JPH06136127A - エポキシシロキサン/エポキシシリコーン単量体及び重合体の合成用の新規なロジウム含有選択的触媒 - Google Patents
エポキシシロキサン/エポキシシリコーン単量体及び重合体の合成用の新規なロジウム含有選択的触媒Info
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 81
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 title claims description 35
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 title claims description 35
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 26
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 26
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title claims description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 14
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 title claims description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 title claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 79
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims abstract description 55
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 claims abstract description 8
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 claims abstract 7
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 claims description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 16
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 11
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical group [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052794 bromium Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 9
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 9
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 4
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 1
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 32
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910021604 Rhodium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 6
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 6
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 4
- AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N triethylsilane Chemical compound CC[SiH](CC)CC AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 3-Vinyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1C(C=C)CCC2OC21 SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 3
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052990 silicon hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical group C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 3
- 239000011995 wilkinson's catalyst Substances 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3}-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N Ethynylbenzene Chemical group C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229910019891 RuCl3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- IQTYEDULQISSGT-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethyl-3-(3-methylpent-4-enyl)oxirane Chemical compound C=CC(C)CCC1OC1(C)C IQTYEDULQISSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQZDDWKUQKQXGC-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoxymethyl)oxirane Chemical compound CC(=C)COCC1CO1 LQZDDWKUQKQXGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCCIMXJIZJBZPX-UHFFFAOYSA-N 2-pent-4-enyloxirane Chemical compound C=CCCCC1CO1 KCCIMXJIZJBZPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPGMNSDVDPWYIS-UHFFFAOYSA-N 3-ethenyl-3,6-dimethyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC(C)(C=C)CC2OC21C SPGMNSDVDPWYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 6-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CCCC2OC21C=C XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPZMXXSKNDWTIE-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CCCC2OC21.C1CCCC2OC21 UPZMXXSKNDWTIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVKMDAZAUGXUFX-UHFFFAOYSA-N C1C2(C=C)CCC1C1C2O1 Chemical compound C1C2(C=C)CCC1C1C2O1 CVKMDAZAUGXUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZUFKLXOESDKRF-UHFFFAOYSA-N Chlorothiazide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC2=C1NCNS2(=O)=O JZUFKLXOESDKRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N Epoxybutene Chemical compound C=CC1CO1 GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021638 Iridium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N Niacin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1 PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- ISHSPMHIBVKHSY-UHFFFAOYSA-J bromo(trichloro)rhodium Chemical compound Cl[Rh](Cl)(Cl)Br ISHSPMHIBVKHSY-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N diethoxysilane Chemical compound CCO[SiH2]OCC ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XWRLQRLQUKZEEU-UHFFFAOYSA-N ethyl(hydroxy)silicon Chemical class CC[Si]O XWRLQRLQUKZEEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCWYOFZQRFCIIE-UHFFFAOYSA-N ethylsilane Chemical compound CC[SiH3] KCWYOFZQRFCIIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- CCEFMUBVSUDRLG-UHFFFAOYSA-N limonene-1,2-epoxide Chemical compound C1C(C(=C)C)CCC2(C)OC21 CCEFMUBVSUDRLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010534 mechanism of action Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N phenylsilane Chemical compound [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 229920006294 polydialkylsiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- QBERHIJABFXGRZ-UHFFFAOYSA-M rhodium;triphenylphosphane;chloride Chemical compound [Cl-].[Rh].