JPH06134241A - 吸着処理方法 - Google Patents
吸着処理方法Info
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- JPH06134241A JPH06134241A JP4312663A JP31266392A JPH06134241A JP H06134241 A JPH06134241 A JP H06134241A JP 4312663 A JP4312663 A JP 4312663A JP 31266392 A JP31266392 A JP 31266392A JP H06134241 A JPH06134241 A JP H06134241A
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Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 気体中に含まれる揮発性有機物、特に上水、
廃水等に含まれる揮発性有機塩素化合物又は該化合物を
ストリッピングで排気させた排ガスを、吸着剤を使用し
て、低コストでしかも簡便に無害化処理することのでき
る吸着処理方法を提供する。 【構成】 原水１中に含まれる揮発性有機物を吸着剤７
に吸着させるか、又は前記原水１をストリッピング２し
て排気される揮発性有機物６を吸着剤７に吸着させ、該
吸着剤から吸着された吸着成分を再生ガス１１で脱着し
てガス中に移行１０させて吸着剤を再生する吸着処理方
法において、移行したガス１０中の揮発性有機物を分解
８させたのち、該分解処理ガスを吸着剤の再生ガス１１
として循環させるものであり、揮発性有機物の分解に
は、熱分解方式又は光分解方式を用いることができる。
廃水等に含まれる揮発性有機塩素化合物又は該化合物を
ストリッピングで排気させた排ガスを、吸着剤を使用し
て、低コストでしかも簡便に無害化処理することのでき
る吸着処理方法を提供する。 【構成】 原水１中に含まれる揮発性有機物を吸着剤７
に吸着させるか、又は前記原水１をストリッピング２し
て排気される揮発性有機物６を吸着剤７に吸着させ、該
吸着剤から吸着された吸着成分を再生ガス１１で脱着し
てガス中に移行１０させて吸着剤を再生する吸着処理方
法において、移行したガス１０中の揮発性有機物を分解
８させたのち、該分解処理ガスを吸着剤の再生ガス１１
として循環させるものであり、揮発性有機物の分解に
は、熱分解方式又は光分解方式を用いることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、揮発性有機物の吸着処
理方法に係り、特に、ガス又は原水中に含まれるトリク
ロロエチレン、テトラクロロエチレン等の発ガン性のあ
る揮発性有機塩素化合物を、吸着処理する方法に関す
る。
理方法に係り、特に、ガス又は原水中に含まれるトリク
ロロエチレン、テトラクロロエチレン等の発ガン性のあ
る揮発性有機塩素化合物を、吸着処理する方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、トリクロロエチレン、テトラクロ
ロエチレン等の発ガン性のある揮発性有機塩素化合物に
よる環境汚染が問題となっており、汚染源は、ドライク
リーニング用脱脂剤や、金属工業、電子産業等の洗浄廃
水に起因するといわれている。
ロエチレン等の発ガン性のある揮発性有機塩素化合物に
よる環境汚染が問題となっており、汚染源は、ドライク
リーニング用脱脂剤や、金属工業、電子産業等の洗浄廃
水に起因するといわれている。
【０００３】水中に含まれるこれら揮発性有機塩素化合
物は、ストリッピングを行うことによって水中から容易
に除去することができるが、ストリッピングで排気され
