JPS58224757A - インクジェット記録ヘッドの製造方法 - Google Patents
インクジェット記録ヘッドの製造方法Info
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- JPS58224757A JPS58224757A JP10944682A JP10944682A JPS58224757A JP S58224757 A JPS58224757 A JP S58224757A JP 10944682 A JP10944682 A JP 10944682A JP 10944682 A JP10944682 A JP 10944682A JP S58224757 A JPS58224757 A JP S58224757A
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- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
は、所謂インクジェット記録方式に用いる、記録用イン
ク小滴を発生させるためのインクジェット記録ヘッドの
製造方法に関する。
ク小滴を発生させるためのインクジェット記録ヘッドの
製造方法に関する。
インクジェット記録方式に適用されるインクジェット記
録ヘッドは、一般に、インク吐出口(オリフィス)、イ
ンク通路及びこのインク通路の一部に設けられるインク
吐出圧発生部を備えている。
録ヘッドは、一般に、インク吐出口(オリフィス)、イ
ンク通路及びこのインク通路の一部に設けられるインク
吐出圧発生部を備えている。
従来、この様なインクジェット記録ヘッドを作成する方
法として、例えば、ガラスや金属の板に切削やエツチン
グ等により、微細な溝を形成した後、この溝を形成した
板を他の適当な板と接合してインク通路の形成を行なう
方法が知られている。
法として、例えば、ガラスや金属の板に切削やエツチン
グ等により、微細な溝を形成した後、この溝を形成した
板を他の適当な板と接合してインク通路の形成を行なう
方法が知られている。
しかし、斯かる従来法によって作成されるヘッドでは、
切削加工されるインク通路内壁面の荒れが大き過ぎたり
、エツチング1C差からインク通路に歪が生じたりして
、精度の良いインク通路が得難く、製作後のインクジェ
ット記録ヘッドのインク吐出特性にバラツキが出易い。
切削加工されるインク通路内壁面の荒れが大き過ぎたり
、エツチング1C差からインク通路に歪が生じたりして
、精度の良いインク通路が得難く、製作後のインクジェ
ット記録ヘッドのインク吐出特性にバラツキが出易い。
また、切削加工の際に、板の欠けや割れが生じ易く、製
造歩留りが悪いという欠点もある。そして、エツチング
加工を行なう場合は、製造工程が多く、製造コストの上
昇を招くという不利がある。更に、上記した従来法に共
通する欠点としては、インク通路溝を形成した溝付板と
、インクに作用するエネルギーを発生する圧電素子、発
熱素子等の駆動素子が設けられた蓋板との貼合せの際に
夫々の位置合せ全精度良く行うことが困難であって量産
性に欠ける点が挙げられる。
造歩留りが悪いという欠点もある。そして、エツチング
加工を行なう場合は、製造工程が多く、製造コストの上
昇を招くという不利がある。更に、上記した従来法に共
通する欠点としては、インク通路溝を形成した溝付板と
、インクに作用するエネルギーを発生する圧電素子、発
熱素子等の駆動素子が設けられた蓋板との貼合せの際に
夫々の位置合せ全精度良く行うことが困難であって量産
性に欠ける点が挙げられる。
これ等の欠点が解決できるインクジェット記録ヘッドの
製造法として、感光性樹脂の硬化膜によりインク通路壁
を形成する方法が、例えば特開昭57っグ3と7乙号に
より知られて゛いる。この方法によれば、インク流路が
精度良く、正確に、且つ歩留り良く微細加工される。ま
た、量産化も容易であり、安価なインクジェット記録ヘ
ッドを提供することができるため優れた方法であるとい
える。
製造法として、感光性樹脂の硬化膜によりインク通路壁
を形成する方法が、例えば特開昭57っグ3と7乙号に
