JPH0616642A - キノリンカルボン酸誘導体の製造方法 - Google Patents
キノリンカルボン酸誘導体の製造方法Info
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- JPH0616642A JPH0616642A JP4175461A JP17546192A JPH0616642A JP H0616642 A JPH0616642 A JP H0616642A JP 4175461 A JP4175461 A JP 4175461A JP 17546192 A JP17546192 A JP 17546192A JP H0616642 A JPH0616642 A JP H0616642A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は抗菌剤として優れた活性を有する
ピリド[3,2,1−ij]−1,3,4−ベンゾオキサジアジ
ン−6−カルボン酸誘導体の合成中間体として有用な
6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキシ−1−メチルアミ
ノ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カル
ボン酸の製造法を提供するものである。 【構成】 式(V): 【化1】 (式中、R1は加水分解または還元で脱離させ得るヒド
ロキシ保護基であり、R2およびR5は低級アルキル基で
あり、R4は低級アルカノイル基または低級アルコキシ
カルボニル基である)で示される化合物を経由すること
を特徴とする、キノリンカルボン酸誘導体中間体の製造
方法。
ピリド[3,2,1−ij]−1,3,4−ベンゾオキサジアジ
ン−6−カルボン酸誘導体の合成中間体として有用な
6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキシ−1−メチルアミ
ノ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カル
ボン酸の製造法を提供するものである。 【構成】 式(V): 【化1】 (式中、R1は加水分解または還元で脱離させ得るヒド
ロキシ保護基であり、R2およびR5は低級アルキル基で
あり、R4は低級アルカノイル基または低級アルコキシ
カルボニル基である)で示される化合物を経由すること
を特徴とする、キノリンカルボン酸誘導体中間体の製造
方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は抗菌剤として優れた活性
を有するピリド[3,2,1−ij]−1,3,4−ベンゾオキ
サジアジン−6−カルボン酸誘導体の合成中間体として
有用な6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキシ−1−メチ
ルアミノ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3
−カルボン酸の製造法に関する。
を有するピリド[3,2,1−ij]−1,3,4−ベンゾオキ
サジアジン−6−カルボン酸誘導体の合成中間体として
有用な6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキシ−1−メチ
ルアミノ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3
−カルボン酸の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来公知のピリド[3,2,1−ij]−1,
3,4−ベンゾオキサジアジン−6−カルボン酸誘導体
の合成法は、2,3−ジフルオロ−6−ニトロフェノー
ルから9工程を経て6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキ
シ−1−メチルアミノ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ
キノリン−3−カルボン酸を合成し、これにパラホルム
アルデヒドを反応させベンゾオキサジアジン環を形成
し、ついで1−メチルピペラジンを反応させる方法であ
る(例えば、ヨーロッパ特許出願第259804号)。
一方、2,3,4,5−テトラフルオロ安息香酸から2−
(2,3,4,5−テトラフルオロベンゾイル)−3−エト
キシアクリル酸エチルを経て6工程で6,7,8−トリフ
ルオロ−1−メチルアミノ−1,4−ジヒドロ−4−オ
キソキノリン−3−カルボン酸エチルを合成し、ついで
1−メチルピペラジンと反応させた後、キノリン環の8
位のフッ素をベンジルアルコールと置換し、脱ベンジル
化後加水分解して6−フルオロ−8−ヒドロキシ−1−
メチルアミノ−7−(4−メチルピペラジニル)−1,4
−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸を得
て、これにパラホルムアルデヒドを反応させ、9−フル
オロ−2,3−ジヒドロ−3−メチル−10−(4−メチ
ル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−7H−ピリド