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QBERHIJABFXGRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSSMNYDDDSNUKH-UHFFFAOYSA-K trichlororhodium;hydrate Chemical compound O.Cl[Rh](Cl)Cl HSSMNYDDDSNUKH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphane oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)C1=CC=CC=C1 FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWGJCIMEBVHMTA-UHFFFAOYSA-K trisodium;6-oxido-4-sulfo-5-[(4-sulfonatonaphthalen-1-yl)diazenyl]naphthalene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].C1=CC=C2C(N=NC3=C4C(=CC(=CC4=CC=C3O)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=CC=C(S([O-])(=O)=O)C2=C1 SWGJCIMEBVHMTA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- UTODFRQBVUVYOB-UHFFFAOYSA-P wilkinson's catalyst Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)[Rh+](P(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)P(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UTODFRQBVUVYOB-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 229910009112 xH2O Inorganic materials 0.000 description 1
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 エチレン性不飽和エポキシド及びSiH含有
シリコーンを反応させてエポキシシリコーン生成物を製
造するヒドロシリル化反応の改善。 【構成】 本発明では、該反応をエチレン性不飽和エポ
キシド出発物質又はエポキシシリコーン生成物のオキシ
ラン環の開環反応を促進しないロジウム含有選択的触媒
の存在下で行なうことによる硬化性エポキシシリコーン
組成物の製造法が提供される。本発明はまた上記方法に
よって製造された硬化性エポキシシリコーン組成物、上
記ロジウム含有選択的触媒及び該触媒の製造のための二
つの方法も提供する。
シリコーンを反応させてエポキシシリコーン生成物を製
造するヒドロシリル化反応の改善。 【構成】 本発明では、該反応をエチレン性不飽和エポ
キシド出発物質又はエポキシシリコーン生成物のオキシ
ラン環の開環反応を促進しないロジウム含有選択的触媒
の存在下で行なうことによる硬化性エポキシシリコーン
組成物の製造法が提供される。本発明はまた上記方法に
よって製造された硬化性エポキシシリコーン組成物、上
記ロジウム含有選択的触媒及び該触媒の製造のための二
つの方法も提供する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はエチレン性不飽和エポキ
シドとオルガノ水素シラン又はオルガノ水素シロキサン
とのヒドロシリル化付加反応を促進するが、エチレン性
不飽和エポキシド出発物質又はヒドロシリル化反応生成
物であるエポキシシリコーンのオキシラン環の開環重合
は促進しないロジウム基質触媒を使用するエポキシシリ
コーンの製造法に関する。本発明はまた本発明の方法に
よって製造された硬化性エポキシシリコーン組成物に関
するものである。
シドとオルガノ水素シラン又はオルガノ水素シロキサン
とのヒドロシリル化付加反応を促進するが、エチレン性
不飽和エポキシド出発物質又はヒドロシリル化反応生成
物であるエポキシシリコーンのオキシラン環の開環重合
は促進しないロジウム基質触媒を使用するエポキシシリ
コーンの製造法に関する。本発明はまた本発明の方法に
よって製造された硬化性エポキシシリコーン組成物に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】エポキシシリコーン組成物の製造におい
て、遷移金属触媒がヒドロシリル化反応を促進すること
は古くから知られている。たとえばAdvances
inOrganometallic Chemistr
y,第17巻、第407−447頁のJ.L.Spei
erの報文“Homogeneous Catalys
is of Hydrosilation by Tr
ansition Metals”(F.G.A.St
one及びR.West編、AcademicPres
s(New York,San Francisco,
London)1979年発行);Aylett著“O
rganometallic Compounds”第
1巻、第107頁(John Wiley & Son
s(New York)1979年発行);及びJ.P
olymer Sci.,第28巻、第479−503
頁のCrivello及びLeeの報文“The Sy
nthesis,Characterization,
and Photoinitiated Cation
ic Polymerization of Sili
con−Containing Epoxy Resi
ns”(JohnWiley & Sons(New
York)1990年発行)を参照されたい。一般に、
使用されるヒドロシリル化触媒は白金、パラジウム、ロ
ジウム、イリジウム、鉄又はコバルトの錯体である。特
に白金含有触媒がこの目的のために広く使用されてきて
いる。
て、遷移金属触媒がヒドロシリル化反応を促進すること
は古くから知られている。たとえばAdvances
inOrganometallic Chemistr
y,第17巻、第407−447頁のJ.L.Spei
erの報文“Homogeneous Catalys
is of Hydrosilation by Tr
ansition Metals”(F.G.A.St
one及びR.West編、AcademicPres
s(New York,San Francisco,
London)1979年発行);Aylett著“O
rganometallic Compounds”第
1巻、第107頁(John Wiley & Son
s(New York)1979年発行);及びJ.P
olymer Sci.,第28巻、第479−503
頁のCrivello及びLeeの報文“The Sy
nthesis,Characterization,
and Photoinitiated Cation
ic Polymerization of Sili
con−Containing Epoxy Resi
ns”(JohnWiley & Sons(New
York)1990年発行)を参照されたい。一般に、
使用されるヒドロシリル化触媒は白金、パラジウム、ロ
ジウム、イリジウム、鉄又はコバルトの錯体である。特
に白金含有触媒がこの目的のために広く使用されてきて
いる。
【0003】もっとも普通に使用される白金含有触媒は
塩化白金酸から誘導されるものである。これらの触媒は
不安定であり、金属クラスター化合物又はコロイドを形
成する傾向がある[Cotton及びWilkenso
n著“Advanced Inorganic Che
mistry、第4版(John Wiley &So
ns(New York)1980年発行)参照]。塩
化白金酸それ自体は溶液中で熱的に及び光化学的に不安
定である。さらに、その組成はその水和状態に応じて変
動し得る。たとえば、塩化白金酸は典型的にはH
3 O+ 、H5 O2 +及びH7 O3 + イオンを含有する。
溶液中で室温で放置すると、塩化白金酸はしばしば元素
態白金を析出するであろう。熱分解に際しては揮発性P
t6 Cl12もまた中間体の一つとして形成される[In
organic Chemistry,第17巻、第2
326−2327頁(1978)のSchweizer
及びKerrの報文“Thermal Decompo
sition of Hexachloroplati
nic Acid”参照]。
塩化白金酸から誘導されるものである。これらの触媒は
不安定であり、金属クラスター化合物又はコロイドを形
成する傾向がある[Cotton及びWilkenso
n著“Advanced Inorganic Che
mistry、第4版(John Wiley &So
ns(New York)1980年発行)参照]。塩
化白金酸それ自体は溶液中で熱的に及び光化学的に不安
定である。さらに、その組成はその水和状態に応じて変
動し得る。たとえば、塩化白金酸は典型的にはH
3 O+ 、H5 O2 +及びH7 O3 + イオンを含有する。
溶液中で室温で放置すると、塩化白金酸はしばしば元素
態白金を析出するであろう。熱分解に際しては揮発性P
t6 Cl12もまた中間体の一つとして形成される[In
organic Chemistry,第17巻、第2
326−2327頁(1978)のSchweizer
及びKerrの報文“Thermal Decompo
sition of Hexachloroplati
nic Acid”参照]。
【0004】多くの遷移金属錯体触媒はヒドロシリル化
反応に対して触媒作用を示すに加えて水素化珪素の存在
下ではエチレン性不飽和エポキシド出発物質及びヒドロ
シリル化反応のエポキシシリコーン生成物のオキシラン
環の開環重合も促進することが認められている。たとえ
ば、本出願人自身の1990年2月2日付米国特許出願
SN.07/473,802号明細書(Riding
ら)にはエポキシドのオキシラン環の開環重合の促進に
白金又は白金基触媒を使用することが開示されているの
で参照されたい。エポキシシリコーンの製造中における
この開環重合反応は、このエポキシドの重合が反応混合
物の完全なゲル化を惹起し、その結果そのバッチ全体の
損失及び不溶性のゲル化樹脂の除去、清掃のための多大
の時間の損失をもたらすので、望ましくない。
反応に対して触媒作用を示すに加えて水素化珪素の存在
下ではエチレン性不飽和エポキシド出発物質及びヒドロ
シリル化反応のエポキシシリコーン生成物のオキシラン
環の開環重合も促進することが認められている。たとえ
ば、本出願人自身の1990年2月2日付米国特許出願
SN.07/473,802号明細書(Riding
ら)にはエポキシドのオキシラン環の開環重合の促進に
白金又は白金基触媒を使用することが開示されているの
で参照されたい。エポキシシリコーンの製造中における
この開環重合反応は、このエポキシドの重合が反応混合
物の完全なゲル化を惹起し、その結果そのバッチ全体の
損失及び不溶性のゲル化樹脂の除去、清掃のための多大
の時間の損失をもたらすので、望ましくない。
【0005】さらに、エポキシシリコーンの合成の間に
開環重合に基因する部分的ゲル化がエポキシシリコーン
生成物の再現性あるバッチ間粘度の取得を困難にするほ
どに生起し得る。かゝる粘度の再現性はエポキシシリコ
ーン産業においてきわめて好ましいものである、という
のはこれらの物質は典型的には塗料、たとえば剥離塗料
として使用され、そしてこれらの塗料を基体にうまくか
つ均一に塗布する方法は塗料物質の粘度に大いに依存す
るからである。1991年12月5日付のEckber
gらの米国特許出願第802,679号及び第802,
681号明細書にはヒドロシリル化合成反応中に第3級
アミン安定剤を使用することによって粘度の制御を達成
し得ることが開示されている。しかしながら、この安定
剤の存在下では限定された数の遷移金属ヒドロシリル化
触媒のみが活性であるに過ぎない。
