JPH06162140A - 半導体装置設計時のデータ処理装置 - Google Patents
半導体装置設計時のデータ処理装置Info
- Publication number
- JPH06162140A JPH06162140A JP31501092A JP31501092A JPH06162140A JP H06162140 A JPH06162140 A JP H06162140A JP 31501092 A JP31501092 A JP 31501092A JP 31501092 A JP31501092 A JP 31501092A JP H06162140 A JPH06162140 A JP H06162140A
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- Japan
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は半導体装置の設計図面からマスクを作
成するための設計データと露光データとに変換処理を実
行するデータ処理装置に関し、データの処理速度を向上
し、信頼性を向上させることの出来る半導体装置設計時
のデータ処理装置を提供することを目的とする。 【構成】半導体装置の設計図面に基づいてマスクを作成
するとき、設計データと露光データとに変換処理するた
めの半導体装置設計時のデータ処理装置において、陰極
線管表示装置において処理可能な大きさの格子の交差点
に、面積を有するドットピッチを置いて、該ドットピッ
チを互いに結んで設計データの文字・図形を表示し、各
ドットピッチにおける扇形の面積を文字・図形の所定情
報量と対応させる手段と、前記ドットピッチに対応して
設けられた光・電気変換素子（ＣＣＤ）により、前記扇
形面積を電気的に認識して得た電気量を以て必要な図形
のパターン認識と判定を行う認識判定手段とを具備する
ことで構成する。
成するための設計データと露光データとに変換処理を実
行するデータ処理装置に関し、データの処理速度を向上
し、信頼性を向上させることの出来る半導体装置設計時
のデータ処理装置を提供することを目的とする。 【構成】半導体装置の設計図面に基づいてマスクを作成
するとき、設計データと露光データとに変換処理するた
めの半導体装置設計時のデータ処理装置において、陰極
線管表示装置において処理可能な大きさの格子の交差点
に、面積を有するドットピッチを置いて、該ドットピッ
チを互いに結んで設計データの文字・図形を表示し、各
ドットピッチにおける扇形の面積を文字・図形の所定情
報量と対応させる手段と、前記ドットピッチに対応して
設けられた光・電気変換素子（ＣＣＤ）により、前記扇
形面積を電気的に認識して得た電気量を以て必要な図形
のパターン認識と判定を行う認識判定手段とを具備する
ことで構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の設計図面か
らマスクを作成するための設計データと露光データとに
変換処理を実行するデータ処理装置に関する。
らマスクを作成するための設計データと露光データとに
変換処理を実行するデータ処理装置に関する。
【０００２】本明細書において「マスク」は、レチクル
と通称する拡大マスクを含んで単にマスクとマスクと記
述している。近年、半導体装置は益々、高密度化したた
め設計図面の数が膨大になり、データの変換処理は所要
時間が長くなったり、信頼性が落ちて来た。更にデータ
処理変換処理のメモリに膨大な容量のものを必要とする
など、改善を要する事項が増大した。それら事項のう
ち、処理速度を向上し、信頼性を向上することについて
特に改善することが要望された。
と通称する拡大マスクを含んで単にマスクとマスクと記
述している。近年、半導体装置は益々、高密度化したた
め設計図面の数が膨大になり、データの変換処理は所要
時間が長くなったり、信頼性が落ちて来た。更にデータ
処理変換処理のメモリに膨大な容量のものを必要とする
など、改善を要する事項が増大した。それら事項のう
ち、処理速度を向上し、信頼性を向上することについて
特に改善することが要望された。
【０００３】
【従来の技術】半導体装置、特に半導体メモリは１Ｍ
ＤＲＡＭから４Ｍ→１６Ｍ→６４ＭＤＲＡＭと急速に高
密度化し、それに伴って設計図面の数が膨大となった。