[3,2,1−ij][1,3,4]ベンゾオキサシアジン−6−
カルボン酸を合成する方法が知られている(リサーチ・
ディスクロージャー(例えば、Res.Discl.)1988
年、548頁)。
3,4−ベンゾオキサジアジン−6−カルボン酸誘導体
の合成法は、2,3−ジフルオロ−6−ニトロフェノー
ルから9工程を経て6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキ
シ−1−メチルアミノ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ
キノリン−3−カルボン酸を合成し、これにパラホルム
アルデヒドを反応させベンゾオキサジアジン環を形成
し、ついで1−メチルピペラジンを反応させる方法であ
る(例えば、ヨーロッパ特許出願第259804号)。
一方、2,3,4,5−テトラフルオロ安息香酸から2−
(2,3,4,5−テトラフルオロベンゾイル)−3−エト
キシアクリル酸エチルを経て6工程で6,7,8−トリフ
ルオロ−1−メチルアミノ−1,4−ジヒドロ−4−オ
キソキノリン−3−カルボン酸エチルを合成し、ついで
1−メチルピペラジンと反応させた後、キノリン環の8
位のフッ素をベンジルアルコールと置換し、脱ベンジル
化後加水分解して6−フルオロ−8−ヒドロキシ−1−
メチルアミノ−7−(4−メチルピペラジニル)−1,4
−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸を得
て、これにパラホルムアルデヒドを反応させ、9−フル
オロ−2,3−ジヒドロ−3−メチル−10−(4−メチ
ル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−7H−ピリド
[3,2,1−ij][1,3,4]ベンゾオキサシアジン−6−
カルボン酸を合成する方法が知られている(リサーチ・
ディスクロージャー(例えば、Res.Discl.)1988
年、548頁)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記二つの合成法は何
れも工程数が多く、工業的に生産するために困難な点が
あった。例えば、8−ベンジルオキシ−6,7−ジフル
オロ−4−ヒドロキシキノリン−3−カルボン酸エチル
から1−アミノ−8−ベンジルオキシ−6,7−ジフル
オロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カ
ルボン酸エチルを合成するにはo−(2,4−ジニトロフ
ェニル)ヒドロキシルアミンのような工業的に入手し難
い原料を必要とする短所がある。
れも工程数が多く、工業的に生産するために困難な点が
あった。例えば、8−ベンジルオキシ−6,7−ジフル
オロ−4−ヒドロキシキノリン−3−カルボン酸エチル
から1−アミノ−8−ベンジルオキシ−6,7−ジフル
オロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カ
ルボン酸エチルを合成するにはo−(2,4−ジニトロフ
ェニル)ヒドロキシルアミンのような工業的に入手し難
い原料を必要とする短所がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らはピリド[3,
2,1−ij]−1,3,4−ベンゾオキサジアジン誘導体の
工業的に有利な製造法を開発すべく種々研究を重ねた結
果、2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸
から得られる3−ヒドロキシ基を保護した安息香酸誘導
体から6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキシ−1−メチ
ルアミノ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3
−カルボン酸を合成する方法を完成したのである。
2,1−ij]−1,3,4−ベンゾオキサジアジン誘導体の
工業的に有利な製造法を開発すべく種々研究を重ねた結
果、2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸
から得られる3−ヒドロキシ基を保護した安息香酸誘導
体から6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキシ−1−メチ
ルアミノ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3
−カルボン酸を合成する方法を完成したのである。
【0005】本発明の要旨は 工程A 式(I):
【化12】 (式中、R1は加水分解または還元で脱離させ得る保護
基であり、Xはハロゲン基である)で示される化合物
と、式(II): R2OOCCH=CH−N(R3)2 (II) (式中、R2およびR3は低級アルキル基である)で示さ
れる化合物を反応させて、式(III):
基であり、Xはハロゲン基である)で示される化合物
と、式(II): R2OOCCH=CH−N(R3)2 (II) (式中、R2およびR3は低級アルキル基である)で示さ
れる化合物を反応させて、式(III):