る排ガス中に揮発性有機塩素化合物が移行し、この排ガ
スを未処理のまま大気中に放散すると、再び新たな環境
汚染の原因となるところから、吸着剤によって排ガスを
吸着処理し、無害化することが一般的に考えられる。
物は、ストリッピングを行うことによって水中から容易
に除去することができるが、ストリッピングで排気され
る排ガス中に揮発性有機塩素化合物が移行し、この排ガ
スを未処理のまま大気中に放散すると、再び新たな環境
汚染の原因となるところから、吸着剤によって排ガスを
吸着処理し、無害化することが一般的に考えられる。
【０００４】本発明者らは先に、吸着処理した吸着剤か
ら再生ガスで揮発性有機塩素化合物を脱着させ、脱着ガ
スを紫外線照射して揮発性有機化合物を分解する処理方
法（特公昭６３−４８５７３号公報、特公昭６３−４８
５７４号公報）を提案している。
ら再生ガスで揮発性有機塩素化合物を脱着させ、脱着ガ
スを紫外線照射して揮発性有機化合物を分解する処理方
法（特公昭６３−４８５７３号公報、特公昭６３−４８
５７４号公報）を提案している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
吸着処理した吸着剤から脱着させて、脱着ガスを紫外線
照射して揮発性有機化合物を分解処理する方法も、分解
効率が悪く、紫外線照射したガス中には揮発性有機化合
物がかなりの量残留するため、さらに該ガスを吸着処理
する必要があった。本発明は、上記の問題点を解決し、
吸着剤に吸着した揮発性有機化合物を確実に脱着して、
効率よく分解することのできる吸着剤の再生を併う吸着
処理方法を提供することを課題とする。
吸着処理した吸着剤から脱着させて、脱着ガスを紫外線
照射して揮発性有機化合物を分解処理する方法も、分解
効率が悪く、紫外線照射したガス中には揮発性有機化合
物がかなりの量残留するため、さらに該ガスを吸着処理
する必要があった。本発明は、上記の問題点を解決し、
吸着剤に吸着した揮発性有機化合物を確実に脱着して、
効率よく分解することのできる吸着剤の再生を併う吸着
処理方法を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、気体中に含まれる揮発性有機物を吸着
剤に吸着させ、該吸着剤から吸着された吸着成分を再生
ガスで脱着してガス中に移行させて吸着剤を再生する吸
着処理方法において、移行したガス中の揮発性有機物を
分解させたのち、該分解処理ガスを吸着剤の再生ガスと
して循環させることとしたものである。
に、本発明では、気体中に含まれる揮発性有機物を吸着
剤に吸着させ、該吸着剤から吸着された吸着成分を再生
ガスで脱着してガス中に移行させて吸着剤を再生する吸
着処理方法において、移行したガス中の揮発性有機物を
分解させたのち、該分解処理ガスを吸着剤の再生ガスと
して循環させることとしたものである。
【０００７】また、本発明では、原水中に含まれる揮発
性有機物を吸着剤に吸着させるか、又は前記原水をスト
リッピングして排気される揮発性有機物を吸着剤に吸着
させ、該吸着剤から吸着された吸着成分を再生ガスで脱
着してガス中に移行させて吸着剤を再生する吸着処理方
法において、移行したガス中の揮発性有機物を分解させ
たのち、該分解処理ガスを吸着剤の再生ガスとして循環
させることとしたものである。
性有機物を吸着剤に吸着させるか、又は前記原水をスト
リッピングして排気される揮発性有機物を吸着剤に吸着
させ、該吸着剤から吸着された吸着成分を再生ガスで脱
着してガス中に移行させて吸着剤を再生する吸着処理方
法において、移行したガス中の揮発性有機物を分解させ
たのち、該分解処理ガスを吸着剤の再生ガスとして循環
させることとしたものである。