設計図面のデータは設計データに、次いでマスク作成用
露光機の入力データにデータ処理装置を使用して変換処
理する。本発明はこの変換処理を実行する装置に関す
る。
ＤＲＡＭから４Ｍ→１６Ｍ→６４ＭＤＲＡＭと急速に高
密度化し、それに伴って設計図面の数が膨大となった。
設計図面のデータは設計データに、次いでマスク作成用
露光機の入力データにデータ処理装置を使用して変換処
理する。本発明はこの変換処理を実行する装置に関す
る。
【０００４】そこで先ず、チップ全体をある仮想的な格
子で区切り、その区切りに対応して電子計算機のメモリ
内にメモリマップを作る。ここでチップ上の格子のピッ
チは最小座標単位例えば１μｍとする。またメモリマッ
プ上の数ビット（図形数によって定める）を１格子に対
応させる。与えられた多角形集合に対し、各集合の内部
領域に対応するメモリマップ上の所定ビット目を例えば
“１”にセットする。その後アンド演算・オア演算など
の演算に従って、各々の条件を満たす格子を出力する。
子で区切り、その区切りに対応して電子計算機のメモリ
内にメモリマップを作る。ここでチップ上の格子のピッ
チは最小座標単位例えば１μｍとする。またメモリマッ
プ上の数ビット（図形数によって定める）を１格子に対
応させる。与えられた多角形集合に対し、各集合の内部
領域に対応するメモリマップ上の所定ビット目を例えば
“１”にセットする。その後アンド演算・オア演算など
の演算に従って、各々の条件を満たす格子を出力する。
【０００５】次に図形データの修正を行う。これはＣＰ
Ｕを中心として周辺装置として磁気ディスク装置・磁気
テープ装置・グラフィックディスプレイ装置を組合せた
システムで、所謂対話形編集機能を活用し、図形データ
について処理する。
Ｕを中心として周辺装置として磁気ディスク装置・磁気
テープ装置・グラフィックディスプレイ装置を組合せた
システムで、所謂対話形編集機能を活用し、図形データ
について処理する。
【０００６】この処理で最終的に得られた図形データ
は、マスク作成用露光機の入力データに変換される。こ
の変換はソフトウェアで行われるが、そのプログラムは
電子計算機システムで持っている場合が多い。図形デー
タを各露光機が採用している矩形・台形などの単位図形
の集合に変換しなければならない。そのとき与えられた
図形集合を出来るだけ少ない数の矩形または三角形に分
割する。その矩形または三角形は互いに重なる場合を許
すことが適当である。ただし電子ビーム露光機では重な
りを認めない。
は、マスク作成用露光機の入力データに変換される。こ
の変換はソフトウェアで行われるが、そのプログラムは
電子計算機システムで持っている場合が多い。図形デー
タを各露光機が採用している矩形・台形などの単位図形
の集合に変換しなければならない。そのとき与えられた
図形集合を出来るだけ少ない数の矩形または三角形に分
割する。その矩形または三角形は互いに重なる場合を許
すことが適当である。ただし電子ビーム露光機では重な
りを認めない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来技術によるデータ
処理は、半導体装置の設計パターンに大小の差がある場
合、或いは単一パターンに対しても一律に処理を行うた
め、パターンが単純であってもそれが大きい場合は、そ
れなりの処理時間がかかり、同時にメモリ容量をオーバ
することがあった。
処理は、半導体装置の設計パターンに大小の差がある場
合、或いは単一パターンに対しても一律に処理を行うた
め、パターンが単純であってもそれが大きい場合は、そ
れなりの処理時間がかかり、同時にメモリ容量をオーバ
することがあった。
【０００８】特殊パターンの場合は、その形状をグリッ
ドで完全に表示できないので、時にエラーが発生し、そ
のためマスク形状の変形が発生することとなった。従っ
て複雑な大小パターンが多くなればなる程、処理時間が
長くなり、信頼性に欠け、またデータ格納のためのメモ
リ容量を多大に必要とする欠点があった。
ドで完全に表示できないので、時にエラーが発生し、そ
のためマスク形状の変形が発生することとなった。従っ
て複雑な大小パターンが多くなればなる程、処理時間が
長くなり、信頼性に欠け、またデータ格納のためのメモ
リ容量を多大に必要とする欠点があった。
【０００９】また図形パターンが鋭角を有していると
