JPH06166181A - インクジェット記録ヘッド、該記録ヘッドを備えたインクジェット記録装置及び該記録ヘッドの製造方法 - Google Patents
インクジェット記録ヘッド、該記録ヘッドを備えたインクジェット記録装置及び該記録ヘッドの製造方法Info
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Abstract
で、ヘッドの長尺化が図れ、使用インク種類の緩和が達
成されるへッド用基板とノズル壁との強固な密着接合状
態を達成する。 【構成】 発熱抵抗体2と発熱抵抗体2に電気的に接続
された電極3とが配され、さらに発熱抵抗体2と電極3
を覆うように第1の保護層4と第2の保護層5とが順に
積層されて構成された基板8のノズル壁12との接着部
分にある第2の保護層5が、電極3の段差部分が少なく
とも第2の保護層5によって覆われた状態となるように
一部切欠部11を有している。
Description
を熱エネルギーを利用して、吐出口から吐出して記録を
行うインクジェット記録ヘッドのへッド用保護膜形状を
改良し、ノズル形成壁と基板との密着性を改善したイン
クジェット記録ヘッド及び該ヘッドを備えたインクジェ
ット記録装置に関する。また、本発明は前記インクジェ
ット記録ヘッドの製造方法を包含する。
クなどの記録用液体を吐出、飛翔させ、紙,ブラスチッ
クシート,布等の被記録媒体に記録用液体を付着させる
ことによって記録を行うインクジェット記録方法は、ノ
ンインパクト式の記録方法であって、騒音が少ないこ
と、被記録媒体に特に制限が無いこと、カラー画像記録
が容易にできることなどの利点を有する。そして、こう
したインクジェット記録方法を実施する装置、すなわち
インクジェット記録装置については、その構造が比較的
シンプルであって、液体噴射ノズルを高密度に配設で
き、当該記録装置の高速化も比較的容易に達成できると
いった利点がある。こうしたことから上述したインクジ
ェット記録方法は社会的に注目され、該記録方法につい
て幾多の研究が成されている。因に該インクジェット記
録方法を実施するいくつかのインクジェット記録装置が
実用に付されている。
ェット記録装置に使用される記録ヘッドの一例を示す図
であり、図7(A)は、そうした記録ヘッドの一例を一
部切欠いて示した要部斜視図、図7(B)は、図7
(A)に示した記録ヘッドの液路に沿い、基板に垂直な
面で切断して示す要部断面図である。
に、記録ヘッドは、一般にインク等の記録液を吐出する
ための複数のインク吐出口107を有しており、該吐出
口107のそれぞれに対応して液路106が設けられて
いる。液路106のそれぞれは、供給される記録液が貯
留される液室109と連絡されている。さらに各液路1
06には記録液を吐出するためのエネルギーを発生する
発熱抵抗体102aと該発熱抵抗体102aに電気信号
を供給するための配線103a,103bが配されてお
り、これら発熱抵抗体102a、配線103a,103
bはインクジェット記録ヘッド用基板108上に設けら
れている。
ヘッド用基板108には、その上面に形成された配線1
03a,103bや発熱抵抗体102aを保護する目的
で、第1の保護層104と第2の保護層105とが設け
られている。この第1の保護層104は、記録液体との
接触や記録液体が浸透し、発熱抵抗体102a、配線1
03a,103bなどが電蝕したり電気的絶縁破壊する
ことをを防止するものである。
吐出するために生じさせる泡の消泡時の衝撃波(以下、
キャビテーシヨンと称する。)による影響が発熱抵抗体
102aにもたらされないように保護するために設けて
いる。
性、耐熱性に優れた材料であることが好ましく、例え
ば、SiO2などの無機酸化物や酸化チタン、酸化バナ
ジウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化タンタル、
酸化タングステン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸
化ハフニウム、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化
マンガン、等の遷移金属酸化物、更に、酸化アルミニウ
ム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウ
ム、酸化シリコン、等の金属酸化物及びそれらの複合
体、窒化シリコン、窒化アルミニウム、窒化ボロン、等
の窒化物及びそのこれらの酸化物等が挙げられる。その
中でも、材料の扱いや加工の容易性あるいは安定性や入
手の容易さ等の観点から、SiO2、Si3N4、Ta20
5等が好適に使用され得る。
耐インク性(耐化学安定性)と耐キャビテーション性
(機械的強度)に優れた材料であることが好ましく、例
えば、Taなどの周期律表第IIIa族の元素、Ti等の
第IVa族の元素、V等の第Va族の元素、Cr等の第VI
a族、Fe、Pt,Ir等の第VIII族の元素、さらに、
Ti−Ni,Ta−W,Fe−Ni−Cr等の上記金属
の合金などがあげられる。その中でも、材料の扱いや加
工の容易性あるいは安定性や入手容易さから等の観点か
ら、Ta、Cr、Pt等が好適に使用され得る。
ジェット記録法を用いた記録分野において、記録画像が
より高密度であり、より高精細な高品位画像を高速で得
ることが可能な記録装置の早期提供の要求が高まってい
る。
録媒体に対して記録が可能なように、改善された特性を
もつインクが使用できるような記録ヘッドの早期提供が
望まれている。
インクジェット技術においては、解決を要する主たる課
題として以下の4つの技術事項がある。 1.ノズル配列の高密度化 2.記録ヘッドの長尺化 3.高周波数駆動ヘの対応 4.使用されるインクの種類の制限の緩和 以下にこれら技術的課題のそれぞれについて説明する。 1.ノズル配列の高密度化 高画質化のためにノズルの高密度化が必要となる。従来
の記録ヘッドでは、ノズルの密度は1インチ当たりのノ
ズルの本数、即ち密度(以下、dpiと記す。)が36
0dpi以下であった。しかしながら今後、より高精細
な画像を形成するためには、記録ヘッドのノズルの密度
は400dpi以上であることが必要とされる。
のノズルの高密度配置を実現するためには、ノズルの流
路幅は従来と同等程度とする必要がある。そのため、ノ
ズル間に存在するノズル壁の幅を狭くすることで対応す
ることになる。このようにノズル壁の幅を狭くした場合
には、ノズル壁と基板との接着面積が極めて微細とな
り、ノズル壁と基板との接着性の低下を招くことにな
る。
されない場合には、所定のノズルでインク吐出のための
駆動により生じた発泡の影響で流路中のインクが振動
し、その振動が隣接するノズルに影響し、記録中にイン
ク滴の吐出方向が一定化しなくなる場合がある。この場
合、インク滴の被記録媒体上での着弾がばらつくし、そ
れが故に記録品位の低下を招いてしまいノズルを高密度
配置したことの効果がまったく得られなくなってしま
う。
列の高密度化を図るためには基板とノズル壁とが極めて
強固に密着されることが必要である。 2.記録ヘッドの長尺化 高速記録を達成するための記録ヘッド構造として、記録
ヘッドの幅をたとえば、被記録媒体の記録幅と同程度の
幅とする、いわゆる記録ヘッドの長尺化がある。
用基板の構成材料とノズルの構成材料とが異なる。その
ため、記録ヘッド製造時においては、両者の接合を行う
場合に記録ヘッド用基板とノズル壁との間に応力がかか
る。とくに記録ヘッドの幅が長くなるにつれ応力による
影響が大きくなり、長尺ヘッドでは接合面の剥離が発生
しやすい。
ドでは、記録時に発生する熱によってインクジェット記
録ヘッド用基板側とノズル壁側との熱膨張が異なるた
め、両者間での剥れを招きやすく、記録ヘッドが長尺化
するほど剥れの可能性が高くなる。したがって、このよ
うな材料の違いによる応力の差によっても剥れを生じる
ことのない極めて強固な接着性が必要とされる。 3.高周波数駆動ヘの対応 インクジェット記録ヘッドを用いて高速記録を行う場
合、高周波数駆動されることが必要になる。その場合、
インク吐出ノズルからインクを高周波数で吐出するため
には、インクを吐出した直後にノズル内にインクが即時
的に再充填されなければならない。このようなインクの
即時的再充填をもたらすためには、インク吐出ノズル内
でのインクの流抵抗を可能な限り少なくすることが必要
である。そのためには、ノズルの幅を広くすることが好
ましい。記録ヘッドを大型化せずにノズルの幅を広くす
る手段としては、今のところノズル壁の幅を狭くする方
法しか考えられない。その場合、ノズル壁とインクジェ
ット記録ヘッド用基板との接着のための幅が小さくな
り、インクジェット記録ヘッド用基板とノズルの密着の
信頼性は低減してしまう問題がある。
抗の低減ためには、ノズルの長さを短くするノズル設計
も考えられる。ところが、この場合、ノズル壁と基板と
の接着のための面積が少なくなり、インクジェット記録
ヘッド用基板とノズルの密着の信頼性は低減するという
問題がある。
高周波数ヘの望ましい対応を図る場合にもノズル壁とイ
ンクジェット記録ヘッド用基板との強固な接合が必要と
なる。 4.使用されるインクの種類の制限の緩和 インクジェット記録装置により各種の被記録媒体に対し
て良好な記録を行うためにはインクの改良も必要とな
る。
所望の記録を達成するためにはインク中の染料濃度を高
めることが考えられる。ところが染料濃度の高いインク
ではインク中において染料が凝集しないようにインク中
に尿素が添加される。このように尿素が添加されたイン
クは、インク中において尿素が分解することでアルカリ
性を呈する。アルカリ性のインクは、インクジェット記
録ヘッド用基板とノズル壁との間の接合部分に侵入しそ
の密着性を劣化させる傾向がある。特に前述したように
長尺化ヘッドやノズル配列を高密度化した場合にはノズ