開環重合に基因する部分的ゲル化がエポキシシリコーン
生成物の再現性あるバッチ間粘度の取得を困難にするほ
どに生起し得る。かゝる粘度の再現性はエポキシシリコ
ーン産業においてきわめて好ましいものである、という
のはこれらの物質は典型的には塗料、たとえば剥離塗料
として使用され、そしてこれらの塗料を基体にうまくか
つ均一に塗布する方法は塗料物質の粘度に大いに依存す
るからである。1991年12月5日付のEckber
gらの米国特許出願第802,679号及び第802,
681号明細書にはヒドロシリル化合成反応中に第3級
アミン安定剤を使用することによって粘度の制御を達成
し得ることが開示されている。しかしながら、この安定
剤の存在下では限定された数の遷移金属ヒドロシリル化
触媒のみが活性であるに過ぎない。
【0006】貴金属ヒドロシリル化触媒の存在下では、
エポキシシリコーンは室温で貯蔵する際、エポキシド環
の開環重合反応のためにゆっくりゲル化し、したがって
エポキシシリコーンの保存寿命を短縮することが認めら
れている。この貯蔵の問題は遷移金属錯体触媒をその触
媒活性の抑制剤、たとえば白金錯体触媒の場合にはドデ
シルメルカプタン又は2−メルカプトベンゾチアゾール
で失活させることによって部分的に軽減することができ
るが、この余分の成分及び追加の処理工程をエポキシシ
リコーン組成物及びその製造工程中に組入れないことが
好ましい。
エポキシシリコーンは室温で貯蔵する際、エポキシド環
の開環重合反応のためにゆっくりゲル化し、したがって
エポキシシリコーンの保存寿命を短縮することが認めら
れている。この貯蔵の問題は遷移金属錯体触媒をその触
媒活性の抑制剤、たとえば白金錯体触媒の場合にはドデ
シルメルカプタン又は2−メルカプトベンゾチアゾール
で失活させることによって部分的に軽減することができ
るが、この余分の成分及び追加の処理工程をエポキシシ
リコーン組成物及びその製造工程中に組入れないことが
好ましい。
【0007】白金錯体を含む多くの触媒系においては、
その触媒活性種は明確には判明していない。最近になっ
て、コロイドが触媒の活性種であることがある種の接触
的ヒドロシリル化反応に関して(Lewis,Jour
nal of the American Chemi
cal Society,第112巻、第5998頁、
1990年参照)及びエポキシドの開環重合に関して
(“Novel Platinum Containi
g Initiators for Ring−Ope
ning Polymerizations”,Jou
rnal ofPolymer Science,P
t.A;Polymer Chemistry Edi
tion,第25巻、第1853−1863頁、199
1年参照)示された。他の報文はヒドロシリル化反応に
おける触媒活性種は非コロイド状金属錯体であることを
示唆している[たとえばWender及びPino編、
John Wiley & Sons(New Yor
k)1977年発行Synthesis Via Me
tal Carbonyls,第673頁のHarro
d及びChalkの報文参照]。
その触媒活性種は明確には判明していない。最近になっ
て、コロイドが触媒の活性種であることがある種の接触
的ヒドロシリル化反応に関して(Lewis,Jour
nal of the American Chemi
cal Society,第112巻、第5998頁、
1990年参照)及びエポキシドの開環重合に関して
(“Novel Platinum Containi
g Initiators for Ring−Ope
ning Polymerizations”,Jou
rnal ofPolymer Science,P
t.A;Polymer Chemistry Edi
tion,第25巻、第1853−1863頁、199
1年参照)示された。他の報文はヒドロシリル化反応に
おける触媒活性種は非コロイド状金属錯体であることを
示唆している[たとえばWender及びPino編、
John Wiley & Sons(New Yor
k)1977年発行Synthesis Via Me
tal Carbonyls,第673頁のHarro
d及びChalkの報文参照]。
【0008】オキシラン環の開環重合を最低限に抑制す
るために、従来エポキシシリコーン油の製造は該合成反
応中のバッチ温度及びオレフィンエポキシドの供給速度
を注意深く制御し、ついでヒドロシリル化反応の完了後
に前述した触媒の失活化を行なうことによってのみ首尾
よく達成されていた。Crivello及びFanの1
990年9月17日付の米国特許出願第583,524
号明細書(発明の名称“Preparation of
Epoxysilicon Compounds u
sing Rhodium Catalysts”)に
開示されているごとく、ある種のロジウム基ヒドロシリ
ル化触媒はエポキシド環の開環重合反応を促進すること
なしにヒドロシリル化反応を選択的に促進する。これら
の触媒を使用して種々のエポキシ含有シリコーン単量体
及びオリゴマーを合成し得る。しかしながら、エポキシ
シリコーン組成物の合成のために慣用的に使用されてい
る触媒の大多数、特に白金含有触媒、はエポキシド環の
開環重合反応を促進し、したがってエポキシシリコーン
の選択的ヒドロシリル化による合成を達成することは不
可能である。
るために、従来エポキシシリコーン油の製造は該合成反
応中のバッチ温度及びオレフィンエポキシドの供給速度
を注意深く制御し、ついでヒドロシリル化反応の完了後
に前述した触媒の失活化を行なうことによってのみ首尾
よく達成されていた。Crivello及びFanの1
990年9月17日付の米国特許出願第583,524
号明細書(発明の名称“Preparation of
Epoxysilicon Compounds u
sing Rhodium Catalysts”)に
開示されているごとく、ある種のロジウム基ヒドロシリ
ル化触媒はエポキシド環の開環重合反応を促進すること
なしにヒドロシリル化反応を選択的に促進する。これら
の触媒を使用して種々のエポキシ含有シリコーン単量体
及びオリゴマーを合成し得る。しかしながら、エポキシ
シリコーン組成物の合成のために慣用的に使用されてい
る触媒の大多数、特に白金含有触媒、はエポキシド環の
開環重合反応を促進し、したがってエポキシシリコーン
の選択的ヒドロシリル化による合成を達成することは不
可能である。
【0009】フェニルアセチレンとトリエチルシランと
のヒドロシリル化反応のための触媒としてある種の第4
級オニウムヘキサクロルプラチネートを使用することは
すでに提案されている(Organometallic
s,第6巻、第1410−1413頁、1987年のI
ovel,I.,Goldberg,Y.,Shyma
nska,M.及びLukevics,E.の報文参
照)。しかしながら、この研究は第4級オニウムヘキサ
クロルプラチネートがビニルエポキシドへのヒドロシリ
ル化付加用の有用な触媒として適当であることを示して
おらず、またかゝる塩がエチレン性不飽和エポキシド出
発物質又はそのヒドロシリル化反応生成物であるエポキ
シシリコーン中のエポキシ基の触媒による開環重合を有
効に抑制することを示唆するものでもない。
のヒドロシリル化反応のための触媒としてある種の第4
級オニウムヘキサクロルプラチネートを使用することは
すでに提案されている(Organometallic
s,第6巻、第1410−1413頁、1987年のI
ovel,I.,Goldberg,Y.,Shyma
nska,M.及びLukevics,E.の報文参
照)。しかしながら、この研究は第4級オニウムヘキサ
クロルプラチネートがビニルエポキシドへのヒドロシリ
ル化付加用の有用な触媒として適当であることを示して
おらず、またかゝる塩がエチレン性不飽和エポキシド出
発物質又はそのヒドロシリル化反応生成物であるエポキ
シシリコーン中のエポキシ基の触媒による開環重合を有
効に抑制することを示唆するものでもない。
【0010】前述したところを考慮すれば、エポキシシ
リコーン産業において、慣用されるヒドロシリル化触媒
を使用する場合にオキシラン環の開環を排除する方法を
確立する必要があることはあきらかである。さらに、エ
ポキシド環の開環副反応を生起することなしにエポキシ
シリコーン単量体及びオリゴマーを製造し、それによっ
て再現性あるバッチ間粘度をもつエポキシシリコーン組
成物を生成させる効率的でしかも経済的な方法を提供す
ることも必要である。しかも、得られるエポキシシリコ
ーン組成物についてはエポキシド環の開環重合に対して
安定であり、したがってヒドロシリル化付加反応の完了
後に触媒を失活化する追加の工程及び追加の費用を必要
とすることなしに増加した保存寿命をもつことが必要で
ある。
リコーン産業において、慣用されるヒドロシリル化触媒
を使用する場合にオキシラン環の開環を排除する方法を
確立する必要があることはあきらかである。さらに、エ
ポキシド環の開環副反応を生起することなしにエポキシ
シリコーン単量体及びオリゴマーを製造し、それによっ
て再現性あるバッチ間粘度をもつエポキシシリコーン組
成物を生成させる効率的でしかも経済的な方法を提供す
ることも必要である。しかも、得られるエポキシシリコ
ーン組成物についてはエポキシド環の開環重合に対して
安定であり、したがってヒドロシリル化付加反応の完了
後に触媒を失活化する追加の工程及び追加の費用を必要
とすることなしに増加した保存寿命をもつことが必要で
ある。
【0011】
【発明の概要】本発明は、つぎの工程: (i)つぎの成分: (A)エチレン性不飽和エポキシド; (B)オルガノ水素シラン又はオルガノ水素シロキサ
ン;及び (C)第4級アンモニウム又はホスホニウムロジウムハ
ライド; を含有してなる混合物を調製し;そして (ii)工程(i)の混合物を、成分(A)及び(B)間
のヒドロシリル化付加反応によるエポキシシリコーン生
成物の製造を促進するが成分(A)又はエポキシシリコ
ーン生成物のエポキシド環の開環反応を促進しないよう
な条件下で、反応させる;工程を含んでなるエポキシ含
有オルガノシリコーン化合物の製造法を提供するもので
ある。
ン;及び (C)第4級アンモニウム又はホスホニウムロジウムハ
ライド; を含有してなる混合物を調製し;そして (ii)工程(i)の混合物を、成分(A)及び(B)間
のヒドロシリル化付加反応によるエポキシシリコーン生
成物の製造を促進するが成分(A)又はエポキシシリコ
ーン生成物のエポキシド環の開環反応を促進しないよう
な条件下で、反応させる;工程を含んでなるエポキシ含
有オルガノシリコーン化合物の製造法を提供するもので
ある。
【0012】本発明はまた新規な選択的ロジウム触媒
(C)、該新規ロジウム触媒(C)の製造のための二つ
の方法及び成分(A)、(B)及び(C)から誘導され
る硬化性エポキシシリコーン組成物を提供するものであ
る。したがって、本発明の目的はエチレン性不飽和エポ
キシド及びオルガノ水素シラン又はオルガノ水素シロキ
サンを、ヒドロシリル化反応を効率的に促進するがエチ
レン性不飽和エポキシド出発物質又はエポキシシリコー
ン生成物のいずれかについての前述したオキシラン環の
開環重合は促進しない触媒の存在下で、反応させること
によるエポキシシリコーン組成物の製造法を提供するに
ある。
(C)、該新規ロジウム触媒(C)の製造のための二つ
の方法及び成分(A)、(B)及び(C)から誘導され
る硬化性エポキシシリコーン組成物を提供するものであ
る。したがって、本発明の目的はエチレン性不飽和エポ
キシド及びオルガノ水素シラン又はオルガノ水素シロキ
サンを、ヒドロシリル化反応を効率的に促進するがエチ
レン性不飽和エポキシド出発物質又はエポキシシリコー
ン生成物のいずれかについての前述したオキシラン環の
開環重合は促進しない触媒の存在下で、反応させること
によるエポキシシリコーン組成物の製造法を提供するに
ある。
【0013】本発明の別の目的はオレフィンエポキシド
及びSiH含有シラン又はシロキサン間の付加反応によ
るエポキシシリコーン化合物の製造のためのヒドロシリ
ル化触媒として、オレフィンエポキシド出発物質又はエ
ポキシシリコーン生成物のいずれかにおけるエポキシド