より知られて゛いる。この方法によれば、インク流路が
精度良く、正確に、且つ歩留り良く微細加工される。ま
た、量産化も容易であり、安価なインクジェット記録ヘ
ッドを提供することができるため優れた方法であるとい
える。
しかし、この様に改良された製造法により提供されたイ
ンクジェット記録ヘッドでは、前記欠点は解決されたも
のの、インクの長期浸漬に対し基板と感光性樹脂硬化膜
の密着力が徐々に低下し、微少な剥れが生じ、インク滴
の直進性、すなわち着弾点精度に影響を与えていや。こ
のことは、近年インクジェット記録方式が高密度ノズル
によって高解像度の画質が要求される中で、大きな障害
本発明は、上記欠点に鑑み成されたもので、精密であシ
、しかも信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを製造
するための新規な方法を提供することを目的とする。ま
た、インク通路が精度良く且つ設計に忠実に微細加工さ
れた構成を有するインクジェット記録ヘッドを、簡略な
方法により歩留り良く製造する方法を提供することも本
発明の目的である。更に、使用耐久性に優れたインクジ
ェット記録ヘッドの製造法を提供することも本発明の他
の目的である。
ンクジェット記録ヘッドでは、前記欠点は解決されたも
のの、インクの長期浸漬に対し基板と感光性樹脂硬化膜
の密着力が徐々に低下し、微少な剥れが生じ、インク滴
の直進性、すなわち着弾点精度に影響を与えていや。こ
のことは、近年インクジェット記録方式が高密度ノズル
によって高解像度の画質が要求される中で、大きな障害
本発明は、上記欠点に鑑み成されたもので、精密であシ
、しかも信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを製造
するための新規な方法を提供することを目的とする。ま
た、インク通路が精度良く且つ設計に忠実に微細加工さ
れた構成を有するインクジェット記録ヘッドを、簡略な
方法により歩留り良く製造する方法を提供することも本
発明の目的である。更に、使用耐久性に優れたインクジ
ェット記録ヘッドの製造法を提供することも本発明の他
の目的である。
この様な諸口的を達成した本発明のインクジェット記録
ヘッドの製造法は、インク吐出圧発生素子を設置した基
板上に無機酸化物及び/又は無機窒化物からなる保護層
を設けこの保護層の表面をシランカップリング剤で処理
し、しかる後に、感光性樹脂の硬化膜から成るインク通
路壁を形成し、次いで覆いを設けることを特徴にしてい
る。
ヘッドの製造法は、インク吐出圧発生素子を設置した基
板上に無機酸化物及び/又は無機窒化物からなる保護層
を設けこの保護層の表面をシランカップリング剤で処理
し、しかる後に、感光性樹脂の硬化膜から成るインク通
路壁を形成し、次いで覆いを設けることを特徴にしてい
る。
以下、図面に基づいて本発明の詳細な説明する。
第1図乃至第3図は本発明方法に従うインクジェット記
録ヘッドの製作工程を例示する模式図である。
録ヘッドの製作工程を例示する模式図である。
第1図の工程では、ガラス、セラミック、プラスチック
、或は金属等の基板/上に発熱素子やピエゾ素子等のイ
ンク吐出圧発生素子、2を所望の個数配置し、電気絶縁
性を付与する目的で、5in2゜Ta * Ox 、
Al201 、ガラス、 Stm N4 + BN等の
無機酸化物及び/又は無機窒化物からなる保護層3を被
覆する。これら無機酸化物、無機窒化物は、後述する感
光性樹脂硬化膜との密着力を向上させるために行なうシ
ランカップリング剤処理の効果を充分に発揮させる材料
である。尚、インク吐出圧発生素子2には図示されてい
ないが、信号入力用電極が接続しである。
、或は金属等の基板/上に発熱素子やピエゾ素子等のイ
ンク吐出圧発生素子、2を所望の個数配置し、電気絶縁
性を付与する目的で、5in2゜Ta * Ox 、
Al201 、ガラス、 Stm N4 + BN等の
無機酸化物及び/又は無機窒化物からなる保護層3を被
覆する。これら無機酸化物、無機窒化物は、後述する感
光性樹脂硬化膜との密着力を向上させるために行なうシ