き、特にその角度が４５度以下になっているとき通常の
方法では処理出来ないこととなっていた。本発明の目的
は前述の欠点を改善し、データの処理速度を向上し、信
頼性を向上させることの出来る半導体装置設計時のデー
タ処理装置を提供することにある。
き、特にその角度が４５度以下になっているとき通常の
方法では処理出来ないこととなっていた。本発明の目的
は前述の欠点を改善し、データの処理速度を向上し、信
頼性を向上させることの出来る半導体装置設計時のデー
タ処理装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】図１は本発明の原理構成
を示す図である。図１において、1-1,1-2 …はドットピ
ッチ、2-1,2-2 …は画素に対応して設けられた光・電気
変換素子（ＣＣＤ）を示す。
を示す図である。図１において、1-1,1-2 …はドットピ
ッチ、2-1,2-2 …は画素に対応して設けられた光・電気
変換素子（ＣＣＤ）を示す。
【００１１】半導体装置の設計図面に基づいてマスクを
作成するとき、設計データと露光データとに変換処理す
るための半導体装置設計時のデータ処理装置において、
請求項１の発明では、陰極線管表示装置において処理可
能な大きさの格子の交差点に、面積を有するドットピッ
チ1-1,1-2 …を置いて、該ドットピッチ1-1,1-2 …を互
いに結んで設計データの文字・図形を表示し、各ドット
ピッチにおける扇形3-1,3-2 …の面積を文字・図形の所
定情報量と対応させる手段４と、前記ドットピッチ1-1,
1-2 …に対応して設けられた光・電気変換素子 (ＣＣ
Ｄ)2-1,2-2…により、前記扇形面積を電気的に認識して
得た電気量を以て必要な図形のパターン認識と判定を行
う認識判定手段５とを具備することである。
作成するとき、設計データと露光データとに変換処理す
るための半導体装置設計時のデータ処理装置において、
請求項１の発明では、陰極線管表示装置において処理可
能な大きさの格子の交差点に、面積を有するドットピッ
チ1-1,1-2 …を置いて、該ドットピッチ1-1,1-2 …を互
いに結んで設計データの文字・図形を表示し、各ドット
ピッチにおける扇形3-1,3-2 …の面積を文字・図形の所
定情報量と対応させる手段４と、前記ドットピッチ1-1,
1-2 …に対応して設けられた光・電気変換素子 (ＣＣ
Ｄ)2-1,2-2…により、前記扇形面積を電気的に認識して
得た電気量を以て必要な図形のパターン認識と判定を行
う認識判定手段５とを具備することである。
【００１２】請求項２の発明では、陰極線管表示装置に
おいて処理可能な大きさの格子の交差点に、ドットピッ
チを置いて、該ドットピッチを互いに結んで設計データ
の文字・図形を表示し、各ドットピッチを結んで得られ
た多角形の面積を文字・図形の所定情報量と対応させる
手段４と、前記ドットピッチ1-1,1-2 …に対応して設け
られた素子により、前記面積を電気的に認識し、且つ前
記所定部分を電気的に認識した電気量を以て必要な図形
のパターン認識と判定を行う認識判定手段５とを具備す
ることである。
おいて処理可能な大きさの格子の交差点に、ドットピッ
チを置いて、該ドットピッチを互いに結んで設計データ
の文字・図形を表示し、各ドットピッチを結んで得られ
た多角形の面積を文字・図形の所定情報量と対応させる
手段４と、前記ドットピッチ1-1,1-2 …に対応して設け
られた素子により、前記面積を電気的に認識し、且つ前
記所定部分を電気的に認識した電気量を以て必要な図形
のパターン認識と判定を行う認識判定手段５とを具備す
ることである。
【００１３】請求項３の発明では、設計データのうち文
字・図形を陰極線管表示装置の面積を有するドットピッ
チ1-1,1-2 …により表示し、該ドットピッチ1-1,1-2 …
を互いに結んで得られた範囲の面積と所定情報量とを対
応させる手段と、前記ドットピッチ1-1,1-2 …に対応し
て設けられた光・電気変換素子 (ＣＣＤ)2-1,2-2 …に
より、前記範囲を電気的に認識し、次いで前記範囲をそ
れぞれ異なる色彩パターンと対応させて、各色により所
定の図形のパターン認識と判定を行う認識判定手段５と
を具備することである。
字・図形を陰極線管表示装置の面積を有するドットピッ