環の開環重合を促進することなしにヒドロシリル化反応
を有効に促進する触媒を提供するにある。
及びSiH含有シラン又はシロキサン間の付加反応によ
るエポキシシリコーン化合物の製造のためのヒドロシリ
ル化触媒として、オレフィンエポキシド出発物質又はエ
ポキシシリコーン生成物のいずれかにおけるエポキシド
環の開環重合を促進することなしにヒドロシリル化反応
を有効に促進する触媒を提供するにある。
【0014】本発明のさらに別の目的はオレフィンエポ
キシド及びSiH含有シラン又はシロキサン間の付加反
応によるエポキシシリコーン化合物の製造のためのヒド
ロシリル化触媒であってオレフィンオキシド出発物質又
はエポキシシリコーン生成物のいずれかにおけるエポキ
シド環の開環重合を促進することなしにヒドロシリル化
反応を有効に促進する前記本発明の触媒の製造のための
二つの方法を提供するにある。
キシド及びSiH含有シラン又はシロキサン間の付加反
応によるエポキシシリコーン化合物の製造のためのヒド
ロシリル化触媒であってオレフィンオキシド出発物質又
はエポキシシリコーン生成物のいずれかにおけるエポキ
シド環の開環重合を促進することなしにヒドロシリル化
反応を有効に促進する前記本発明の触媒の製造のための
二つの方法を提供するにある。
【0015】さらに本発明の別の目的は再現性あるバッ
チ間粘度及び高められた保存寿命をもちかつ室温におい
てオキシラン環の開環重合に対して安定である硬化性エ
ポキシシリコーン組成物を提供するにある。
チ間粘度及び高められた保存寿命をもちかつ室温におい
てオキシラン環の開環重合に対して安定である硬化性エ
ポキシシリコーン組成物を提供するにある。
【0016】
【発明の詳細な開示】本発明は第4級オニウムロジウム
ハライドがエチレン性不飽和エポキシドの水素化珪素へ
の付加反応を促進するに有効であって、しかもその際エ
ポキシド出発物質又はエポキシシリコーン目的生成物の
オキシラン環の開環重合反応は促進しないという予想外
の知見に基づくものである。
ハライドがエチレン性不飽和エポキシドの水素化珪素へ
の付加反応を促進するに有効であって、しかもその際エ
ポキシド出発物質又はエポキシシリコーン目的生成物の
オキシラン環の開環重合反応は促進しないという予想外
の知見に基づくものである。
【0017】本発明をロジウムハライド触媒のヒドロシ
リル化反応に対する特異性を増加する該第4級塩の作用
機構によって限定されるものではないが、該オニウム塩
はロジウムの活性触媒種を安定化しそしてコロイド状ロ
ジウムの形成を阻止するものと考えられる。本発明は、
つぎの工程: (i)つぎの成分: (A)組成物の約1ないし約20重量部のエチレン性不
飽和エポキシド; (B)成分(A)に基づいて組成物の約0.5ないし約
400重量部のオルガノ水素シロキサン又はオルガノ水
素シラン;及び (C)組成物の重量に対して約1ないし約5000重量
ppm の式: [R4 M]+ [RhCl3 Br]- (式中、Mは燐又は窒素でありそしてRは置換又は非置
換のC1-18の線状アルキル基又はアリール、アルカリー
ル又はアラルキル基を包含する有機基である)のヒドロ
シリル化触媒を含んでなる混合物を調製し;そして (ii)工程(i)の混合物を、成分(A)及び(B)間
のヒドロシリル化付加反応によるエポキシシリコーン生
成物の製造を促進するが成分(A)又は該エポキシシリ
コーン生成物のいずれかにおけるエポキシド環の開環反
応は促進しない条件下で、反応させる;工程を含んでな
るエポキシ含有オルガノシリコーン化合物の製造法を提
供する。
リル化反応に対する特異性を増加する該第4級塩の作用
機構によって限定されるものではないが、該オニウム塩
はロジウムの活性触媒種を安定化しそしてコロイド状ロ
ジウムの形成を阻止するものと考えられる。本発明は、
つぎの工程: (i)つぎの成分: (A)組成物の約1ないし約20重量部のエチレン性不
飽和エポキシド; (B)成分(A)に基づいて組成物の約0.5ないし約
400重量部のオルガノ水素シロキサン又はオルガノ水
素シラン;及び (C)組成物の重量に対して約1ないし約5000重量
ppm の式: [R4 M]+ [RhCl3 Br]- (式中、Mは燐又は窒素でありそしてRは置換又は非置
換のC1-18の線状アルキル基又はアリール、アルカリー
ル又はアラルキル基を包含する有機基である)のヒドロ
シリル化触媒を含んでなる混合物を調製し;そして (ii)工程(i)の混合物を、成分(A)及び(B)間
のヒドロシリル化付加反応によるエポキシシリコーン生
成物の製造を促進するが成分(A)又は該エポキシシリ
コーン生成物のいずれかにおけるエポキシド環の開環反
応は促進しない条件下で、反応させる;工程を含んでな
るエポキシ含有オルガノシリコーン化合物の製造法を提
供する。
【0018】本発明はまた新規なロジウム選択的触媒
(C)、該新規ロジウム触媒の二つの製造法及び成分
(A)、(B)及び(C)から誘導される組成物の使用
法も提供する。オキシラン環の開環重合反応を促進しな
いことによって、ヒドロシリル化触媒(C)の使用は改
善された粘度制御性をもち、合成中又は合成後にゲル化
の危険のないきわめて反応性の高い硬化性エポキシシリ
コーンを与える。かゝる硬化性エポキシシリコーンはた
とえばシリコーン紙剥離剤、装飾用及び保護用塗料、イ
ンク、接着剤、エレクトロニクス用封入剤及び絶縁剤の
製造及びエポキシシリコーンのその他の用途に有用であ
る。
(C)、該新規ロジウム触媒の二つの製造法及び成分
(A)、(B)及び(C)から誘導される組成物の使用
法も提供する。オキシラン環の開環重合反応を促進しな
いことによって、ヒドロシリル化触媒(C)の使用は改
善された粘度制御性をもち、合成中又は合成後にゲル化
の危険のないきわめて反応性の高い硬化性エポキシシリ
コーンを与える。かゝる硬化性エポキシシリコーンはた
とえばシリコーン紙剥離剤、装飾用及び保護用塗料、イ
ンク、接着剤、エレクトロニクス用封入剤及び絶縁剤の
製造及びエポキシシリコーンのその他の用途に有用であ
る。
【0019】本発明の方法及び組成物に使用される成分
(A)はエチレン性不飽和、すなわちビニル−又はアリ
ル−官能性の、エポキシドである。成分(A)において
有用なエチレン性不飽和エポキシドは一般に成分(B)
のオルガノ水素シリコーン化合物へのヒドロシリル化付
加反応を容易に受けるオレフィン分子部分をもつ任意の
脂肪族(グリシジル)又は脂環族エポキシ化合物を包含
する。本発明の実施に有用なかゝるエチレン性不飽和エ
ポキシドの商業的に入手可能な例はアリルグリシジルエ
ーテル;メタリルグリシジルエーテル;1−メチル−4
−イソプロペニルシクロヘキセンオキシド;2,6−ジ
メチル−2,3−エポキシ−7−オクテン;1,4−ジ
メチル−4−ビニルシクロヘキセンオキシド;4−ビニ
ルシクロヘキセンオキシド;ビニルノルボルネンモノオ
キシド;ジシクロペンタジエンモノオキシドを包含す
る。有用なエチレン性不飽和エポキシドの他の適当な例
は1,2−エポキシ−6−ヘプテン;1,2−エポキシ
−3−ブテン及び化学的に同類の不飽和脂肪族、脂環族
及びアルキル芳香族エポキシドを包含する。
(A)はエチレン性不飽和、すなわちビニル−又はアリ
ル−官能性の、エポキシドである。成分(A)において
有用なエチレン性不飽和エポキシドは一般に成分(B)
のオルガノ水素シリコーン化合物へのヒドロシリル化付
加反応を容易に受けるオレフィン分子部分をもつ任意の
脂肪族(グリシジル)又は脂環族エポキシ化合物を包含
する。本発明の実施に有用なかゝるエチレン性不飽和エ
ポキシドの商業的に入手可能な例はアリルグリシジルエ
ーテル;メタリルグリシジルエーテル;1−メチル−4
−イソプロペニルシクロヘキセンオキシド;2,6−ジ
メチル−2,3−エポキシ−7−オクテン;1,4−ジ
メチル−4−ビニルシクロヘキセンオキシド;4−ビニ
ルシクロヘキセンオキシド;ビニルノルボルネンモノオ
キシド;ジシクロペンタジエンモノオキシドを包含す
る。有用なエチレン性不飽和エポキシドの他の適当な例
は1,2−エポキシ−6−ヘプテン;1,2−エポキシ
−3−ブテン及び化学的に同類の不飽和脂肪族、脂環族
及びアルキル芳香族エポキシドを包含する。
【0020】好ましいエチレン性不飽和エポキシドは4
−ビニルシクロヘキセンオキシドである。成分(A)は
本発明の方法及び組成物において組成物の約1ないし約
20重量部、好ましくは組成物の約1ないし約10重量
部、もっとも好ましくは組成物の約1ないし約5重量部
の範囲の割合で使用される。
−ビニルシクロヘキセンオキシドである。成分(A)は
本発明の方法及び組成物において組成物の約1ないし約
20重量部、好ましくは組成物の約1ないし約10重量
部、もっとも好ましくは組成物の約1ないし約5重量部
の範囲の割合で使用される。
【0021】成分(B)はオルガノ水素シロキサン又は
オルガノ水素シランである。適当な水素化珪素(Si
H)含有出発物質は一般に末端及び/又は側鎖SiH基
をもつシラン又は少なくとも2個のオルガノシロキサン
単位から誘導される任意の珪素化合物を包含する。本発
明の実施に有用なSiH含有シリコーンは前述した成分
(A)のエポキシドのエチレン性不飽和分子部分とヒド
ロシリル化付加反応によって反応し得るものである。
オルガノ水素シランである。適当な水素化珪素(Si
H)含有出発物質は一般に末端及び/又は側鎖SiH基
をもつシラン又は少なくとも2個のオルガノシロキサン
単位から誘導される任意の珪素化合物を包含する。本発
明の実施に有用なSiH含有シリコーンは前述した成分
(A)のエポキシドのエチレン性不飽和分子部分とヒド
ロシリル化付加反応によって反応し得るものである。
【0022】成分(B)は線状水素置換ポリシロキサン
又はシランあるいは環状水素置換ポリシロキサン又はシ
ランあるいはこれら二つの組合せのいずれであってもよ
い。線状水素置換ポリシロキサン又はシランは分岐状又
は非分岐状のいずれでもよい。さらに、本発明において
有用な成分(B)のオルガノ水素シロキサンは共重合
体、三元共重合体等であることができる。かゝる共重合
体の代表的な例はポリ(ジメチルシロキサン)−ポリ
(メチル水素シロキサン)共重合体又は、本発明の硬化
性組成物において紫外線硬化とオニウム塩触媒との組合
せ使用を望む場合には、ポリエーテル/水素シロキサン
線状ブロック共重合体、たとえば1991年12月5日
付のEckbergらの米国特許出願第802,679
号明細書に記載されているかゝる共重合体、である。
又はシランあるいは環状水素置換ポリシロキサン又はシ
ランあるいはこれら二つの組合せのいずれであってもよ
い。線状水素置換ポリシロキサン又はシランは分岐状又
は非分岐状のいずれでもよい。さらに、本発明において
有用な成分(B)のオルガノ水素シロキサンは共重合
体、三元共重合体等であることができる。かゝる共重合
体の代表的な例はポリ(ジメチルシロキサン)−ポリ
(メチル水素シロキサン)共重合体又は、本発明の硬化
性組成物において紫外線硬化とオニウム塩触媒との組合
せ使用を望む場合には、ポリエーテル/水素シロキサン
線状ブロック共重合体、たとえば1991年12月5日
付のEckbergらの米国特許出願第802,679
号明細書に記載されているかゝる共重合体、である。
【0023】適当な線状SiH含有化合物の代表的な例
は1,1,3,3−テトラアルキルジシロキサン、ジア
ルキル水素シロキシ末端ポリジアルキルシロキサン、少
なくとも2個のアルキル水素シロキサン基を含む共重合
体[たとえば、(CH3 )2(H)SiO[(CH3 )
2 SiO]x [(CH3 )(H)SiO]y −Si
(H)(CH3 )2 (式中、x及びyは1又はそれより
大きい数である)]を包含する。本発明において有用な
SiH含有化合物の別の例は1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサン、2,4,6,8−テトラメチル−シ
クロテトラシロキサン、メチルジメトキシシラン、トリ
エチルシラン、及びメチルジエトキシシランを包含す
る。その他の例は式: (CH3 )2 HSiO[(CF3 CH2 CH2 )(CH
3 )SiO]m−[(CH3 )2 SiO]n −Si