ランカップリング剤処理の効果を充分に発揮させる材料
である。尚、インク吐出圧発生素子2には図示されてい
ないが、信号入力用電極が接続しである。
次に、第1図の工程で得られた基板/の表面を浄化し、
とθ℃〜/jθ℃で70分間乾燥させた後、シランカッ
プリング剤、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、分子構造式H8(CH,)。
とθ℃〜/jθ℃で70分間乾燥させた後、シランカッ
プリング剤、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、分子構造式H8(CH,)。
Si (0CHs)s 、のエチルアルコール/1溶液
を/θθθ〜乙θθOrpmでスピンナーコートした後
、と0℃で70分間加熱し、基板/とシランカップリン
グ剤との反応を促進させると共にシランカップリング剤
層グをθ3μ以下の厚さで積層することにより第2図の
基板が得られる。
を/θθθ〜乙θθOrpmでスピンナーコートした後
、と0℃で70分間加熱し、基板/とシランカップリン
グ剤との反応を促進させると共にシランカップリング剤
層グをθ3μ以下の厚さで積層することにより第2図の
基板が得られる。
本発明方法においては、一般に知られているシランカッ
プリング剤は全て使用でき、その代表的なものを官能基
別にまとめたのが表/である。シランカップリング剤は
、使用する感光性樹脂の組成に基づいて、感光性樹脂側
と反応する適当な官能基を有するシランカップリング剤
を使用することが好ましい。
プリング剤は全て使用でき、その代表的なものを官能基
別にまとめたのが表/である。シランカップリング剤は
、使用する感光性樹脂の組成に基づいて、感光性樹脂側
と反応する適当な官能基を有するシランカップリング剤
を使用することが好ましい。
表7
続いて、シランカップリング剤層グ上にとθ℃〜/θj
℃程度に加温されたドライフィルムフォトレジストS(
膜厚、約、23;μ〜/θθμ)をθ3−’If1分の
速度、/〜3 ky/cdlの加圧条件下でラミネート
する。この時、ドライフィルムフォトレジストSは自己
接着性を示して基板、lの表面に融着して固定され、以
後相当の外力が加わった場合にも基板/から剥離するこ
とはない。
℃程度に加温されたドライフィルムフォトレジストS(
膜厚、約、23;μ〜/θθμ)をθ3−’If1分の
速度、/〜3 ky/cdlの加圧条件下でラミネート
する。この時、ドライフィルムフォトレジストSは自己
接着性を示して基板、lの表面に融着して固定され、以
後相当の外力が加わった場合にも基板/から剥離するこ
とはない。
続いて、第3図に示す様に、基板面に設けたドライフィ
ルムフォトレジストS上に所定のパターンを有するフォ
トマスク乙を重ね合せた後、このフォトマスク乙の上部
から露光を行う。このとき、インク吐出圧発生素子2の
設置位置と上記パターンの位置合せを周知の手法で行っ
ておく必要がある。
ルムフォトレジストS上に所定のパターンを有するフォ
トマスク乙を重ね合せた後、このフォトマスク乙の上部
から露光を行う。このとき、インク吐出圧発生素子2の
設置位置と上記パターンの位置合せを周知の手法で行っ
ておく必要がある。
第9図は、上記露光法みのドライフィルムフォトレジス
トSの未露光部分をトリクロルエタン等の所定の有機溶
剤から成る現像液にて溶解除去した工程を示す説明図で
、インク通路りが形成される。
トSの未露光部分をトリクロルエタン等の所定の有機溶
剤から成る現像液にて溶解除去した工程を示す説明図で
、インク通路りが形成される。
次に、基板/に残されたドライフィルムフォトレジスト
の露光された部分SPの耐インク性向上及びドライフィ
ルムフォトレジストとシランカップリング剤との反応を
完結させるため、熱硬化処理(例えば/SO〜、250
℃で3θ分〜乙時間加熱)又は、紫外線照射(例えばj
0〜2θθmw/cr/l又はそれ以上の紫外線強度で
)を行う。上記熱硬化と紫外線による硬化の両方を兼用
するものも効果的である。
の露光された部分SPの耐インク性向上及びドライフィ
ルムフォトレジストとシランカップリング剤との反応を
