支持ブラケット20に取付プレ
ート21が取り付けられ、取付プレート21の下側に固
定ガイド体22aとバネ受け22bとが取り付けられる
とともに、取付プレート21の上側に、真空吸着孔23
を形成した第1の基板搬送アーム19が取り付けられて
いる。図示しないが、真空吸着孔23には、第1の基板
搬送アーム19、取付プレート21、支持ブラケット2
0および第2の支持体17を通じて真空吸引源が接続さ
れている。
As shown in an exploded perspective view of the main part of FIG. 6, a support bracket 20 is mounted on the tip end side of the second support member 17, and a mounting plate 21 is mounted on the support bracket 20. The fixed guide body 22a and the spring receiver 22b are attached to the lower side of the mounting plate 21.
The first substrate transfer arm 19 formed with is formed. Although not shown, the first substrate transfer arm 19, the mounting plate 21, the support bracket 2
A vacuum suction source is connected through the 0 and second supports 17.

【0016】固定ガイド体22aに対して摺動可能に可
動体24が設けられ、その可動体24とバネ受け22b
との間に圧縮コイルスプリング25,25が介装される
とともに、可動体24に設けた突起26を取付プレート
21に形成した長穴27内に嵌入することにより可動体
24の移動範囲が規制されている。可動体24に、第1
の基板搬送アーム19の上方に位置する状態で前記第1
の位置決めガイド18が取り付けられている。上述の圧
縮コイルスプリング25,25に代えて引っ張りスプリ
ングを用いても良い。第1の位置決めガイド18は、第
1の基板搬送アーム19の上方側において、真空吸着孔
23の位置よりも基部側に位置し、圧縮コイルスプリン
グ25の作用により第1の基板搬送アーム19の先端側
方向に付勢されている。
A movable body 24 is provided slidably with respect to the fixed guide body 22a, and the movable body 24 and the spring receiver 22b are provided.
The compression coil springs 25, 25 are interposed between the mounting plate 21 and the projection 26 provided on the movable body 24 is fitted into an elongated hole 27 formed on the mounting plate 21, whereby the movable range of the movable body 24 is regulated. ing. The movable body 24 has a first
The first position is set above the substrate transfer arm 19 of the first position.
Are attached. A tension spring may be used instead of the compression coil springs 25, 25 described above. The first positioning guide 18 is located above the first substrate transfer arm 19 and closer to the base side than the position of the vacuum suction hole 23, and the distal end of the first substrate transfer arm 19 is operated by the action of the compression coil spring 25. It is biased in the lateral direction.

【0017】圧縮コイルスプリング25,25は、第1
の位置決めガイド18で基板Wの外周端面を押圧する際
において、第2の支持体17による第1の位置決めガイ
ド18の押圧方向への移動量の変動を吸収し、また、個
々の基板Wの外形寸法のばらつきによって基板Wに無理
な力をかけることがないように過大な押圧力を吸収する
ように作用する。
The compression coil springs 25, 25
When the outer peripheral end surface of the substrate W is pressed by the positioning guide 18, the variation in the amount of movement of the first positioning guide 18 in the pressing direction by the second support 17 is absorbed, and the outer shape of each substrate W is reduced. It acts so as to absorb an excessive pressing force so as not to apply an excessive force to the substrate W due to the dimensional variation.