ル壁が薄くなるため比較的容易に剥離を生じさせてしま
う。したがって、このようなノズル配列の高密度化、記
録ヘッドの長尺化を図った記録ヘッドで強アルカリイン
クを使用することは信頼性の低下を招くことになり好適
に使用することができない。
ッド用基板との極めて強固な接着状態を確保することが
できれぱ、アルカリ性のインクのインクジェット記録ヘ
ッド用基板とノズル壁との間の接合部分ヘの侵入が防止
でき、このようなインクも好適に使用することができ、
インクに対する制限が緩和される。この場合、使用可能
な被記録媒体についても特別制限されることなく使用で
きる。したがって、一層インクジェット記録装置の使用
範囲の拡大が図れる。
録ヘッド用基板との密着性を向上させることは、高性能
の記録ヘッドを提供する上で極めて重要である。
におけるノズル壁とインクジェット記録ヘッド用基板と
の密着に関する技術として、以下に述ベるような提案が
なされている。
昭59−1268号公報には、インクジェット記録ヘッ
ド用基板のノズル壁との接合面をシランカップリング材
で処理しインクジェット記録ヘッドを形成する方法が開
示されている。
ドについては有効であった。しかしながら、上述したよ
うなノズル配列の高密度化、高周波数駆動に対応した記
録ヘッド、記録ヘッドの長尺化などを満足する記録ヘッ
ドの場合には、インクジェット記録ヘッド用基板とノズ
ル壁の接合面積は極めて小さく設計されるため、上述の
接合技術を適用しても十分な密着性を確保することは難
しい。
は、インク吐出口周辺に無機酸化層あるいは無機窒化層
を設け、さらにこうした層にシランカップリング材を介
してノズル壁を形成し密着性を向上させる方法が提案さ
れている。
けるノズル壁とインクジェット記録ヘッド用基板との密
着性の向上を目的としたものであり、インク流路部分の
ノズル壁とインクジェット記録ヘッド用基板との接合に
対しては有効な手段であるとは言えない。
ツド用基板とノズル壁との間の密着性の観点から考察し
たが、他の観点からの配慮も必要である。すなわち、ヘ
ッド用基板を構成する材料同士の剥れの問題も忘れては
ならない重要な問題である。以下、ヘッド用基板を構成
する材料同士の接合の問題について述ベる。
設けられた第2の保護層は、前述したように金属材料で
あって第1の保護層の材料とは異なる材料で構成される
ものであるため、この保護層間での剥れの問題がある。
加えて第2の保護層は前述のようにノズル壁の材料と異
なるため記録時の熱の影響により、長尺ヘッドでは特に
剥れを招きやすくなる。
−61045号公報により提案されている。この公報に
は、図8(a)、(b)で示される構成の記録ヘッド用
基板が開示されている。図8(a)は保護層同士の剥れ
の問題を改善するために提案された記録ヘッド用基板の
平面図であり、図8(b)は図8(a)中のXY線に沿
って基板の一部を破断して示す断面図である。
層間での応力の違いによる剥がれを生じさせないため
に、第2の保護層105を電極103及び発熱抵抗体1
02上でのみ第1の保護層104と接合するように配置
し、それ以外の部分では第2の保護層を形成せず第1の
保護層のみが存在する構成としている。この構成によれ
ば第1の保護層と第2の保護層との接合面積を少なくす
ることができるため応力の違いによる歪みの影響を極め
て少なくすることができ実質的に応力の問題が解決でき
る。この構成は、第1の保護層及び第2の保護層間での
応力の違いによる両層の剥れの問題を改善することを目
的とするものであってノズル壁とのへッド用基板との密
着性の改善を図ることについては有効な技術ではない。
ドにおいてへツド用基板とノズル壁との間の密着性にか
かる上述した技術的課題を解決することを主たる目的と
する。
し、高周波数駆動が可能で、ヘッドの長尺化が図れ、使
用インク種類の緩和が達成されるへッド用基板とノズル
壁との強固な密着接合状態を達成したインクジェット記
録ヘッドを提供することにある。
配し、高周波数駆動が可能で、長尺化が図れ、使用され
るインクの種類についての制限の緩和が達成され、高歩
留まりな低コストのインクジェット記録ヘッドの製造方
法を提供することにある。
位な記録を可能にするインクジェット記録装置を提供す
ることにある。
的を達成すべく、後述する実験を介して鋭意検討を重ね
た結果、以下に述ベるような知見を得るに至った。
板を構成する第2の保護層の所定箇所を切欠し、切欠し
た箇所をシランカップリング材またはシランカップリン
グ材と無機化合物との混合材で処理することでインクジ
ェット記録ヘッド用基板とノズル壁との密着性が極めて
強固となるというものである。
究を行った結果完成されるに至ったものであり、発熱低
抗体、電極、第1の保護層、第2の保護層など層を有す
る記録ヘッド用基板とノズル壁とが接合された構成であ
るインクジェット記録ヘッド及び該ヘッドを備えたイン
クジェット記録装置を包含する。さらに本発明は、また
前記インクジェット記録ヘッドの製造方法を包含する。
る。
録ヘッドは、基体上にインクを吐出するために利用され
る熱エネルギーを発生する発熱抵抗体と該発熱抵抗体に
電気的に接続された一対の電極とが配され、それらの上
部に第1の保護層と第2の保護層とが順に積層されて構
成された基板と、前記基板上に形成されるノズル構造体
と、によって構成されるインクジェット記録ヘッドにお
いて、前記基板と前記ノズル構造体とが接着される部分
に位置する前記第2の保護層が前記電極によって形成さ
れる前記基体との段差部分が少なくとも前記第2の保護
層によって覆われた状態で一部切欠されていることを特
徴とする。
録装置は、基体上にインクを吐出するために利用される
熱エネルギーを発生する発熱抵抗体と該発熱抵抗体に電
気的に接続された一対の電極とが配され、それらの上部
に第1の保護層と第2の保護層とが順に積層されて構成
された基板と、前記基板上に形成されるノズル構造体
と、によって構成され、前記基板と前記ノズル構造体と
が接着される部分に位置する前記第2の保護層が前記電
極によって形成される前記基体との段差部分が少なくと
も前記第2の保護層によって覆われた状態で一部切欠さ
れていることを特徴とするインクジェット記録ヘッド
と、該記録ヘッドを駆動するための信号付与手段と、を
備えたことを特徴とする。
録ヘッドの製造方法は、基体上に発熱抵抗体と該発熱抵
抗体に電気的に接続された一対の電極とを形成する工程
と、発熱抵抗体と電極を含む基体上部に第1の保護層と
第2の保護層とを順に積層して基板を調整する工程と、
該基板上にノズル構造体を配する工程と、からなるイン
クジェット記録ヘッドの製造方法において、前記ノズル
構造体と前記基板との接着面に位置する前記第2の保護
層を前記電極によつて形成される前記基体との段差部が
少なくとも前記第2の保護層によって覆われた状態を呈
するように一部分を切欠して前記第1の保護層を露出さ
せるようにする工程をさらに包含することを特徴とす
る。
あたり行った実験について詳しく説明する。
層ヘのダメージとの関係について検討を行ったものであ
る。以下、図1(a),(b)を用いて基板の製造につ
いて説明する。 [基板サンプル1]まず、2.5μmの熱酸化処理が施
された直径5インチサイズの単結晶ウエハー1(ワッカ
ー株式会社製)を用意し、これに発熱抵抗体層2をスパ
ッタ法により形成するために、HfB2をターゲットと
して用い、商品名SPF−730H(日電アネルバ株式
会社製)のスパッタ装置を使用して、膜厚0.1μmの
HfB2発熱抵抗体層2を形成した。次に、発熱抵抗体
層2の上部に電極層3を形成するために、HfB2ター
ゲットをAlに変えて同一チャンバー内で膜厚0.6μ
mのAl電極層3形成した。
成された単結晶ウエハー上に、商品名0FPR−800
(東京応化株式会社製)のレジストを商品名CDS63
0(キヤノン株式会社製)の塗布装置を使用して塗布し
た。そして、このレジスト層を、商品名PLA−500
FA(キヤノン株式会社製)の露光装置を用いて所望の
領域を露光し、その後商品名CDS630(キヤノン株
式会社製)の現像装置を用いて現像処理してパターニン
グした。パターニングされたレジスト層をマスクとして
利用し、単結晶ウエハー1上に形成された電極層3を商
品名C−6(東京応化株式会社製)をエッチング液とし
て使用してエッチング処理し、さらに発熱抵抗体層2を
HFとHNO3の混合液をエッチング液として使用して
エッチング処理し、発熱抵抗体層2と電極層3とを備え
たウエハー状基板を形成した。
ることによって形成される1ヘッド単位の発熱抵抗体層
2は幅25μm、長さ100μmであり、発熱抵抗体層
2と接合されている電極層3は幅25μmであり、発熱
抵抗体2aの間隔は70.5μmであり、発熱抵抗体数
は128個である。なお、電極層3の内折り返し電極3
a(ノズル壁との接合部になる領域)は、幅20μmの
ものと、10μmのものと、2種類作成した。
ターンとして形成された単結晶基体上に第1の保護層4
としてスパッタ法でSiO2をターゲットとして使用
し、商品名SPF−730H(日電アネルバ株式会社
製)のスパッタ装置によって膜厚1.0μmのSiO2
膜を形成した。次に、第1の保護層4の上部に第2の保
護層5を形成するために、SiO2ターゲットをTaタ
ーゲットに変えて同一チャンバー内で膜厚0.5μmの
Ta第2の保護層5を形成した。
とが形成された基板上に、商品名0FPR−800(東
京応化株式会社製)のレジストを商品名CDS630
(キヤノン株式会社製)の塗布装置を使用して塗布し
た。そして、このレジスト層を、商品名PLA−500
FA(キヤノン株式会社製)の露光装置を用いて所望の
領域を露光し、その後商品名CDS630(キヤノン株
式会社製)の現像装置を用いて現像処理して所定の形状
にパターニングした。パターニングされたレジスト層を
マスクとして利用し、折返し電極3aの上方に設けられ
