JPH06148361A - ステージ移動装置 - Google Patents

ステージ移動装置

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Publication number
JPH06148361A
JPH06148361A JP32239392A JP32239392A JPH06148361A JP H06148361 A JPH06148361 A JP H06148361A JP 32239392 A JP32239392 A JP 32239392A JP 32239392 A JP32239392 A JP 32239392A JP H06148361 A JPH06148361 A JP H06148361A
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JP
Japan
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stage
moving
sensor
fine movement
moving stage
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Withdrawn
Application number
JP32239392A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeru Akao
茂 赤尾
Keiichi Kimura
景一 木村
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP32239392A priority Critical patent/JPH06148361A/ja
Publication of JPH06148361A publication Critical patent/JPH06148361A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 移動ステージを基準面に対して正確に位置合
せする。 【構成】 移動ステージ2を案内面3に沿って移動する
とき、センサ31乃至33により基準面1との距離を測
定する。これにより、移動ステージ2の基準面1に対す
るローリングとピッチングを検出し、これを補正する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばICを製造する
ような場合において、パターニングを行う場合に用いて
好適なステージ移動装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えばICのパターニングを行う場合、
所定のパターンが描かれているフィルムを所定の位置に
移動し、基板に対して露光を行い、フィルムを戻して交
換する動作を繰り返す必要がある。このような場合にお
いて、フィルムは移動ステージに載置され、繰り返し所
定の位置に移動される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のステージ移動装
置は、その機械的な精度を高くすることにより、移動ス
テージの移動位置を正確に制御するようにしている。し
かしながら、パターニングが行われる基板は、パターニ
ングを行う都度、微妙に変化する。その結果、移動ステ
ージの移動位置を機械的精度により規定したとしても、
前のパターニングにおいて移動した位置と、次のパター
ニングにおいて移動すべき位置が変化してしまい、結
局、前のパターニング位置と次のパターニング位置を正
確に位置合せすることが困難になる課題があった。
【0004】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、正確に位置合せができるようにするもので
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明のステージ移動装
置は、所定の方向に移動する移動ステージ2と、移動ス
テージ2を案内する案内面3と、例えば移動ステージ2
に取り付けられ、所定の基準面1との距離を光学的に計
測するセンサ31乃至33とを備えることを特徴とす
る。
【0006】センサ31乃至33の出力に対応して、移
動ステージ2と基準面1との相対的位置を微少に制御す
る微動機構41をさらに設けることができる。
【0007】また、センサ31乃至33により、移動ス
テージ2のローリング、ピッチング、またはヨーイング