【0018】一方、第2の基板搬送装置9は、図7の斜
視図に示すように、第3の支持体28に、正逆転可能な
第3の電動モータ29によって往復移動される第2のワ
イヤー30と第3のガイド31とによって水平方向に移
動可能に第4の支持体32が設けられ、その第4の支持
体32に、第4の電動モータ33によって回転される偏
芯カム34によって回転される回転体(カムフォロワ)
35と第4のガイド36とによって所定量だけ昇降可能
に第5の支持体37が設けられ、その第5の支持体37
に、基板Wの外周縁を真空吸着によって載置支持する円
弧状の第2の基板搬送アーム38が取り付けられてい
る。第2の基板搬送アーム38は、その先端に、半円の
円弧状であって搬送されるべき基板Wの外周に沿う形状
の吸着部38aを備えており、基板Wの中央部を含んだ
部分で支持する第1の基板搬送アーム19との間で基板
Wを受け渡しする場合に、両方のアームがぶつかること
がないように構成されている。
On the other hand, as shown in the perspective view of FIG. 7, the second substrate transfer device 9 is reciprocated by a third electric motor 29 capable of rotating forward and backward on a third support 28. A fourth support 32 is provided movably in the horizontal direction by the wire 30 and the third guide 31, and the fourth support 32 is provided with an eccentric cam 34 rotated by a fourth electric motor 33. Rotating body (cam follower)
A fifth support 37 is provided so as to be able to ascend and descend by a predetermined amount by the 35 and the fourth guide 36.
An arc-shaped second substrate transfer arm 38 that mounts and supports the outer peripheral edge of the substrate W by vacuum suction is attached thereto. The second substrate transfer arm 38 is provided at its tip with a suction portion 38a having a semicircular arc shape along the outer periphery of the substrate W to be transferred, and including a central portion of the substrate W. When the substrate W is transferred to and from the first substrate transport arm 19 supported by the first and second substrates, the two arms are configured not to collide with each other.

【0019】基板受け渡し位置は、前述のようにカセッ
ト載置部2の下方位置に設定され、前記カセット載置部
2のカセット載置台2aの下面に、基板受け渡し位置の
第2の基板搬送アーム38に近接する位置(詳細は後述
する)に、第1の位置決めガイド18に対向して基板W
の外周端面に当接する円弧面39aを有する第2の位置
決めガイド39が取り付け固定されている。
The substrate transfer position is set at a position below the cassette mounting portion 2 as described above, and the second substrate transfer arm 38 at the substrate transfer position is provided on the lower surface of the cassette mounting table 2a of the cassette mounting portion 2. The substrate W is opposed to the first positioning guide 18 at a position close to
A second positioning guide 39 having an arcuate surface 39a that is in contact with the outer peripheral end surface is fixedly mounted.

【0020】次に、上記基板搬送装置による基板Wの搬
送動作について説明する。先ず、図8の(a)の平面図
に示すように(図3および図4参照)、カセット5から
基板Wを取り出すときには、第1の基板搬送アーム19
を所定の高さまで上昇させた後に水平方向に移動させて
カセット5内に突入させ、第1の位置決めガイド18を
基板Wの外周端面に当接させて押圧力を付与し、基板W
の他方の外周端面を溝形成部材7,7のテーパ面Fに押
圧することにより、その3箇所が接触するように溝形成
部材7,7に対して基板Wを変位し、自ずとセンタリン
グ位置になるように基板Wの位置を調整する。このと
き、第1の位置決めガイド18は、基板Wとの当接と第
1の基板搬送アーム19の前進により、圧縮コイルスプ
リング25を圧縮する方向に変位する。
Next, the operation of transporting the substrate W by the substrate transport apparatus will be described. First, as shown in the plan view of FIG. 8A (see FIGS. 3 and 4), when taking out the substrate W from the cassette 5, the first substrate transfer arm 19 is used.
Is raised to a predetermined height, and then moved in the horizontal direction so as to protrude into the cassette 5. The first positioning guide 18 is brought into contact with the outer peripheral end surface of the substrate W to apply a pressing force to the substrate W.
Is pressed against the tapered surface F of the groove forming members 7, 7 so that the substrate W is displaced relative to the groove forming members 7, 7 so that the three portions come into contact with each other, and the center W is naturally located at the centering position. The position of the substrate W is adjusted as described above. At this time, the first positioning guide 18 is displaced in the direction of compressing the compression coil spring 25 by the contact with the substrate W and the advance of the first substrate transfer arm 19.

【0021】その後に、図8の(b)の平面図に示すよ
うに、第1の位置決めガイド18が基板Wの外周端面か
ら離間するように第1の基板搬送アーム19をカセット
5から抜き出す方向に僅かだけ移動させてから、第1の
基板搬送アーム19が吸引動作を行いつつ僅かだけ上昇
して真空吸着を行って基板Wを載置支持し、しかる後
に、第1の基板搬送アーム19を後退させて基板Wをカ
セット5から抜き出す。
Then, as shown in the plan view of FIG. 8B, the direction in which the first substrate transfer arm 19 is pulled out of the cassette 5 so that the first positioning guide 18 is separated from the outer peripheral end surface of the substrate W. Then, the first substrate transfer arm 19 rises slightly while performing a suction operation, performs vacuum suction, and mounts and supports the substrate W. Thereafter, the first substrate transfer arm 19 is moved. The substrate W is withdrawn and the substrate W is extracted from the cassette 5.