【化13】 で示される化合物を得、 工程B これを、式(IV):
【化14】 (式中、R4は低級アルカノイル基または低級アルコシ
カルボニル基であり、R5は低級アルキル基である。)
で示される化合物と反応させ、式(V):
カルボニル基であり、R5は低級アルキル基である。)
で示される化合物と反応させ、式(V):
【化15】 で示される化合物を得、 工程C ついでこれを塩基と処理し、式(VI):
【化16】 で示される化合物を得、 工程D ついで保護基を加水分解または還元して脱離させ、式(V
II):
II):
【化17】 (式中、R2'はHまたはR2である)で示される化合物
を得ることを特徴とする、キノリンカルボン酸誘導体、
6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキシ−1−メチルアミ
ノ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カル
ボン酸の製造方法、製造工程の中間体式(V)で示され
る化合物の製造方法および同じく中間体式(III)およ
び式(V)で示される化合物である。
を得ることを特徴とする、キノリンカルボン酸誘導体、
6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキシ−1−メチルアミ
ノ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−3−カル
ボン酸の製造方法、製造工程の中間体式(V)で示され
る化合物の製造方法および同じく中間体式(III)およ
び式(V)で示される化合物である。
【0006】式中の定義において、低級の語は特に定め
のないかぎり、炭素数1ないし6個の基を表すために用
いる。低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等の
炭素原子数1−6個のアルキル基が含まれ、好ましくは
メチル、エチル、プロピル、イソプロピルである。低級
アルカノイルは上記の低級アルキルの1位が酸化されて
−CO−となったものを含む。
のないかぎり、炭素数1ないし6個の基を表すために用
いる。低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等の
炭素原子数1−6個のアルキル基が含まれ、好ましくは
メチル、エチル、プロピル、イソプロピルである。低級
アルカノイルは上記の低級アルキルの1位が酸化されて
−CO−となったものを含む。
【0007】低級アルコキシとしては、上記の低級アル
キルの1位に−O−が結合したものが含まれる。ハロゲ
ンとしては、ふっ素、塩素、臭素およびよう素が含まれ
る。
キルの1位に−O−が結合したものが含まれる。ハロゲ
ンとしては、ふっ素、塩素、臭素およびよう素が含まれ
る。
【0008】加水分解または還元で脱離させ得る保護基
としては、例えば加水分解で脱離し得る保護基として
は、低級アルカノイル基であるホルミル基、アセチル基
またはベンゾイル基、還元で脱離し得る保護基として
は、ベンジル基などが適当である。これらのベンゼン環
上にニトロ基、低級アルコキシ基などの置換基があって
もよい。
としては、例えば加水分解で脱離し得る保護基として
は、低級アルカノイル基であるホルミル基、アセチル基
またはベンゾイル基、還元で脱離し得る保護基として
は、ベンジル基などが適当である。これらのベンゼン環
上にニトロ基、低級アルコキシ基などの置換基があって
もよい。
【0009】本発明に用いる出発原料はEPA/027
1275に記載の方法により容易に製造される2,4,5
−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸から公知の方
法によりヒドロキシル基を保護すればよい(以下、保護
安息香酸と略称する)。例えば2,4,5−トリフルオロ
−3−ヒドロキシ安息香酸を無水酢酸と加熱すると3−
アセトキシ−2,4,5−トリフルオロ安息香酸が得られ
る。また、2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安
息香酸をベンジル化して2,4,5−トリフルオロ−3−
ベンジルオキシ安息香酸を得ることが出来る。
1275に記載の方法により容易に製造される2,4,5
−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸から公知の方
法によりヒドロキシル基を保護すればよい(以下、保護
安息香酸と略称する)。例えば2,4,5−トリフルオロ
−3−ヒドロキシ安息香酸を無水酢酸と加熱すると3−
アセトキシ−2,4,5−トリフルオロ安息香酸が得られ
る。また、2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安
息香酸をベンジル化して2,4,5−トリフルオロ−3−
ベンジルオキシ安息香酸を得ることが出来る。
【0010】式(I)の化合物の酸ハライドの部分は、
ブロミドまたはクロリドが適しており、特に酸クロリド
が好適であり、酸クロリドは通常用いられる方法によ
り、塩化チオニル、三塩化リンなどのハロゲン化剤と処
理することにより得られる、例えば、保護基としてアセ