を検出するようにすることができる。基準面にトラック
61を形成し、ヨーイングを検出する場合、トラック6
1に、さらにピット62を形成し、このピット62を計
数して、移動ステージ2の位置を検出するようにするこ
とができる。
【0008】
【作用】上記構成のステージ移動装置においては、移動
ステージ2と基準面1との相対的な距離がセンサ31乃
至33により計測される。従って、正確な位置の調整が
可能となる。
【0009】
【実施例】図1は、本発明のステージ移動装置の第1の
実施例を示している。基台5には支柱4が立設されてお
り、この支柱4には、案内面3を有する、断面が四角形
状の柱状部材が支持されている。移動ステージ2は、こ
の案内面3に案内されて、X軸方向(図中、左方向)に
移動するようになされている。移動ステージ2の進行方
向の左側の側面には、その前端部と後端部に、それぞれ
センサ31と32が取り付けられており、右側面の先端
には、センサ33が取り付けられている。基台5の上に
は基準面1が載置され、センサ31乃至33は、移動ス
テージ2と基準面1との距離(絶対的距離または相対的
距離)を計測するようになされている。
【0010】移動ステージ2は、案内面3に案内されて
X軸方向に移動するとき、それぞれX軸、Y軸、または
Z軸を中心として、若干回動する。この回動は、それぞ
れローリング、ピッチング、またはヨーイングと称され
る。
【0011】図2は、ローリングの検出方法を示してい
る。同図に示すように、センサ31は基準面1との距離
を計測し、また、センサ33も基準面1との距離を計測
する。センサ31により計測された距離をL31、センサ
33により計測された距離をL33とするとき、ローリン
グ誤差Drは、次式により求めることができる。 Dr=sin-1((L31−L33)/L1) ここで、L1は、センサ31と33の距離を表してい
る。
【0012】また、この場合における移動ステージ2の
基準面1に対する距離(高さ)Lrcは、次式により演算
することができる。 Lrc=(L31+L33)/2
【0013】このようにして求めた距離L31とL33の差
ΔLr(ΔLr=L31−L33)が0になるようにするとと
もに、Lrcが予め設定された一定の値になるように制御
することで、移動ステージ2のローリングを補正するこ
とができる。
【0014】図3は、ピッチングを補正する原理を示し
ている。同図に示すように、センサ31により計測され
た移動ステージ2と基準面1との距離をL31、センサ3
2により計測された距離をL32、センサ31と32の距
離をL2とするとき、ピッチング誤差DPは、次式により
演算することができる。 DP=sin-1(ΔLP/L2)=sin-1((L31−L32)/L2
【0015】また、この場合における移動ステージ2の
基準面1に対する距離(高さ)LPCは、次式により演算
される。 LPC=(L31+L32)/2
【0016】従って、ΔLP(=L31−L32)が0にな
るようにするとともに、LPCが予め設定された所定の値
になるように制御することで、ピッチング誤差を補正す
ることができる。
【0017】図4および図5は、ローリング誤差とピッ
チング誤差を補正する機構を設けた実施例を示してい
る。即ち、この実施例においては、移動ステージ2が、
内側移動ステージ21と外側移動ステージ22に分割さ
れている。内側移動ステージ21は、案内面3により案
内されるようになされている。そして、外側移動ステー
ジ22は、微動機構41を介して内側移動ステージ21
に取り付けられている。そして、この外側移動ステージ
22にセンサ31乃至33が取り付けられている。
【0018】従って、ローリング誤差Drおよびピッチ
ング誤差DPに対応する信号により、微動機構41を駆
動し、外側移動ステージ22の位置を微少に調整するよ
うにすれば、外側移動ステージ22の位置を、基準面1
に対して正確に所定の位置(ローリングとピッチングを
補正した位置)に配置することが可能となる。
【0019】図6は、微動機構41の構成例を示してい
る。この実施例においては、微動機構41が、3つの微
動機構41a乃至41cにより構成されている。微動機
構41aは、外側移動ステージ22の前方端部の近傍の
中央に配置されており、微動機構41bと41cは、外
側移動ステージ22の後方の端部の近傍に左右対称の位
置に配置されている。従って、例えばセンサ31の出力
に対応して微動機構41bを駆動し、センサ33の出力
に対応して微動機構41cを駆動するようにすれば、外
側移動ステージ22のローリングが補正される。