【0022】次いで、図9の(a)の平面図、および、
図9の(b)の一部切欠側面図に示すように、第1の基
板搬送アーム19を第2の基板搬送アーム38の上面付
近の基板受け渡し位置に下降させ、第1の基板搬送アー
ム19による吸着を解除してから更に僅かだけ下降させ
て基板Wを第2の基板搬送アーム38に載置支持させ
る。基板Wは、この時点で第1の基板搬送アーム19の
吸着面から離れ、第2の基板搬送アーム38に移載され
る。
Next, a plan view of FIG.
As shown in a partially cutaway side view of FIG. 9B, the first substrate transfer arm 19 is lowered to a substrate transfer position near the upper surface of the second substrate transfer arm 38, and the first substrate transfer arm 19 is moved downward. Then, the substrate W is placed on the second substrate transfer arm 38 and supported by being lowered slightly further after releasing the suction by the above. At this point, the substrate W separates from the suction surface of the first substrate transfer arm 19 and is transferred to the second substrate transfer arm 38.

【0023】その後、図10の(a)の平面図、およ
び、図10の(b)の一部切欠側面図に示すように、第
1の基板搬送アーム19を第2の基板搬送アーム38側
に移動させ、第1の位置決めガイド18で基板Wの外周
端面を押圧し、基板Wを第2の位置決めガイド39に当
接させ、第1および第2の位置決めガイド18,39で
挟んで位置決めし、基板Wのセンタリングを行う。
Thereafter, as shown in the plan view of FIG. 10A and the partially cutaway side view of FIG. 10B, the first substrate transfer arm 19 is moved to the second substrate transfer arm 38 side. , The outer peripheral end surface of the substrate W is pressed by the first positioning guide 18, the substrate W is brought into contact with the second positioning guide 39, and the substrate W is positioned by being sandwiched between the first and second positioning guides 18, 39. Then, the centering of the substrate W is performed.

【0024】そして、かかる状態で第2の基板搬送アー
ム38が吸引動作を行って基板Wを吸着し、しかる後、
図11の(a)の平面図、および、図11の(b)の一
部切欠側面図に示すように、第1の基板搬送アーム19
を第2の基板搬送アーム38よりも下方の待機位置に下
降させて、基板Wの第1の基板搬送アーム19から第2
の基板搬送アーム38への受け渡し移載を完了する。
Then, in this state, the second substrate transfer arm 38 performs a suction operation to suck the substrate W, and thereafter,
As shown in the plan view of FIG. 11A and the partially cutaway side view of FIG.
Is lowered to the standby position below the second substrate transfer arm 38, and the second substrate transfer arm 19 is moved from the first substrate transfer arm 19 to the second position.
The transfer transfer to the substrate transfer arm 38 is completed.

【0025】そして、図12の(a)の平面図、およ
び、図12の(b)の一部切欠側面図に示すように、位
置決めされた状態の基板Wを載置支持した第2の基板搬
送アーム38を測定ステージ4側に移動させ、開口40
を通じて処理室41内に搬入して基板Wを測定ステージ
4上まで搬送し、測定ステージ4の吸着を開始するとと
もに第2の基板搬送アーム38による吸着を解除してか
ら第2の基板搬送アーム38を下降し、基板Wを測定ス
テージ4上に載置する。
As shown in the plan view of FIG. 12A and the partially cutaway side view of FIG. 12B, the second substrate on which the positioned substrate W is placed and supported. The transfer arm 38 is moved to the measurement stage 4 side, and the opening 40 is moved.
The substrate W is carried into the processing chamber 41 through the substrate, and the substrate W is transported onto the measurement stage 4. The suction of the measurement stage 4 is started and the suction by the second substrate transfer arm 38 is released. And the substrate W is placed on the measurement stage 4.

