JPH0616398Y2 - X線小角散乱測定装置におけるスリット機構 - Google Patents
X線小角散乱測定装置におけるスリット機構Info
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- JPH0616398Y2 JPH0616398Y2 JP7679089U JP7679089U JPH0616398Y2 JP H0616398 Y2 JPH0616398 Y2 JP H0616398Y2 JP 7679089 U JP7679089 U JP 7679089U JP 7679089 U JP7679089 U JP 7679089U JP H0616398 Y2 JPH0616398 Y2 JP H0616398Y2
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- Japan
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- ray
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本考案は、X線小角散乱測定装置に使用されるスリット
の調整機構に関する。
の調整機構に関する。
<従来の技術> 一般に、コロイドの粒径、繊維の長周期構造など、10
nm〜200nm程度の物質構造を解析する場合には、X線
の小角散乱を利用したX線小角散乱測定装置が適用され
る。この装置では、第3図に示すように、X線源xから
入射X線の発散角を第1、第2スリットs1、s2で規
制する。その際、第2スリットs2のエッジでX線が散
乱されるので、さらに第3スリットs3を設けてこの散
乱X線b1の発散角を規制する。この第3スリットs3
を設ける場合、第2スリットs2と同様にそのエッジで
X線が散乱されると、試料mで散乱されたX線b3の測
定を妨害するので、第3スリットs3は、X線源xから
の直射線b0に懸からず、かつ、第2スリットs2のエ
ッジで散乱されたX線b1をできるだけ遮断するよう
に、直射線b0にできるだけ近接した位置に配置され
る。そして、第3スリットs3を通過したX線を試料m
に照射し、これにより散乱されたX線b3を図外の検出
器で検出する。
nm〜200nm程度の物質構造を解析する場合には、X線
の小角散乱を利用したX線小角散乱測定装置が適用され
る。この装置では、第3図に示すように、X線源xから
入射X線の発散角を第1、第2スリットs1、s2で規
制する。その際、第2スリットs2のエッジでX線が散
乱されるので、さらに第3スリットs3を設けてこの散
乱X線b1の発散角を規制する。この第3スリットs3
を設ける場合、第2スリットs2と同様にそのエッジで
X線が散乱されると、試料mで散乱されたX線b3の測
定を妨害するので、第3スリットs3は、X線源xから
の直射線b0に懸からず、かつ、第2スリットs2のエ
ッジで散乱されたX線b1をできるだけ遮断するよう
に、直射線b0にできるだけ近接した位置に配置され
る。そして、第3スリットs3を通過したX線を試料m
に照射し、これにより散乱されたX線b3を図外の検出
器で検出する。
ここで、測定可能な試料mの最小散乱角をε0、X線の
波長をλ、試料mの格子間隔あるいは周期をdとする
と、d=λ/ε0の関係があり、このため、大きなdを
測定しようとする場合には、小さなε0が要求される。
一方、最小散乱角ε0は、スリットs1〜s3間の相互
の距離l1、l2やスリット幅に依存するが、各スリッ
トs1〜s3の相互の距離l1、l2は、装置の大きさ
の制約等から余り長くできないので、測定対象となる試
料に応じて必要なε0を得るためには、各スリットs1
〜s3の幅を調整することが必要となる。
波長をλ、試料mの格子間隔あるいは周期をdとする
と、d=λ/ε0の関係があり、このため、大きなdを
測定しようとする場合には、小さなε0が要求される。
一方、最小散乱角ε0は、スリットs1〜s3間の相互
の距離l1、l2やスリット幅に依存するが、各スリッ
トs1〜s3の相互の距離l1、l2は、装置の大きさ
の制約等から余り長くできないので、測定対象となる試
料に応じて必要なε0を得るためには、各スリットs1
〜s3の幅を調整することが必要となる。
そのため、従来の装置では、第4図に示すようなスリッ
ト機構を設けたものがある。このスリット機構では、第
1〜第3スリットs1〜s3の各スリット刃を調整つま
みq1〜q3が取り付けられており、これらの調整つま
みq1〜q3を操作することよりスリット刃をX線の入
射方向と直交する方向にスライドさせて各スリット幅w