(H)(CH3 )2 (式中、m及びnは整数でありそしてnは約4ないし約
5000、mは約3ないし約20である)の化合物を包
含する。
は1,1,3,3−テトラアルキルジシロキサン、ジア
ルキル水素シロキシ末端ポリジアルキルシロキサン、少
なくとも2個のアルキル水素シロキサン基を含む共重合
体[たとえば、(CH3 )2(H)SiO[(CH3 )
2 SiO]x [(CH3 )(H)SiO]y −Si
(H)(CH3 )2 (式中、x及びyは1又はそれより
大きい数である)]を包含する。本発明において有用な
SiH含有化合物の別の例は1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサン、2,4,6,8−テトラメチル−シ
クロテトラシロキサン、メチルジメトキシシラン、トリ
エチルシラン、及びメチルジエトキシシランを包含す
る。その他の例は式: (CH3 )2 HSiO[(CF3 CH2 CH2 )(CH
3 )SiO]m−[(CH3 )2 SiO]n −Si
(H)(CH3 )2 (式中、m及びnは整数でありそしてnは約4ないし約
5000、mは約3ないし約20である)の化合物を包
含する。
【0024】本発明において成分(B)として好ましい
線状SiH含有珪素化合物は1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサンである。好ましい環状水素化物ポリシ
ロキサンは2,4,6,8−テトラメチルシクロテトラ
シロキサンである。本発明において好ましい成分(B)
は前述した1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
である。
線状SiH含有珪素化合物は1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサンである。好ましい環状水素化物ポリシ
ロキサンは2,4,6,8−テトラメチルシクロテトラ
シロキサンである。本発明において好ましい成分(B)
は前述した1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
である。
【0025】成分(B)は本発明の方法及び組成物にお
いて成分(A)の重量に基づいて組成物の約0.5ない
し約400重量部、好ましくは組成物の約1ないし約2
00重量部、もっとも好ましくは組成物の約1ないし約
100重量部の範囲の割合で使用される。本発明の成分
(C)は式: [R4 M]+ [RhCl3 Br]- (式中、Mは燐又は窒素であり、そしてRは置換又は非
置換のC1-18の線状アルキル基又はアリール基、アルカ
リール基又はアラルキル基を包含する有機基である)の
第4級オニウムロジウムハライドヒドロシリル化触媒を
含んでなる。
いて成分(A)の重量に基づいて組成物の約0.5ない
し約400重量部、好ましくは組成物の約1ないし約2
00重量部、もっとも好ましくは組成物の約1ないし約
100重量部の範囲の割合で使用される。本発明の成分
(C)は式: [R4 M]+ [RhCl3 Br]- (式中、Mは燐又は窒素であり、そしてRは置換又は非
置換のC1-18の線状アルキル基又はアリール基、アルカ
リール基又はアラルキル基を包含する有機基である)の
第4級オニウムロジウムハライドヒドロシリル化触媒を
含んでなる。
【0026】成分(C)のR置換基は任意所与の錯体中
において同一でも異ってもよく、たとえばメチル、エチ
ル、n−ブチル、ヘキシル、ステアリル、フェニル、ト
リル及びベンジル基であり得る。用語“置換”有機基は
クロル、ブロム、ヨード、シアノ、カルボキシ、メルカ
プト、ヒドロキシ、チオ、アミノ、ニトロ、ホスホ又は
当該技術において既知のごとき他の官能基をもつ有機基
を意味するものである。さらに、当該技術において既知
のごときピリジル、チオフェニル、ピラニル基等のよう
な複素環式及び芳香族複素環式有機基も“置換”有機基
の定義に包含されるものと解釈される。R置換基はさら
にR1 3 SiQ−基(式中、Qは1ないし6個の炭素原
子をもつ二価脂肪族炭化水素基、たとえば−CH2 −、
−CH2CH2 −、及び−CH2 CHCH3 CH2 −
基、を表わし、そして各R1 はRについて前記定義しか
つ例示したごときアルキル、アリール、アラルキル又は
アルカリール基を表わすか又は1個のR1 置換基はトリ
メチルシリル基を表わし得る)を表わすこともできる。
において同一でも異ってもよく、たとえばメチル、エチ
ル、n−ブチル、ヘキシル、ステアリル、フェニル、ト
リル及びベンジル基であり得る。用語“置換”有機基は
クロル、ブロム、ヨード、シアノ、カルボキシ、メルカ
プト、ヒドロキシ、チオ、アミノ、ニトロ、ホスホ又は
当該技術において既知のごとき他の官能基をもつ有機基
を意味するものである。さらに、当該技術において既知
のごときピリジル、チオフェニル、ピラニル基等のよう
な複素環式及び芳香族複素環式有機基も“置換”有機基
の定義に包含されるものと解釈される。R置換基はさら
にR1 3 SiQ−基(式中、Qは1ないし6個の炭素原
子をもつ二価脂肪族炭化水素基、たとえば−CH2 −、
−CH2CH2 −、及び−CH2 CHCH3 CH2 −
基、を表わし、そして各R1 はRについて前記定義しか
つ例示したごときアルキル、アリール、アラルキル又は
アルカリール基を表わすか又は1個のR1 置換基はトリ
メチルシリル基を表わし得る)を表わすこともできる。
【0027】つぎの例は本発明の実施に有用な第4級オ
ニウムロジウムハライドヒドロシリル化触媒の適当な代
表例を示すものである。 [(n−C4 H9 )4 N]+ [RhCl3 Br]- ; [(n−C4 H9 )4 P]+ [RhCl3 Br]- ; [(n−C18H37)4 N]+ [RhCl3 Br]- ;お
よび [(n−C7 H15)4 N]+ [RhCl3 Br]- 本発明の実施において好ましいヒドロシリル化触媒はテ
トラ−n−ブチルアンモニウムロジウムトリクロライド
ブロマイドである。
ニウムロジウムハライドヒドロシリル化触媒の適当な代
表例を示すものである。 [(n−C4 H9 )4 N]+ [RhCl3 Br]- ; [(n−C4 H9 )4 P]+ [RhCl3 Br]- ; [(n−C18H37)4 N]+ [RhCl3 Br]- ;お
よび [(n−C7 H15)4 N]+ [RhCl3 Br]- 本発明の実施において好ましいヒドロシリル化触媒はテ
トラ−n−ブチルアンモニウムロジウムトリクロライド
ブロマイドである。
【0028】本発明において述べた成分(C)の触媒の
高い選択性に加えて、成分(C)のこれらの触媒は従来
利用可能であった触媒を越える別の利点を有する。たと
えば、本発明の触媒はきわめて安定であり、酸素の存在
下で使用中に失活しない。これはトリフェニルホスフィ
ン残渣の酸化によりトリフェニルホスフィンオキシドが
生成し、これがロジウム金属中心部にうまく配位しない
ためであると思われる。本発明の触媒においては、第4
級アンモニウム及びホスホニウム配位子は酸化に対して
感受性でなく、したがって反応条件下でより安定であ
る。さらに、本発明の触媒は反応媒質中にきわめて高い
溶解性をもちそして特に基材が低い誘電率をもつ貧溶剤
である場合に使用し得る。最後に、本発明の触媒はウイ
ルキンソンの触媒のような慣用のヒドロシリル化触媒よ
りも安価である。これはウイルキンソン触媒の製造に使
用されるトリフェニルホスフィンが第4級アンモニウム
及びホスホニウムハライドと比較して高価であるためで
ある。第二に、本発明の新規触媒は高収率で得られるに
対し、ウイルキンソン触媒の収率は一般に低く、しかも
この触媒は追加の分離及び精製工程を必要とする。
高い選択性に加えて、成分(C)のこれらの触媒は従来
利用可能であった触媒を越える別の利点を有する。たと
えば、本発明の触媒はきわめて安定であり、酸素の存在
下で使用中に失活しない。これはトリフェニルホスフィ
ン残渣の酸化によりトリフェニルホスフィンオキシドが
生成し、これがロジウム金属中心部にうまく配位しない
ためであると思われる。本発明の触媒においては、第4
級アンモニウム及びホスホニウム配位子は酸化に対して
感受性でなく、したがって反応条件下でより安定であ
る。さらに、本発明の触媒は反応媒質中にきわめて高い
溶解性をもちそして特に基材が低い誘電率をもつ貧溶剤
である場合に使用し得る。最後に、本発明の触媒はウイ
ルキンソンの触媒のような慣用のヒドロシリル化触媒よ
りも安価である。これはウイルキンソン触媒の製造に使
用されるトリフェニルホスフィンが第4級アンモニウム
及びホスホニウムハライドと比較して高価であるためで
ある。第二に、本発明の新規触媒は高収率で得られるに
対し、ウイルキンソン触媒の収率は一般に低く、しかも
この触媒は追加の分離及び精製工程を必要とする。
【0029】成分(C)、すなわち第4級オニウムロジ
ウムハライド触媒は二つの方法のいずれかによって製造
し得る。その第一の方法は、まず一般式: RhX3 ・mH2 O (式中、Xは塩素又は臭素でありそしてmは約1ないし
約10、好ましくは約2ないし約4、もっとも好ましく
は約3ないし約4である)をもつロジウムハライドの水
和物を水に溶解して得られる水溶液と一般式: R4 M+ X- (式中、Xは塩素又は臭素であり、そしてMは窒素又は
燐である)をもつ第4級オニウムハライドを適当な有機
溶剤に溶解して得られる溶液との混合物を調製する工程
を含んでなる。ついでこの混合物を混合する。この混合
はオニウム塩とロジウム塩との反応性に影響するので重
要である。混合は二種類の不混和性液体の混合のために
当業者が通常利用するであろう任意の手段を用いて達成
することができる。混合後、有機層を水から分離する。
かくして得られるエポキシシロキサン/エポキシシラン
単量体及び重合体の合成用のロジウム含有選択的触媒を
有機溶剤から乾燥又は蒸発によって分離する。混合、分
離及び乾燥又は蒸発のための手段及び方法は当該技術に
おいて周知であり、こゝに列挙するには余りに多過ぎる
ものである。つぎに示す例は説明のためであって、何等
限定するためのものではない。有機物から水を分離する
手段の一例は好ましくはCaCl2 である乾燥剤を使用
することによるものであり;そして蒸発又は乾燥のため
の一手段はそれぞれ回転蒸発器であり又は混合物を約2
5℃から約100℃まで適当な時間加熱することによる
ものである。
ウムハライド触媒は二つの方法のいずれかによって製造
し得る。その第一の方法は、まず一般式: RhX3 ・mH2 O (式中、Xは塩素又は臭素でありそしてmは約1ないし
約10、好ましくは約2ないし約4、もっとも好ましく
は約3ないし約4である)をもつロジウムハライドの水
和物を水に溶解して得られる水溶液と一般式: R4 M+ X- (式中、Xは塩素又は臭素であり、そしてMは窒素又は
燐である)をもつ第4級オニウムハライドを適当な有機
溶剤に溶解して得られる溶液との混合物を調製する工程
を含んでなる。ついでこの混合物を混合する。この混合
はオニウム塩とロジウム塩との反応性に影響するので重
要である。混合は二種類の不混和性液体の混合のために
当業者が通常利用するであろう任意の手段を用いて達成
することができる。混合後、有機層を水から分離する。
かくして得られるエポキシシロキサン/エポキシシラン
単量体及び重合体の合成用のロジウム含有選択的触媒を
有機溶剤から乾燥又は蒸発によって分離する。混合、分
離及び乾燥又は蒸発のための手段及び方法は当該技術に
おいて周知であり、こゝに列挙するには余りに多過ぎる
ものである。つぎに示す例は説明のためであって、何等
限定するためのものではない。有機物から水を分離する
手段の一例は好ましくはCaCl2 である乾燥剤を使用
することによるものであり;そして蒸発又は乾燥のため
の一手段はそれぞれ回転蒸発器であり又は混合物を約2
5℃から約100℃まで適当な時間加熱することによる
ものである。
【0030】エポキシシロキサン/エポキシシラン単量
体及び重合体の合成のためのロジウム含有選択的触媒
(C)を製造するための別の方法は、一般式: RhX3 ・mH2 O (式中、Xは塩素又は臭素でありそしてmは約1ないし