【0026】その後、図示しないが、第2の基板搬送ア
ーム38を後退させて処理室41外の待機位置まで移動
させるとともに、ドア42によって開口40を閉じ、所
定の測定処理を行う。処理の終了後には、前述の場合と
逆の手順によって処理済み基板をカセット5の所定の位
置に戻すことになる。
Thereafter, although not shown, the second substrate transfer arm 38 is retracted and moved to a standby position outside the processing chamber 41, the opening 40 is closed by the door 42, and a predetermined measurement process is performed. After the processing is completed, the processed substrate is returned to a predetermined position of the cassette 5 by a procedure reverse to that described above.

【0027】なお、本実施例において、第1の基板搬送
アーム19から第2の基板搬送アーム38に基板Wを移
載するときの第1の基板搬送アーム19の下降距離は、
移載後に第1の基板搬送アーム19を第2の位置決めガ
イド39側に移動させたときに、その第2の位置決めガ
イド39と第1の位置決めガイド18との間で基板Wを
挟むことができるだけの距離である。また、第2の位置
決めガイド39は、基板Wが第2の基板搬送アーム38
に載置された状態で、基板Wが第1の位置決めガイド1
8に押し込まれたときに基板Wの外周端面が第2の位置
決めガイド39に当接するように、第2の基板搬送アー
ム38よりも若干高い位置に設けられている。
In this embodiment, the lowering distance of the first substrate transfer arm 19 when transferring the substrate W from the first substrate transfer arm 19 to the second substrate transfer arm 38 is as follows.
When the first substrate transfer arm 19 is moved to the second positioning guide 39 after the transfer, the substrate W can be sandwiched between the second positioning guide 39 and the first positioning guide 18 as much as possible. Is the distance. The second positioning guide 39 is provided so that the substrate W is
The substrate W is placed on the first positioning guide 1
The substrate W is provided at a position slightly higher than the second substrate transfer arm 38 so that the outer peripheral end surface of the substrate W comes into contact with the second positioning guide 39 when the substrate W is pushed into the substrate 8.

【0028】また、上記実施例では第2の位置決めガイ
ド39と第2の基板搬送アーム38とを独立して設け、
第2の位置決めガイド39が固定状態のまま第2の基板
搬送アーム38のみが移動するようにしている。このた
め、例えば、第2の位置決めガイドを第2の基板搬送ア
ームに付設した場合のように、センタリング後第2の基
板搬送アームが基板Wを測定ステージ4等に搬送して載
置した後、測定ステージ4等から退避するために下降す
る際に、第2の位置決めガイドの円弧面で基板Wの外周
端面が擦れるというようなことを防ぐことができる。
In the above embodiment, the second positioning guide 39 and the second substrate transfer arm 38 are provided independently.
Only the second substrate transfer arm 38 moves while the second positioning guide 39 remains fixed. Therefore, for example, as in the case where the second positioning guide is attached to the second substrate transfer arm, after the second substrate transfer arm conveys the substrate W to the measurement stage 4 or the like after centering, When descending to retreat from the measurement stage 4 or the like, it is possible to prevent the outer peripheral end surface of the substrate W from being rubbed by the arc surface of the second positioning guide.

【0029】上記実施例では、第1および第2の基板搬
送アーム19,38それぞれを、真空吸着によって基板
Wを載置支持するように構成しているが、本発明として
は、真空吸着によらずに、静電気によって吸着保持する
いわゆる静電チャック構成を用いるとか、あるいは、吸
着によらずに、単に載置するなど、各種の載置支持構成
を採用できる。
In the above-described embodiment, each of the first and second substrate transfer arms 19 and 38 is configured to place and support the substrate W by vacuum suction. Instead, a so-called electrostatic chuck configuration that sucks and holds by static electricity may be used, or various mounting support structures such as simply mounting without suction may be adopted.