1、w2、w3を調整するようになっている。あるい
は、他のスリット機構として、スリット幅が異なる何組
かのスリットを予め準備しておき、必要に応じて適正な
スリットを差し替えて使用するようにしたものもある。
ト機構を設けたものがある。このスリット機構では、第
1〜第3スリットs1〜s3の各スリット刃を調整つま
みq1〜q3が取り付けられており、これらの調整つま
みq1〜q3を操作することよりスリット刃をX線の入
射方向と直交する方向にスライドさせて各スリット幅w
1、w2、w3を調整するようになっている。あるい
は、他のスリット機構として、スリット幅が異なる何組
かのスリットを予め準備しておき、必要に応じて適正な
スリットを差し替えて使用するようにしたものもある。
<考案が解決しようとする課題> 第4図に示した従来のスリット機構では、試料に応じた
適正な最小散乱角ε0を設定するためには各スリットs
1〜s3の幅を個別に調整しなければならず、そのた
め、調整に手間取ることになる。これは、何組かのスリ
ットを差し替えて使用する場合も同じである。
適正な最小散乱角ε0を設定するためには各スリットs
1〜s3の幅を個別に調整しなければならず、そのた
め、調整に手間取ることになる。これは、何組かのスリ
ットを差し替えて使用する場合も同じである。
また、精度良い測定結果を得るためには、各スリットs
1〜s3の配置関係も重要であって、3つのスリットs
1〜s3の中心軸がX線源の入射軸oとともに同一面内
に含まれるように光軸が全て合致していることが必要で
ある。すなわち、誤差は2〜3μm以下でないと目的の
最小散乱角ε0が得られないが、このように、各スリッ
トs1〜s3の光軸を合致させるためには、各スリット
s1〜s3およびその取り付け台やスリット幅の調整用
治具をすべて高精度に仕上げる必要があり、そのため、
製作に手間がかかる。
1〜s3の配置関係も重要であって、3つのスリットs
1〜s3の中心軸がX線源の入射軸oとともに同一面内
に含まれるように光軸が全て合致していることが必要で
ある。すなわち、誤差は2〜3μm以下でないと目的の
最小散乱角ε0が得られないが、このように、各スリッ
トs1〜s3の光軸を合致させるためには、各スリット
s1〜s3およびその取り付け台やスリット幅の調整用
治具をすべて高精度に仕上げる必要があり、そのため、
製作に手間がかかる。
<課題を解決するための手段> 本考案は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、スリット幅の調整が容易で、しかも、各スリットの
光軸合わせも比較的簡単に行えるようにするものであ
る。
て、スリット幅の調整が容易で、しかも、各スリットの
光軸合わせも比較的簡単に行えるようにするものであ
る。
そのため、本考案に係るX線小角散乱測定装置のスリッ
ト機構では、X線の入射方向に沿って長尺の一対のブロ
ックを備え、各ブロックの長手方向の両端部と中央部の
3箇所にはそれぞれスリット刃が両ブロックの対向面を
挟んで対向配置され、かつ、両ブロックの一端部には板
ばねが取り付けられて両者が一体的に結合されるととも
に、両ブロック間には引っ張りばねが懸架され、さら
に、一方のブロックには他方のブロックの対向面を押圧
するマイクロメータヘッドが取り付けられている構成と
した。
ト機構では、X線の入射方向に沿って長尺の一対のブロ
ックを備え、各ブロックの長手方向の両端部と中央部の
3箇所にはそれぞれスリット刃が両ブロックの対向面を
挟んで対向配置され、かつ、両ブロックの一端部には板
ばねが取り付けられて両者が一体的に結合されるととも
に、両ブロック間には引っ張りばねが懸架され、さら
に、一方のブロックには他方のブロックの対向面を押圧
するマイクロメータヘッドが取り付けられている構成と
した。
<作用> 上記構成によれば、ブロックの対向面を鏡面研削してお
けば、その対向面を基準面として、この基準面から直交
方向に所定距離後退した位置にスリット刃を取り付けれ
ばよいので、容易に光軸合わせが行える。そして、一
旦、光軸合わせが行われれば、マイクロメータヘッドを
操作してブロックの開き角を変えるだけで、3つの片側
のスリット刃が互いの幾何学的関係を保ちながらブロッ
クと一体になって動くので、3つのスリット幅の調整が
同時に行える。このため、従来のように、3つのスリッ
トの幅を個別に調整する手間を省くことができる。
けば、その対向面を基準面として、この基準面から直交
方向に所定距離後退した位置にスリット刃を取り付けれ
ばよいので、容易に光軸合わせが行える。そして、一
旦、光軸合わせが行われれば、マイクロメータヘッドを
操作してブロックの開き角を変えるだけで、3つの片側