約10、好ましくは約2ないし約4、もっとも好ましく
は約3ないし約4である)をもつロジウムハライドの水
和物を、一般式: R4 M+ X- (式中、Xは塩素又は臭素でありそしてMは窒素又は燐
である)をもつ第4級オニウムハライドと混合し;つい
でこの混合物を有機溶剤と混合する工程を包含する。こ
の混合物をついでさらに混和する。この場合にも、混和
はオニウム塩とロジウム塩との反応性に影響するので重
要である。混合は二つの不混和性液体の混合のために当
業者が通常利用するであろう任意の手段を使用して達成
し得る。かく得られるロジウム含有選択的触媒を含む溶
液は直接使用してもよく、あるいは乾燥又は蒸発処理し
た後に使用してもよい。混合及び乾燥又は蒸発のための
手段及び方法は当該技術において周知でありかつこゝに
列挙するには余りに多過ぎるものである。つぎに示す例
は単に説明のためのものであり、何等限定するためのも
のではない。蒸発又は乾燥手段の一例はそれぞれ回転蒸
発器であり又は混合物を約25℃から約100℃まで適
当な時間加熱することによるものである。
体及び重合体の合成のためのロジウム含有選択的触媒
(C)を製造するための別の方法は、一般式: RhX3 ・mH2 O (式中、Xは塩素又は臭素でありそしてmは約1ないし
約10、好ましくは約2ないし約4、もっとも好ましく
は約3ないし約4である)をもつロジウムハライドの水
和物を、一般式: R4 M+ X- (式中、Xは塩素又は臭素でありそしてMは窒素又は燐
である)をもつ第4級オニウムハライドと混合し;つい
でこの混合物を有機溶剤と混合する工程を包含する。こ
の混合物をついでさらに混和する。この場合にも、混和
はオニウム塩とロジウム塩との反応性に影響するので重
要である。混合は二つの不混和性液体の混合のために当
業者が通常利用するであろう任意の手段を使用して達成
し得る。かく得られるロジウム含有選択的触媒を含む溶
液は直接使用してもよく、あるいは乾燥又は蒸発処理し
た後に使用してもよい。混合及び乾燥又は蒸発のための
手段及び方法は当該技術において周知でありかつこゝに
列挙するには余りに多過ぎるものである。つぎに示す例
は単に説明のためのものであり、何等限定するためのも
のではない。蒸発又は乾燥手段の一例はそれぞれ回転蒸
発器であり又は混合物を約25℃から約100℃まで適
当な時間加熱することによるものである。
【0031】本発明の方法及び組成物において、触媒
(C)は成分(A)、(B)及び(C)からなる組成物
の重量に基づいて、組成物の約1ないし約5000重量
ppm 、好ましくは組成物の約5ないし約100重量ppm
、もっとも好ましくは組成物の約5ないし約10重量p
pm の範囲の純触媒の割合で使用するのがもっとも有用
かつ経済的である。
(C)は成分(A)、(B)及び(C)からなる組成物
の重量に基づいて、組成物の約1ないし約5000重量
ppm 、好ましくは組成物の約5ないし約100重量ppm
、もっとも好ましくは組成物の約5ないし約10重量p
pm の範囲の純触媒の割合で使用するのがもっとも有用
かつ経済的である。
【0032】本発明の硬化性組成物の製造法を実施する
ためには、成分(A)、(B)及び(C)を所望のバッ
チの大きさに適当な寸法の反応器中に一緒に装入する。
これらの成分の添加は好ましくは混合によって達成され
る。この混合操作及び成分の分散を容易に行なうため
に、揮発性溶剤、好ましくはトルエン、キシレン又はヘ
キサン、を反応混合物に添加することもできる。
ためには、成分(A)、(B)及び(C)を所望のバッ
チの大きさに適当な寸法の反応器中に一緒に装入する。
これらの成分の添加は好ましくは混合によって達成され
る。この混合操作及び成分の分散を容易に行なうため
に、揮発性溶剤、好ましくはトルエン、キシレン又はヘ
キサン、を反応混合物に添加することもできる。
【0033】ついで成分(A)、(B)及び(C)の混
合物を約0℃ないし約200℃、好ましくは約25℃な
いし約150℃、もっとも好ましくは約60℃ないし約
120℃の範囲の温度で反応させることによって本発明
の硬化性エポキシシリコーン組成物が形成される。この
反応混合物の温度は付加反応が完了するまで保持され
る。付加反応の完了はIRスペクトル分析によってSi
H基に起因する2200cm-1における強い吸収ピークが
消失することによって好都合に判定できる。
合物を約0℃ないし約200℃、好ましくは約25℃な
いし約150℃、もっとも好ましくは約60℃ないし約
120℃の範囲の温度で反応させることによって本発明
の硬化性エポキシシリコーン組成物が形成される。この
反応混合物の温度は付加反応が完了するまで保持され
る。付加反応の完了はIRスペクトル分析によってSi
H基に起因する2200cm-1における強い吸収ピークが
消失することによって好都合に判定できる。
【0034】本発明の好ましい硬化性組成物は(シクロ
ヘキセンオキシド)エチルシラン又は(シクロヘキセン
オキシド)エチルシロキサンを含有する。本発明の一実
施態様によれば、本発明の組成物は成分(A)、(B)
及び(C)を反応器中で又はその他の装置中で混合する
ことによって容易に製造される。本発明の別の実施態様
によれば、成分(A)、(B)又は(C)の任意の二つ
を前述したごとく予備混合し、そしてその後に第三の成
分を添加して本発明の方法によって本発明の組成物を製
造する。この実施態様におけるかゝる混合物は本発明の
成分を、本発明の実施において硬化性エポキシシリコー
ンの製造のための本質的に二成分からなる系の組成物を
提供するように予備混合し得ることを例示する。
ヘキセンオキシド)エチルシラン又は(シクロヘキセン
オキシド)エチルシロキサンを含有する。本発明の一実
施態様によれば、本発明の組成物は成分(A)、(B)
及び(C)を反応器中で又はその他の装置中で混合する
ことによって容易に製造される。本発明の別の実施態様
によれば、成分(A)、(B)又は(C)の任意の二つ
を前述したごとく予備混合し、そしてその後に第三の成
分を添加して本発明の方法によって本発明の組成物を製
造する。この実施態様におけるかゝる混合物は本発明の
成分を、本発明の実施において硬化性エポキシシリコー
ンの製造のための本質的に二成分からなる系の組成物を
提供するように予備混合し得ることを例示する。
【0035】ヒドロシリル化反応の完了後、さきに添加
されたすべての揮発性溶剤を蒸発、好ましくは高温及び
減圧条件下の蒸発、によって本発明の組成物から除去す
ることができる。本発明の組成物の脱蔵(すなわち溶剤
の追い出し)を行ない得る温度は約0℃ないし約200
℃、好ましくは約25℃ないし約150℃、もっとも好
ましくは約60℃ないし約120℃の範囲であり得る。
本発明の実施において第3級アミン安定化剤を配合する
場合には、脱蔵温度は約0℃ないし約150℃、好まし
くは約25℃ないし約120℃、もっとも好ましくは約
50℃ないし100℃の範囲であり得る。
されたすべての揮発性溶剤を蒸発、好ましくは高温及び
減圧条件下の蒸発、によって本発明の組成物から除去す
ることができる。本発明の組成物の脱蔵(すなわち溶剤
の追い出し)を行ない得る温度は約0℃ないし約200
℃、好ましくは約25℃ないし約150℃、もっとも好
ましくは約60℃ないし約120℃の範囲であり得る。
本発明の実施において第3級アミン安定化剤を配合する
場合には、脱蔵温度は約0℃ないし約150℃、好まし
くは約25℃ないし約120℃、もっとも好ましくは約
50℃ないし100℃の範囲であり得る。
【0036】ストリッピング工程の圧力は大気圧より低
いことが一般に好ましい、というのはかゝる減圧は本発
明の組成物からの揮発性分子の放出を助長するからであ
る。好ましくは、ストリッピング工程の圧力は25トル
未満、もっとも好ましくは10トル未満である。未反応
の揮発性成分及びヒドロシリル化反応の低分子量副生成
物を包含する揮発性分子のストリッピングは回転蒸発
器、薄膜蒸発器、ワイプ式薄膜蒸発器等の使用によって
好都合に達成し得る。
いことが一般に好ましい、というのはかゝる減圧は本発
明の組成物からの揮発性分子の放出を助長するからであ
る。好ましくは、ストリッピング工程の圧力は25トル
未満、もっとも好ましくは10トル未満である。未反応
の揮発性成分及びヒドロシリル化反応の低分子量副生成
物を包含する揮発性分子のストリッピングは回転蒸発
器、薄膜蒸発器、ワイプ式薄膜蒸発器等の使用によって
好都合に達成し得る。
【0037】本発明の硬化性組成物は紙、金属、箔、ポ
リエチレン被覆紙(PEK)、スーパーカレンダー処理
紙、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム及
びポリエステルフィルムを包含するセルロース質及びそ
の他の支持体に塗布し得る。一般に、被覆はこれらの支
持体上に所望の厚みに塗布し得る。たとえば、本発明の
組成物はドクターナイフ刃によって容易に塗布し得る。
剥離塗料としての用途に対しては、本発明の組成物は約
0.1ミルないし約10ミルの厚みで施される。かゝる
塗料についてはまた被覆重量によって、典型的には1g
/m2 の被覆重量によって表わすことも好都合である。
リエチレン被覆紙(PEK)、スーパーカレンダー処理
紙、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム及
びポリエステルフィルムを包含するセルロース質及びそ
の他の支持体に塗布し得る。一般に、被覆はこれらの支
持体上に所望の厚みに塗布し得る。たとえば、本発明の
組成物はドクターナイフ刃によって容易に塗布し得る。
剥離塗料としての用途に対しては、本発明の組成物は約
0.1ミルないし約10ミルの厚みで施される。かゝる
塗料についてはまた被覆重量によって、典型的には1g
/m2 の被覆重量によって表わすことも好都合である。
【0038】本発明の硬化性組成物の支持体上への塗布
及び分散は該組成物をそれを溶解する揮発性液体担体中
の溶液又は分散物として添加する場合に助長され得る。
該硬化性組成物がポリジメチルシロキサンである場合、
好ましい揮発性液体担体はたとえばヘキサン、キシレン
又はトルエンを包含する。しかしながら、本発明の硬化
性組成物が共重合体、三元共重合体等である場合には、
揮発性溶剤は該重合体が溶剤中に可溶性であるように選
定されなければならず、それは当該技術において認めら
れているごとく重合体の特定の物理的及び化学的性質に
関係し得る点を認識すべきである。組成物中に配合され
る揮発性液体担体の割合は、比較的に無溶剤型の組成物
を使用する利益を享受することを望む場合には、硬化性
組成物の全重量と比較して約3重量%を超えるべきでは
ない。
及び分散は該組成物をそれを溶解する揮発性液体担体中
の溶液又は分散物として添加する場合に助長され得る。
該硬化性組成物がポリジメチルシロキサンである場合、
好ましい揮発性液体担体はたとえばヘキサン、キシレン
又はトルエンを包含する。しかしながら、本発明の硬化
性組成物が共重合体、三元共重合体等である場合には、
揮発性溶剤は該重合体が溶剤中に可溶性であるように選
定されなければならず、それは当該技術において認めら
れているごとく重合体の特定の物理的及び化学的性質に
関係し得る点を認識すべきである。組成物中に配合され
る揮発性液体担体の割合は、比較的に無溶剤型の組成物
を使用する利益を享受することを望む場合には、硬化性
組成物の全重量と比較して約3重量%を超えるべきでは
ない。
【0039】本発明の組成物の硬化は加熱によって又は
適当な光触媒及び場合によっては硬化促進剤の存在下に
紫外線照射することによって達成し得る。本発明の組成
物の第4級オニウムハロロジウム錯体の存在はこれらの
硬化方法のいずれをも実質的に妨害しないことが認めら
れた。加熱による重合はエポキシシリコーンを約120
℃又はそれ以上の温度に加熱する簡単な工程を含み、こ
の方法はオキシラン環の開環及びそれによる反応を惹起
す。この点に関してはJournal of the
American Chemical Societ
y,第81巻、第2632−2635頁、1959年の
Pleudemann及びFangerの報文“Epo