チル基を用いる場合は、3−アセトキシ−2,4,5−ト
リフルオロ安息香酸を塩化チオニルと加温することによ
り3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロベンゾイル
クロリドが得られる。
ブロミドまたはクロリドが適しており、特に酸クロリド
が好適であり、酸クロリドは通常用いられる方法によ
り、塩化チオニル、三塩化リンなどのハロゲン化剤と処
理することにより得られる、例えば、保護基としてアセ
チル基を用いる場合は、3−アセトキシ−2,4,5−ト
リフルオロ安息香酸を塩化チオニルと加温することによ
り3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロベンゾイル
クロリドが得られる。
【0011】本発明の化合物は下記に説明する製造方法
によって製造することができる。 工程A 式(I)で示される保護安息香酸ハロゲン化物と式(II)で
示される3−(N,N−ジアルキルアミノ)−アクリル酸
エステルの反応は、例えばトリエチルアミンのような塩
基の存在下に0℃〜60℃で、好ましくは5〜10℃で
行われる。反応溶媒は酢酸エチル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどがよい。反応終了後、生成した塩基
のハロゲン化水素酸塩を除き、濃縮すると3−(N,N−
ジアルキルアミノ)−2−保護オキシベンゾイル−アク
リル酸エステル(III)が得られる。
によって製造することができる。 工程A 式(I)で示される保護安息香酸ハロゲン化物と式(II)で
示される3−(N,N−ジアルキルアミノ)−アクリル酸
エステルの反応は、例えばトリエチルアミンのような塩
基の存在下に0℃〜60℃で、好ましくは5〜10℃で
行われる。反応溶媒は酢酸エチル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどがよい。反応終了後、生成した塩基
のハロゲン化水素酸塩を除き、濃縮すると3−(N,N−
ジアルキルアミノ)−2−保護オキシベンゾイル−アク
リル酸エステル(III)が得られる。
【0012】工程B 3−(N,N−ジアルキルアミノ)−2−保護オキシベ
ンゾイル−アクリル酸エステル(III)にN−アミノ−
N(−R4)(−R5)(IV)を0〜50℃、好ましくは
0〜20℃、さらに好ましくは5〜10℃で反応させ
て、2−保護オキシベンゾイル−3−(N2−R4−N2−
R5−ヒドラジノ)アクリル酸エステル(V)を得る。反
応溶媒は極性溶媒、非極性溶媒を問わないが、反応は、
例えばメタノール、エタノールなどの低級アルコール、
酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタン、ジ
メチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド
(DMSO)などの溶媒中で行う。メタノール、エタノ
ールなど低級アルコールが好適である。
ンゾイル−アクリル酸エステル(III)にN−アミノ−
N(−R4)(−R5)(IV)を0〜50℃、好ましくは
0〜20℃、さらに好ましくは5〜10℃で反応させ
て、2−保護オキシベンゾイル−3−(N2−R4−N2−
R5−ヒドラジノ)アクリル酸エステル(V)を得る。反
応溶媒は極性溶媒、非極性溶媒を問わないが、反応は、
例えばメタノール、エタノールなどの低級アルコール、
酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタン、ジ
メチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド
(DMSO)などの溶媒中で行う。メタノール、エタノ
ールなど低級アルコールが好適である。
【0013】工程C 2−保護オキシベンゾイル−3−(N2−R4−N2−R5
−ヒドラジノ)−アクリル酸エステル(V)をキノリン
カルボン酸誘導体(VI)に導くが、この反応は炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、フッ化ナ
トリウムなどの塩基を用いてアルコール類、エーテル、
アセトニトリル、DMF、DMSO、トルエン、キシレ
ンなどの溶媒中で実施することができる。反応温度は低
温でもよいが、0〜200℃程度までが望ましく、好ま
しくは50〜溶媒の還流温度中で、例えば1〜数十時間
反応させるのが好適である。
−ヒドラジノ)−アクリル酸エステル(V)をキノリン
カルボン酸誘導体(VI)に導くが、この反応は炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、フッ化ナ
トリウムなどの塩基を用いてアルコール類、エーテル、
アセトニトリル、DMF、DMSO、トルエン、キシレ
ンなどの溶媒中で実施することができる。反応温度は低
温でもよいが、0〜200℃程度までが望ましく、好ま
しくは50〜溶媒の還流温度中で、例えば1〜数十時間
反応させるのが好適である。
【0014】工程D 上記で得られたキノリンカルボン酸誘導体(VI)につい
て、加水分解され得る保護基は、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの塩基や塩酸、酢酸などの酸を