た第2の保護層5を図1(a)に示すような長方形に商
品名DEA506(日電アネルバ株式会社製)のドライ
エッチング装置を用いてエッチング処理を行い切欠部1
1を形成した。形成された切欠部の形状は、長さ150
μmであり、幅は5μm、10μm、20μm、30μ
mの4種類を作成した。なお、Taのドライエッチング
処理の条件は以下に示す通りである。
きるようにフォトリソグラフィー技術を用いて第1の保
護層4をエッチングしてスルーホールを形成した。
極、第1の保護層及び第2の保護層が設けられたウエハ
ー状基板を記録ヘッド単位に切断した。切断された記録
ヘッド単位をSUS304(JIS)の支持体に接着
し、電極、発熱抵抗体に電圧を印加できるように印刷配
線板(プリントサーキットボード、以下PCBと記
す。)を貼り付け第1の保護層のスルーホールとPCB
の間にAgペーストを用いてワイヤーボンディングによ
って電気的に接続した。そして、この電気接続部、液
室、ノズル部以外をシリコーンシーラントで封止した。
欠部の幅を、後に示す表1のように代えた他は、基板サ
ンプル1と同様にして基板サンプル2〜6を得た。な
お、各基板サンプルは100個づつ作成した。 [基板サンプル7]基板サンプル1において、第1の保
護層の材料をSi3N4に、第2の保護層の材料をCrに
変え、Crのドライエッチング処理条件を以下のように
した他は、基板サンプル1と同様にして基板サンプル7
を得た。
護層切欠部の幅を、後に示す表2のように変えた他は、
基板サンプル7と同様にして基板サンプル8〜12を得
た。 ・Crのドライエッチング処理条件 エッチングガス CCl4 ガス流量 40sccm 圧力 2.0Pa 投入電力 1.0kW エッチング速度 300Å/分 [基板サンプル13]基板サンプル1において、第1の
保護層の材料をTa205に、第2の保護層の材料をPt
に変え、Ptのドライエッチング処理条件を以下のよう
にした他は、基板サンプル1と同様にして基板サンプル
13を得た。
保護層切欠部の幅を、後に示す表3のように変えた他
は、基板サンプル13と同様にして基板サンプル14〜
18を得た。 ・Ptのドライエッチング処理条件 エッチングガス CF4 ガス流量 50sccm 圧力 3.0Pa 投入電力 1.0kW エッチング速度 200Å/分 実験は以下のようにして行った。
ルを以下に示す組成のインクを入れた容器に浸した。そ
して、インクに対向電極を浸し、記録ヘッドに接続され
たPCBを通して実験サンプルの電極と発熱抵抗体と対
向電極の間に電圧を印加し、その際に流れる電流値を測
定した。
個のサンプルすべてについて行った。
0mmのPt板である。この対向電極と実験サンプルの
間隔は100mmとした。なお、電流値測定の際の電圧
印加と電流測定は、商品名4140A(YHP株式会社
製)のデジタルエレクトロメータを使用し、以下に示す
測定条件で行った。
電流値が10-8A以上を示したサンプルを不良、電流値
が10-8A未満となったサンプルを良品として評価し
た。
に対して電蝕し、インクとの反応が10-8A以上で発生
し、10-8A未満で発生しにくかったことによる。基板
サンプルと測定結果を表1乃至表3に示した。
層の材料にかかわらず、電極、発熱抵抗体の段差部分を
第2の保護層が覆った状態であれば、ノズル壁との接合
部分に存在する第2の保護層を切欠し第1の保護層が露
出していてもインクに電流はほとんど流れないことが判
明した。つまり、電極、発熱抵抗体の段差部分を第2の
保護層が覆った状態であれば、電極、発熱抵抗体は電蝕
することなく、インクとの反応が起きない。
検討した。なお、ノズル壁の形成方法は、後述する2種
類の作成方法により行った。 [記録ヘッドサンプルA] ・記録ヘッドサンプルA−1
長さ、間隔及び1ヘッド当たりの個数、電極の幅及び第
2の保護層の切欠幅のそれぞれを表4に示される基板サ
ンプル構成1に変え、実験Aで示した基板サンプルA−
1と同様にして基板サンプルを得た。
構成1に示される各寸法のノズルを、後述する第1のノ
ズル作成方法にしたがって設け、記録ヘッドサンプルA
−1を得た。 ・記録ヘッドサンプルA−2〜6 記録ヘッドサンプルA−1で、基板サンプル構成を表4
中2〜6に、ノズル構成を第5表中2〜6にそれぞれ変
えた他は、記録ヘッドサンプルA−1と同様にして記録
ヘッドサンプルA−2〜6を得た。 [比較記録ヘッドサンプルA] ・比較記録ヘッドサンプルA−1 記録ヘッドサンプルA−1で、第2の保護層に切欠部を
形成しない他は、記録ヘッドサンプルAと同様にして比
較記録ヘッドサンプルA−1を得た。 [記録ヘッドサンプルB] ・記録ヘッドサンプルB−1〜6 実験Aで示した基板サンプルB−1の発熱抵抗体の幅、
長さ、間隔及び1ヘッド当たりの個数、電極の幅及び第
2の保護層の切欠幅のそれぞれを表4に示される基板サ
ンプル構成1〜6に変えた他は、記録ヘッドサンプルA
−1と同様にして記録ヘッドサンプルB−1〜B−6を
得た。 [比較記録ヘッドサンプルB] ・比較記録ヘッドサンプルB−1 記録ヘッドサンプルB−1で、第2の保護層に切欠部を
形成しない他は、記録ヘッドサンプルBと同様にして比
較記録ヘッドサンプルB−1を得た。 [記録ヘッドサンプルC] ・記録ヘッドサンプルC−1〜6 実験Aで示した基板サンプルC−1の発熱抵抗体の幅、
長さ、間隔及び1ヘッド当たりの個数、電極の幅及び第
2の保護層の切欠幅のそれぞれを表4に示される基板サ
ンプル構成1〜6に変えた他は、記録ヘッドサンプルA
−1と同様にして記録ヘッドサンプルC−1〜C−6を
得た。 [比較記録ヘッドサンプルC] ・比較記録ヘッドサンプルC−1 記録ヘッドサンプルC−1で、第2の保護層に切欠部を
形成しない他は、記録ヘッドサンプルCと同様にして比
較記録ヘッドサンプルC−1を得た。 [記録ヘッドサンプルa、b、c及び比較記録ヘッドサ
ンプルa、b、c]前述した記録ヘッドサンプルA、
B、C及び比較記録ヘッドサンプルA、B、Cで、ノズ
ルの作成方法を後述する第2のノズル作成方法とした他
は、記録ヘッドサンプルA、B、C及び比較記録ヘッド
サンプルA、B、Cと同様にして記録ヘッドサンプル
a、b、c及び比較記録ヘッドサンプルa、b、cを得
た。
ズルの作成方法の概略を説明する。
り、実験Aと同様な製法で作成された発熱抵抗体、電
極、保護層が設けられている基板8を、純水を使用して
超音波洗浄した後、イソプロピルアルコール蒸気によっ
て乾燥させた。
ず図4(a)に示される様に、商品名A−500R(曙
株式会社製)ラミネート装置を用いて、ネガ型のドライ
フィルム16をラミネートした。なお、ノズル高さ35
μm用には商品名オーディールSX−335(東京応化
株式会社製)ネガ型ドライフィルムを使用し、ノズル高
さ30μm用には商品名オーディールSX−330(東
京応化株式会社製)ネガ型ドライフィルムを使用した。
その際のラミネート条件は、以下の通りとした。
ンで90℃、20分間加熱した。そして、商品名MPA
−500FA(キヤノン株式会社製)マスクアライナー
を用いて、露光量900mJ/cm2で露光した。その
後、オーブンで90℃、10分間再度加熱した。その
後、商品名CDS−630(キヤノン株式会社製)現像
装置を用いて現像した。現像の際の条件は、以下の通り
とした。
図4(b)で示されるノズル壁12を備えた記録ヘッド
基板が得られた。
を形成した。すなわち、インク供給口10が設けられた
パイレックスの接合面側に、商品名オーディールSY−
355(東京応化株式会社製)ネガ型のドライフィルム
13をラミネートした。ラミネートを行った際の条件は
以下に示した通りであった。
製)マスクアライナーを用いて、露光量500mJ/c
m2として露光した。露光後、オーブンで90℃、10
分間加熱した。
株式会社製)現像装置を用いて以下の条件で現像した。
られた天板14の接合面上に紫外線キュア装置(ウシオ
株式会社製)を用いて紫外線を照射光量を30J/cm
2として照射した。そして、ノズル壁が作成された基板
に、前述の様にして作成された天板を内製した接合機を
用いて以下の条件で接合した。
キュアした後、さらに紫外線キュア装置(ウシオ株式会
社製)を用いて紫外線を照射光量100J/cm2とし
て照射した。
7となる部分で、基板、ノズル壁、天井を形成している
ネガ型のドライフィルム、その上のパイレックス板を同
時に切断い吐出口7を形成し図4(c)で示される記録
ヘッドが得られた。このようにしてノズルが完成し、図
2(a)(b),(c)で示される記録ヘッドが完成し
た。
り、実験Aと同様な製法で作成された発熱抵抗体、電
極、保護層が設けられている基板8を、純水を使用して
超音波洗浄した後、イソブロピルアルコール蒸気によっ
て乾燥させた。次に、商品名CDS−630(キヤノン
社製)レジスト塗布装置を用いてスピン法で商品名PM
ERP−AR900(東京応化株式会社製)のポジ型レ
ジスト17を図5(a)に示される様に塗布した。
℃、60分間キュアした。そして、商品名MPA−50
0FA(キヤノン株式会社製)マスクアライナーを用い
て、露光量2500mJ/cm2で露光した。次に、商
品名CDS−630(キヤノン株式会社製)現像装置を
用いて以下に示した条件で現像した。
式会社製) 現像液温度 25℃ 現像時間 3分 現像後ポストベークとして、オーブンで70℃、180
分間キュアした。このようにして、図5(b)で示され
る様にノズル流路6となる場所にポジ型のレジスト18
が形成された。
5(以下、注型剤と称する。)としてビスフェノール型
エポキシ系のものを使用して、ノズル流路6となる場所
に形成されているポジ型のレジスト18上を覆うように
図5(c)で示される様に塗布した。次に、その上部に
インク供給口10が形成されているバイレックス板14
を接合し、インク供給口、液室など不要な注型剤を除去