【0020】また、センサ31の出力に対応して微動機
構41aを駆動し、センサ32の出力に対応して微動機
構41bと41cを駆動することにより、ピッチング誤
差を補正することができる。
【0021】図7は、センサ31(32,33)の構成
例を示している。この実施例においては、レーザダイオ
ード51より出射されたレーザ光が、偏光ビームスプリ
ッタ52を介してコリメータレンズ53に入射され、発
散光から平行光に変換されるようになされている。そし
て、この平行光が1/4波長板54を介して対物レンズ
55に入射され、この対物レンズ55により基準面1上
に集束照射される。
【0022】基準面1により反射されたレーザ光は、対
物レンズ55、1/4波長板54、およびコリメータレ
ンズ53を介して偏光ビームスプリッタ52に入射され
る。このようにして、偏光ビームスプリッタ52に入射
されるレーザ光は、基準面1に向かう場合と、基準面1
から反射された場合とで、1/4波長板54を2回透過
するため、その偏光面が90度回転される。このため、
偏光ビームスプリッタ52を透過することができず、そ
こで反射されて、シリンドリカルレンズ56を介してフ
ォトダイオード57に入射される。
【0023】フォトダイオード57は、例えば図8に示
すように、A乃至Dの4つの領域に分割されている。こ
のフォトダイオード57に入射されるレーザ光は、シリ
ンドリカルレンズ56により非点収差が与えられるた
め、所謂、非点収差法の原理に基づくフォーカスエラー
信号を生成することができる。即ち、領域AとCの出力
が加算器12により加算され、領域BとDの出力が加算
器11により加算される。そして、加算器11と12の
出力が減算器13により減算されて、フォーカスエラー
信号((B+D)−(A+C))が生成される。
【0024】このようにして、加算器11,12と減算
器13よりなる演算回路14により生成されたフォーカ
スエラー信号は、対物レンズ55と基準面1との距離が
所定の距離より近すぎる場合と、遠すぎる場合とで、正
負逆極性の信号を出力する。従って、このフォーカスエ
ラー信号が0となるように、微動機構41を駆動するこ
とで、ローリング誤差およびピッチング誤差を補正する
ことができる。
【0025】図9は、さらに他の実施例を示している。
この実施例においては、基準面1が単純な平面ではな
く、湾曲した面とされている。また、案内面3も、この
基準面1に沿って湾曲した面とされている。本実施例に
おいては、微動機構41が設けられているため、湾曲し
た基準面1に対して正確に外側移動ステージ22の位置
を調整することができる。
【0026】尚、この図9の実施例においては、案内面
3を基準面1に対応して湾曲させるようにしたが、この
案内面3は、図4に示す場合と同様に、直線的な面で構
成することもできる。このようにしても、微動機構41
で外側移動ステージ22を湾曲した基準面1に対して常
に平行な姿勢に制御することができる。
【0027】図10は、ヨーイングを検出する構成例を
示している。この実施例においては、基台5に1本のト
ラック61が形成されており、そして、このトラック6
1には多数のピット62が形成されている。
【0028】尚、この実施例においては、基台5が、こ
れまでの実施例における基準面1として、そこにトラッ
ク61が形成されているが、基台5ではなく、これまで
の実施例のように、基準面1を基台5と別に設け、そこ
にピット62を有するトラック61を形成するようにす
ることもできる。
【0029】図11は、トラック61の断面形状の例を
示している(この図11は、図12におけるXI−XI線断
面図を示している)。図11(a)は、基台5から高さ
tだけ突出させてトラック61を形成した実施例を示し
ている。このトラック61の左右には、エッジ61aと
61bが形成され、その中央にはピット62が凹部とし
て形成されている。
【0030】図11(b)は、トラック61がエッジ6
1aと61bを有する溝として形成されている例を示し
ている。そして、この例においては、深さtの溝からな
るトラック61の中央に突部としてピット62が形成さ
れている。
【0031】図12は、このようなトラック61を設け
ることで、ヨーイングを検出する原理を示している。こ
の実施例においては、いま、センサ31により、移動ス
テージ2がトラック61より進行方向に向かって左側
(図中、下側)に幅W31だけ、ずれていることを検出し
ている。また、センサ32はトラック61より右側(図
中、上側)に幅W32だけ、ずれていることを検出してい
る。