完結させるため、熱硬化処理(例えば/SO〜、250
℃で3θ分〜乙時間加熱)又は、紫外線照射(例えばj
0〜2θθmw/cr/l又はそれ以上の紫外線強度で
)を行う。上記熱硬化と紫外線による硬化の両方を兼用
するものも効果的である。
使用したシランカップリング剤層グが溝2内に残存する
と、インク中に溶出してインクを変質させたり或はイン
ク吐出圧発生素子20機能を損う恐れがあるので、溝り
内に露出しているシランカップリング剤層グは、酸素プ
ラズマによって灰化させることなどにより除去すること
が好ましい(第S図)。
と、インク中に溶出してインクを変質させたり或はイン
ク吐出圧発生素子20機能を損う恐れがあるので、溝り
内に露出しているシランカップリング剤層グは、酸素プ
ラズマによって灰化させることなどにより除去すること
が好ましい(第S図)。
第3図は、上記の充分な耳金を終え硬化したドライフィ
ルムフォトレジストjPでインク通路となる溝2の形成
された基板/に覆いとなる平板とを接着剤層7で接着し
て固定したところを示す図であるが、接着剤を用いずに
圧着によって固定してもよい。
ルムフォトレジストjPでインク通路となる溝2の形成
された基板/に覆いとなる平板とを接着剤層7で接着し
て固定したところを示す図であるが、接着剤を用いずに
圧着によって固定してもよい。
第6図に示す工程に於て覆いを付設する具体的方法とし
ては、 /)ガラス、セラミック、金属、プラスチック等の平板
とにエポキシ系接着剤を厚さ3〜グμにスピンナーコー
トした後、予備加熱して接着剤7i所謂、Bステージ化
させ、これを硬化したフォトレジスト膜jP土に貼シ合
せて前記接着剤を本硬化させる。或は、 刀アクリル系樹脂、ABS樹脂、ポリエチレン等の熱可
塑性樹脂の平板とを硬化したフォトレジスト膜jP上に
、直接、熱融着させる方法がある。
ては、 /)ガラス、セラミック、金属、プラスチック等の平板
とにエポキシ系接着剤を厚さ3〜グμにスピンナーコー
トした後、予備加熱して接着剤7i所謂、Bステージ化
させ、これを硬化したフォトレジスト膜jP土に貼シ合
せて前記接着剤を本硬化させる。或は、 刀アクリル系樹脂、ABS樹脂、ポリエチレン等の熱可
塑性樹脂の平板とを硬化したフォトレジスト膜jP上に
、直接、熱融着させる方法がある。
ここで、第ご図示の工程終了後のインクジェット記録ヘ
ッド外観を第7図に、模式的斜視図で示す。第7図中、
ダー/、はインク供給室、2−.2はインク細流路、/
”θはインク供給室?−/に不図示のインク供給管を連
結させる為の貫通孔を示し □゛ている。
ッド外観を第7図に、模式的斜視図で示す。第7図中、
ダー/、はインク供給室、2−.2はインク細流路、/
”θはインク供給室?−/に不図示のインク供給管を連
結させる為の貫通孔を示し □゛ている。
このようにして溝を形成した基板と平板との接合が完了
した後、第7図のc=c’線に沿って切断する。これは
、インク細流路7−2に於て、インク吐出圧発生素子2
とインク吐出口2−3との間隔を最適化するために行う
ものであり、ζこで切断する領域は適宜決定される。こ
の切断に際しては、半導体工業で通常採用されているダ
イシング法が採用される。
した後、第7図のc=c’線に沿って切断する。これは
、インク細流路7−2に於て、インク吐出圧発生素子2
とインク吐出口2−3との間隔を最適化するために行う
ものであり、ζこで切断する領域は適宜決定される。こ
の切断に際しては、半導体工業で通常採用されているダ
イシング法が採用される。
第と図は第7図のz −z’線切断面図である。そして
、切断面を研磨して平滑化し、貫通孔/θにインク供給
管//を取シ付けてインクジェット記録ヘッドが完成す
る(第2図)。
、切断面を研磨して平滑化し、貫通孔/θにインク供給
管//を取シ付けてインクジェット記録ヘッドが完成す
る(第2図)。
以上図面に基づいて説明した実施例に於ては、溝作成用
の感光性組成物(フォトレジスト)としてドライフィル
ムタイプ、つまり固体のものを利用したが、本発明では
、これのみに限定さ−れるものではなく、液状の感光性
組成物も勿論、利用することができる。