するため、パイレックス板上にフィルムマスクを置き、
紫外線キュア装置(ウシオ社製)を用いて照射光量15
J/cm2で紫外線を照射した。そして、トリクロルエ
タンを噴射して未露光部分の注型剤を除去した。その
後、オーブンで120℃、30分間キェアした。
ル流路に詰まっているポジ型のレジスト、ノズル壁、天
井を形成している注型剤、その上のパイレックス板を同
時に切断し、図5(d)に示される様に吐出口7を形成
した。
に切断形成したへッドをいれ、超音波洗浄機によってノ
ズル流路に詰まっているボジ型のレジストを超音波洗浄
し除去し図5(e)に示される記録ヘッドが得られた。
このようにしてノズルが完成し、図3(a),(b),
(c)で示される記録ヘッドが完成した。
プル及び比較記録ヘッドサンプルについてノズル密着性
を評価した。
た。
ッシャークッカーテスト、以下PCTと記す。) 以下に示す組成のインクをいれたガラスシャーレに評価
ヘッドを入れ、その容器を商品名PC−364RII(平
山製作所製)プレッシャークッカー試験機にセツトし、
以下のPCT条件で試験を行い、各サンプルを評価し
た。
ヘッドを入れ、その容器を60℃の恒温槽にいれた。
株式会社製)金属顕微鏡(100倍)による目視観察に
よりおこなった。
った。
浸漬耐久試験の評価結果を表6乃至表11に、インクB
を使用して行った耐圧加速試験とインク浸漬耐久試験の
評価結果を表12乃至表17にそれぞれ示した。
保護層の材料にかかわらず、ノズル壁との接合面の第2
の保護層を電極による段差部分を除いて所定部分のみを
エッチング除去し、第1の保護層を露出させることによ
り、高圧下やインク中における長期にわたるノズルの密
着性が向上したことが判明した。
ル壁の材料として有機物を使用する場合には、その製法
に依存することなく、ノズル密着性の向上が図れたこと
が判明した。
と、高密度かつノズル数が多く、さらにインクがアルカ
リ性である場合、ノズルの密着性がかならずしも十分で
あるといえない結果となっていることが判明した。
構成され、より厳しい条件で使用される記録ヘッドで
は、ノズル密着性に対してさらに改善する余地があると
いうことを示唆するものである。
図るためのシランカップリング材の選定について検討し
た。 [シラン材塗布記録ヘッドサンプルA] ・シラン材塗布記録ヘッドサンプルA−1〜A−18 この実験において対象となるサンプルは、基板の構成と
して高密度で発熱抵抗体が配列されるとともに、基板の
長さが長く、ノズル壁と基板との接着面がもっとも剥れ
易い構造をしている、表4中の基板サンプルNO.6を
使用した。なお、本実験では基板の保護層としては第1
の保護層がSiO2、第2の保護層がTaである。この
基板サンプルNO.6の第2の保護層に形成された切欠
部に対して、後に示す表18(1)乃至表18(3)に
示したシランカップリング材1〜18をそれぞれ塗布
し、その後ノズルを実験Bで示された第1のノズル作成
方法で形成した他は、実験Bの記録ヘッドサンプルA−
1と同様にしてシラン材塗布記録ヘッドサンプルA−1
〜A−18を得た。 [シラン材非塗布比較記録ヘッドサンプルA] ・シラン材非塗布比較記録ヘッドサンプルA−1 シラン材塗布記録ヘッドサンプルA−1において、シラ
ンカップリング材を塗布しない他は、シラン材塗布記録
ヘッドサンプルA−1と同様にしてシラン材非塗布比較
記録ヘッドサンプルA−1を得た。 [シラン材塗布記録ヘッドサンプルa] ・シラン材塗布記録ヘッドサンプルa−1〜a−18 シラン材塗布記録ヘッドサンプルA−1において、ノズ
ルの作成方法を実験Bの第2のノズル作成方法に変えた
他は、シラン材塗布記録ヘッドサンプルA−1と同様に
してシラン材塗布記録ヘッドサンプルa−1〜a−18
を得た。 [シラン材非塗布比較記録ヘッドサンプルa] ・シラン材非塗布比較記録ヘッドサンプルa−1 シラン材塗布記録ヘッドサンプルa−1において、シラ
ンカップリング材を塗布しない他は、シラン材塗布記録
ヘッドサンプルa−1と同様にしてシラン材非塗布比較
記録ヘッドサンプルa−1を得た。
ズル作成方法では、ネガ型ドライフィルムのラミネート
前にシランカップリング材を塗布した。また、第2のノ
ズル作成方法では、ポジレジストの塗布前にシランカッ
プリング材を塗布した。
ある。
ールで2%に希釈し、この2%希釈液をスピンナーを使
用して、回転数3000rpm、25秒間という条件で
ノズル形成前の基板上にスピンコートした。シランカッ
プリング材がコートされた基板をオーブンで100℃、
20分間ベークした。
表18(1)、表18(2)、表18(3)にその組成
及び商品名を示す18種類である。これらのシランカッ
プリング材は、すべてユニオンカーバイト株式会社製の
ものである。
8及びシラン材非塗布比較記録ヘッドサンプルA−1に
ついて、実験Bで示した組成のインクAを用いてノズル
壁と基板との間の密着性についての実験を実験Bと同様
な方法及び評価基準によって行い、その結果を表19
(1)、表19(2)に示す。
8及びシラン材非塗布比較記録ヘッドサンプルa−1に
ついて、実験Bで示した組成のインクAを用いてノズル
壁と基板との間の密着性についての実験を実験Bと同様
な方法及び評価基準によって行い、その結果を表20
(1)、表20(2)に示す。
8及びシラン材非塗布比較記録ヘッドサンプルA−1に
ついて、実験Bで示した組成のインクBを用いてノズル
壁と基板との間の密着性についての実験を実験Bと同様
な方法及び評価基準によって行い、その結果を表21
(1)、表21(2)に示す。
8及びシラン材非塗布比較記録ヘッドサンプルa−1に
ついて、実験Bで示した組成のインクBを用いてノズル
壁と基板との間の密着性についての実験を実験Bと同様
な方法及び評価基準によって行い、その結果を表22
(1)、表22(2)に示す。
うに、使用したシランカップリング材の内No5、7、
8、9のシランカップリング材が基板とノズル壁との剥
離や千渉縞など発生することなく信頼性高く接合されて
いたことが判明した。
上させるためには、シランカップリング材による処理が
重要であり、特に、γ−メタクリロキシプロピルトメト
キシシラン、β一(3、4エポキシシクロヘキシル)−
エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメト
キシシランの4種のシランカップリング材が有効であっ
たことが判明した。
いう重要な課題がある。この課題は本願発明の高精細で
高速記録が可能な、しかも長尺化されたへッドにおいて
も要求されるものである。
て、使用されている駆動ICのコストを低減することが
あげられる。そのためにはICの躯動電流を低下させ、
駆動電圧を高くする必要がある。このような高電圧駆動
のへッドでは、通常の駆動電圧で駆動される記録ヘッド
に比ベ、発熱抵抗体や電極において電蝕や化学反応が発
生し易い。この課題は安価な記録を長期に渡って信頼性
高く駆動させるために改善すべき課題としてクローズア
ツプされている。
抗体や電極が電蝕や化学反応が発生し易い理由としては
以下のことが考えられる。
基板上に形成される第1の保護層は真空成膜(スパッタ
法)で作成されている。そのため、発熱抵抗体や電極の
段差部分や発熱抵抗体や電極の上部などで膜質の弱い部
分が所定の確率で発生してしまう。このような第1の保
護層の膜厚が薄い部分においては耐圧が十分ではないた
めに、高電圧駆動によって第1の保護層が薄くなってい
る部分の発熱抵抗体や電極が電蝕してしまうのである。
せるために第2の保護層に所定部分を切欠する本発明で
は、第2の保護層を切欠する際に第1の保護層の膜質の
薄くなっている部分がエッチングされてしまう場合があ
り、一層耐圧の低下を招くことになる。
にケイ素化合物を混合した混合材料を使用することにつ
いて検討した。 [混合材料塗布記録ヘッドサンプルA] ・混合材料塗布記録ヘッドサンプルA−1 記録ヘッドの基板を2.5μm熱酸化してある100m
m×350mmの単結晶基板(ワツカー社製、シリコン
のインゴットを縦切りにして、研摩したもの)とし、表
4に示した基板サンプル6と同一の発熱抵抗体幅、長
さ、間隔、電極幅、ノズル寸法で、ノズル数8576
個、記録ヘッド長さ約300mmとした他は、実験Aの
基板サンプルA−1と同様な方法で記録ヘッド用基板を
作成した。
欠部に対して、商品名A−189(ユニオンカーバイト
株式会社製)γ一メルカプトプロピルトリエトキシシラ
ンを2重量%になるようにエタノールに溶解して調整さ
れたシラン溶液に無機化合物Si(0H)4(商品名0
CD type2 東京応化株式会社製)を1重量%に
なるように混合溶解した混合材料を塗布した。
℃、60分間ベークしたことを除き、実験Bの記録ヘッ
ドサンプルA−1と同様の方法により、混合材料塗布記
録ヘッドサンプルA−1を得た。
たことにより、ノズル作成のための製造装置を以下の様
に変更した。 ネガ型ドライフィルムを現像する装置:インライン現像
機(大日本スクリーン製造株式会社製) ポジ型レジストを塗布する装置:ロールコータ(大日本
スクリーン製造株式会社製) ポジ型レジストを現像する装置:インライン現像機(大
日本スクリーン製造株式会社製) ・混合材料塗布記録ヘッドサンプルA−2 混合材料塗布記録ヘッドサンプルA−1で使用した混合
材料に変えて、商品名A−189(ユニオンカーバイト
株式会社製)γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラ
ンを2重量%になるようにエタノールに溶解して調整さ
れたシラン溶液に無機化合物CH3Si(0H)3(商品
名0CD type7−85R 東京応化株式会社製)
を1重量%になるように混合溶解して得た混合材料を使
用した他は、混合材料塗布記録ヘッドサンプルA−1と
同様にして混合材料塗布記録ヘッドサンプルA−2を得