【0032】ヨーイング誤差Dyは、次式により演算す
ることができる。 Dy=sin-1(ΔW/L2)=sin-1((W31−W32)/L2
【0033】また、この場合における外側移動ステージ
22のトラック61からのシフト量WCは、次式より演
算することができる。 WC=(W31+W32)/2
【0034】従って、ΔWが0になるようにするととも
に、WCの値を予め設定された一定の値に制御するよう
にすることで、外側ステージ22のヨーイングを補正す
ることができる。
【0035】図13および図14は、ヨーイングを補正
するための機構を設けた実施例を示している。即ち、こ
の実施例においては、内側移動ステージ21の左右側部
に微動機構41dと41eがそれぞれ設けられ、この微
動機構41dと41eを介して、外側移動ステージ22
が内側移動ステージ21に取り付けられている。従っ
て、上述したセンサ31またはセンサ32の出力に対応
して、この微動機構41dまたは41eを駆動すること
により、外側移動ステージ22のヨーイングを補正する
ことができる。
【0036】図15は、微動機構41d,41eの構成
例を示している。この実施例においては、微動機構41
dが微動機構41gと41hにより構成され、微動機構
41eが微動機構41iにより構成されている。微動機
構41gは、内側移動ステージ21の左側面の前方端部
の近傍の位置(センサ31に対応する位置)に配置さ
れ、微動機構41hは、内側移動ステージ21の左側面
の後方端部の近傍の位置(センサ32に対応する位置)
に配置されている。そして、微動機構41iは、内側移
動ステージ21の右側面のX軸方向の中央の位置(微動
機構41gと41hのX軸方向の中間の位置)に配置さ
れている。
【0037】従って、この実施例においては、センサ3
1が幅W31の誤差に対応して出力するトラッキングエラ
ー信号に従って、微動機構41gと41iを、所定の割
合で駆動し、センサ32が幅W32の誤差に対応して出力
するトラッキングエラー信号に基づき、微動機構41h
と41iを所定の割合で駆動することにより、ヨーイン
グを補正することができる。
【0038】図16は、このように、ローリングおよび
ピッチングだけでなく、ヨーイングをも検出する場合の
センサ31(32,33)の構成例を示している。この
実施例においては、レーザダイオード51と偏光ビーム
スプリッタ52との間に回折格子58が挿入されてい
る。その結果、レーザダイオード51より出射されたレ
ーザ光が、この回折格子58により実質的に3本の光ビ
ームに分割される。その結果、この3本の光ビームが対
物レンズ55によりトラック61上に照射されることに
なる。
【0039】図17は、トラック61上に3本の光ビー
ムが照射された結果、形成された光スポットの位置を示
している。同図に示すように、3本の光のビームのうち
の中央の光ビームにより生成される光スポットMは、ト
ラック61の中央に形成され、その左右の光ビームによ
り形成される光スポットL,Rは、それぞれトラック6
1の左側のエッジ61aと右側のエッジ61bにかかる
ように配置される。
【0040】そして、このような3つの光スポットから
の反射レーザ光が、図18に示すように、大きく3つに
分割されているフォトダイオード57a乃至57cにそ
れぞれ照射されるようになされている。即ち、中央の光
スポットMからの反射によるレーザ光は、フォトダイオ
ード57aに入射される。そして、左側の光スポットL
に対応する反射レーザ光は、フォトダイオード57bに
入射され、光スポットRに対応する反射レーザ光は、フ
ォトダイオード57cに入射される。
【0041】フォトダイオード57bと57cの出力
を、減算器として動作する演算回路15により減算する
ことにより、所謂、スリービーム法(ツービーム法)に
基づくトラッキングエラー信号を生成することができ
る。このトラッキングエラー信号が、上述した図12に
おける幅W31,W32に対応する信号となる。
【0042】また、フォトダイオード57aは、図8に
おける場合と同様に、A乃至Dの4つの領域に区分され
ており、その出力が演算回路14により演算され、フォ
ーカスエラー信号が生成される。
【0043】また、領域A乃至Dの出力は、演算回路1
6にも供給されて加算され((A+B+C+D)とさ
れ)、さらに波形整形回路17に供給され、波形整形さ
れた後、カウンタ18に供給されている。カウンタ18
は、波形整形回路17より供給されるパルスの立上りエ
ッジあるいは立下りエッジをカウントすることにより、
トラック61に形成されているピット62の数をカウン