【０００８】上記吸着処理方法において、ガス中の揮発
性有機物の分解は、熱分解又は光分解によって行うこと
ができる。熱分解による方法は、熱分解装置で空気等の
酸素含有ガスの供給下に約６００〜１１００℃に加熱し
て分解するものであり、また公知の酸化触媒、例えば銀
や白金などの金属、Ｖ2 Ｏ5 、ＭｏＯ3 −Ｂ12Ｏ3 のよ
うな金属酸化物を用いることにより分解温度を低下させ
ることができる。また、光分解による方法では、例えば
紫外線を用いた空気等の酸素含有ガスの共存下の光分解
装置で行うことができる。
性有機物の分解は、熱分解又は光分解によって行うこと
ができる。熱分解による方法は、熱分解装置で空気等の
酸素含有ガスの供給下に約６００〜１１００℃に加熱し
て分解するものであり、また公知の酸化触媒、例えば銀
や白金などの金属、Ｖ2 Ｏ5 、ＭｏＯ3 −Ｂ12Ｏ3 のよ
うな金属酸化物を用いることにより分解温度を低下させ
ることができる。また、光分解による方法では、例えば
紫外線を用いた空気等の酸素含有ガスの共存下の光分解
装置で行うことができる。
【０００９】また、上記のようにして揮発性有機物を分
解処理したガスを吸着剤へ再生ガスとして循環するに
は、熱分解法によるガスでは、冷却して８０〜３００℃
として循環し、また光分解法では、処理ガスは大略８０
〜３００℃になっているが、もし温度が低い場合は加熱
して循環するのがよい。また、例えば、揮発性有機塩素
化合物を高濃度に含むガスを分解して分解ガス中の酸性
物質の濃度が上昇した場合は装置の腐蝕等が生ずるた
め、分解装置の排出側に中和装置例えば消石灰（ＣａＣ
Ｏ3 ）等を用いた乾式アルカリ充填塔を設けて中和処理
してから再生ガスとして用いるのがよい。
解処理したガスを吸着剤へ再生ガスとして循環するに
は、熱分解法によるガスでは、冷却して８０〜３００℃
として循環し、また光分解法では、処理ガスは大略８０
〜３００℃になっているが、もし温度が低い場合は加熱
して循環するのがよい。また、例えば、揮発性有機塩素
化合物を高濃度に含むガスを分解して分解ガス中の酸性
物質の濃度が上昇した場合は装置の腐蝕等が生ずるた
め、分解装置の排出側に中和装置例えば消石灰（ＣａＣ
Ｏ3 ）等を用いた乾式アルカリ充填塔を設けて中和処理
してから再生ガスとして用いるのがよい。
【００１０】更に、本発明に使用される吸着剤として
は、粒状又は繊維状、ハニカム状等の活性炭、ゼオライ
ト、モレキュラシーブ等の天然、合成樹脂吸着剤を使用
することができる。また、処理できる揮発性有機物とし
ては、揮発性例えば脱着ガスにより揮発する有機物なら
何でもよいが、揮発性有機塩素化合物特にトリクロロエ
チレン、テトラクロロエチレン等に有効に適用できる。
は、粒状又は繊維状、ハニカム状等の活性炭、ゼオライ
ト、モレキュラシーブ等の天然、合成樹脂吸着剤を使用
することができる。また、処理できる揮発性有機物とし
ては、揮発性例えば脱着ガスにより揮発する有機物なら
何でもよいが、揮発性有機塩素化合物特にトリクロロエ
チレン、テトラクロロエチレン等に有効に適用できる。
【００１１】
【作用】上記のように、本発明によれば、まず吸着剤に
吸着した有機物を脱着するが、該有機物は低沸点（揮発
性）のものを対象としているので、約８０〜３００℃に
熱した脱着ガスで、例えばトリクロロエチレン、テトラ
クロロエチレン等を脱着する。そして、前記の脱着に要
する熱源は、脱着ガスの分解操作で発生する熱を利用し
ており、更に、分解処理ガスは再生ガスとして循環して
いるため、クローズドシステムを構成し、光分解法のよ
うに、一回の通過による分解効率が低い場合でも、何回
も循環することにより、循環ガス中の有機分の低下と共
に吸着剤の再生ができるのである。また、吸着塔を複数