た。 [混合材料非塗布比較記録ヘッドサンプルA] ・混合材料非塗布比較記録ヘッドサンプルA−1 混合材料塗布記録ヘッドサンプルA−1にて第2の保護
層の切欠に塗布した混合材料に変えて、ケイ素化合物を
混合しないシランカップリング材を塗布した他は、混合
材料塗布記録ヘッドサンプルA−1と同様にして混合材
料非塗布比較記録ヘッドサンプルA−1を得た。 [混合材料塗布記録ヘッドサンプルB] ・混合材料塗布記録ヘッドサンプルB−1 混合材料塗布記録ヘッドサンプルA−1の第1の保護層
をTa205、第2の保護層をCrに変えた他は、混合材
料塗布記録ヘッドサンプルA−1と同様にして混合材料
塗布記録ヘッドサンプルB−1を得た。 ・混合材料塗布記録ヘッドサンプルB−2 混合材料塗布記録ヘッドサンプルA−2の第1の保護層
をTa205、第2の保護層をCrに変えた他は、混合材
料塗布記録ヘッドサンプルA−2と同様にして混合材料
塗布記録ヘッドサンプルB−2を得た。 [混合材料非塗布比較記録ヘッドサンプルB] ・混合材料非塗布比較記録ヘッドサンプルB−1 混合材料塗布記録ヘッドサンプルB−1にて第2の保護
層の切欠に塗布した混合材料に変えて、ケイ素化合物を
混合しないシランカップリング材を塗布した他は、混合
材料塗布記録ヘッドサンプルB−1と同様にして混合材
料非塗布比較記録ヘッドサンプルB−1を得た。 [混合材料塗布記録ヘッドサンプルC] ・混合材料塗布記録ヘッドサンプルC−1 混合材料塗布記録ヘッドサンプルA−1の第1の保護層
をSi3N4、第2の保護層をPtに変えた他は、混合材
料塗布記録ヘッドサンプルA−1と同様にして混合材料
塗布記録ヘッドサンプルC−1を得た。 ・混合材料塗布記録ヘッドサンプルC−2 混合材料塗布記録ヘッドサンプルA−2の第1の保護層
をSi3N4、第2の保護層をPtに変えた他は、混合材
料塗布記録ヘッドサンプルA−2と同様にして混合材料
塗布記録ヘッドサンプルC−2を得た。 [混合材料非塗布比較記録ヘッドサンプルC] ・混合材料非塗布比較記録ヘッドサンプルC−1 混合材料塗布記録ヘッドサンプルC−1にて第2の保護
層の切欠に塗布した混合材料に変えて、ケイ素化合物を
混合しないシランカップリング材を塗布した他は、混合
材料塗布記録ヘッドサンプルC−1と同様にして混合材
料非塗布比較記録ヘッドサンプルC−1を得た。
ンプルに対して以下に示す耐圧性試験と密着信頼性試験
を行った。 耐圧性試験 実験Aで示した耐圧性試験において、印加電圧の範囲を
+30V乃至−30Vに変えた他は、実験Aで示した耐
圧性試験と同様の試験方法によって、インク中における
電流値を確認した。なお、この試験による評価基準は実
験Aと同様の評価基準によった。
層の構成材料によらず、ケイ素化合物含有シランカップ
リング材で処理された基板は高電圧を印加しても電流は
ほとんど流れず、耐圧性に優れ電極や発熱抵抗体が電蝕
することがないことが判明した。 密着信頼性試験 混合材料塗布記録ヘッドサンプルA−1、B−1、C−
1に対して、実験Bで示されたインクB(強アルカリイ
ンク)を使用して実験Bと同様な方法で密着信頼性試験
を行った。評価基準も実験Bにしたがった。評価結果を
表24に示した。
て処理された基板とノズル壁との密着性はなんらシラン
カップリング材のみで処理された基板とノズル壁との密
着性とかわらず極めて良好であることが判明した。
好な結果を得た表18のNo.5、No.7、No.8
に変更して同様の実験を行ったが、無機化合物を混合し
たことによる特性の低下は認められず、いずれの実験に
おいても、極めて良好な基板とノズル壁との密着性が得
られた。
て説明する。
合、電極や発熱抵抗体の破壊を招いてしまうとされ、電
極や発熱抵抗体が形成されている部分を保護している第
2の保護層切欠することはまったく考えられていなかっ
た。しかしながら、本発明者等はあえてこうした技術常
識を無視し、電極や発熱抵抗体の上部の所定箇所(ただ
し、電極や発熱抵抗体の段差部分を覆う第2の保護層部
分は除く)の第2の保護層を切欠することで、信頼性高
い強固な接合が達成されることが判明した。
保護層と第2の保護層との間の応力緩衝部分となり、保
護層間の剥れの問題も改善されることが判明した。
リング材で処理することで第1の保護層及び第2の保護
層と接合されるノズル壁との接着特性が向上し、両者の
密着性が改善されてより強固となることが判明した。
グ材と特定の無機化合物を混合することにより、特定の
無機化合物が第1の保護層の耐圧の弱い部分の目止め層
としての役割を果し、これによりインクの浸透などが確
実に抑制でき、所定の密着状態が確保されれば高電圧駆
動した場合でも電極や発熱抵抗体が劣化することがなく
なることが判明した。
とに本発明の好ましい態様について更に詳しく説明す
る。
ドを構成するノズル壁とインクジェット記録ヘッド用基
板との接合部分にある第2の保護層が切欠され、第1の
保護層が露出している点にある。より好ましい態様にお
いては、第2の保護層に施される切欠部分は、第1の保
護層の下部に位置する電極の段差部分が少なくとも第2
の保護層によって覆われた状態となるように第2の保護
層の一部を切欠することにより形成されている。
ング材あるいはシランカップリング材と無機化合物との
混合材がそれら切欠部分を覆うように設けられている。
成要素について以下述べる。
る基体材料としては、単結晶シリコン板、多結晶シリコ
ン板、セラミツク板、ガラス板や金属板を用いることが
できる。これら基体材料のうち単結晶シリコン板、多結
晶シリコン板及びガラス板が取り扱い易さや加工の容易
さ等の点で好ましい。これらインクジェット記録ヘッド
用の基体は、適宣の形状であることができる。中でもウ
エハー状、矩形状等の形状が好ましい。
体上には、記録信号に応じてインクに状態変化を生じさ
せインクを吐出するために利用される熱を発生するため
の発熱抵抗体と電極が設けられる。
B2、ZrB2、TiB2等の金属ホウ化物、TiO2、S
nO2等の金属酸化物、Ta2N等の金属チッ化物、Ta
2Si等の金属ケイ化物、Ni−Cr、Ta−Al等の
合金、ポリシリコン、アモルファスシリコン等の非晶質
材料が使用可能である。これら材料のうち、金属ホウ化
物、金属酸化物、金属チッ化物、合金が好ましい。これ
らの材料で構成される発熱抵抗体を基体上に形成する方
法としては、スパッタリング法や蒸着法などが挙げられ
る。
u、Au等の金属及びこれら金属の合金が挙げられる。
こうした材料で構成される電極は、スパッタリング法や
蒸着法等により形成できる。電極の幅は、ノズル密度、
発熱抵抗体のサイズ等に応じて適宜決められる。しかし
ながら一般には、8μm〜30μmの範囲とされる。
た基体上には、発熱抵抗体及び電極を保護するための保
護層が設けられる。該保護層は、発熱抵抗体及び電極の
電蝕や電気的絶縁破壊を防止するための第1の保護層
と、記録液を吐出するために生じさせる泡の消泡時の衝
撃波であるキャビテーシヨンによる影響が発熱抵抗体に
もたらされないように保護するための第2の保護層とを
包含する。
材料で構成されることが好ましい。そうした材料として
は、例えば、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化ニオ
ブ、酸化モリブデン、酸化タンタル、酸化タングステ
ン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、
酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化マンガン等の遷
移金属酸化物、酸化アルミニウム、酸化カルシウム、酸
化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化シリコン等の金
属酸化物及びそれらの複合体、窒化シリコン、窒化アル
ミニウム、窒化ボロン等の窒化物及びそのこれらの酸化
物等が挙げられる。その中でも、材料の扱い易さ、加工
の容易さ、材料自体の安定性等の観点から、酸化シリコ
ン(SiO2)、チッ化シリコン(Si3N4)、五酸化
タンタル(Ta205)等が特に好ましい。
性、耐キャビテーシヨン性及び機械的強度に優れた材料
で構成することが望ましい。そうした材料としては、T
aなどの周期律表第IIIa族の金属、Ti等の第IVa族
の金属、V等の第Va族の金属、Cr等の第VIa族の金
属、Fe、Pt,Ir等の第VIII族の金属及びこれら金
属の合金、例えばTi−Ni,Ta−W,Fe−Ni−
Cr等が挙げられる。これら材料のうち材料の扱い易
さ、加工の容易さ、材料自体の安定性等の観点から、T
a、Cr、Ptが特に好ましい。
れスバッタリング法、プラズマCVD法、常圧CVD
法、減圧CVD法、蒸着法などの成膜方法によって形成
できる。
これらを保護する第1の保護層及び第2の保護層が形成
されたインクジェット記録ヘッド用基板には、隣接する
発熱抵抗体間にノズル壁を設けることによりインクの通
路となるノズルが形成される。
クジェット記録ヘッド用基板の保護層との接合部分の第
2の保護層を切欠し、第1の保護層を露出させ、ノズル
壁の一部が第1の保護層と接合する構成とし、これによ
りインクジェット記録ヘッド用基板とノズル壁との密着
性を確保するものである。
護層の下部に位置する電極の段差部分が少なくとも第2
の保護層によって覆われた状態となるように、該第2の
保護層の一部を切欠することにより形成される。
施される当該切欠郡分は、電極の段差部分の端部から少
なくとも1μm以上、好ましくは2μm以上を残して第
2の保護層を切欠することで形成される。この場合、所
望のマスク合わせ精度が確保できる。
幅は、電極段差部分が上述した程度覆われており、切欠
部から第1の保護層が確実に露出する限りにおいて、い
かなる幅も適宜選択される。具体的には、電極の幅が8
μm〜30μmであって電極段差部分覆幅を2μmとし