トする。図12に示すように、このピット62は、トラ
ック61上に一定の周期で周期的に配置されている。従
って、このカウント値は、移動ステージ2のX方向の位
置に対応することになる。このようにして、X軸方向の
移動ステージ2の位置を検出する必要がない場合におい
ては、ピット62を設ける必要がない。即ち、ヨーイン
グを検出するだけでよい場合においては、トラック61
を設けるだけでよい。
【0044】図19は、トラック61を湾曲して形成し
た実施例を示している。このように、トラック61を湾
曲して形成した場合においても、移動ステージ2が、こ
のトラック61に沿って移動するため、このトラック6
1に対するヨーイングを補正することができる。また、
この実施例においては、案内面3もトラック61に沿っ
て湾曲するように形成されているが、上述したように、
この案内面3は直線的に形成することもできる。
【0045】図20は、図6に示すローリング誤差およ
びピッチング誤差を補正するための微動機構41a乃至
41cと、図15に示すヨーイング誤差を補正する微動
機構41g乃至41iを有するステージ移動装置におい
て、これらの微動機構41a乃至41iを駆動する回路
の構成例を示している。微動機構41a乃至41iは、
電磁機構あるいは圧電素子などよりなるアクチュエータ
と、これを駆動する駆動回路より構成されている。ま
た、各センサ31乃至33は、フォトダイオード57a
乃至57cと、演算回路14,15により構成されてい
る。
【0046】外側移動ステージ22の左側面の前方に配
置されているセンサ31の演算回路14が出力するフォ
ーカスエラー信号は、ローリングを補正するため、外側
移動ステージ22の後方の左側に配置された微動機構4
1bに供給されている。また、外側移動ステージ22の
右側面の前方に配置されたセンサ33の演算回路14が
出力するフォーカスエラー信号が、微動機構41bの右
側に配置された微動機構41cに供給されている。従っ
て、この微動機構41bと41cにより、ローリングが
補正される。
【0047】また、ピッチングを補正するため、前方の
センサ31の演算回路14が出力するフォーカスエラー
信号が、外側移動ステージ22の前方に配置された微動
機構41aに供給される。また、後方に配置されたセン
サ32の演算回路14が出力するフォーカスエラー信号
が、後方に配置された微動機構41bと41cに供給さ
れる。前方の微動機構41aは1個であるのに対して、
後方の微動機構は41b,41cと2個であるため、後
者に供給する信号は前者に供給する信号とバランスをと
るため、所定の係数を乗算する等して調整することがで
きる。これにより、外側移動ステージ22がピッチング
方向に制御される。
【0048】さらに、外側移動ステージ22の前方に配
置されたセンサ31の演算回路15が出力するトラッキ
ングエラー信号と、後方に配置されたセンサ32の演算
回路15が出力するトラッキングエラー信号が、演算回
路71に入力され、所定の割合で分配され、左側面の前
方に配置された微動機構41g、左側面の後方に配置さ
れた微動機構41h、および右側面の中間に配置された
微動機構41iを駆動する。これにより、外側移動ステ
ージ22のヨーイングが補正される。
【0049】尚、以上の実施例においては、基準面1
(基台5)に対して、外側移動ステージ22をローリン
グ、ピッチング、あるいはヨーイング方向に駆動するよ
うにしたが、基準面1(基台5)を移動ステージ2に対
して各方向に移動させるようにすることも可能である。
さらに、センサ31乃至33を、基準面1(基台5)側
に配置することも可能である。
【0050】また、以上において、フォーカスエラー信
号により相対的距離を検出するようにしたが、例えばP
SDを用いることにより、絶対的距離を検出することも
可能である。
【0051】
【発明の効果】以上の如く請求項1に記載のステージ移
動装置によれば、移動ステージと所定の基準面との距離
をセンサにより光学的に計測するようにしたので、移動
ステージと基準面の位置を正確に検出することが可能と
なる。
【0052】請求項2に記載のステージ移動装置によれ
ば、センサの出力に対応して、移動ステージと基準面と
の相対的位置を制御するようにしたので、両者の相対的
位置を常に所定の位置に制御することが可能となる。
【0053】請求項3乃至5のステージ移動装置によれ
ば、それぞれローリング、ピッチングまたはヨーイング
を検出するようにしたので、これらの方向の誤差が補正
可能となる。
【0054】さらに請求項6に記載のステージ移動装置