【0030】上記実施例では、第1の基板搬送アーム1
9に、それと相対変位可能に第1の位置決めガイド18
を設け、一方、カセット載置部2の下方に固定状態で第
2の位置決めガイド39を設けているが、本発明として
は、第1の位置決めガイド18を第1の基板搬送アーム
19に固定状態で設け、一方、カセット載置部2の下方
位置に第2の位置決めガイド39をその円弧面が第1の
位置決めガイド18の進行方向に沿って変位可能に設け
るとともに、第1の位置決めガイド18および基板Wに
よって押されたときに第2の位置決めガイド39が後退
変位可能なスペースを確保するように構成しても良い。
In the above embodiment, the first substrate transfer arm 1
9, a first positioning guide 18 which can be relatively displaced therefrom.
The second positioning guide 39 is provided below the cassette mounting portion 2 in a fixed state. However, in the present invention, the first positioning guide 18 is fixed to the first substrate transfer arm 19. On the other hand, a second positioning guide 39 is provided at a position below the cassette mounting portion 2 so that an arc surface thereof can be displaced along the traveling direction of the first positioning guide 18. The second positioning guide 39 may be configured to secure a space in which the second positioning guide 39 can be displaced backward when pressed by the substrate W.

【0031】上記実施例では、第2の基板搬送アーム3
8を、第1の位置決めガイド18による押圧方向と対向
する方向に移動するように構成しているが、その対向方
向に直交する水平方向など、第2の基板搬送アーム38
による基板Wの搬送移動方向は、いづれの方向であって
も良い。
In the above embodiment, the second substrate transfer arm 3
8 is configured to move in a direction opposite to the pressing direction by the first positioning guide 18, but the second substrate transfer arm 38 is arranged in a horizontal direction orthogonal to the opposite direction.
May be any direction.

【0032】本実施例では、第1の基板搬送アーム19
は基板Wの中央部を含んだ裏面を載置支持するようにし
ているが、基板Wの中心部を外れた箇所を載置支持する
ものでも良く、要するに、基板Wの外周縁を載置支持す
る第2の基板搬送アーム38と干渉しない位置で基板W
を載置支持できるように構成するものであれば良い。
In this embodiment, the first substrate transfer arm 19
Is designed to place and support the back surface including the central portion of the substrate W, but may be configured to place and support a portion outside the central portion of the substrate W. The substrate W at a position where it does not interfere with the second substrate transfer arm 38
Any structure can be used as long as it can be placed and supported.

【0033】本発明は、上述のようにオリエンテーショ
ンフラットを有する基板Wの搬送に限らず、例えば、ノ
ッチを有する基板など、要するに、円弧状の外周面を有
する基板を搬送する場合に適用できる。
The present invention is not limited to the transfer of the substrate W having the orientation flat as described above, but can be applied to the transfer of a substrate having an arc-shaped outer peripheral surface, such as a substrate having a notch.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1に係る発
明の基板搬送装置によれば、例えば、カセットや適所か
ら基板を取り出して適所に基板を搬送するときに、第1
の基板搬送アームから第2の基板搬送アームへの受け渡
しにおいて、第1の基板搬送アームに付設した第1の位
置決めガイドと、基板受け渡し位置の第2の基板搬送ア
ームの上方位置に設けた第2の位置決めガイドとによっ
、受け渡された第2の基板搬送アーム上で基板のセン
タリングを行うから、専用の位置決め部が不用で装置全
体を小型化できながら、第1または第2の基板搬送アー
ムにセンタリングを行うための位置決め装置を備えさせ
るといった複雑な構成を採用せずに済み、安価に構成で
きるようになった。
As described above, according to the substrate transport apparatus of the first aspect of the present invention, for example, when a substrate is taken out from a cassette or an appropriate location and transported to the appropriate location, the first
In the transfer from the substrate transfer arm to the second substrate transfer arm, the first positioning guide attached to the first substrate transfer arm and the second positioning guide provided above the second substrate transfer arm at the substrate transfer position. The centering of the substrate is performed on the transferred second substrate transfer arm by the positioning guide of the first or second, so that the first or second substrate can be reduced while eliminating the need for a dedicated positioning section and miniaturizing the entire apparatus. This eliminates the need for adopting a complicated configuration such as providing a positioning device for performing centering on the substrate transfer arm of the present invention, thereby enabling an inexpensive configuration.