た場合、切欠部分の幅は4μm〜26μmとされる。ま
た、同様に電極段差部分覆幅を1μmとした場合、切欠
部分の幅は6μm〜28μm程度とされる。
フィー技術の解像度の観点からすると少なくとも切欠部
分の幅は2μm程度、より好ましくは4μm以上の幅と
されるのが好ましい。
向上させるにあたっては、前述のように第2の保護層に
施される切欠部分の幅だけに限らず、第2の保護層に施
される切欠部分の長さと切欠部分を設ける位置とが影響
する。
は、切欠部から第1の保護層が確実に露出する限りにお
いて、いかなる幅も適宜選択されるが、具体的には、5
μm程度、より好ましくは10μm以上とされる。
位置は、吐出口側から切欠部分の前端部までの距離は、
好ましくは150μm以内、より好ましくは120μm
以内とされる。また、ノズルの後端部から切欠部分後端
部までの距離は、=好ましくは100μm以内、より好
ましくは50μm以内とされる。第2の保護層に施され
る切欠部分をこのような位置に設けることでノズル壁と
第1の保護層との密着性を確保することができる。
は、上述の幅、長さ、位置のそれぞれの条件を満足する
限り、図1(a)中の実線で示す切欠部分の開口中心L
lと一点鎖線で示す電極幅の中心L2とが一致している
必要性は必ずしもない。また、図3(b)中の2点鎖線
で示すノズル壁の中心L3と切欠部の中心Llとが一致
していなくてもよい。ただし、切欠部分の開口中心と電
極及び/又はノズル壁の中心とが一致するようにするこ
とがバランスのとれた接合状態を確保するについて好ま
しい。
リソグラフィー法によるパターニングを行った後に、ド
ライエッチング法によるエッチングにより形成できる。
なお、前記パターニングは、印刷法を利用したパターニ
ングにより行ってもよい。前記エッチングは、ウエット
エッチング法により行ってもよい。
分であって、第1の保護層の露出部分をシランカップリ
ング材で覆われるようにしている。これによりノズル壁
とインクジェット記録ヘッド用基板との好ましい密着状
態が確保される。
ング材としては、一般式:YRSiX3で表されるオル
ガノファンクショナルシランが使用される。該化学式に
おいてXは、ケイ素原子に結合している加水分解基であ
って、具体的にはクロル基、アルコキシ基、アセトキシ
基の中から選択されるものである。Yは、有機マトリッ
クスと反応する有機官能基であって、ビニル基、メタク
リル基、アクリル基、エポキシ基、グリシドキシ基、ア
ミノ基、メルカプト基の中から選択されるものである。
クショナルシランは、反応性の有機シリコーン・モノマ
ーで、1つの分子中に有機相と無機相の両方にそれぞれ
反応して化学的に結合する官能基を持つ化合物である。
ング材の中のYがアクリル基、エポキシ基またはメルカ
プト基であるオルガノフアンクショナルシランが良好な
密着性の向上をもたらすことから特に好ましい。具体的
には、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、β−(3、4エポキシシクロヘキシル)一エチルメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ一メルカプトプロピルトリメトキシシランで
ある。
域が上記シランカップリング材により覆われていればよ
い。好ましい態様においては、第2の保護層が切欠され
て第1の保護層が露出している部分のみシランカップリ
ング材で選択的に覆われるようにする。前記切欠部分に
施されるシランカップリング材は密着向上効果を十分に
発揮されるようにするために好ましくは0.1μm〜1
μm、より好ましくは0.5μm以下の膜厚となるよう
にされる。
スピンコート法、ロールコート法、印刷法、スプレー
法、ディップコーティング法などにより行われる。これ
らの塗布方法の中、膜厚制御が容易にできる観点からス
ビンコート法、ロールコート法が特に好ましい。
分であって、第1の保護層の露出部分をコートするに際
して、シランカップリング材に代えて、前述したシラン
カップリング材の1種又はそれ以上と所定の無機化合物
とからなる材料を使用することができる。
iX3で表されるオルガノファンクショナルシランと所
定の無機化合物とを有機溶媒に溶解し、得られた溶液を
乾燥し加熱することで得られる材料(以下、これを混合
材料という。)である。この材料を使用した場合、前述
した記録ヘッド用基板とノズル壁との密着性向上の効果
が得られると同時に第1の保護層の耐久性の弱い部分対
してこの混合材料が作用して電極や発熱抵抗体に対する
保護特性が向上し、極めて高い耐圧性を備えることがで
きる。
在するイオンの透過を良好に防止する機能を有している
からである。したがって、インク中のイオンの透過が防
止されるため電極の腐食を抑制できるのである。また、
溶液に溶ける材料であるので、塗布することで第1の保
護層の欠陥部を目止めすることができる。
記無機化合物としては、Si(0H)4、CH3Si(0
H)3、アルキシラノール化合物等のケイ素化合物、一
般式:M(0R)n で表される化合物、一般式:M(0
H)n で表される化合物(但し、式中MはAl、Zr、
Ti、MgまたはFeである。)が挙げられる。これら
の無機化合物は1種またはそれ以上を使用することがで
きる。
機化合物は、シランカップリング材溶液中に0.5重量
%〜10重量%含有されていることが好ましく、1重量
%〜6重量%含有されていることがより好ましい。ま
た、加熱処理の温度は200℃乃至500℃、より好ま
しくは300℃ないし400℃とされる。
すに際しては、前述のシランカップリング剤の塗布方法
と同様にスピンコート法、ロールコート法、印刷法、ス
プレー法、ディップコーティング法などにより行われ
る。
使用して記録ヘッドを使用して記録を行う際に、使用さ
れるインクとしては記録剤と水及び有機溶剤から成るイ
ンクが使用される。
が1〜20cps、表面張力が30〜70dyn/cm
の物性値のものを包含する。また、そうしたインクは、
pH値が3〜12の範囲であるものが適宜使用できる。
ッドは、従来のインクジェット記録ヘッドに比ベ、ノズ
ルを高密度に配することができ、しかも高周波数駆動が
可能である。また長尺化された記録ヘッドを一体的に構
成することにも十分対応することができる。
使用されるインクの特性が緩和されるので用紙選択性が
拡大する。また、本発明のインクジェット記録ヘッド
は、耐圧性を向上させることができるため、高電圧低電
流で駆動させられことにより、インクジェット記録ヘッ
ドで使用されるICのコストダウンが図れる。ICのコ
ストダウンは、特に一体的に構成される長尺ヘッドにお
いて有効である。
インクジェットヘッドカートリッジ(IJC)として装
着したインクジェットヘッド記録装置(IJRA)の一
例の外観斜視図を図6に示す。
トリッジ(以下、「IJC」という)120は、プラテ
ン124上に送紙されてきた記録紙の記録面に対向して
インク吐出を行うものである。IJCl20を保持する
キャリッジHC116は、駆動モータ117の駆動力を
伝達する駆動ベルト118の一部と連結し、互いに平行
に配設された2本のガイドシャフト119Aおよび11
9Bと摺動可能とすることにより、IJCl20の記録
紙の全幅にわたる往復移動が可能となる。
録ヘッドを有するインクジェットヘッドカートリッジを
取り上げたが、記録紙の記録可能幅に対応して記録を行
うことができるフルラインタイプのような記録ヘッドを
用いることができることはもちろんであって、この様な
長尺な記録ヘッドを用いた場合は、短い記録ヘッドを用
いた場合の画像の乱れが無いという特徴、高速記録を行
うことができるという特徴を生かすことができる、記録
装置を得ることができる。
へッド回復装置126を有しており、へッド回復装置1
26はIJCl20の移動経路の一端、例えばホームポ
ジションと対向する位置に配設される。伝動機構123
を介したモータ122の駆動力によって、ヘッド回復装
置126を動作せしめ、IJCl20のキャッピングを
行う。このへッド回復装置126のキャップ部126A
によるIJCl20ヘのキャッビングに関連させて、ヘ
ッド回復装置126内に設けた適宜の吸引手段によるイ
ンクの吸引もしくはIJCl20ヘのインク供給経路に
設けた適宣の加圧手段によるインクの圧送を行い、イン
クを吐出口より強制的に排出させることによりノズル内
の増粘インクを除去する等の吐出回復処理を行う。ま
た、記録終了時にキャッピングを施すことによりIJC
が保護される。
ンゴムで形成されるワイッピング部材としてのブレード
130が配設されている。ブレード130はブレード保
持材130Aにカンチレバー形態で保持され、ヘッド回
復装置126と同様、モータ122および伝動機構12
3によって動作し、IJCl20の記録動作における適
切なタイミングで、あるいはへッド回復装置126を用
いた吐出回復処理後に、ブレード130をIJCl20
の移動経路中に突出させ、IJCl20の移動動作に伴
ってIJCl20の吐出面における結露、濡れあるいは
塵挨等をふきとるものである。
クを吐出させるための電気信号付与手段を有している。
また、記録装置としては上述のような記録紙に記録を行
う形態だけで無く、布等に模様を記録する捺染装置も、
その態様である。この捺染装置に於いては、非常に幅の
広い布に対しては高速で記録を行う必要があるため、長
尺で良好な記録ヘッドの適用は特に望ましいものであ
る。
中でも熱エネルギーでインクを吐出させる方式のインク
ジェット記録ヘッド及びインクジェット記録装置に於い
て、優れた効果をもたらすものである。
いては、例えば、米国特許第4723129号明細書、
同4740796号明細書に開示されている基本的な原
理を用いておこなうものが好ましい。この方式は所謂オ
ンデマンド型、コンティニアス型のいずれにも適用可能
であるが、特に、オンデマンド型の場合には、液体(イ