設けることにより、吸着脱着を交互に行い、継続的に吸
着処理することができる。
吸着した有機物を脱着するが、該有機物は低沸点（揮発
性）のものを対象としているので、約８０〜３００℃に
熱した脱着ガスで、例えばトリクロロエチレン、テトラ
クロロエチレン等を脱着する。そして、前記の脱着に要
する熱源は、脱着ガスの分解操作で発生する熱を利用し
ており、更に、分解処理ガスは再生ガスとして循環して
いるため、クローズドシステムを構成し、光分解法のよ
うに、一回の通過による分解効率が低い場合でも、何回
も循環することにより、循環ガス中の有機分の低下と共
に吸着剤の再生ができるのである。また、吸着塔を複数
設けることにより、吸着脱着を交互に行い、継続的に吸
着処理することができる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されない。 実施例１ 図１に本発明の吸着処理方法の概略工程図を示す。図１
において、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン
等の揮発性有機塩素化合物を含有する原水１は、ストリ
ッピング装置２に導かれて上方から充填物３に散布さ
れ、下方から送風機４によって吹き込まれるストリッピ
ングガス（空気など）５により水中の揮発性有機塩素化
合物が除去され、処理水４となって流出する。
るが、本発明はこれらに限定されない。 実施例１ 図１に本発明の吸着処理方法の概略工程図を示す。図１
において、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン
等の揮発性有機塩素化合物を含有する原水１は、ストリ
ッピング装置２に導かれて上方から充填物３に散布さ
れ、下方から送風機４によって吹き込まれるストリッピ
ングガス（空気など）５により水中の揮発性有機塩素化
合物が除去され、処理水４となって流出する。
【００１３】一方、ストリッピング装置２から排気され
る排ガス６中には、水中から追い出された揮発性有機塩
素化合物が含まれており、この排ガス６を吸着剤を充填
した吸着装置７に導入して吸着剤と接触させることによ
り、排ガス６中の揮発性有機塩素化合物は吸着剤に吸着
され、無害化された処理ガス１２となって排出される。
また、図２に概略工程図を示すように、原水１を直接吸
着剤を充填した吸着装置７に導入して、原水中から直接
揮発性有機塩素化合物を吸着することもできる。
る排ガス６中には、水中から追い出された揮発性有機塩
素化合物が含まれており、この排ガス６を吸着剤を充填
した吸着装置７に導入して吸着剤と接触させることによ
り、排ガス６中の揮発性有機塩素化合物は吸着剤に吸着
され、無害化された処理ガス１２となって排出される。
また、図２に概略工程図を示すように、原水１を直接吸
着剤を充填した吸着装置７に導入して、原水中から直接
揮発性有機塩素化合物を吸着することもできる。
【００１４】このような吸着操作において、吸着剤７は
吸着の進行に伴って吸着能力を失い、破過に達した時点
で排ガスあるいは原水の通気停止あるいは予備吸着装置
への切り換えを行い、吸着剤７の吸着成分の脱着、再生
を行う。吸着剤を再生するためには再生ガスとして加熱
空気（約８０〜３００℃）を導入し、脱着ガス１０中に
吸着剤から揮発性有機塩素化合物を移行させる。次いで
該脱着ガス１０は揮発性有機塩素化合物を分解するため
に分解装置８に導入される。分解装置８として熱分解装
置を用いた場合の概略断面図を図３に示す。
吸着の進行に伴って吸着能力を失い、破過に達した時点
で排ガスあるいは原水の通気停止あるいは予備吸着装置
への切り換えを行い、吸着剤７の吸着成分の脱着、再生
を行う。吸着剤を再生するためには再生ガスとして加熱