の感光性組成物(フォトレジスト)としてドライフィル
ムタイプ、つまり固体のものを利用したが、本発明では
、これのみに限定さ−れるものではなく、液状の感光性
組成物も勿論、利用することができる。
そして、基板上へのこの感光性組成物塗膜の形成法とし
て、液体の場合にはレリーフ画像の製作時に用いられる
ス気、−ジによる方法、すなわち所望の感光性組成物膜
厚に相当する高さの壁を基板の周囲におき、スキージに
よって余分の組成物を除去する方法である。この場合、
感光性組成物の粘度は/θ0cp〜3θθcpの範囲が
好ましく、壁の高さは感光性組成物の溶剤分の蒸発の減
量を見込んで決定する必要がある。
て、液体の場合にはレリーフ画像の製作時に用いられる
ス気、−ジによる方法、すなわち所望の感光性組成物膜
厚に相当する高さの壁を基板の周囲におき、スキージに
よって余分の組成物を除去する方法である。この場合、
感光性組成物の粘度は/θ0cp〜3θθcpの範囲が
好ましく、壁の高さは感光性組成物の溶剤分の蒸発の減
量を見込んで決定する必要がある。
他方、固体の場合は、感光性組成物シートを基板上に加
熱圧着して貼着する。尚、本発明に於ては、その取扱い
上、及び厚さ、の制御が容易且つ正確にできる点で、固
体のフィル、/I−タイプのものを利用する方が有利で
ある。
熱圧着して貼着する。尚、本発明に於ては、その取扱い
上、及び厚さ、の制御が容易且つ正確にできる点で、固
体のフィル、/I−タイプのものを利用する方が有利で
ある。
このような固体のシートとしては、例えば、デュポン社
製パーマネントフォトポリマーコーティングRISTO
N(ソルダーマスク)73θS、同7グθS。
製パーマネントフォトポリマーコーティングRISTO
N(ソルダーマスク)73θS、同7グθS。
同7301R、同71/1OFR,同SM/ 等の商
品名で市販されている感光性樹脂シートがある。この他
、本発明において使用できる感光性組成物としては、感
光性樹脂、フォトレジスト等の通常のフォトリソグラフ
ィーの分野において使用されてぃる感光性組成物の多く
のものが挙げられ、例えば、ジアゾレジン、P−ジアゾ
キノン、更には例えばビニルモノマーと重合開始剤を使
用する光重合型フォトポリマー、ポリビニルシンナメー
ト等と増感剤を使用する二量化型フォトポリマー、オル
ソナフトキノンジアジドとノボラックタイプのフェノ−
/p樹脂との混合物、グーグリシジルエチレンオキシド
とベンゾフェノンやグリシ丸ルコンとを共重合させたポ
リエーテル型フォトポリマー、N、N−ジメチルメタク
リルアミドと例えばアクリルアミドベンゾフェノンとの
共重合体、不飽和ポリエステル系感光性樹脂〔例えばA
PR(旭化成)、テビスタ(奇人)、ゾンネ(関西ペイ
ント)等〕、不飽和ウレタンオリゴマー系感光性樹脂、
三官能アクリルモノマーに光重合開始剤とポリマーとを
混合した感光性組成物、重クロム酸系フオl。
品名で市販されている感光性樹脂シートがある。この他
、本発明において使用できる感光性組成物としては、感
光性樹脂、フォトレジスト等の通常のフォトリソグラフ
ィーの分野において使用されてぃる感光性組成物の多く
のものが挙げられ、例えば、ジアゾレジン、P−ジアゾ
キノン、更には例えばビニルモノマーと重合開始剤を使
用する光重合型フォトポリマー、ポリビニルシンナメー
ト等と増感剤を使用する二量化型フォトポリマー、オル
ソナフトキノンジアジドとノボラックタイプのフェノ−
/p樹脂との混合物、グーグリシジルエチレンオキシド
とベンゾフェノンやグリシ丸ルコンとを共重合させたポ
リエーテル型フォトポリマー、N、N−ジメチルメタク
リルアミドと例えばアクリルアミドベンゾフェノンとの
共重合体、不飽和ポリエステル系感光性樹脂〔例えばA
PR(旭化成)、テビスタ(奇人)、ゾンネ(関西ペイ
ント)等〕、不飽和ウレタンオリゴマー系感光性樹脂、
三官能アクリルモノマーに光重合開始剤とポリマーとを
混合した感光性組成物、重クロム酸系フオl。
トレジスト、非クロム系水溶性フォトレジスト、ポリク
イ皮酸ビニル系フォトレジ哀1、環化ゴム−アジド系フ
ォトレジスト、等が挙げられる。