ンク)が保持されているシートや液路に対応して配置さ
れている電気熱変換体に、記録情報に対応して核沸騰を
越える急速な温度上昇を与える少なくとも一つの駆動信
号を印加することによって、電気熱変換体に熱エネルギ
ーをを発生せしめ、記録ヘッドの熱作用面に膜沸騰させ
て、結果的にこの駆動信号に一対一対応し液体(イン
ク)内の気泡を形成できるので有効である。
介して液体(インク)を吐出させて、少なくとも一つの
滴を形成する。この駆動信号をパルス形状とすると、即
時適切に気泡の成長収縮が行われるので、特に応答性に
優れた液体(インク)の吐出が達成でき、より好まし
い。このパルス形状の駆動信号としては、米国特許第4
463359号明細書、同4345262号明細書に記
載されているようなものが適している。尚、上記熱作用
面の温度上昇率に関する発明の米国特許第431312
4号明細書に記載されている条件を採用すると、更に優
れた記録を行うことができる。
は、上述の各明細書に開示されているような吐出口、液
路、電気熱変換体の組合わせ構成(直線状液流路文は直
角液流路)の他に熱作用面が屈曲する領域に配置されて
いる構成を開示する米国特許第4558333号明細
書、同4459600号明細書を用いた構成も本発明に
有効である。
通するスリットを電気熱変換体の吐出部とする構成を開
示する特開昭59年第123670号公報や熱エネルギ
ーの圧力波を吸収する開孔を吐出部に対応させる構成を
開示する特開昭59年第138461号公報に基づいた
構成としても本発明は有効である。
る最大記録媒体の幅に対応した長さを有するフルライン
タイプの記録ヘッドにおいては、前述したように、上述
した効果を一層有効に発揮することができる。
置本体との電気的な接続や装置本体からのインクの供給
が可能になる交換自在のチップタイプの記録ヘッド、あ
るいは記録ヘッド自体に一体的に設けられたカートリッ
ジタイブの記録ヘッドを用いた場合にも本発明を適用す
ることができる。
ては黒色等の主流色のみの記録モードだけでなく、記録
ヘッドを一体的に構成するか複数個の組合わせによって
でもよいが、異なる色の複色カラー又は、混色によるフ
ルカラーの少なくとも一つを備えた装置にも本発明は極
めて有効である。
て説明しているが、室温やそれ以下で固化するインクで
あって、室温で軟化もしくは液体或は、上述のインクジ
ェットではインク自体を30℃以上70℃以下の範囲で
温度調整を行ってインクの粘性を安定吐出範囲にあるよ
うに温度制御するものが一般的であるから、吐出用の記
録信号付与時のインクが液状をなすものであれば良い。
本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるもので
はない。
ベる。
m、発熱抵抗体の長さが100μm、隣接する発熱抵抗
体の間隔が70.5μmとなるように発熱抵抗体を12
8個、ノズル壁の下方に配される電極の幅が20μmと
なるように電極を実験例Aに示した作成方法にしたがっ
て作成した。
iO2、第2の保護層としてTaを実験例Aに示した作
成方法にしたがって作成した。
れた第2の保護層を幅10μmの切欠部を作成した。こ
のようにして作成された記録ヘッド用基板に対して実験
例Bに第1のノズル作成方法として示された作成方法に
したがってノズルを形成し記録ヘッドを得た。
に貼り付け、さらに電気接続するためにPCBを貼り付
けた。
とPCBを電気的に接続した。さらに天板に設けられた
インク供給用開口にインク供給チューブを接着剤で接着
した。
A−1を作成した。 ・評価用記録ヘッドユニットA−2 評価用記録ヘッドユニットA−1で基体上に形成された
発熱抵抗体の数を1024個とした他は、評価用記録ヘ
ッドユニットA−1と同様の作成方法により評価用記録
ヘッドユニットA−2を得た。 ・評価用記録ヘッドユニットA−3 評価用記録ヘッドユニットA−1で基体上に形成された
第1の保護層をTa205とし、第2の保護層をCrとし
た他は、評価用記録ヘッドユニットA−1と同様の作成
方法により評価用記録ヘッドユニットA−3を得た。 ・評価用記録ヘッドユニットA−4 評価用記録ヘッドユニットA−2で基体上に形成された
第1の保護層をTa205とし、第2の保護層をCrとし
た他は、評価用記録ヘッドユニットA−2と同様の作成
方法により評価用記録ヘッドユニットA−4を得た。 ・評価用記録ヘッドユニットA−5 評価用記録ヘッドユニットA−1で基体上に形成された
第1の保護層をSi3N4とし、第2の保護層をPtとし
た他は、評価用記録ヘッドユニットA−1と同様の作成
方法により評価用記録ヘッドュニットA−5を得た。 ・評価用記録ヘッドユニットA−6 評価用記録ヘッドユニットA−2で基体上に形成された
第1の保護層をSi3N4とし、第2の保護層をPtとし
た他は、評価用記録ヘッドユニットA−2と同様の作成
方法により評価用記録ヘッドユニットA−6を得た。 [比較例A] ・比較評価用記録ヘッドユニットA−1 評価用記録ヘッドユニットA−1で第2の保護層に切欠
部を形成しない他は評価用記録ヘッドユニットA−1と
同様の作成方法により比較評価用記録ヘッドユニットA
−1を得た。 ・比較評価用記録ヘッドユニットA−2 評価用記録ヘッドユニットA−3で第2の保護層に切欠
部を形成しない他は評価用記録ヘッドユニットA−3と
同様の作成方法により比較評価用記録ヘッドユニットA
−2を得た。 ・比較評価用記録ヘッドユニットA−3 評価用記録ヘッドユニットA−5で第2の保護層に切欠
部を形成しない他は評価用記録ヘッドユニットA−5と
同様の作成方法により比較評価用記録ヘッドユニットA
−3を得た。
00個作成した。
で示したインクAとインクBと使用して、それぞれのイ
ンクについて以下に示す駆動条件で、インクのにじみ率
のバラツキを所定の範囲内に納めた所定の紙に対してイ
ンクを吐出させ印字試験を行った。
ユニットの送り速度は、70.5μm/秒とした。
0V以下) 駆動パルス幅 3μSeC 駆動周波数 6kHz 印字サンプルに対し、評価用記録ヘッドユニット作成初
期、1×lO8パルス印加後、1×lO9パルス印加後に
それぞれ、以下にしめす1.印字精度、2.印字濃度む
らを下記の方法にしたがって評価した。 1.印字精度 測定目もりつきの拡大顕微鏡を用い、印字サンプルの印
字ドット間隔を測定した。1測定範囲を2cm角とし、
印字サンプルの任意の10か所を選んで測定した。
ヘッドユニットの送り方向をY方向とし、X方向、Y方
向の両方についてドット間隔を測定し、ドット間隔が9
0.5μm乃至50.5μmの範囲のものを○、この範
囲をはずれたものを×とした。 2.印字濃度むらの評価 印字サンプルをマクベス濃度計を用いて測定した。印字
サンプル全面をCCDスキャナーで読み取り、ヘッドユ
ニット送り方向と垂直に1cmごとに光学濃度を測定し
た。評価の基準は、印字サンプルの隣り合う領域の光学
濃度が0.2以内のものを○とし、その範囲をはずれた
ものを×とした。インクAを使用して行った印字評価の
結果を表25に、インクBを使用して行った印字評価の
結果を表26に示した。
極の段差部を被覆した状態であって、ノズル壁との接合
面の一部を第1の保護層が露出するように第2の保護層
をエッチングによって切欠することで、良好な接合性が
確保されたことが確認された。試験した評価用記録ヘッ
ドユニットにおいては、試験後に電極あるいは発熱抵抗
体の破壊は観測されなかった。
〜A−6及び各比較評価用記録ヘッドユニットA−1〜
A−3のノズル壁を実験例Bの第2のノズル作成方法で
作成した他は、評価用記録ヘッドユニットA−1〜A−
6及び各比較評価用記録ヘッドユニットA−1〜A−3
同様の方法で形成した評価用記録ヘッドユニットについ
ても前述と同様の条件で印字評価を行ったところ、上記
した印字評価の結果と同様の結果を得た。
る発熱抵抗体の幅を20μm、発熱抵抗体の長さを80
μm、隣接する発熱抵抗体の間隔を35μmとし、これ
を1024本形成し、ノズル壁の下方に配される電極の
幅を10μmとし、さらに第2の保護層の切欠部の幅を
5μmとし、この第2の保護層の切欠部に実験例Cの表
18中のシランカップリング材No.9を実験例Cに示
される方法により塗布形成した他は、評価用記録ヘッド
ユニットA−1と同様の作成方法により評価用記録ヘッ
ドユニットB−1を得た。 ・評価用記録ヘッドユニットB−2 評価用記録ヘッドユニットB−1で基体上に形成された
第1の保護層をTa205とし、第2の保護層をCrとし
た他は、評価用記録ヘッドユニットB−1と同様の作成
方法により評価用記録ヘッドユニットB−2を得た。 ・評価用記録ヘッドユニットB−3評価用記録ヘッドユ
ニットB−1で基体上に形成された第1の保護層をSi
3N4とし、第2の保護層をPtとした他は、評価用記録
ヘッドユニットB−1と同様の作成方法により評価用記
録ヘッドュニットB−3を得た。 [比較例B] ・比較評価用記録ヘッドユニットB−1 評価用記録ヘッドユニットB−1で第2の保護層に形成
された切欠部に対してシランカップリング材を塗布しな
い他は、評価用記録ヘッドユニットB−1と同様の作成
方法により比較評価用記録ヘッドユニットB−1を得
た。 ・比較評価用記録ヘッドユニットB−2 評価用記録ヘッドユニットB−2で第2の保護層に形成
された切欠部に対してシランカップリング材を塗布しな
い他は、評価用記録ヘッドユニットB−2と同様の作成
方法により比較評価用記録ヘッドユニットB−2を得
た。 ・比較評価用記録ヘッドユニットB−3 評価用記録ヘッドユニットB−3で第2の保護層に形成
された切欠部に対してシランカップリング材を塗布しな
い他は、評価用記録ヘッドユニットB−3と同様の作成
方法により比較評価用記録ヘッドユニットB−3を得
た。
00個作成した。
で示したインクAとインクBと使用して、それぞれのイ
ンクについて、実施例Aに示したと同様の条件で評価試