空気（約８０〜３００℃）を導入し、脱着ガス１０中に
吸着剤から揮発性有機塩素化合物を移行させる。次いで
該脱着ガス１０は揮発性有機塩素化合物を分解するため
に分解装置８に導入される。分解装置８として熱分解装
置を用いた場合の概略断面図を図３に示す。
【００１５】図３において、熱分解装置１３は、排ガス
流入管１４、窒素源と連絡されたＮ2 注入口１５、酸素
源と連絡された酸素源注入口１６、三層ノズル１７を備
えたガス導入部１８、外筒１９と内筒２０の間にセラミ
ックヒーター２１を供えた反応槽２２及び冷却水源と連
絡されたスプレーノズル２３、排気管２４、Ｕ−トラッ
プ付排水管２５を備えた水洗部２６からなる。
流入管１４、窒素源と連絡されたＮ2 注入口１５、酸素
源と連絡された酸素源注入口１６、三層ノズル１７を備
えたガス導入部１８、外筒１９と内筒２０の間にセラミ
ックヒーター２１を供えた反応槽２２及び冷却水源と連
絡されたスプレーノズル２３、排気管２４、Ｕ−トラッ
プ付排水管２５を備えた水洗部２６からなる。
【００１６】処理される排ガスは、流入管１４から入り
三層ノズル１７にてＮ2 ガスでシールされ、酸素源との
接触、混合が調整された後、反応槽２２に入り、反応槽
２２内でセラミックヒーター２１による熱と酸素源によ
り排ガス中の可燃性ガスは酸化分解され、排気管２４か
ら排出される。その際、水洗部２６を設け冷却水により
処理排ガスの冷却と排ガス中の加水分解性ガス、水溶性
ガスを除去することもできる。排水は水洗部２６からＵ
−トラップ２５を経てポックス外に排出される。
三層ノズル１７にてＮ2 ガスでシールされ、酸素源との
接触、混合が調整された後、反応槽２２に入り、反応槽
２２内でセラミックヒーター２１による熱と酸素源によ
り排ガス中の可燃性ガスは酸化分解され、排気管２４か
ら排出される。その際、水洗部２６を設け冷却水により
処理排ガスの冷却と排ガス中の加水分解性ガス、水溶性
ガスを除去することもできる。排水は水洗部２６からＵ
−トラップ２５を経てポックス外に排出される。
【００１７】分解装置８から排出されたガスは、温度８
０〜３００℃に調整されて再生ガス１１として吸着装置
７に循環し、吸着剤の再生に使用される。光分解装置を
用いた場合は、再生ガスを加熱するためのヒーターを設
けてもよい。また、排出管２４からのガスが、ＨＣｌ、
Ｃｌ2 等の酸性ガスを多量に含む場合は、再生ガスとし
て用いる前に中和装置９を設けることもできる。
０〜３００℃に調整されて再生ガス１１として吸着装置
７に循環し、吸着剤の再生に使用される。光分解装置を
用いた場合は、再生ガスを加熱するためのヒーターを設
けてもよい。また、排出管２４からのガスが、ＨＣｌ、
Ｃｌ2 等の酸性ガスを多量に含む場合は、再生ガスとし
て用いる前に中和装置９を設けることもできる。
【００１８】実施例２ 次に、前記の装置で熱分解装置を用いて、某工場洗浄廃
水を対象として、実施した場合の処理条件及び処理効果
は次の通りであった。 ストリッピング装置 方式：テラレット充填塔（５ｍ充填） 通気量（空気）／通水量：３０ 通水速度：６０ｍ／ｈ
水を対象として、実施した場合の処理条件及び処理効果
は次の通りであった。 ストリッピング装置 方式：テラレット充填塔（５ｍ充填） 通気量（空気）／通水量：３０ 通水速度：６０ｍ／ｈ
【００１９】水質 原水１中トリクロロエチレン：３５０〜６００μｇ／リ
ットル 原水１中テトラクロロエチレン：１３０〜２００μｇ／
リットル 処理水４中トリクロロエチレン：＜１０μｇ／リットル 処理水４中テトラクロロエチレン：＜５μｇ／リットル
ットル 原水１中テトラクロロエチレン：１３０〜２００μｇ／
リットル 処理水４中トリクロロエチレン：＜１０μｇ／リットル 処理水４中テトラクロロエチレン：＜５μｇ／リットル