のスリット刃が互いの幾何学的関係を保ちながらブロッ
クと一体になって動くので、3つのスリット幅の調整が
同時に行える。このため、従来のように、3つのスリッ
トの幅を個別に調整する手間を省くことができる。
<実施例> 第1図(a)、(b)は、本考案の実施例に係るX線小角散乱
測定装置のスリット機構を示す平面図、第2図は第1図
(a)のII−II線に沿う断面図である。
測定装置のスリット機構を示す平面図、第2図は第1図
(a)のII−II線に沿う断面図である。
この実施例のスリット機構1は、固定側と可動側からな
る一対のブロック2a,2bを備える。各ブロック2
a,2bは、X線の入射方向(図中左右方向)に沿って
長尺で、かつ、互いの対向部分にはX線の通過用の凹部
4a、4bが形成されている。また、第1図(a)におい
て両ブロック2a、2bが互いに接触する対向面は後述
するスリットの光軸合わせの基準面6a、6bとされ
る。そのため、各基準面6a、6bは高精度に鏡面研削
されて仕上げられている。そして、各ブロック2a、2
bの長手方向の両端部と中央部の3箇所にはそれぞれ第
1〜第3スリット刃8a、8b、10a、10b、12
a、12bが両ブロック2a、2bの基準面6a、6b
を挟んで対向配置されている。中央の第2スリット刃1
0a、10bは、その対向端面がブロック2a、2bの
基準面6a、6b上に位置するように設定されており、
また、第1スリット刃8a、8bは、入射X線の発散角
を考慮して基準面6a、6bから所定の距離l1だけ後
退した位置に取り付けられ、さらに、第3スリット刃1
2a、12bは、X線源からの直射線b0に懸からず、
かつ、第2スリット刃10a、10bのエッジで散乱さ
れたX線b1をできるだけ遮断するように、基準面6
a、6bから所定距離l3だけ後退した位置に配置され
ている。また、両ブロック2a、2bのX線入射側(第
1スリット刃側)の端部には中央にX線通過孔を有する
板ばね14が取り付けられており、この板ばね14によ
って両ブロック2a、2bが一体的に結合される。さら
に、両ブロック2a、2bの間には、引っ張りばね16
が懸架されており、これによって両ブロック2a、2b
が互いに接近するように付勢される。また、一方の固定
側のブロック2aには、他方の可動側のブロック2bを
押圧するマイクロメータヘッド18が取り付けられ、他
方の可動側のブロック2bには、マイクロメータヘッド
18のネジ棒18aの端面が当接する突起20が設けら
れている。
る一対のブロック2a,2bを備える。各ブロック2
a,2bは、X線の入射方向(図中左右方向)に沿って
長尺で、かつ、互いの対向部分にはX線の通過用の凹部
4a、4bが形成されている。また、第1図(a)におい
て両ブロック2a、2bが互いに接触する対向面は後述
するスリットの光軸合わせの基準面6a、6bとされ
る。そのため、各基準面6a、6bは高精度に鏡面研削
されて仕上げられている。そして、各ブロック2a、2
bの長手方向の両端部と中央部の3箇所にはそれぞれ第
1〜第3スリット刃8a、8b、10a、10b、12
a、12bが両ブロック2a、2bの基準面6a、6b
を挟んで対向配置されている。中央の第2スリット刃1
0a、10bは、その対向端面がブロック2a、2bの
基準面6a、6b上に位置するように設定されており、
また、第1スリット刃8a、8bは、入射X線の発散角
を考慮して基準面6a、6bから所定の距離l1だけ後
退した位置に取り付けられ、さらに、第3スリット刃1
2a、12bは、X線源からの直射線b0に懸からず、
かつ、第2スリット刃10a、10bのエッジで散乱さ
れたX線b1をできるだけ遮断するように、基準面6
a、6bから所定距離l3だけ後退した位置に配置され
ている。また、両ブロック2a、2bのX線入射側(第
1スリット刃側)の端部には中央にX線通過孔を有する
板ばね14が取り付けられており、この板ばね14によ
って両ブロック2a、2bが一体的に結合される。さら
に、両ブロック2a、2bの間には、引っ張りばね16
が懸架されており、これによって両ブロック2a、2b
が互いに接近するように付勢される。また、一方の固定
側のブロック2aには、他方の可動側のブロック2bを
押圧するマイクロメータヘッド18が取り付けられ、他
方の可動側のブロック2bには、マイクロメータヘッド
18のネジ棒18aの端面が当接する突起20が設けら
れている。
このスリット機構1において、光軸合わせを行うには、
第1図(a)に示すように、両ブロック2a、2bの基準
面6a、6bが互いに接した状態にし、この状態で中央
の第2スリット刃10a、10bをその対向端面がブロ
ック2a、2bの基準面6a、6b上に位置するように