験を行い、1.印字精度、2.印字濃度むらを測定し、
実験例Aと同様の基準で印字評価を行った。
を表27に、インクBを使用して行った印字評価の結果
を表28に示した。
及び電極の段差部を被覆した状態であって、ノズル壁と
の接合面の一部を第1の保護層が露出するように第2の
保護層をエッチングによって切欠した面に所定の選定さ
れたシランカップリング材を塗布することにより、シラ
ンカップリング材を塗布しない評価用記録ヘッドユニッ
トに比較して、長期にわたる接合の信頼性を確保するこ
とができた。試験した評価用記録ヘッドユニットは試験
後、電極、発熱抵抗体の破壊は観測されなかった。
〜B−3及び各比較評価用記録ヘッドユニットB−1〜
B−3のノズル壁を実験例Bの第2のノズル作成方法で
作成した他は、評価用記録ヘッドユニットB−1〜B−
3及び各比較評価用記録ヘッドユニットB−1〜B−3
と同様の方法で形成した評価用記録ヘッドユニットにつ
いても前述と同様の条件で印字評価を行ったところ、上
記した印字評価の結果と同様の結果を得た。
個とし、基板長さを約300mmとし、さらに第2の保
護層の切欠部に対して実験例Cの表18中のシランカッ
プリング材No.9にケイ素化合物としてSi(0H)
4を混合した混合材料を塗布した他は、評価用記録ヘッ
ドユニットB−1と同様の作成方法により評価用記録ヘ
ッドユニットC−1を得た。 ・評価用記録ヘッドユニットC−2 評価用記録ヘッドユニットC−1で基体上に形成された
第1の保護層をTa205とし、第2の保護層をCrとし
た他は、評価用記録ヘッドユニットC−1と同様の作成
方法により評価用記録ヘッドユニットC−2を得た。 ・評価用記録ヘッドユニットC−3 評価用記録ヘッドユニットC−1で基体上に形成された
第1の保護層をSi3N4とし、第2の保護層をPtとし
た他は、評価用記録ヘッドユニットC−1と同様の作成
方法により評価用記録ヘッドュニットC−3を得た。 [比較例C] ・比較評価用記録ヘッドユニットC−1 評価用記録ヘッドユニットC−1で第2の保護層に形成
された切欠部に対してケイ素化合物を混合しないシラン
カップリング材を塗布した他は、評価用記録ヘッドユニ
ットC−1と同様の作成方法により比較評価用記録ヘッ
ドユニットC−1を得た。 ・比較評価用記録ヘッドユニットC−2 評価用記録ヘッドユニットC−2で第2の保護層に形成
された切欠部に対してケイ素化合物を混合しないシラン
カップリング材を塗布した他は、評価用記録ヘッドユニ
ットC−2と同様の作成方法により比較評価用記録ヘッ
ドユニットC−2を得た。 ・比較評価用記録ヘッドユニットC−3 評価用記録ヘッドユニットB−3で第2の保護層に形成
された切欠部に対してケイ素化合物を混合しないシラン
カップリング材を塗布した他は、評価用記録ヘッドユニ
ットC−3と同様の作成方法により比較評価用記録ヘッ
ドユニットC−3を得た。
00個作成した。
で示したインクAとインクBとを使用して、それぞれの
インクについて、評価用記録ヘッドユニットC−1〜C
−3では駆動電圧を29.0V、駆動電流39.5mA
とし、比較評価用記録ヘッドユニットC−1〜C−3で
は駆動電圧を19.5V、駆動電流60.5mAとした
他は、実施例Aに示したと同様の条件で評価試験を行
い、1.印字精度、2.印字濃度むらを測定し、実験例
Aと同様の基準で印字評価を行った。
を表29に、インクBを使用して行った印字評価の結果
を表30に示した。
った100ヘッドサンプル中、1ヘッド以上で1ビット
以上の電極部分の電蝕、あるいは断線が確認された。
うに、発熱抵抗体及び電極の段差部を被覆した状態であ
って、ノズル壁との接合面の一部を第1の保護層が露出
するように第2の保護層をエッチングによって切欠した
面に所定の選定されたシランカップリング材に所定のケ
イ素化合物を混合させたもので処理をすることにより、
シランカップリング処理をしないへッドユニットに比較
して、長期にわたる接合の信頼性が確保でき、しかも高
電圧駆動によっても電極や発熱抵抗体が破壊することな
く記録ヘッドの信頼性の向上も同時に達成できた。
〜C−3及び各比較評価用記録ヘッドユニットC−1〜
C−3のノズル壁を実験例Bの第2のノズル作成方法で
作成した他は、各評価用記録ヘッドユニットC−1〜C
−3及び各比較評価用記録ヘッドユニットC−1〜C−
3と同様の方法で形成した評価用記録ヘッドユニットに
ついても前述と同様の条件で印字評価を行ったところ、
上記した印字評価の結果と同様の結果を得た。
の構成が適用された液体噴射記録ヘッドは、高密度、高
周波数駆動を達成するために、基板とノズル壁との接合
面積が減少したとしても十分な接着性が確保できるた
め、信頼性に優れた記録ヘッドによって高品位記録が高
速で達成できる。また、使用可能なインク特性の制限も
緩和されるので、記録用紙の選択の幅が拡大し、汎用性
が高まる。さらに、高密度かつ長尺のへツドであっても
基板とノズル壁との接合の信頼性が確保されるため、更
なる高速記録化に対応することができる。加えて、高電
圧駆動を可能とするため、駆動電流を低く出来、記録ヘ
ッドに使用される駆動ICのコストダウンが図れ、これ
により記録ヘッド単体の価格の低減を図ることができ
る。このように改善された記録ヘッドを搭載した記録装
置は極めて信頼性が高く、かつ有用性が高い。
用基板の概略を示す図であり、(a)は平面図、(b)
は(a)をX−Y線で破断した断面図である。
の一例の概略を示す図であり、(a)は概略斜視図、
(b)は平面図、(c)は(b)をX−Y線で破断した
断面図である。
の一例の概略を示す図であり、(a)は概略斜視図、
(b)は平面図、(c)は(b)をX−Y線で破断した
断面図である。
例を順を追って示す概略図である。
の例を順を追って示す概略図である。
されるインクジェット記録装置の一例を示す斜視図であ
る。
図であり、(A)は分解斜視図、(B)は断面図であ
る。
を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)をX
−Y線で破断した断面図である。
C) 122 モータ 123 伝動機構 124 プラテン 126 ヘッド回復装置 126A キャップ部 130 ブレード 130A ブレード保持材
Claims (9)
- 【請求項1】 基体上にインクを吐出するために利用さ
れる熱エネルギーを発生する発熱抵抗体と該発熱抵抗体
に電気的に接続された一対の電極とが配され、それらの
上部に第1の保護層と第2の保護層とが順に積層されて
構成された基板と、前記基板上に形成されるノズル構造
体と、によって構成されるインクジェット記録ヘッドに
おいて、 前記基板と前記ノズル構造体とが接着される部分に位置
する前記第2の保護層が前記電極によって形成される前
記基体との段差部分が少なくとも前記第2の保護層によ
って覆われた状態で一部切欠されていることを特徴とす
るインクジェット記録ヘッド。 - 【請求項2】 前記切欠部を介して前記ノズル構造体は
前記第1の保護層と接着されていることを特徴とする請
求項1に記載のインクジェット記録ヘッド。 - 【請求項3】 前記切欠部を介して前記ノズル構造体と
接着される前記第1の保護層上にはシランカップリング
材を含む層を有していることを特徴とする請求項2に記
載のインクジェット記録ヘッド。 - 【請求項4】 前記切欠部を介して前記ノズル構造体と
接着される前記第1の保護層上にはシランカップリング
材の1種またはそれ以上と無機化合物とを混合した材料
を含む層を有していることを特徴とする請求項2に記載
のインクジェット記録ヘッド。 - 【請求項5】 前記記録ヘッドはインクが充填されてい
ることを特徴とする請求項1に記載のインクジェット記
録ヘッド。 - 【請求項6】 基体上にインクを吐出するために利用さ
れる熱エネルギーを発生する発熱抵抗体と該発熱抵抗体
に電気的に接続された一対の電極とが配され、それらの
上部に第1の保護層と第2の保護層とが順に積層されて
構成された基板と、前記基板上に形成されるノズル構造
体と、によって構成され、前記基板と前記ノズル構造体
とが接着される部分に位置する前記第2の保護層が前記
電極によって形成される前記基体との段差部分が少なく
とも前記第2の保護層によって覆われた状態で一部切欠
されていることを特徴とするインクジェット記録ヘッド
と、 該記録ヘッドを駆動するための信号付与手段と、を備え
たことを特徴とするインクジェット記録装置。 - 【請求項7】 基体上に発熱抵抗体と該発熱抵抗体に電
気的に接続された一対の電極とを形成する工程と、発熱
抵抗体と電極を含む基体上部に第1の保護層と第2の保
護層とを順に積層して基板を調整する工程と、該基板上
にノズル構造体を配する工程と、からなるインクジェッ
ト記録ヘッドの製造方法において、 前記ノズル構造体と前記基板との接着面に位置する前記
第2の保護層を前記電極によつて形成される前記基体と
の段差部が少なくとも前記第2の保護層によって覆われ
た状態を呈するように一部分を切欠して前記第1の保護
層を露出させるようにする工程をさらに包含することを
特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項8】 前記ノズル構造体と前記第2の保護層を
切欠して露出形成された第1の保護層との接合部分にシ
ランカップリング材を塗布する工程を更に有することを
特徴とする請求項7に記載のインクジェット記録ヘッド
の製造方法。 - 【請求項9】 前記ノズル構造体と前記第2の保護層を
切欠して露出形成された第1の保護層との接合部分にシ
ランカップリング材の1種またはそれ以上と無機化合物
とを混合した材料を塗布する工程を更に有することを特
徴とする請求項7に記載のインクジェット記録ヘッドの
製造方法。
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