【００２０】吸着装置７ 方式：繊維状活性炭吸着 入口６（排ガス）トリクロロエチレン：１０〜２０ｍｇ
／Ｎｍ3 入口６（排ガス）テトラクロロエチレン：４〜６ｍｇ／
Ｎｍ3 出口１２（処理ガス）トリクロロエチレン：＜０．１ｍ
ｇ／Ｎｍ3 出口１２（処理ガス）テトラクロロエチレン：＜０．１
ｍｇ／Ｎｍ3
／Ｎｍ3 入口６（排ガス）テトラクロロエチレン：４〜６ｍｇ／
Ｎｍ3 出口１２（処理ガス）トリクロロエチレン：＜０．１ｍ
ｇ／Ｎｍ3 出口１２（処理ガス）テトラクロロエチレン：＜０．１
ｍｇ／Ｎｍ3
【００２１】再生ガス：加熱空気及び循環ガス（１００
℃）、ＳＶ：２０ｈ-1 脱着ガス１０中トリクロロエチレン：５００〜１０００
ｍｇ／Ｎｍ3 脱着ガス１０中テトラクロロエチレン：５００〜１００
０ｍｇ／Ｎｍ3 熱分解装置 滞留時間：６秒 温度 ：９００℃
℃）、ＳＶ：２０ｈ-1 脱着ガス１０中トリクロロエチレン：５００〜１０００
ｍｇ／Ｎｍ3 脱着ガス１０中テトラクロロエチレン：５００〜１００
０ｍｇ／Ｎｍ3 熱分解装置 滞留時間：６秒 温度 ：９００℃
【００２２】その結果を図４に示す。図４は排ガス中の
トリクロロエチレン濃度と経過時間の関係を示すグラフ
である。図４において、Ａは脱着ガス１０中のトリクロ
ロエチレン濃度であり、Ｂは循環再生ガス１１中のトリ
クロロエチレン濃度である。熱分解方式では、約２０時
間の循環再生で、脱着ガス中のトリクロロエチレン濃度
は約１ｍｇ／Ｎｍ3 となり、吸着剤がほぼ再生されたこ
とが分かり、十分次の吸着に使用できる。
トリクロロエチレン濃度と経過時間の関係を示すグラフ
である。図４において、Ａは脱着ガス１０中のトリクロ
ロエチレン濃度であり、Ｂは循環再生ガス１１中のトリ
クロロエチレン濃度である。熱分解方式では、約２０時
間の循環再生で、脱着ガス中のトリクロロエチレン濃度
は約１ｍｇ／Ｎｍ3 となり、吸着剤がほぼ再生されたこ
とが分かり、十分次の吸着に使用できる。
【００２３】実施例３ この例では分解装置として光分解装置を用いて、その他
は実施例２と全く同じに行った。光分解装置は次の条件
で操作した。 滞留時間：６秒 照射方式：４００Ｗ紫外線ランプによる直接照射
は実施例２と全く同じに行った。光分解装置は次の条件
で操作した。 滞留時間：６秒 照射方式：４００Ｗ紫外線ランプによる直接照射
【００２４】その結果を実施例２と共に図４に示す。図
４において、Ｃは脱着ガス１０中のトリクロロエチル濃
度であり、Ｄは循環再生ガス１１中のトリクロロエチレ
ン濃度である。このグラフからも分かるように、光分解
方式では分解効率がわるいため、再生に長時間かかり、
しかもトリクロロエチレン濃度も数ｍｇ／Ｎｍ3 以下に
はならないが、この程度でも、初期濃度の１０００ｍｇ
／Ｎｍ3 に位べれば格段に再生されており、吸着剤とし
て十分使用できる。
４において、Ｃは脱着ガス１０中のトリクロロエチル濃
度であり、Ｄは循環再生ガス１１中のトリクロロエチレ
ン濃度である。このグラフからも分かるように、光分解
方式では分解効率がわるいため、再生に長時間かかり、
しかもトリクロロエチレン濃度も数ｍｇ／Ｎｍ3 以下に
はならないが、この程度でも、初期濃度の１０００ｍｇ
／Ｎｍ3 に位べれば格段に再生されており、吸着剤とし
て十分使用できる。
【００２５】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、排ガ
ス中の揮発性有機物、例えば揮発性有機塩素化合物濃度
規制が厳しい場合や対象排ガス濃度が高い場合にも、該
化合物を効果的に分解、無害化することができ、また再
生設備のコンパクト化を図ることができ、現場で、しか
も低コストで吸着剤の再生と環境汚染防止が可能にな
る。