調整する。また、第1、第3スリット刃8a、8b、1
2a、12bは、それぞれ基準面6、6bから所定の距
離l1、l3だけ後退させて取り付ける。このように、
基準面6a、6bを基準にして各スリット刃8a、8
b、10a、10b、12a、12bを取り付ければよ
いので、容易に光軸合わせが行える。
第1図(a)に示すように、両ブロック2a、2bの基準
面6a、6bが互いに接した状態にし、この状態で中央
の第2スリット刃10a、10bをその対向端面がブロ
ック2a、2bの基準面6a、6b上に位置するように
調整する。また、第1、第3スリット刃8a、8b、1
2a、12bは、それぞれ基準面6、6bから所定の距
離l1、l3だけ後退させて取り付ける。このように、
基準面6a、6bを基準にして各スリット刃8a、8
b、10a、10b、12a、12bを取り付ければよ
いので、容易に光軸合わせが行える。
次に、光軸合わせが完了した後、スリット幅を調整する
には、マイクロメータヘッド18を操作してネジ棒18
aで突起20を押圧する。すると、第1図(b)に示すよ
うに、両ブロック2a、2bは、板ばね14とX線の入
射光軸oとの交点pを中心として開かれる。説明便宜の
ため、図面上は各スリット刃8a、8b、10a、10
b、12a、12bのスリット幅は大きく描かれている
が、実際のスリット幅は、ブロック2a、2bの長さに
比較して極めて小さい(たとえば、ブロック2a、2b
の長さL=250mmに対して第3スリット刃12a、1
2bのスロット幅w3=0.1mm前後となる)ので、両
ブロック2a、2bの開き角度αが多少変化しても、第
3スリット刃12a、12bは常にX線源からの直射線
b0に懸かることはなく、第2スリット刃10a、10
bのエッジで散乱されたX線b1の発散角を最小にし得
る最適位置にある。
には、マイクロメータヘッド18を操作してネジ棒18
aで突起20を押圧する。すると、第1図(b)に示すよ
うに、両ブロック2a、2bは、板ばね14とX線の入
射光軸oとの交点pを中心として開かれる。説明便宜の
ため、図面上は各スリット刃8a、8b、10a、10
b、12a、12bのスリット幅は大きく描かれている
が、実際のスリット幅は、ブロック2a、2bの長さに
比較して極めて小さい(たとえば、ブロック2a、2b
の長さL=250mmに対して第3スリット刃12a、1
2bのスロット幅w3=0.1mm前後となる)ので、両
ブロック2a、2bの開き角度αが多少変化しても、第
3スリット刃12a、12bは常にX線源からの直射線
b0に懸かることはなく、第2スリット刃10a、10
bのエッジで散乱されたX線b1の発散角を最小にし得
る最適位置にある。
このように、マイクロメータヘッド18の送りを調節し
てブロック2a、2bの開き角度αを変えるだけで第1
〜第3スリット刃8a〜12bのスリット幅を同時に調
節できるので、従来のように、3つのスリットの幅を個
別に調整する手間が省かれる。
てブロック2a、2bの開き角度αを変えるだけで第1
〜第3スリット刃8a〜12bのスリット幅を同時に調
節できるので、従来のように、3つのスリットの幅を個
別に調整する手間が省かれる。
なお、第1図(a)において、両ブロック2a、2bが互
いに接触する対向面(基準面)6a、6bは、この実施
例でブロック2a、2bの長手方向の全長に渡っている
が、凹部4a、4b形成箇所に段差を設けて互いのブロ
ック2a、2bが直接接触する面積を限定すれば、基準
面として高精度に鏡面研削仕上げする箇所がそれだけ少
なくて済むため、製作上の手間が省けて一層有利であ
る。
いに接触する対向面(基準面)6a、6bは、この実施
例でブロック2a、2bの長手方向の全長に渡っている
が、凹部4a、4b形成箇所に段差を設けて互いのブロ
ック2a、2bが直接接触する面積を限定すれば、基準
面として高精度に鏡面研削仕上げする箇所がそれだけ少
なくて済むため、製作上の手間が省けて一層有利であ
る。
<考案の効果> 本考案によれば、ブロックの対向面を基準面として、こ
の基準面から直交方向に所定距離後退した位置にスリッ
ト刃を取り付ければよいので、容易に光軸合わせが行え
る。このため、従来のように、数多くの部品を全て高精
度に仕上げる必要がなく、製作の工数が大幅に削減され
る。しかも、一旦、光軸合わせが行われれば、ブロック
の開き角を変えるだけで、3つの片側のスリット刃が互
いの幾何学的関係を保ちながらブロックと一体になって
動くので、3つのスリット幅の調整が同時に行える。こ
のため、従来のように、3つのスリットの幅を個別に調
整する煩雑さが解消される等の優れた効果が発揮され
る。