イ皮酸ビニル系フォトレジ哀1、環化ゴム−アジド系フ
ォトレジスト、等が挙げられる。
以上詳しく説明した本発明の効果としては、次のような
ことがあげられる。
ことがあげられる。
/ 基板と感光性樹脂の接着が増したことにより、特に
衝撃のかかるインク吐出口形成の切断によっても基板か
らの感光性樹脂の剥れがなくなった。
衝撃のかかるインク吐出口形成の切断によっても基板か
らの感光性樹脂の剥れがなくなった。
!、接着部の耐溶剤性が向上し、エチレングリコール等
の溶剤を含むインクの使用によっても基板と感光性樹脂
硬化膜の通路壁が剥離することがなくなった。
の溶剤を含むインクの使用によっても基板と感光性樹脂
硬化膜の通路壁が剥離することがなくなった。
3 インク吐出口の形状安定性が高いため、経時的なイ
ンク着弾点精度が高い。
ンク着弾点精度が高い。
これら本発明の効果は、以下に示す実施例により、より
具体的に説明される。
具体的に説明される。
実施例/〜3及び比較例/〜3
各側聞で保護層表面の材質を変化させたこと並びにr−
メルカプトグロビルトリメトキシシランで処理を実施し
又は実施しなかったことを除いては、先に示した実施例
の工程(第1図乃至第6図)に従ってインク吐出口を/
θ個有するインクジェット記録ヘッドを多数試作した。
メルカプトグロビルトリメトキシシランで処理を実施し
又は実施しなかったことを除いては、先に示した実施例
の工程(第1図乃至第6図)に従ってインク吐出口を/
θ個有するインクジェット記録ヘッドを多数試作した。
これら試作ヘッドのうち、基板と感光性樹脂の剥離のな
い正常なものについて、水20%及びエチレングリコー
ルと0%の組成のと0℃の溶液に1000時間の浸漬試
験を行った。これらの結果を表2に示す。
い正常なものについて、水20%及びエチレングリコー
ルと0%の組成のと0℃の溶液に1000時間の浸漬試
験を行った。これらの結果を表2に示す。
また、実施例/及び比較例/で得たインクジェット記録
ヘッドに対して、10“パルスの耐久印字試験を行った
ところ、実施例のヘッドでは着弾点精度が士7.2μ/
2咽飛翔距離であったのに対し、比較例のヘッドでは上
べθμ/、2叫 飛翔距離であった。
ヘッドに対して、10“パルスの耐久印字試験を行った
ところ、実施例のヘッドでは着弾点精度が士7.2μ/
2咽飛翔距離であったのに対し、比較例のヘッドでは上
べθμ/、2叫 飛翔距離であった。
なお、感光性樹脂は全てRISTON 730Sドライ
フイルムフオトレジスト(デュポン社製、商品名)を使
用した。
フイルムフオトレジスト(デュポン社製、商品名)を使
用した。
表−
第1図乃至第2図は本発明のインクジェット記録ヘッド
の製造工程を示す模式図である。第7図は本発明方法に
よシ得られたインクジェット記録ヘッドの斜視図で、第
と図及び第2図は断面図である。 /:基板 −2=インク吐出圧発生素子3:
保護層 4t: シランカツノリング剤層j:
感光性樹脂 jP:インク通路壁3二フォトマ
スク 7=接着剤と:覆い 2
:溝 ?−/:インク供給室 9−.2: インク細流
路/θ:貫通孔 //:インク供給管第1
図 第2図 几 第3図 手 続 補 正 書 (自発)昭和58年 8
月20日 特許庁長官 殿 1、事件の表示 昭和57年 特許$5 第1094
4e号(100)キャノン株式会社 ρ)ノ”:1ど1−込
の製造工程を示す模式図である。第7図は本発明方法に
よシ得られたインクジェット記録ヘッドの斜視図で、第
と図及び第2図は断面図である。 /:基板 −2=インク吐出圧発生素子3:
保護層 4t: シランカツノリング剤層j:
感光性樹脂 jP:インク通路壁3二フォトマ
スク 7=接着剤と:覆い 2
:溝 ?−/:インク供給室 9−.2: インク細流
路/θ:貫通孔 //:インク供給管第1
図 第2図 几 第3図 手 続 補 正 書 (自発)昭和58年 8
月20日 特許庁長官 殿 1、事件の表示 昭和57年 特許$5 第1094
4e号(100)キャノン株式会社 ρ)ノ”:1ど1−込
Claims (1)
- /)基板面に感光性樹脂をもって形成されたインク通路
を設け、この通路に覆いを積層してなるイン、クジエツ