【0035】また、例えば、第1の位置決めガイドを第
1の基板搬送アームに対して相対移動できるように構成
し、その第1の位置決めガイドによって基板をカセット
の奥側に押圧して基板のセンタリングを行い、それを第
1の基板搬送アームだけで測定ステージなどに搬送しよ
うとする場合であると、第1の位置決めガイドによる押
圧作用を解除するために、測定ステージの近くや処理室
内にガイドローラなどのカム機構が必要になってパーテ
ィクルの問題が発生するが、請求項1に係る発明の基板
搬送装置によれば、第1および第2の位置決めガイドに
よって位置決めした基板を第2の基板搬送アームに受け
渡すから、上述のようなカム機構を不用にでき、パーテ
ィクル発生の問題を回避できる。
Further, for example, the first positioning guide is configured to be relatively movable with respect to the first substrate transport arm, and the first positioning guide presses the substrate toward the back of the cassette to center the substrate. And when it is to be transferred to the measurement stage or the like using only the first substrate transfer arm, a guide roller is provided near the measurement stage or in the processing chamber in order to release the pressing action by the first positioning guide. However, according to the substrate transport apparatus of the present invention, the substrate positioned by the first and second positioning guides is moved to the second substrate transport arm. Therefore, the above-described cam mechanism can be dispensed with, and the problem of particle generation can be avoided.

【0036】また、請求項2に係る発明の基板搬送装置
によれば、第1の基板搬送アームに付設した第1の位置
決めガイドを、第1の基板搬送アームに対して移動さ
せ、基板の外周端面に当接させて押し込み、固定の第2
の位置決めガイドに基板の外周端面を当接させて基板の
センタリングを行うから、第2の基板搬送アームを基板
受け渡しに際して停止するときに第2の位置決めガイド
を基準とした位置に停止させれば良く、例えば、第1の
位置決めガイドを固定にして第2の位置決めガイドを移
動可能に設ける場合であると、第2の位置決めガイドの
移動に追随して第2の基板搬送アームを移動させるなど
といった制御動作を行わせなければならないのに比べ、
センタリングを行うための制御構成を簡単にできる。
According to the substrate transfer apparatus of the present invention, the first positioning guide attached to the first substrate transfer arm is moved with respect to the first substrate transfer arm, and the outer periphery of the substrate is moved. Press in contact with the end face to fix the second
Since the centering of the substrate is performed by bringing the outer peripheral end surface of the substrate into contact with the positioning guide, the second substrate transfer arm may be stopped at a position based on the second positioning guide when stopping the transfer of the substrate. For example, in the case where the first positioning guide is fixed and the second positioning guide is movably provided, control such as moving the second substrate transfer arm following the movement of the second positioning guide is performed. In contrast to having to perform an action,
A control configuration for performing centering can be simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る基板搬送装置を用いた、電気的特
性を測定する装置の平面図である。
FIG. 1 is a plan view of an apparatus for measuring electrical characteristics using a substrate transfer device according to the present invention.

【図2】図1の側面図である。FIG. 2 is a side view of FIG.

【図3】要部の一部切欠拡大側面図である。FIG. 3 is a partially cutaway enlarged side view of a main part.

【図4】要部の一部切欠拡大平面図である。FIG. 4 is a partially cutaway enlarged plan view of a main part.

【図5】基板搬送装置の斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of the substrate transfer device.

【図6】要部の分解斜視図である。FIG. 6 is an exploded perspective view of a main part.

【図7】第2の基板搬送装置の斜視図である。FIG. 7 is a perspective view of a second substrate transfer device.

【図8】搬送動作を説明する要部の平面図である。FIG. 8 is a plan view of a main part illustrating a transport operation.

【図9】(a)は、搬送動作を説明する要部の平面図、
(b)は、搬送動作を説明する一部切欠側面図である。
FIG. 9A is a plan view of a main part illustrating a transport operation,
(B) is a partially notched side view explaining a conveyance operation.

【図10】(a)は、搬送動作を説明する要部の平面
図、(b)は、搬送動作を説明する一部切欠側面図であ
る。
FIG. 10A is a plan view of a main portion illustrating a transport operation, and FIG. 10B is a partially cutaway side view illustrating the transport operation.