xyorganosiloxanes”を参照された
い。
適当な光触媒及び場合によっては硬化促進剤の存在下に
紫外線照射することによって達成し得る。本発明の組成
物の第4級オニウムハロロジウム錯体の存在はこれらの
硬化方法のいずれをも実質的に妨害しないことが認めら
れた。加熱による重合はエポキシシリコーンを約120
℃又はそれ以上の温度に加熱する簡単な工程を含み、こ
の方法はオキシラン環の開環及びそれによる反応を惹起
す。この点に関してはJournal of the
American Chemical Societ
y,第81巻、第2632−2635頁、1959年の
Pleudemann及びFangerの報文“Epo
xyorganosiloxanes”を参照された
い。
【0040】紫外線照射による重合は光触媒の使用を伴
い、この光触媒は紫外線照射に際して酸を形成し、それ
がエポキシド環の開環反応によるエポキシシリコーン単
量体の架橋を触媒的に促進する。かゝる反応はたとえば
米国特許第4,279,717号(Eckberg)及
び米国特許第4,617,238号明細書に開示されて
いる。エポキシシリコーン重合用に有用な光開始剤塩の
製造はたとえばJournal of Polymer
Science,Part A:Polymer C
hemistry,第27巻(John Wiley,
New York)1989年、第3951−3968
頁のCrivello及びLeeの報文“Alkoxy
−Substituted Diaryliodoni
um Salt Cationic Photoini
tiators”に開示されている。
い、この光触媒は紫外線照射に際して酸を形成し、それ
がエポキシド環の開環反応によるエポキシシリコーン単
量体の架橋を触媒的に促進する。かゝる反応はたとえば
米国特許第4,279,717号(Eckberg)及
び米国特許第4,617,238号明細書に開示されて
いる。エポキシシリコーン重合用に有用な光開始剤塩の
製造はたとえばJournal of Polymer
Science,Part A:Polymer C
hemistry,第27巻(John Wiley,
New York)1989年、第3951−3968
頁のCrivello及びLeeの報文“Alkoxy
−Substituted Diaryliodoni
um Salt Cationic Photoini
tiators”に開示されている。
【0041】本発明の組成物の硬化性能及びエポキシシ
リコーン生成物の接着性は本発明の組成物に、そのヒド
ロシリル化反応の完了後に、エポキシド単量体を添加す
ることによって増強し得る。たとえば、エポキシシリコ
ーン10重量部ごとに10重量部までの脂肪族エポキシ
ド単量体を添加すれば、これらの“反応性稀釈剤を添加
しない同様の組成物と比較してよりすぐれた紫外線硬化
性及び多孔質セルロース紙への定着性を示す組成物を得
ることができる。
リコーン生成物の接着性は本発明の組成物に、そのヒド
ロシリル化反応の完了後に、エポキシド単量体を添加す
ることによって増強し得る。たとえば、エポキシシリコ
ーン10重量部ごとに10重量部までの脂肪族エポキシ
ド単量体を添加すれば、これらの“反応性稀釈剤を添加
しない同様の組成物と比較してよりすぐれた紫外線硬化
性及び多孔質セルロース紙への定着性を示す組成物を得
ることができる。
【0042】
【実施例の記載】つぎに本発明の実施を当業者によりよ
く理解せしめるために実施例をあげて本発明をより具体
的に説明するが、これらの実施例は何等本発明を限定す
るものではない。当該技術の現状での実施に有用であり
得る追加の情報は本明細書中に引用した文献及び特許明
細書中に見出すことができ、これらの関連開示事項を本
明細書中に組入れるものとする。実施例1 [(n−C4 H9 )4 N]+ [RhCl3 B
r]- の製造 つぎの合成法は本発明に述べた改良ロジウム触媒のすべ
ての製造のために使用される方法の代表的なものであ
る。
く理解せしめるために実施例をあげて本発明をより具体
的に説明するが、これらの実施例は何等本発明を限定す
るものではない。当該技術の現状での実施に有用であり
得る追加の情報は本明細書中に引用した文献及び特許明
細書中に見出すことができ、これらの関連開示事項を本
明細書中に組入れるものとする。実施例1 [(n−C4 H9 )4 N]+ [RhCl3 B
r]- の製造 つぎの合成法は本発明に述べた改良ロジウム触媒のすべ
ての製造のために使用される方法の代表的なものであ
る。
【0043】水30ml中に溶解した三塩化ロジウム水和
物0.05g及び塩化メチレン20ml中に溶解したテト
ラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド0.10gを一
緒に混合した。この混合物を室温で3時間攪拌した。こ
の3時間の攪拌後に、紫赤色の塩化メチレン層を分離し
そしてCaCl2 上で5時間乾燥した。溶剤を回転蒸発
器上で除去した後、赤色粉末(活性触媒)を得た。実施例2 [(n−C4 H9 )4 P]+ [RhCl3 B
r]- の製造 実施例1に述べた方法を用いて、水100ml中に溶解し
たRhCl3 .xH2O 0.10g及び塩化メチレン
100ml中に溶解した(C4 H9 )4 P+ Br - 0.1
6gを一緒に混合した。前記したごとく後処理した後、
所望の触媒[(n−C4 H9 )4 P]+ [RhCl3 B
r]- を薄赤色粉末として単離した。実施例3 シクロヘキセンオキシドの開環重合 シクロヘキセンオキシド1.0g及び1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン1.0g及びRhCl3 .n
H2 O 5mgを小型バイアル中で一緒に混合した。しか
しながら、このRhCl3 .nH2 Oはきわめて貧弱な
溶解性を示すのみであり、1週間放置後にこの反応混合
物は目に見えて粘稠になった。ゲル透過クロマトグラフ
ィーによるこの反応混合物の分析は高分子量重合体状生
成物が存在することを示した。この実験を[(n−C4
H9 )4 N]+ [RhCl3 Br]- を用いて反復し
た。同一の条件下で、エポキシドの重合は観察されなか
った。実施例4 選択的ヒドロシリル化 電磁攪拌機及び還流冷却器を備えた容量50mlの丸底フ
ラスコに4−ビニルシクロヘキセンオキシド2.0g、
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン1.0g及
び[(n−C4 H9 )4 N]+ [RhCl3 Br]- 5
mgを添加した。室温で24時間放置後、下記に示すジエ
ポキシドを得た。
物0.05g及び塩化メチレン20ml中に溶解したテト
ラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド0.10gを一
緒に混合した。この混合物を室温で3時間攪拌した。こ
の3時間の攪拌後に、紫赤色の塩化メチレン層を分離し
そしてCaCl2 上で5時間乾燥した。溶剤を回転蒸発
器上で除去した後、赤色粉末(活性触媒)を得た。実施例2 [(n−C4 H9 )4 P]+ [RhCl3 B
r]- の製造 実施例1に述べた方法を用いて、水100ml中に溶解し
たRhCl3 .xH2O 0.10g及び塩化メチレン
100ml中に溶解した(C4 H9 )4 P+ Br - 0.1
6gを一緒に混合した。前記したごとく後処理した後、
所望の触媒[(n−C4 H9 )4 P]+ [RhCl3 B
r]- を薄赤色粉末として単離した。実施例3 シクロヘキセンオキシドの開環重合 シクロヘキセンオキシド1.0g及び1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン1.0g及びRhCl3 .n
H2 O 5mgを小型バイアル中で一緒に混合した。しか
しながら、このRhCl3 .nH2 Oはきわめて貧弱な
溶解性を示すのみであり、1週間放置後にこの反応混合
物は目に見えて粘稠になった。ゲル透過クロマトグラフ
ィーによるこの反応混合物の分析は高分子量重合体状生
成物が存在することを示した。この実験を[(n−C4
H9 )4 N]+ [RhCl3 Br]- を用いて反復し
た。同一の条件下で、エポキシドの重合は観察されなか
った。実施例4 選択的ヒドロシリル化 電磁攪拌機及び還流冷却器を備えた容量50mlの丸底フ
ラスコに4−ビニルシクロヘキセンオキシド2.0g、
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン1.0g及
び[(n−C4 H9 )4 N]+ [RhCl3 Br]- 5
mgを添加した。室温で24時間放置後、下記に示すジエ
ポキシドを得た。
【0044】
【化1】
【0045】実施例5 触媒を[(n−C4 H9 )4 P]+ [RhCl3 Br]
- に代えて実施例4を反復した。この反応混合物を80
−90℃で6時間加熱した。この場合にも、重合体の生
成の微候なしに上記のジエポキシド生成物のみが得られ
た。実施例6 触媒として[(n−C18H37)4 N]+ [RhCl3 B
r]- を用いて実施例4を再び反復した。この場合に
も、重合体の形成の微候なしに純粋な式:
- に代えて実施例4を反復した。この反応混合物を80
−90℃で6時間加熱した。この場合にも、重合体の生
成の微候なしに上記のジエポキシド生成物のみが得られ
た。実施例6 触媒として[(n−C18H37)4 N]+ [RhCl3 B
r]- を用いて実施例4を再び反復した。この場合に
も、重合体の形成の微候なしに純粋な式:
【0046】
【化2】
【0047】のジエポキシド生成物が定量的収率で得ら
れた。実施例7 ロジウム、イリジウム及びルテニウムのオニ
ウム塩の比較 種々のオニウム塩(Q+ X- )を次の反応式による反応
に用いてそれらの各々が開環重合よりもヒドロシリル化
に選択性をもつかどうかについて比較した。
れた。実施例7 ロジウム、イリジウム及びルテニウムのオニ
ウム塩の比較 種々のオニウム塩(Q+ X- )を次の反応式による反応
に用いてそれらの各々が開環重合よりもヒドロシリル化
に選択性をもつかどうかについて比較した。
【0048】
【化3】
【0049】容量100mlの丸底フラスコに4−ビニル
シクロヘキセンオキシド2.0g、1,1,3,3−テ
トラメチルジシロキサン1.08gを装入した。このフ
ラスコに還流冷却器及び電磁攪拌機を装着しそしてこの
フラスコを80−90℃に加熱された油浴中に装入し
た。これらの実験の結果を次表に示す。表 種々の遷移金属オニウム塩の比較 Q+ X- 時間 結果 [(C4 H9 )4 N]+ [RhCl3 Br]- 1 ジエポキシドのみ (定量的転化) [(C4 H9 )4 N]+ [IrCl3 Br]- 9 架橋重合体 [(C6 H5 )4 As]+ [RhCl4 ]- 1.5 架橋重合体 [(C4 H9 )4 N]+ [RuCl3 Br]- 9 痕跡量の ジエポキシド [(C4 H9 )4 N]+ [RuCl3 Br]- 20 主として出発物質 重合体及び ジエポキシド実施例8 A.“アリクァット(Aliquat)”336(ヘン
ケル社から商業的に入手し得る油状製品)、MeN(C
8 H17)3 Cl 0.40g、RhCl3 .nH 2 O
0.10gをトルエン4.0ml中で85℃で攪拌しつつ
3時間反応させた。暗褐色溶液が得られ、これを直接選
択的ヒドロシリル化触媒として使用した。 B.上記の触媒を選択性について試験した。この触媒5
滴及びフェニルシラン0.1mlをシクロヘキセンオキシ
ド1.0gと混合した。得られた溶液は黄色であった
が、反応は認められなかった。この結果はGPC分析に
よって確認された。 C.この触媒3滴をビニルシクロヘキセンオキシド4.
0g及び1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
2.0gからなる反応混合物中に導入しそして混合し
た。この溶液を85℃で1.5時間攪拌すると重合体の
生成を何等伴うことなしに選択的ヒドロシリル化生成物
(1,3−ビス[2−(3{7−オキサビシクロ[4.