用いて、水、水−アルコール類混液、水−酢酸混液など
の溶媒中で、室温〜溶媒の還流の沸点付近の温度で加水
分解するか、または還元により脱離させ得る保護基は液
体NH3中Naによる還元等の手法により脱保護する。加
水分解による場合は、同時にエステルも加水分解されて
酸に変換する。還元による場合はエステルを例えばアル
カリで加水分解して、6,7−ジフルオロ−8−ヒドロ
キシ−1−メチルアミノ−1,4−ジヒドロ−4−オキ
ソキノリン−3−カルボン酸を得る。このものは公知の
方法(例えばヨーロッパ特許出願第259804号)に
よりピリド[3,2,1−ij]−1,3,4−ベンゾオキサジ
アジン−6−カルボン酸に誘導することが出来る。
て、加水分解され得る保護基は、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの塩基や塩酸、酢酸などの酸を
用いて、水、水−アルコール類混液、水−酢酸混液など
の溶媒中で、室温〜溶媒の還流の沸点付近の温度で加水
分解するか、または還元により脱離させ得る保護基は液
体NH3中Naによる還元等の手法により脱保護する。加
水分解による場合は、同時にエステルも加水分解されて
酸に変換する。還元による場合はエステルを例えばアル
カリで加水分解して、6,7−ジフルオロ−8−ヒドロ
キシ−1−メチルアミノ−1,4−ジヒドロ−4−オキ
ソキノリン−3−カルボン酸を得る。このものは公知の
方法(例えばヨーロッパ特許出願第259804号)に
よりピリド[3,2,1−ij]−1,3,4−ベンゾオキサジ
アジン−6−カルボン酸に誘導することが出来る。
【0015】下記の参考例および実施例により本発明の
化合物の製造方法を具体的に説明するが、これらに限定
されるものではない。 参考例1 3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロ安息香酸の製
造 2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸5
7.6gに無水酢酸150mlを加え、130〜135℃に
て3時間加熱した。減圧濃縮後、残分に水100mlを加
え分散し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチルを留去
後、残分にトルエンを加えて析晶させ、3−アセトキシ
−2,4,5−トリフルオロ安息香酸を濾取した。54.
8g(78.1%) mp 130〜141℃ IR(KBr) 1690cm-1 1 H NMR δ 2.45(3H,s,−COCH3) 7.40〜8.00(1H,m,6H) 9.90(1H,s,−COOH)
化合物の製造方法を具体的に説明するが、これらに限定
されるものではない。 参考例1 3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロ安息香酸の製
造 2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸5
7.6gに無水酢酸150mlを加え、130〜135℃に
て3時間加熱した。減圧濃縮後、残分に水100mlを加
え分散し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチルを留去
後、残分にトルエンを加えて析晶させ、3−アセトキシ
−2,4,5−トリフルオロ安息香酸を濾取した。54.
8g(78.1%) mp 130〜141℃ IR(KBr) 1690cm-1 1 H NMR δ 2.45(3H,s,−COCH3) 7.40〜8.00(1H,m,6H) 9.90(1H,s,−COOH)
【0016】参考例2 3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロベンゾイルク
ロリドの合成 3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロ安息香酸5
4.8gに酢酸エチル150ml、ジメチルホルムアミド
0.24gを加え加温溶解し、35.7gの塩化チオニルを
滴下した。3時間加熱還流後、減圧濃縮して油状の3−
アセトキシ−2,4,5−トリフルオロベンゾイルクロリ
ド60.8gを得た。1 H NMR δ 2.40(3H,s,−COCH3) 7.45−8.00(1H,m,6−H)
ロリドの合成 3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロ安息香酸5
4.8gに酢酸エチル150ml、ジメチルホルムアミド
0.24gを加え加温溶解し、35.7gの塩化チオニルを
滴下した。3時間加熱還流後、減圧濃縮して油状の3−
アセトキシ−2,4,5−トリフルオロベンゾイルクロリ
ド60.8gを得た。1 H NMR δ 2.40(3H,s,−COCH3) 7.45−8.00(1H,m,6−H)
【0017】実施例1 2−(3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロベンゾ
イル)−3−(N,N−ジメチル−アミノ)アクリル酸エチ
ルの合成 3−(N,N−ジメチルアミノ)−アクリル酸エチル33.
