JPH06150382A - 追記型光ディスク - Google Patents
追記型光ディスクInfo
- Publication number
- JPH06150382A JPH06150382A JP4324983A JP32498392A JPH06150382A JP H06150382 A JPH06150382 A JP H06150382A JP 4324983 A JP4324983 A JP 4324983A JP 32498392 A JP32498392 A JP 32498392A JP H06150382 A JPH06150382 A JP H06150382A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- light
- optical disc
- write
- light reflecting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 アルミニウムからなる光反射層であっても高
い反射率が得られ、又、耐久性もある追記型光ディスク
を得る。 【構成】 透明基板上に光吸収層、光反射層及び保護層
をこの順に積層した追記型光ディスクにおいて、光吸収
層と光反射層との間に屈折率の異なる複数の増光反射層
を設け、光反射層をアルミニウムで形成する。上記複数
の増光反射層は光吸収層側から二酸化チタン層、二酸化
ケイ素層の順とする。
い反射率が得られ、又、耐久性もある追記型光ディスク
を得る。 【構成】 透明基板上に光吸収層、光反射層及び保護層
をこの順に積層した追記型光ディスクにおいて、光吸収
層と光反射層との間に屈折率の異なる複数の増光反射層
を設け、光反射層をアルミニウムで形成する。上記複数
の増光反射層は光吸収層側から二酸化チタン層、二酸化
ケイ素層の順とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は追記型光ディスクに関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】追記型光ディスクは、通常、ポリカーボ
ネート（ＰＣ）等の透明基板上に、情報を記録する際の
レーザーを導くトラッキングのためのプリグルーブが予
め形成され、そのプリグルーブ上に酸化テルル（Ｔｅ
Ｏ）等の無機系、あるいはシアニン等の有機色素からな
る記録層（光吸収層）を設け、更に基板面の高い反射率
を得るために光吸収層上に反射層が設けられている（図
４参照）。
ネート（ＰＣ）等の透明基板上に、情報を記録する際の
レーザーを導くトラッキングのためのプリグルーブが予
め形成され、そのプリグルーブ上に酸化テルル（Ｔｅ
Ｏ）等の無機系、あるいはシアニン等の有機色素からな
る記録層（光吸収層）を設け、更に基板面の高い反射率
を得るために光吸収層上に反射層が設けられている（図
４参照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記反射層は一般に金
（Ａｕ）の薄膜をスパッタリング等で形成している。し
かしながら、Ａｕによる最大の欠点は高価格であるため
光ディスクの製造原価を押し上げることである。Ａｕ以
外の材料として比較的安価なアルミニウム（Ａｌ）を用
いることも提案されているが（例えば特開平３−１６９
５８８号公報参照）、Ａｌ薄膜の反射率はＡｕやＡｇ
（銀）、Ｃｕ（銅）の薄膜のそれと比べてかなり低い
（図３参照）。
（Ａｕ）の薄膜をスパッタリング等で形成している。し
かしながら、Ａｕによる最大の欠点は高価格であるため
光ディスクの製造原価を押し上げることである。Ａｕ以
外の材料として比較的安価なアルミニウム（Ａｌ）を用
いることも提案されているが（例えば特開平３−１６９
５８８号公報参照）、Ａｌ薄膜の反射率はＡｕやＡｇ
（銀）、Ｃｕ（銅）の薄膜のそれと比べてかなり低い
（図３参照）。
【０００４】本発明の目的は反射層（本発明では光反射
層と呼ぶ）をＡｌで形成しても高い反射率が得られ、
又、耐久性も有する追記型光ディスクを得ることであ
る。
層と呼ぶ）をＡｌで形成しても高い反射率が得られ、
又、耐久性も有する追記型光ディスクを得ることであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、透明基
板上に光吸収層、光反射層及び保護層をこの順で設けた
追記型光ディスクにおいて、光吸収層と光反射層との間
に屈折率の異なる複数の増光反射層を設け、光反射層を
アルミニウムで形成した追記型光ディスクが提供され
る。
板上に光吸収層、光反射層及び保護層をこの順で設けた
追記型光ディスクにおいて、光吸収層と光反射層との間
に屈折率の異なる複数の増光反射層を設け、光反射層を
アルミニウムで形成した追記型光ディスクが提供され
る。
【０００６】上記屈折率の異なる複数の増光反射層は、
屈折率の高い層として二酸化チタン（ＴｉＯ2）が、屈
折率の低い層として二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）が材料と