チ1-1,1-2 …により表示し、該ドットピッチ1-1,1-2 …
を互いに結んで得られた範囲の面積と所定情報量とを対
応させる手段と、前記ドットピッチ1-1,1-2 …に対応し
て設けられた光・電気変換素子 (ＣＣＤ)2-1,2-2 …に
より、前記範囲を電気的に認識し、次いで前記範囲をそ
れぞれ異なる色彩パターンと対応させて、各色により所
定の図形のパターン認識と判定を行う認識判定手段５と
を具備することである。
【００１４】
【作用】陰極線管表示装置において処理可能な大きさ
（最低の大きさ）の格子の交差点に或る面積を有するド
ットピッチ1-1,1-2 …を置いて見る。該ドットピッチ1-
1,1-2 …を図１のように互いに結んで設計データの文字
・図形を表示させる。それは情報量対応手段４が行う。
そしてドットピッチを結んだ直線によりドットピッチ内
の扇形部分3-1,3-2 …の面積を前記情報量と対応させ
る。次にドットピッチと対応して設けられたＣＣＤ2-1,
2-2 …により前記扇形の面積を電気的に認識して電気量
を得る。この電気量が扇形の面積と対応しているので、
電気量について認識・判定手段５において所定の演算・
認識・判定を行えば、設計データについて露光データへ
変換するためのデータが確実に得られる。
（最低の大きさ）の格子の交差点に或る面積を有するド
ットピッチ1-1,1-2 …を置いて見る。該ドットピッチ1-
1,1-2 …を図１のように互いに結んで設計データの文字
・図形を表示させる。それは情報量対応手段４が行う。
そしてドットピッチを結んだ直線によりドットピッチ内
の扇形部分3-1,3-2 …の面積を前記情報量と対応させ
る。次にドットピッチと対応して設けられたＣＣＤ2-1,
2-2 …により前記扇形の面積を電気的に認識して電気量
を得る。この電気量が扇形の面積と対応しているので、
電気量について認識・判定手段５において所定の演算・
認識・判定を行えば、設計データについて露光データへ
変換するためのデータが確実に得られる。
【００１５】請求項２記載の発明においては、図２に示
すように第１発明における複数のドットピッチが面積を
有していなくても良く、所定数のドットピッチを結んで
多角形が得られれば良い。そして多角形の全体の面積を
適宜な素子により電気量に対応させるが、それ以後は請
求項１記載の発明と同様な処理となる。
すように第１発明における複数のドットピッチが面積を
有していなくても良く、所定数のドットピッチを結んで
多角形が得られれば良い。そして多角形の全体の面積を
適宜な素子により電気量に対応させるが、それ以後は請
求項１記載の発明と同様な処理となる。
【００１６】請求項３記載の発明においては、請求項２
記載の発明における多角形について「着色」を行うこと
により、多角形の形状データに一部重なり合うことがあ
っても、異色を識別しながら、対応電気量を求めること
ができる。着色技術を利用するから、信号処理において
処理が確実に早く出来る。
記載の発明における多角形について「着色」を行うこと
により、多角形の形状データに一部重なり合うことがあ
っても、異色を識別しながら、対応電気量を求めること
ができる。着色技術を利用するから、信号処理において
処理が確実に早く出来る。
【００１７】
【実施例】請求項１乃至請求項３に記載の発明におい
て、情報量対応手段４は、従来技術におけるＣＡＤシス
テムの電子計算機が処理していた事項と略同様に行うこ
とで良い。即ち、従来はドットピッチが大きさのないド
ットとして取り扱っていたが、本発明においてはそれを
大きさのあるものとして処理程度の差があるに過ぎない
からである。
て、情報量対応手段４は、従来技術におけるＣＡＤシス
テムの電子計算機が処理していた事項と略同様に行うこ
とで良い。即ち、従来はドットピッチが大きさのないド
ットとして取り扱っていたが、本発明においてはそれを
大きさのあるものとして処理程度の差があるに過ぎない
からである。
【００１８】またＣＡＤシステムの陰極線管上の画像素
子をチップ設計のグリッドと対応させることにより、極
めて細密な処理が可能である。次に図３は本発明の実施
例として、特に着色表示することを示している。即ちハ
ッチングをしてＢ領域と示す範囲は複数のドットピッチ
により直角三角形状に囲まれ、青色に見える範囲であ
る。また他方向のハッチングによりＲ領域と示す範囲は