ト記録ヘッドを製造するに際して、インク吐出圧発生素
子を設置した前記基板上に無機酸化物及び/又は無機窒
化物からなる保護層を設け、この保護層の表面をシラン
カップリング剤で処理し、しかる後に前記感光性樹脂を
積層することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの
製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10944682A JPS58224757A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
DE19833322647 DE3322647A1 (de) | 1982-06-25 | 1983-06-23 | Verfahren zur herstellung eines tintenstrahl-aufzeichnungskopfes |
US06/634,439 US4609427A (en) | 1982-06-25 | 1984-07-26 | Method for producing ink jet recording head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10944682A JPS58224757A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58224757A true JPS58224757A (ja) | 1983-12-27 |
JPH0415099B2 JPH0415099B2 (ja) | 1992-03-16 |
Family
ID=14510442
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10944682A Granted JPS58224757A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58224757A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5485185A (en) * | 1992-09-29 | 1996-01-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head, an ink jet recording apparatus provided with said recording head, and process for the production of said ink jet recording head |
CN111867843A (zh) * | 2018-03-22 | 2020-10-30 | 柯尼卡美能达株式会社 | 喷墨头及其制造方法 |
-
1982
- 1982-06-25 JP JP10944682A patent/JPS58224757A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5485185A (en) * | 1992-09-29 | 1996-01-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head, an ink jet recording apparatus provided with said recording head, and process for the production of said ink jet recording head |
CN111867843A (zh) * | 2018-03-22 | 2020-10-30 | 柯尼卡美能达株式会社 | 喷墨头及其制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0415099B2 (ja) | 1992-03-16 |
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