して選択される。
屈折率の高い層として二酸化チタン（ＴｉＯ2）が、屈
折率の低い層として二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）が材料と
して選択される。
【０００７】又、上記屈折率の異なる複数の増光反射層
を積層する順位は、光吸収層側から上記二酸化チタンか
らなる増光反射層、次いで二酸化ケイ素からなる増光反
射層とする。
を積層する順位は、光吸収層側から上記二酸化チタンか
らなる増光反射層、次いで二酸化ケイ素からなる増光反
射層とする。
【０００８】更に、上記二酸化チタンからなる増光反射
層の膜厚は８９〜９３ｎｍの範囲において、又、二酸化
ケイ素からなる増光反射層の膜厚は１４１〜１４５ｎｍ
の範囲にすれば高い反射率が得られる（図２及び図３参
照）。
層の膜厚は８９〜９３ｎｍの範囲において、又、二酸化
ケイ素からなる増光反射層の膜厚は１４１〜１４５ｎｍ
の範囲にすれば高い反射率が得られる（図２及び図３参
照）。
【０００９】更に又、光反射層の反射率は、図５から明
らかなように、ある膜厚以上では変化がなく、一方、膜
厚が厚すぎると機械的に弱くなることから光反射層の膜
厚は８０〜１００ｎｍとすることが好ましい。
らかなように、ある膜厚以上では変化がなく、一方、膜
厚が厚すぎると機械的に弱くなることから光反射層の膜
厚は８０〜１００ｎｍとすることが好ましい。
【００１０】
【作用】光吸収層と光反射層（Ａｌ層）との間に屈折率
に差のある層を挿入することによって、殊に光吸収層に
高屈折率の二酸化チタンからなる層を設け、光反射層側
に低屈折率の二酸化ケイ素からなる層を設けることによ
ってＡｌ層の反射効果が増大する。又、光吸収層と光反
射層が直接積層されないため耐久性が向上する。即ち、
光吸収層と光反射層とが密着していると経時変化が起こ
り劣化するが、本発明で使用しているＴｉＯ2膜、Ｓｉ
Ｏ2膜はどのような材料とも安定で経時変化がなく劣化
しない。
に差のある層を挿入することによって、殊に光吸収層に
高屈折率の二酸化チタンからなる層を設け、光反射層側
に低屈折率の二酸化ケイ素からなる層を設けることによ
ってＡｌ層の反射効果が増大する。又、光吸収層と光反
射層が直接積層されないため耐久性が向上する。即ち、
光吸収層と光反射層とが密着していると経時変化が起こ
り劣化するが、本発明で使用しているＴｉＯ2膜、Ｓｉ
Ｏ2膜はどのような材料とも安定で経時変化がなく劣化
しない。
【００１１】
【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明を具体
的に説明する。
的に説明する。
【００１２】〔実施例〕射出成形により作製したＰＣ基
板（φ：130mm）を予めベーキングした。次いで連続ス
パッタリング装置により厚さ１６０ｎｍのＴｅＯ膜を基
板上に形成した。次に高周波スパッタ法により厚さ９１
ｎｍのＴｉＯ2膜と厚さ１４２ｎｍのＳｉＯ2膜をＴｅＯ
膜上に順次形成した。更にＴｉＯ2膜上に膜厚８８ｎｍ
のＡｌ層を直流スパッタ法で形成した。最後にＡｌ層上
にＵＶ樹脂をスピナー法により塗布し、厚さ１０μｍの
保護膜層を設け光ディスクとした（図１参照）。
板（φ：130mm）を予めベーキングした。次いで連続ス
パッタリング装置により厚さ１６０ｎｍのＴｅＯ膜を基
板上に形成した。次に高周波スパッタ法により厚さ９１
ｎｍのＴｉＯ2膜と厚さ１４２ｎｍのＳｉＯ2膜をＴｅＯ
膜上に順次形成した。更にＴｉＯ2膜上に膜厚８８ｎｍ
のＡｌ層を直流スパッタ法で形成した。最後にＡｌ層上
にＵＶ樹脂をスピナー法により塗布し、厚さ１０μｍの
保護膜層を設け光ディスクとした（図１参照）。
【００１３】〔比較例１〕上記実施例とはＴｉＯ2膜及
びＳｉＯ2膜を設けないほかは同様にして光ディスクと
した。
びＳｉＯ2膜を設けないほかは同様にして光ディスクと
した。
【００１４】〔比較例２〕上記実施例と同様にして基板
上にＴｅＯ層のみ設けた。
上にＴｅＯ層のみ設けた。
【００１５】〔比較例３〕比較例２で作製したＴｅＯ層
の上に実施例と同様にしてＵＶ樹脂からなる保護膜層を
形成した。
の上に実施例と同様にしてＵＶ樹脂からなる保護膜層を
形成した。
【００１６】〔参考例〕上記比較例とはＡｌ層をＡｕ層
（膜厚９１ｎｍ）に変えた以外は同様にして光ディスク
とした。
（膜厚９１ｎｍ）に変えた以外は同様にして光ディスク
とした。
【００１７】以上の実施例及び比較例により得られた各
ディスクの光学定数（Ｎ：屈折率、Ｋ：消衰係数）と反
射率を表１に示す。
ディスクの光学定数（Ｎ：屈折率、Ｋ：消衰係数）と反
射率を表１に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】表１から明らかなように増光反射層を設け
た上にＡｌの光反射層を設けた実施例の光ディスクの反
射率は、増光反射層を設けず光吸収層上に直接Ａｌ層を
設けた比較例１の光ディスクのそれに比較して14.3％も
増加し、Ａｕの光反射層（表１の参考例参照）には及ば