赤色に見える範囲を示す。そしてＭ領域は前記Ｂ領域
と、Ｒ領域とが共存している範囲でマゼンタの色に見え
る。
子をチップ設計のグリッドと対応させることにより、極
めて細密な処理が可能である。次に図３は本発明の実施
例として、特に着色表示することを示している。即ちハ
ッチングをしてＢ領域と示す範囲は複数のドットピッチ
により直角三角形状に囲まれ、青色に見える範囲であ
る。また他方向のハッチングによりＲ領域と示す範囲は
赤色に見える範囲を示す。そしてＭ領域は前記Ｂ領域
と、Ｒ領域とが共存している範囲でマゼンタの色に見え
る。
【００１９】したがって設計図面上のマスクに対応する
ように所定量のドットピッチを使用して着色範囲を定め
れば、カラー画像を見ることによりパターンデータの必
要な重なりの有無・バターン上のスリットの有無などに
ついて認識できるから、設計ミスの有無について容易確
実に判断出来る。
ように所定量のドットピッチを使用して着色範囲を定め
れば、カラー画像を見ることによりパターンデータの必
要な重なりの有無・バターン上のスリットの有無などに
ついて認識できるから、設計ミスの有無について容易確
実に判断出来る。
【００２０】次に図１に示す光−電気変換素子としては
例えばＣＣＤと呼ばれる素子を使用する。そして図１の
場合は各ドットピッチにおける扇形部分の面積を、光の
透過・非透過の判断で対応する電気量として認識する。
この電気量は次段における処理のため必要に応じて増幅
をする。
例えばＣＣＤと呼ばれる素子を使用する。そして図１の
場合は各ドットピッチにおける扇形部分の面積を、光の
透過・非透過の判断で対応する電気量として認識する。
この電気量は次段における処理のため必要に応じて増幅
をする。
【００２１】また図２の場合、各ドットピッチに対応し
て素子ＣＣＤを設置してあれば、各ＣＣＤからの電気量
を処理して、所要範囲内のパターンの大きさに対応する
電気量を求める。
て素子ＣＣＤを設置してあれば、各ＣＣＤからの電気量
を処理して、所要範囲内のパターンの大きさに対応する
電気量を求める。
【００２２】次に図２における認識判定手段の例とし
て、図２の場合に素子ＣＣＤを使用せずにパターンの大
きさなど領域について検出するときは、図４に示すよう
に「塗りつぶし領域の検出法」を活用することが出来
る。この方法は昭和５６年の電子通信学会全国大会にお
いて、講演番号１３３３として藤村氏が発表したとお
り、図形認識のとき線と塗り潰し領域とに分けるため、
各画素から８方向に腕を伸ばして、領域境界までの長さ
が対称的に等しいものが複数組存在するときは、細長い
線の領域と判定し、そうでないときは塗り潰し領域（面
状部）とする。この判定により図形認識が短時間でより
正確に出来る。
て、図２の場合に素子ＣＣＤを使用せずにパターンの大
きさなど領域について検出するときは、図４に示すよう
に「塗りつぶし領域の検出法」を活用することが出来
る。この方法は昭和５６年の電子通信学会全国大会にお
いて、講演番号１３３３として藤村氏が発表したとお
り、図形認識のとき線と塗り潰し領域とに分けるため、
各画素から８方向に腕を伸ばして、領域境界までの長さ
が対称的に等しいものが複数組存在するときは、細長い
線の領域と判定し、そうでないときは塗り潰し領域（面
状部）とする。この判定により図形認識が短時間でより
正確に出来る。
【００２３】
【発明の効果】このようにして本発明によると、当初の
情報量対応部の動作において個別のドットピッチが面積
を有しているため、面積を電気的に認識すれば、所謂
「面情報」が活用できることとなる。そのため従来の点
情報のみの処理と比較して、より確実に処理できるた
め、信頼性が向上できる。またデータの認識判定手段と
してより高速処理の出来る装置を使用することにより、
データ処理をより向上出来る。
情報量対応部の動作において個別のドットピッチが面積
を有しているため、面積を電気的に認識すれば、所謂
「面情報」が活用できることとなる。そのため従来の点
情報のみの処理と比較して、より確実に処理できるた
め、信頼性が向上できる。またデータの認識判定手段と
してより高速処理の出来る装置を使用することにより、
データ処理をより向上出来る。
【図１】本発明の原理構成を示す図である。
【図２】第２発明の原理構成を示す図である。
【図３】本発明の実施例を示す図である。
