JPH06172021A - 高電圧厚膜回路用アルミナ基板 - Google Patents

高電圧厚膜回路用アルミナ基板

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JPH06172021A
JPH06172021A JP4350110A JP35011092A JPH06172021A JP H06172021 A JPH06172021 A JP H06172021A JP 4350110 A JP4350110 A JP 4350110A JP 35011092 A JP35011092 A JP 35011092A JP H06172021 A JPH06172021 A JP H06172021A
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JP
Japan
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oxide
base plate
fired
alumina
paste
Prior art date
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Pending
Application number
JP4350110A
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English (en)
Inventor
Osamu Sekihara
修 関原
Yasuhiro Tsuruta
靖博 鶴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高電圧厚膜回路用アルミナ基板を提供する。 【構成】 ナトリウム含有率がNa2 O換算で1000
重量ppm以下で、カリウムをカリウム/ナトリウム酸
化物換算重量比で0.16以上6.0以下である点に特
徴がある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、テレビ受像機のフォー
カスコントローラのような直流高電圧駆動の厚膜抵抗回
路形成に使用される高電圧厚膜回路用アルミナ基板に関
する。
【0002】
【従来の技術】電子回路に使用されるアルミナ基板はア
ルミナ粉末をスラリーを経てプレス成型後1400℃以
上の高温度で焼結して得られる。原料アルミナ粉末は通
常アルミナの原料鉱石(ボーキサイト)からバイヤー法
により化学的に精製して製造される。すなわち原料鉱石
ボーキサイトに苛性ソーダを加えアルミン酸ソーダを得
る。これを分解して水酸化アルミニウムを析出させ更に
高温焼成してアルミナ粉末となる。バイヤー法は最も工
業的に確立されたアルミナ製造法であり、比較的低価格
で大量のアルミナ粉末の供給が可能となっている。した
がって、バイヤー法アルミナにはナトリウム(Na)が
Na2 O換算で0.5重量%前後程度含まれる。電子工
業用絶縁セラミック原料としては適していない。
【0003】このためこの用途にはNa低減策が取られ
ている。しかし現在工業的に実施されているNa除去を
もってしてもNa2 O換算で100〜500重量ppm
程度のNaはアルミナ中に残る。アルミナ基板として焼
結された後もこのNaはそのままである。このようなア
ルミナ基板には、以下に述べるような問題があった。
【0004】アルミナ基板に厚膜抵抗回路を形成し直流
の高電圧を印加すると長時間の回路動作により基板温度
が上昇した際基板焼結体中のNaが回路配線にひげ状に
析出する。析出Naは、回路を短絡させたり回路特性を
変えるなどの不具合を生む。こうした不具合の対策とし
てNa含有率を例えばNa2 O換算で50重量ppm以
下とするような低減は現在の工業技術では経済性上不可
能である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記欠点に
鑑み案出されたもので、高電圧駆動化、回路基板の小型
化、抵抗回路の高密度化、回路連続動作の長時間化など
の進むテレビ受像機フォーカスコントローラ回路等の厚
膜抵抗形成用として好適な高電圧厚膜回路用アルミナ基
板を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明のアルミナ基板
は、使用するアルミナ原料粉末として工業的に採用され
ているNa低減技術によってNaの含有率をNa2 O換
算で1000重量ppm以下としたうえで更にK(カリ
ウム)を含有せしむることを特徴とするものである。K
の含有率はNaとの重量比で規定されなければならな
い。すなわち本発明のアルミナ基板はKをカリウム/ナ
トリウム酸化物換算重量比で0.16以上6.0以下と
なるように含有せしむることを特徴とするものである。
【0007】
【作用】酸化物換算でカリウム/ナトリウム重量比が
0.16未満では高電圧駆動時のナトリウムのひげ状析
出物を防止する事は出来ない。該カリウム/ナトリウム
重量比が6.0を越えると、逆にカリウムのひげ状析出
物がナトリウムに替わって発生する場合がある。
【0008】アルミナ原料へのカリウムの添加方法とし
てはバイヤー法によるアルミナ製造時、基板製造のため
のスラリー調合時、いずれでもよい。バイヤー法の途中
での添加は苛性ソーダの一部を水酸化カリウムで置き換