5g、トリエチルアミン24.9gおよび酢酸エチル12
0ml中に15℃以下で3−アセトキシ−2,4,5−ト
リフルオロベンゾイルクロリドを滴下した。室温で5時
間撹拌後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾別し、
濾液を減圧濃縮して、2−(3−アセトキシ−2,4,5
−トリフルオロベンゾイル)−3−(N,N−ジメチルア
ミノ)−アクリル酸エチル90.0gを得た。1 H NMR δ 0.95(3H,t,−CH2CH3) 2.47(3H,s,−COCH3) 3.00(6H,s,CH3) 3.85(2H,q,−CH 2−CH3) 6.95−7.50(1H,m,6−H) 7.55(1H,s,−CH)
イル)−3−(N,N−ジメチル−アミノ)アクリル酸エチ
ルの合成 3−(N,N−ジメチルアミノ)−アクリル酸エチル33.
5g、トリエチルアミン24.9gおよび酢酸エチル12
0ml中に15℃以下で3−アセトキシ−2,4,5−ト
リフルオロベンゾイルクロリドを滴下した。室温で5時
間撹拌後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾別し、
濾液を減圧濃縮して、2−(3−アセトキシ−2,4,5
−トリフルオロベンゾイル)−3−(N,N−ジメチルア
ミノ)−アクリル酸エチル90.0gを得た。1 H NMR δ 0.95(3H,t,−CH2CH3) 2.47(3H,s,−COCH3) 3.00(6H,s,CH3) 3.85(2H,q,−CH 2−CH3) 6.95−7.50(1H,m,6−H) 7.55(1H,s,−CH)
【0018】実施例2 2−(3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロベンゾ
イル)−3−(2−ホルミル−2−メチルヒドラジノ)ア
クリル酸エチル 2−(3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロベンゾ
イル)−3−(N,N−ジメチルアミノ)アクリル酸エチル
90.0g、メタノール230ml中にN−アミノ−N−メ
チルホルムアミド21.1gと濃塩酸23.4gを10℃以
下で滴下した。滴下終了後5℃で48時間撹拌し、水1
70mlを加えて析出した結晶を濾取し、含水メタノール
で洗浄した。収量:58.5g mp 88−97℃ IR 1690cm-1 1 H NMR δ 1.10(3H,t,−CH2 CH 3) 2.40(3H,s,−COCH 3)3.25(3H,s,CH3) 4.07(2H,q,−CH 2CH3) 6.90〜7.60(1H,m,6H) 8.05,8.30(1H,s,−CHO,−CH) 11.63(1H brs,−NH)
イル)−3−(2−ホルミル−2−メチルヒドラジノ)ア
クリル酸エチル 2−(3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロベンゾ
イル)−3−(N,N−ジメチルアミノ)アクリル酸エチル
90.0g、メタノール230ml中にN−アミノ−N−メ
チルホルムアミド21.1gと濃塩酸23.4gを10℃以
下で滴下した。滴下終了後5℃で48時間撹拌し、水1
70mlを加えて析出した結晶を濾取し、含水メタノール
で洗浄した。収量:58.5g mp 88−97℃ IR 1690cm-1 1 H NMR δ 1.10(3H,t,−CH2 CH 3) 2.40(3H,s,−COCH 3)3.25(3H,s,CH3) 4.07(2H,q,−CH 2CH3) 6.90〜7.60(1H,m,6H) 8.05,8.30(1H,s,−CHO,−CH) 11.63(1H brs,−NH)
【0019】実施例3 8−アセトキシ−6,7−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ
−1−(N−メチルホルムアミド)−4−オキソキノリン
−3−カルボン酸エチルの合成 2−(3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロベンゾ
イル)−3−(2−ホルミル−2−メチルヒドラジノ)ア
クリル酸エチル58.5g、フッ化ナトリウム12.6gお
よびトルエン290mlを90°〜95℃に1時間加熱し
た。冷後析出した結晶を濾取し、クロロホルム750ml
に溶かし、不溶物を濾去した。濾液を濃縮し、メタノー