【図４】本発明の他の実施例を示す図である。
1-1,1-2 …ドットピッチ 3-1,3-2 …扇形 ４…情報量対応手段 ５…認識判定手段
Claims (3)
- 【請求項１】 半導体装置の設計図面に基づいてマスク
を作成するとき、設計データと露光データとに変換処理
するための半導体装置設計時のデータ処理装置におい
て、 陰極線管表示装置において処理可能な大きさの格子の交
差点に、面積を有するドットピッチ(1-1)(1-2)…を置い
て、該ドットピッチ(1-1)(1-2)…を互いに結んで設計デ
ータの文字・図形を表示し、各ドットピッチにおける扇
形(3-1)(3-2)…の面積を文字・図形の所定情報量と対応
させる手段(4) と、 前記ドットピッチ(1-1)(1-2)…に対応して設けられた光
・電気変換素子（ＣＣＤ）(2-1)(2-2)…により、前記扇
形面積を電気的に認識して得た電気量を以て必要な図形
のパターン認識と判定を行う認識判定手段(5) とを具備
することを特徴とする半導体設計時のデータ処理装置。 - 【請求項２】 半導体装置の設計図面に基づいてマスク
を作成するとき、設計データと露光データとに変換処理
するための半導体装置設計時のデータ処理装置におい
て、 陰極線管表示装置において処理可能な大きさの格子の交
差点に、ドットピッチを置いて、該ドットピッチを互い
に結んで設計データの文字・図形を表示し、各ドットピ
ッチを結んで得られた多角形の面積を文字・図形の所定
情報量と対応させる手段(4) と、 前記ドットピッチ(1-1)(1-2)…に対応して設けられた素
子により、前記面積を電気的に認識し、且つ前記所定部
分を電気的に認識した電気量を以て必要な図形のパター
ン認識と判定を行う認識判定手段(5) とを具備すること
を特徴とする半導体装置設計時のデータ処理装置。 - 【請求項３】 半導体装置の設計図面に基づいてマスク
を作成するとき、設計データと露光データとに変換処理
するための半導体装置設計時のデータ処理装置におい
て、 設計データのうち文字・図形を陰極線管表示装置の面積
を有するドットピッチ(1-1)(1-2)…により表示し、該ド
ットピッチ(1-1)(1-2)…を互いに結んで得られた範囲の
面積と所定情報量とを対応させる手段と、 前記ドットピッチ(1-1)(1-2)…に対応して設けられた光
・電気変換素子（ＣＣＤ）(2-1)(2-2)…により、前記範
囲を電気的に認識し、次いで前記範囲をそれぞれ異なる
色彩パターンと対応させて、各色により所定の図形のパ
ターン認識と判定を行う認識判定手段(5) を具備するこ
とを特徴とする半導体設計時のデータ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31501092A JPH06162140A (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 半導体装置設計時のデータ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31501092A JPH06162140A (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 半導体装置設計時のデータ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06162140A true JPH06162140A (ja) | 1994-06-10 |
Family
ID=18060336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31501092A Withdrawn JPH06162140A (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 半導体装置設計時のデータ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06162140A (ja) |
-
1992
- 1992-11-25 JP JP31501092A patent/JPH06162140A/ja not_active Withdrawn
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