の基準面から直交方向に所定距離後退した位置にスリッ
ト刃を取り付ければよいので、容易に光軸合わせが行え
る。このため、従来のように、数多くの部品を全て高精
度に仕上げる必要がなく、製作の工数が大幅に削減され
る。しかも、一旦、光軸合わせが行われれば、ブロック
の開き角を変えるだけで、3つの片側のスリット刃が互
いの幾何学的関係を保ちながらブロックと一体になって
動くので、3つのスリット幅の調整が同時に行える。こ
のため、従来のように、3つのスリットの幅を個別に調
整する煩雑さが解消される等の優れた効果が発揮され
る。
第1図(a)、(b)は本考案の実施例に係るX線小角散乱測
定装置のスリット機構を示す平面図で同図(a)はスリッ
ト幅調整前の状態、同図(b)はスリット幅調整後の状態
をそれぞれ示している。また、第2図は第1図(a)のII
−II線に沿う断面図である。第3図はX線小角散乱測定
装置の測定原理を示す説明図、第4図は従来のスリット
機構の平面図である。 1……X線小角散乱測定装置のスリット機構、2a、2
b……ブロック、8a、8b、10a、10b、12
a、12b……第1〜第3スリット刃、14……板ば
ね、16……引っ張りばね、18……マイクロメータヘ
ッド。
定装置のスリット機構を示す平面図で同図(a)はスリッ
ト幅調整前の状態、同図(b)はスリット幅調整後の状態
をそれぞれ示している。また、第2図は第1図(a)のII
−II線に沿う断面図である。第3図はX線小角散乱測定
装置の測定原理を示す説明図、第4図は従来のスリット
機構の平面図である。 1……X線小角散乱測定装置のスリット機構、2a、2
b……ブロック、8a、8b、10a、10b、12
a、12b……第1〜第3スリット刃、14……板ば
ね、16……引っ張りばね、18……マイクロメータヘ
ッド。
Claims (1)
- 【請求項1】X線の入射方向に沿って長尺の一対のブロ
ックを備え、各ブロックの長手方向の両端部と中央部の
3箇所にはそれぞれスリット刃が両ブロックの対向面を
挟んで対向配置され、かつ、両ブロックの一端部には板
ばねが取り付けられて両者が一体的に結合されるととも
に、両ブロック間には引っ張りばねが懸架され、さら
に、一方のブロックには他方のブロックの対向面を押圧
するマイクロメータヘッドが取り付けられていることを
特徴とするX線小角散乱測定装置におけるスリット機
構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7679089U JPH0616398Y2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | X線小角散乱測定装置におけるスリット機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7679089U JPH0616398Y2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | X線小角散乱測定装置におけるスリット機構 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0316052U JPH0316052U (ja) | 1991-02-18 |
JPH0616398Y2 true JPH0616398Y2 (ja) | 1994-04-27 |
Family
ID=31618576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7679089U Expired - Lifetime JPH0616398Y2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | X線小角散乱測定装置におけるスリット機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0616398Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6634585B2 (ja) * | 2015-07-24 | 2020-01-22 | 株式会社リガク | ピンホール・スリット体の製造方法、及びx線小角散乱測定装置 |
-
1989
- 1989-06-29 JP JP7679089U patent/JPH0616398Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0316052U (ja) | 1991-02-18 |
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