によれば、トラックにピットを形成するようにしたの
で、移動ステージの位置を検出することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のステージ移動装置の一実施例の構成を
示す斜視図である。
【図2】図1の実施例のローリングの検出の原理を説明
する図である。
【図3】図1の実施例のピッチングの検出の原理を説明
する図である。
【図4】本発明のピッチングおよびローリングを補正す
るステージ移動装置の一実施例の構成を示す斜視図であ
る。
【図5】図4のV−V線の断面図である。
【図6】図5の微動機構41の構成例を示す平面図であ
る。
【図7】図1の実施例のローリングとピッチングを検出
するセンサ31の構成例を示す図である。
【図8】図7のフォトダイオード57の構成例とその出
力を演算する演算回路の構成を示すブロック図である。
【図9】本発明のステージ移動装置の他の実施例の構成
を示す斜視図である。
【図10】本発明のヨーイングを検出するステージ移動
装置の一実施例の構成を示す斜視図である。
【図11】図12のXI−XI線の断面を示す断面図であ
る。
【図12】図10の実施例におけるヨーイングの検出の
原理を説明する図である。
【図13】本発明のヨーイングを補正する実施例の構成
を示す斜視図である。
【図14】図13のXIV−XIV線の断面図である。
【図15】図14の微動機構41d,41eの構成例を
示す図である。
【図16】本発明のヨーイングを検出する場合のセンサ
31の構成を示す図である。
【図17】図16のトラック61上の光スポットの位置
関係を説明する図である。
【図18】図16のフォトダイオード57の構成例とそ
の出力を演算する演算回路の構成を示す図である。
【図19】本発明のヨーイングを補正する他の実施例の
構成を示す斜視図である。
【図20】ローリング、ピッチングおよびヨーイングを
補正する場合のセンサ31乃至33の出力に対応して微
動機構41a乃至41iを駆動する電気的構成を示すブ
ロック図である。
【符号の説明】
1 基準面 2 移動ステージ 3 案内面 5 基台 11,12 加算器 13 減算器 14乃至16 演算回路 17 波形整形回路 18 カウンタ 21 内側移動ステージ 22 外側移動ステージ 31乃至33 センサ 41,41a乃至41i 微動機構 51 レーザダイオード 56 シリンドリカルレンズ 57 フォトダイオード 61 トラック 61a,61b エッジ 62 ピット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 F 8418−4M

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の方向に移動する移動ステージと、 前記移動ステージを案内する案内面と、 前記移動ステージと所定の基準面の一方に取り付けら
    れ、他方との距離を光学的に計測するセンサとを備える
    ことを特徴とするステージ移動装置。
  2. 【請求項2】 前記センサの出力に対応して、前記移動
    ステージと基準面との相対的位置を微少に制御する微動
    機構をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の
    ステージ移動装置。
  3. 【請求項3】 前記センサは、前記移動ステージのロー
    リングを検出することを特徴とする請求項1または2に
    記載のステージ移動装置。
  4. 【請求項4】 前記センサは、前記移動ステージのピッ
    チングを検出することを特徴とする請求項1,2または
    3に記載のステージ移動装置。
  5. 【請求項5】 前記基準面にはトラックが形成され、 前記センサは前記トラックを追跡して、前記移動ステー
    ジのヨーイングを検出することを特徴とする請求項1乃
    至4のいずれかに記載のステージ移動装置。
  6. 【請求項6】 前記トラックにはピットが形成され、 前記センサは前記ピットを計数して、前記移動ステージ
    の位置を検出することを特徴とする請求項5に記載のス
    テージ移動装置。
JP32239392A 1992-11-06 1992-11-06 ステージ移動装置 Withdrawn JPH06148361A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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