ル300mlを加えて析出した結晶を濾取した。 40g mp 200−205℃ IR 1685cm-1 1 H NMR δ 1.36(3H,t,CH2−CH 3) 2.40(3H,s,−COCH3) 3.42(3H,s,−CH3)4.30(2H,−CH 2CH3) 7.80〜8.25(1H,m,6H) 8.26〜8.42(1H,s,−CHO,−CH)
−1−(N−メチルホルムアミド)−4−オキソキノリン
−3−カルボン酸エチルの合成 2−(3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロベンゾ
イル)−3−(2−ホルミル−2−メチルヒドラジノ)ア
クリル酸エチル58.5g、フッ化ナトリウム12.6gお
よびトルエン290mlを90°〜95℃に1時間加熱し
た。冷後析出した結晶を濾取し、クロロホルム750ml
に溶かし、不溶物を濾去した。濾液を濃縮し、メタノー
ル300mlを加えて析出した結晶を濾取した。 40g mp 200−205℃ IR 1685cm-1 1 H NMR δ 1.36(3H,t,CH2−CH 3) 2.40(3H,s,−COCH3) 3.42(3H,s,−CH3)4.30(2H,−CH 2CH3) 7.80〜8.25(1H,m,6H) 8.26〜8.42(1H,s,−CHO,−CH)
【0020】実施例4 6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキシ−1,4−ジヒドロ
−1−メチルアミノ−4−オキソ−キノリン−3−カル
ボン酸の合成 (i) 8−アセトキシ−6,7−ジフルオロ−1,4−ジ
ヒドロ−1−(N−メチルホルムアミド)−4−オキソキ
ノリン−3−カルボン酸エチル40gを10%水酸化ナ
トリウム200ml中40〜45℃で処理し、酢酸で中和
し、析出した結晶を濾取した。 (ii) 8−アセトキシ−6,7−ジフルオロ−1,4−ジ
ヒドロ−1−(N−メチルホルムアミド)−4−オキソキ
ノリン−3−カルボン酸エチル4.0gを90%酢酸16
gと濃塩酸2.0g中で90〜95℃で5時間加水分解し
た後、水8mlを加え析出した結晶を濾取した。結晶を
水、エタノールで洗浄し、乾燥し、2.8gの目的物であ
る6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキシ−1,4−ジヒド
ロ−1−メチルアミノ−4−オキソキノリン−3−カル
ボン酸を得た。収率95% mp 255−257℃(分解) IR 1720cm-1付近 H1NMR (DMSO−d6) δ 3.05(3H,s,−CH3)7.30−7.65(1H,
m,6−H) 8.90(1H,s,2−H)14.50−8.90(2H,1
H×2)
−1−メチルアミノ−4−オキソ−キノリン−3−カル
ボン酸の合成 (i) 8−アセトキシ−6,7−ジフルオロ−1,4−ジ
ヒドロ−1−(N−メチルホルムアミド)−4−オキソキ
ノリン−3−カルボン酸エチル40gを10%水酸化ナ
トリウム200ml中40〜45℃で処理し、酢酸で中和
し、析出した結晶を濾取した。 (ii) 8−アセトキシ−6,7−ジフルオロ−1,4−ジ
ヒドロ−1−(N−メチルホルムアミド)−4−オキソキ
ノリン−3−カルボン酸エチル4.0gを90%酢酸16
gと濃塩酸2.0g中で90〜95℃で5時間加水分解し
た後、水8mlを加え析出した結晶を濾取した。結晶を
水、エタノールで洗浄し、乾燥し、2.8gの目的物であ
る6,7−ジフルオロ−8−ヒドロキシ−1,4−ジヒド
ロ−1−メチルアミノ−4−オキソキノリン−3−カル
ボン酸を得た。収率95% mp 255−257℃(分解) IR 1720cm-1付近 H1NMR (DMSO−d6) δ 3.05(3H,s,−CH3)7.30−7.65(1H,
m,6−H) 8.90(1H,s,2−H)14.50−8.90(2H,1
H×2)
Claims (4)
- 【請求項1】 式(I): 【化1】 (式中、R1は加水分解または還元で脱離させ得るヒド
ロキシ保護基であり、Xはハロゲンである)で示される
化合物と、式: R2OOCCH=CH−N(R3)2 (II) (式中、R2およびR3は低級アルキル基である)で示さ
れる化合物を反応させて、式(III): 【化2】 で示される化合物を得、これを、式(IV): 【化3】 (式中、R4は低級アルカノイル基または低級アルコキ
シカルボニル基であり、R5は低級アルキル基である)
で示される化合物と反応させ、式(V): 【化4】 で示される化合物を得、ついで塩基と処理し、式(V
I): 【化5】 で示される化合物を得、ついで保護基を加水分解または
還元して脱離させ、式(VII): 【化6】 (式中、R2'はHまたはR2である)で示される化合物