【図11】(a)は、搬送動作を説明する要部の平面
図、(b)は、搬送動作を説明する一部切欠側面図であ
る。
11A is a plan view of a main portion illustrating a transport operation, and FIG. 11B is a partially cutaway side view illustrating the transport operation.

【図12】(a)は、搬送動作を説明する要部の平面
図、(b)は、搬送動作を説明する一部切欠側面図であ
る。
FIG. 12A is a plan view of a main portion illustrating a transport operation, and FIG. 12B is a partially cutaway side view illustrating the transport operation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

18…第1の位置決めガイド 19…第1の基板搬送アーム 38…第2の基板搬送アーム 39…第2の位置決めガイド W…基板 18 First positioning guide 19 First substrate transfer arm 38 Second substrate transfer arm 39 Second positioning guide W Substrate

フロントページの続き (72)発明者 中谷 郁祥 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大 日本スクリーン製造株式会社 洛西工場 内 (72)発明者 今岡 康浩 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大 日本スクリーン製造株式会社 洛西工場 内 (56)参考文献 特開 平5−29438(JP,A) 特開 平4−30549(JP,A) 実開 平3−38636(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/68 B65G 49/07 Continuing from the front page (72) Inventor Ikusho Nakatani 322 Habushishi Furukawacho, Fushimi-ku, Kyoto Nippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Inside the Rakusai Plant Manufacturing Co., Ltd. Rakusai Factory (56) References JP-A-5-29438 (JP, A) JP-A-4-30549 (JP, A) JP-A-3-38636 (JP, U) (58) Field (Int.Cl. 6 , DB name) H01L 21/68 B65G 49/07

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】板の裏面を載置支持する第1の基板搬
送アームを上下方向に移動可能に設けるとともに、基板
受け渡し位置において前記第1の基板搬送アームに支持
された前記基板を受け渡される第2の基板搬送アームを
水平方向に移動可能に設け、前記第1の基板搬送アーム
に、前記基板の外周端面に当接する第1の位置決めガイ
ドを付設するとともに、基板受け渡し位置における前記
第2の基板搬送アームの上方位置に、前記第1の位置決
めガイドに対向して前記基板の外周端面に当接する第2
の位置決めガイドを設け、かつ、前記第1および第2の
位置決めガイドのいずれか一方を対向方向に遠近変位可
能に設け、さらに、基板を載置支持した前記第1の基板
搬送アームを基板受け渡し位置にまで下降させて基板を
第2の基板搬送アームに受け渡した直後に第1の基板搬
送アームの下降移動を停止させ、続いて前記第1および
第2の位置決めガイドで基板を挟むことにより、受け渡
された前記第2の基板搬送アーム上で基板の位置決めを
行うように構成したことを特徴とする基板搬送装置。
With 1. A provided movably first substrate transfer arm that supports placing the back surface of the base plate in the vertical direction, passed the substrate supported by the first substrate transport arm in the substrate delivery position A second substrate transfer arm is provided so as to be movable in the horizontal direction, and the first substrate transfer arm is provided with a first positioning guide abutting on an outer peripheral end surface of the substrate, and the second substrate transfer arm is provided at the substrate transfer position . A second position abutting the outer peripheral end surface of the substrate at a position above the substrate transfer arm in opposition to the first positioning guide;
And the first substrate is provided so that one of the first and second positioning guides can be displaced in near and far directions, and further the substrate is placed and supported.
Lower the transfer arm to the board transfer position and
Immediately after the transfer to the second substrate transfer arm, the first substrate transfer
Stop the lowering movement of the feed arm, and then,
Delivery is performed by sandwiching the substrate between the second positioning guides.
The substrate on the second substrate transfer arm
Substrate transfer apparatus is characterized in that configured to perform.
【請求項2】 請求項1に記載の第1の位置決めガイド
を、前記第2の位置決めガイドに対して遠近するように
第1の基板搬送アームに相対移動可能に設けてある基板
搬送装置。
2. A substrate transfer apparatus, wherein the first positioning guide according to claim 1 is relatively movably provided on a first substrate transfer arm so as to be closer to and away from the second positioning guide.
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