1.0]ヘプチル}エチル]−テトラメチルジシロキサ
ン)が生成した。これはNMR及びGPC分析によって
確認された。実施例9 A.(n−Bu)4 NBr0.20g、三塩化ロジウム
水和物20.0mgをトルエン50ml中で85℃で攪拌し
つつ30時間反応させた。褐色油状生成物が反応器の底
部に得られ、これをヒドロシリル化触媒として使用し
た。 B.この触媒の選択性を実施例8Bの方法に従って試験
した。重合は認められなかった。 C.この触媒のヒドロシリル化反応に対する選択性を実
施例8Cの方法に従って試験した。この場合にも、重合
体の生成を何等伴うことなしに選択的ヒドロシリル化生
成物(1,3−ビス[2−(3−{7−オキサビシクロ
[4.1.0]ヘプチル}エチル]−テトラメチルジシ
ロキサン)が得られた。
シクロヘキセンオキシド2.0g、1,1,3,3−テ
トラメチルジシロキサン1.08gを装入した。このフ
ラスコに還流冷却器及び電磁攪拌機を装着しそしてこの
フラスコを80−90℃に加熱された油浴中に装入し
た。これらの実験の結果を次表に示す。表 種々の遷移金属オニウム塩の比較 Q+ X- 時間 結果 [(C4 H9 )4 N]+ [RhCl3 Br]- 1 ジエポキシドのみ (定量的転化) [(C4 H9 )4 N]+ [IrCl3 Br]- 9 架橋重合体 [(C6 H5 )4 As]+ [RhCl4 ]- 1.5 架橋重合体 [(C4 H9 )4 N]+ [RuCl3 Br]- 9 痕跡量の ジエポキシド [(C4 H9 )4 N]+ [RuCl3 Br]- 20 主として出発物質 重合体及び ジエポキシド実施例8 A.“アリクァット(Aliquat)”336(ヘン
ケル社から商業的に入手し得る油状製品)、MeN(C
8 H17)3 Cl 0.40g、RhCl3 .nH 2 O
0.10gをトルエン4.0ml中で85℃で攪拌しつつ
3時間反応させた。暗褐色溶液が得られ、これを直接選
択的ヒドロシリル化触媒として使用した。 B.上記の触媒を選択性について試験した。この触媒5
滴及びフェニルシラン0.1mlをシクロヘキセンオキシ
ド1.0gと混合した。得られた溶液は黄色であった
が、反応は認められなかった。この結果はGPC分析に
よって確認された。 C.この触媒3滴をビニルシクロヘキセンオキシド4.
0g及び1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
2.0gからなる反応混合物中に導入しそして混合し
た。この溶液を85℃で1.5時間攪拌すると重合体の
生成を何等伴うことなしに選択的ヒドロシリル化生成物
(1,3−ビス[2−(3{7−オキサビシクロ[4.
1.0]ヘプチル}エチル]−テトラメチルジシロキサ
ン)が生成した。これはNMR及びGPC分析によって
確認された。実施例9 A.(n−Bu)4 NBr0.20g、三塩化ロジウム
水和物20.0mgをトルエン50ml中で85℃で攪拌し
つつ30時間反応させた。褐色油状生成物が反応器の底
部に得られ、これをヒドロシリル化触媒として使用し
た。 B.この触媒の選択性を実施例8Bの方法に従って試験
した。重合は認められなかった。 C.この触媒のヒドロシリル化反応に対する選択性を実
施例8Cの方法に従って試験した。この場合にも、重合
体の生成を何等伴うことなしに選択的ヒドロシリル化生
成物(1,3−ビス[2−(3−{7−オキサビシクロ
[4.1.0]ヘプチル}エチル]−テトラメチルジシ
ロキサン)が得られた。
【0050】本発明の範囲及び技術思想を逸脱すること
なしに本発明の種々の他の変形及び修正を容易になし得
ることは当業者には明らかであることを理解すべきであ
る。したがって、特許請求の範囲に示された技術範囲は
前記した具体的記載に限定されるものではなく、むしろ
それは本発明が関連する技術分野の当業者によって均等
の範囲とみなされるすべての特徴を包含する本発明の特
許されるべき新規性を有する特徴のすべてを包括するも
のと解釈されるべきである。
なしに本発明の種々の他の変形及び修正を容易になし得
ることは当業者には明らかであることを理解すべきであ
る。したがって、特許請求の範囲に示された技術範囲は
前記した具体的記載に限定されるものではなく、むしろ
それは本発明が関連する技術分野の当業者によって均等
の範囲とみなされるすべての特徴を包含する本発明の特
許されるべき新規性を有する特徴のすべてを包括するも
のと解釈されるべきである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミン−キシン・ファン アメリカ合衆国、ニューヨーク州、トロ イ、ナット・ドライブ、6−7(番地な し)
Claims (12)
- 【請求項1】 つぎの工程: (i)つぎの成分: (A)組成物の約1ないし約10重量部のエチレン性不
飽和エポキシド; (B)成分(A)に基づいて組成物の約0.5ないし約
400重量部のオルガノ水素シロキサン又はオルガノ水
素シラン;及び (C)組成物の重量に対して約1ないし約5000重量
ppm の式: [R4 M]+ [RhCl3 Br]- (式中、Mは燐又は窒素でありそしてRは置換又は非置
換のC1-18の線状アルキル基又はアリール基、アルカリ
ール基又はアラルキル基を包含する有機基である)のヒ
ドロシリル化触媒;を含んでなる混合物を調製し;そし
て (ii)工程(i)の混合物を成分(A)及び(B)間の
ヒドロシリル化付加反応によるエポキシシリコーン生成
物の製造を促進するが、成分(A)又は該エポキシシリ
コーン生成物のエポキシド環の開環反応を助長しない条
件下で反応させる; 工程を含んでなるエポキシ含有オルガノシリコーン化合
物の製造法。 - 【請求項2】 成分(A)が脂肪族(グリシジル)又は
脂環族エポキシ化合物である請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 成分(B)が線状水素置換ポリシロキサ
ン又はシランあるいは環式水素置換ポリシロキサン又は
シランあるいはこれら二つの組合せである請求項1記載
の方法。 - 【請求項4】 該ロジウム含有選択的ヒドロシリル化触
媒が、次式: [(n−C4 H9 )4 N]+ [RhCl3 Br]- ; [(n−C4 H9 )4 P]+ [RhCl3 Br]- ; [(n−C18H37)4 N]+ [RhCl3 Br]- ;及
び [(n−C7 H15)4 N]+ [RhCl3 Br]- ; からなる群から選んだものである請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 工程(ii)が工程(i)の混合物を約2
5ないし約150℃の温度で反応させることからなる請
求項1記載の方法。 - 【請求項6】 一般式: [R4 M]+ [RhCl3 Br]- (式中、Mは燐又は窒素でありそしてRは置換又は非置
換のC1-18の線状アルキル基又はアリール基、アルカリ
ール基又はアラルキル基を包含する有機基である)のロ
ジウム含有選択的ヒドロシリル化触媒化合物。 - 【請求項7】 つぎの工程: (i)つぎの成分: (A)一般式: RhX3 ・nH2 O (式中、Xは塩素又は臭素でありそしてnは約1ないし
約10である)をもつロジウムハライドの水和物の水溶
液と、 (B)一般式: R4 M+ X- (式中、Xは塩素又は臭素でありそしてMは窒素又は燐
である)をもつ第4級オニウムハライドの有機溶液;と
を含んでなる混合物を調製し; (ii)該混合物を完全に混合し; (iii )有機層を水から分離し;そして (iv)有機溶剤をロジウム含有触媒から除去する; 工程を含んでなるエポキシシロキサン/エポキシシラン
単量体及び重合体の合成用のロジウム含有選択的触媒の
製造法。 - 【請求項8】 つぎの工程: (i)つぎの成分: (A)一般式: RhX3 ・nH2 O (式中、Xは塩素又は臭素でありそしてnは約1ないし
約10である)をもつロジウムハライドの水和物と、 (B)一般式: R4 M+ X- (式中、Xは塩素又は臭素でありそしてMは窒素又は燐
である)をもつ第4級オニウムハライド;及び (C)有機溶剤;を含有してなる混合物を調製し;そし
て (ii)該混合物を完全に混合する;工程を含んでなるエ
ポキシシロキサン/エポキシシラン単量体及び重合体の
合成用のロジウム含有選択的触媒の製造法。 - 【請求項9】 有機溶剤をロジウム含有触媒から除去す
る工程を含んでなる請求項8記載の方法。 - 【請求項10】 エポキシシラン又はエポキシシロキサ
ン及びロジウム含有選択的触媒を含有してなる硬化性組
成物。 - 【請求項11】 該ロジウム含有選択的触媒が一般式: [R4 M]+ [RhX4 ]- (式中、Mは燐又は窒素であり、Xは塩素又は臭素であ
り、そしてRはそれぞれ置換又は非置換のC1-18の線状
アルキル又はアリール、アルカリール又はアラルキル基
を包含する有機基である)をもつものである請求項10
記載の組成物。 - 【請求項12】 つぎの工程: (i)エチレン性不飽和エポキシド、オルガノ水素シラ
ン又はオルガノ水素シロキサン及びロジウム含有選択的
ヒドロシリル化触媒を含有してなる混合物を調製し;そ
して (ii)工程(i)の混合物を、該エチレン性不飽和エポ
キシドと該オルガノ水素シラン又はオルガノ水素シロキ
サンとのヒドロシリル化付加反応によるエポキシシリコ
ーン生成物の製造を促進するが該エチレン性不飽和エポ
キシド又は該エポキシシリコーン生成物のエポキシド環
の開環重合反応を促進しない条件下で、反応させる; 工程を含んでなる、エチレン性不飽和エポキシドとオル
ガノ水素シラン又はオルガノ水素シロキサンとのヒドロ
シリル化付加反応中におけるオキシラン環の開環重合を
抑制する方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US896950 | 1992-06-11 | ||
US07/896,950 US5387698A (en) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | Rhodium containing selective catalysts for the synthesis of epoxysiloxane/epoxysilicone monomers and polymers |
CA002098632A CA2098632A1 (en) | 1992-06-11 | 1993-06-17 | Rhodium containing selective catalysts for the synthesis of epoxysiloxane/epoxysilicone monomers and polymers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06136127A true JPH06136127A (ja) | 1994-05-17 |
Family
ID=25676293
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5136283A Withdrawn JPH06136127A (ja) | 1992-06-11 | 1993-06-08 | エポキシシロキサン/エポキシシリコーン単量体及び重合体の合成用の新規なロジウム含有選択的触媒 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5387698A (ja) |
EP (1) | EP0574265A2 (ja) |
JP (1) | JPH06136127A (ja) |
CN (1) | CN1085558A (ja) |
CA (1) | CA2098632A1 (ja) |
FI (1) | FI932640A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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---|---|---|---|---|
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EP1598699A3 (en) | 2000-05-23 | 2009-05-20 | Aprilis, Inc. | Data storage medium comprising colloidal metal and preparation process thereof |
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US7205372B2 (en) | 2002-07-12 | 2007-04-17 | Rhodia Chimie | Functionalization of silicones and anti-adhesive coatings made therefrom |
US7034089B2 (en) * | 2002-12-20 | 2006-04-25 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Epoxy-functional hybrid copolymers |
EP1591097B1 (en) | 2004-04-30 | 2012-06-20 | 3M Deutschland GmbH | Cationically curing two component materials containing a noble metal catalyst |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FI932640A0 (fi) | 1993-06-09 |
CN1085558A (zh) | 1994-04-20 |
FI932640A (fi) | 1993-12-12 |
CA2098632A1 (en) | 1994-12-18 |
US5442026A (en) | 1995-08-15 |
EP0574265A3 (ja) | 1994-03-16 |
EP0574265A2 (en) | 1993-12-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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