を得ることを特徴とするキノリンカルボン酸誘導体の製
造方法。 - 【請求項2】 式(III): 【化7】 (式中、R1、R2およびR3は、請求項1におけると同
じ意味である)で示される化合物を、式(VIII): 【化8】 (式中、R4は低級アルカノイル基または低級アルコキ
シカルボニル基である)で示される化合物と反応させ、
式(IX): 【化9】 で示される化合物を得ることを特徴とする、キノリンカ
ルボン酸誘導体中間体の製造方法。 - 【請求項3】 式(III): 【化10】 (式中、R1、R2およびR3は請求項1におけると同じ
意味である)で示される化合物。 - 【請求項4】 式(IX): 【化11】 (式中、R1、R2およびR4は請求項1におけると同じ
意味である)で示される化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4175461A JPH0616642A (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | キノリンカルボン酸誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4175461A JPH0616642A (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | キノリンカルボン酸誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0616642A true JPH0616642A (ja) | 1994-01-25 |
Family
ID=15996475
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4175461A Pending JPH0616642A (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | キノリンカルボン酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0616642A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6835848B1 (en) | 2000-03-07 | 2004-12-28 | Ranbaxy Laboratories Limited | One-pot synthesis of alkyl 3-cyclopropylamino-2-[2,4-dibromo-3-(difluromethoxy) benzoyl]-2-propenoate as a useful intermediate for antibacterial quinolone medicaments |
CN110713495A (zh) * | 2018-07-11 | 2020-01-21 | 浙江昌海制药有限公司 | 氧氟环合酯或左氧氟环合酯制备工艺的改进方法 |
-
1992
- 1992-07-02 JP JP4175461A patent/JPH0616642A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6835848B1 (en) | 2000-03-07 | 2004-12-28 | Ranbaxy Laboratories Limited | One-pot synthesis of alkyl 3-cyclopropylamino-2-[2,4-dibromo-3-(difluromethoxy) benzoyl]-2-propenoate as a useful intermediate for antibacterial quinolone medicaments |
EP1278717A4 (en) * | 2000-03-07 | 2005-06-08 | Ranbaxy Lab Ltd | SINGLE ALKYL 3-CYCLOPROPYLAMINO-2- 2,4-DIBROMO-3- (DIFLUOROMETHOXY) BENZOYL] -2-PROPENOATE SYNTHESIS AS INTERMEDIATE USEFUL FOR QUINOLONE ANTIBACTERIAL DRUGS |
CN110713495A (zh) * | 2018-07-11 | 2020-01-21 | 浙江昌海制药有限公司 | 氧氟环合酯或左氧氟环合酯制备工艺的改进方法 |
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