ないが85.7％という高い反射率が得られる。
た上にＡｌの光反射層を設けた実施例の光ディスクの反
射率は、増光反射層を設けず光吸収層上に直接Ａｌ層を
設けた比較例１の光ディスクのそれに比較して14.3％も
増加し、Ａｕの光反射層（表１の参考例参照）には及ば
ないが85.7％という高い反射率が得られる。
【００２０】
【発明の効果】以上のように本発明によれば光反射層を
Ａｌで形成しても高い反射率を有する光ディスクが得ら
れる。又、光ディスクの耐久性も向上する。
Ａｌで形成しても高い反射率を有する光ディスクが得ら
れる。又、光ディスクの耐久性も向上する。
【図１】本発明による光ディスクの断面を示す概略図で
ある。
ある。
【図２】本発明によるＴｉＯ2層の膜厚と反射率の関係
を示す図である。
を示す図である。
【図３】本発明によるＳｉＯ2層の膜厚と反射率の関係
を示す図である。
を示す図である。
【図４】一般的な追記型光ディスクの断面を示す概略図
である。
である。
【図５】Ａｌ膜等の膜厚と反射率の関係を示す図であ
る。
る。
１ ＰＣ基板 ２ 光吸収層 ３ ＴｉＯ2層 ４ ＳｉＯ2層、 ５ 光反射層 ６ 保護層
Claims (5)
- 【請求項１】 透明基板上に光吸収層、光反射層及び保
護層をこの順に積層した追記型光ディスクにおいて、光
吸収層と光反射層との間に屈折率の異なる複数の増光反
射層を設け、光反射層をアルミニウムで形成することを
特徴とする追記型光ディスク。 - 【請求項２】 屈折率の高い増光反射層を二酸化チタン
で形成し、屈折率の低い増光反射層を二酸化ケイ素で形
成することを特徴とする請求項１記載の追記型光ディス
ク。 - 【請求項３】 二酸化チタンからなる増光反射層を光吸
収層側に設け、二酸化ケイ素からなる増光反射層を光反
射層側に設けることを特徴とする請求項１又は２記載の
追記型光ディスク。 - 【請求項４】 二酸化チタンからなる増光反射層の膜厚
を８９〜９３ｎｍとし、二酸化ケイ素からなる増光反射
層の膜厚を１４１〜１４５ｎｍとすることを特徴とする
請求項１、２又は３記載の追記型光ディスク。 - 【請求項５】 アルミニウムからなる光反射層の膜厚を
８０〜１００ｎｍとすることを特徴とする請求項１、
２、３又は４記載の追記型光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4324983A JPH06150382A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 追記型光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4324983A JPH06150382A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 追記型光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06150382A true JPH06150382A (ja) | 1994-05-31 |
Family
ID=18171821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4324983A Pending JPH06150382A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 追記型光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06150382A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002049016A1 (en) * | 2000-12-15 | 2002-06-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical information medium and its use |
-
1992
- 1992-11-10 JP JP4324983A patent/JPH06150382A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002049016A1 (en) * | 2000-12-15 | 2002-06-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical information medium and its use |
| EA005515B1 (ru) * | 2000-12-15 | 2005-02-24 | Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. | Оптический носитель информации и его использование |
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