えるなどの方法が適用しやすい。スラリー調合時の添加
方法はK源として例えば炭酸カリウムなどの塩の形態が
よい。
【0009】
【実施例】Na含有率が酸化物換算で1000重量pp
m以下のアルミナ粉末と、MgO,SiO2 ,CaOお
よび炭酸カリウム(K2 CO3 )を焼結体組成でそれぞ
れ表1に示したような組成となるように秤量し、有機溶
媒およびアルミナボールとともにボールミルで粉砕混合
し原料スラリーを調整した。次ぎにこのスラリーを乾燥
させた後100メッシュパスさせてプレス成型用粉末と
した。この粉末を1000kgf/cm2 の圧力で成型
し、大気中で1400〜1600℃の範囲内の焼結温度
で2時間焼結しアルミナ基板を得た。こうして作成した
アルミナ基板についてその一部をアルミナ乳鉢で粉砕し
て炭酸リチウム溶融塩により溶出させた後原子吸光法に
よりNaおよびKを分析した。
【0010】表1に示した基板の成分はAl23 ,S
iO2 ,MgOおよびCaOが秤量値で、NaおよびK
は分析値の酸化物換算値を示す。
【0011】次にこのアルミナ基板にあらかじめ厚膜金
ペーストを焼き付けて電極を設けておいたうえで、抵抗
ペーストR−16K(住友金属鉱山製、面積抵抗値1M
Ω/□)を図1に示すパターンで印刷し溶剤を蒸発させ
た後ピーク温度850℃、ピーク時間9分全焼成サイク
ル60分のベルト式焼成炉で焼成した。更に透明なガラ
スペーストl−9550(住友金属鉱山製)を上記抵抗
パターン上に印刷乾燥後ピーク温度600℃、ピーク時
間9分全焼成サイクル45分のベルト式焼成炉で焼成、
抵抗膜を被覆した。このようにして作成した試験回路を
150℃の恒温槽に挿入し、直流45kVを通電し、5
0時間後取り出して抵抗被膜を10倍の倍率の光学顕微
鏡で観察した。観察結果は、抵抗膜に変化が無いものを
○、抵抗膜にひげ状の析出物のあるものを×と判定し
た。これらの結果をまとめて表1に示す。
【0012】
【表1】
【0013】
【発明の効果】本発明のアルミナ基板は前述の実施例か
ら明らかな如く、高温下で直流高電圧駆動の際に、形成
した抵抗膜にひげの発生の無いことから判断して、回路
の短絡等を伴うことなく高電圧回路の連続長時間の使用
が可能となり、テレビ受像機の長期に渡る信頼性の高い
フォーカスコントロールを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は実施例で用いた試験パターンの書かれた
アルミナ基板を示すものである。
【符号の説明】
1 アルミナ基板 2 金電極 3 抵抗(R−16K)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ナトリウム含有率がNa2 O換算で10
    00重量ppm以下であり、かつカリウムをカリウム/
    ナトリウム酸化物換算重量比で0.16以上6.0以下
    となるように含むことを特徴とするアルミナ基板。
JP4350110A 1992-12-04 1992-12-04 高電圧厚膜回路用アルミナ基板 Pending JPH06172021A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999044266A1 (fr) * 1998-02-27 1999-09-02 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Bougie d'allumage, isolant en alumine pour bougie d'allumage et son procede de production
JPWO2013008919A1 (ja) * 2011-07-14 2015-02-23 株式会社東芝 セラミックス回路基板

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999044266A1 (fr) * 1998-02-27 1999-09-02 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Bougie d'allumage, isolant en alumine pour bougie d'allumage et son procede de production
US6407487B1 (en) 1998-02-27 2002-06-18 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Spark plug, alumina insulator for spark plug, and method of manufacturing the same
US6632381B2 (en) 1998-02-27 2003-10-14 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Production process for alumina based insulator
JPWO2013008919A1 (ja) * 2011-07-14 2015-02-23 株式会社東芝 セラミックス回路基板

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