ス中の揮発性有機物、例えば揮発性有機塩素化合物濃度
規制が厳しい場合や対象排ガス濃度が高い場合にも、該
化合物を効果的に分解、無害化することができ、また再
生設備のコンパクト化を図ることができ、現場で、しか
も低コストで吸着剤の再生と環境汚染防止が可能にな
る。
【図１】本発明の吸着処理方法の概略工程図。
【図２】本発明のもう一つの吸着処理方法の概略工程
図。
図。
【図３】本発明に使用する熱分解装置の一例を示す概略
断面図。
断面図。
【図４】排ガス中のトリクロロエチレン濃度と経過時間
の関係を示すグラフ。
の関係を示すグラフ。
１：原水、２：ストリッピング装置、３：充填物、４：
処理水、５：空気、６：排気、７：吸着装置、８：分解
装置、９：中和装置、１０：吸着ガス、１１：循環再生
ガス、１２：処理ガス、１３：熱分解装置、１４：排ガ
ス流入管、１５：窒素注入口、１６：酸素源注入口、１
７：ガスノズル、１８：ガス導入部、１９：反応槽外
筒、２０：反応槽内筒、２１：セラミックヒータ、２
２：反応槽、２３：スプレーノズル、２４：排ガス流出
管、２５：Ｕ−トラップ付排水管、２６：水洗部
処理水、５：空気、６：排気、７：吸着装置、８：分解
装置、９：中和装置、１０：吸着ガス、１１：循環再生
ガス、１２：処理ガス、１３：熱分解装置、１４：排ガ
ス流入管、１５：窒素注入口、１６：酸素源注入口、１
７：ガスノズル、１８：ガス導入部、１９：反応槽外
筒、２０：反応槽内筒、２１：セラミックヒータ、２
２：反応槽、２３：スプレーノズル、２４：排ガス流出
管、２５：Ｕ−トラップ付排水管、２６：水洗部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 1/28 ＺＡＢ Ａ 1/58 ＣＤＶ Ａ ＺＡＢ
Claims (2)
- 【請求項１】 気体中に含まれる揮発性有機物を吸着剤
に吸着させ、該吸着剤から吸着された吸着成分を再生ガ
スで脱着してガス中に移行させて吸着剤を再生する吸着
処理方法において、移行したガス中の揮発性有機物を分
解させたのち、該分解処理ガスを吸着剤の再生ガスとし
て循環させることを特徴とする吸着処理方法。 - 【請求項２】 原水中に含まれる揮発性有機物を吸着剤
に吸着させるか、又は前記原水をストリッピングして排
気される揮発性有機物を吸着剤に吸着させ、該吸着剤か
ら吸着された吸着成分を再生ガスで脱着してガス中に移
行させて吸着剤を再生する吸着処理方法において、移行
したガス中の揮発性有機物を分解させたのち、該分解処
理ガスを吸着剤の再生ガスとして循環させることを特徴
とする吸着処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4312663A JP2548665B2 (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 吸着処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4312663A JP2548665B2 (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 吸着処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06134241A true JPH06134241A (ja) | 1994-05-17 |
| JP2548665B2 JP2548665B2 (ja) | 1996-10-30 |
Family
ID=18031930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4312663A Expired - Fee Related JP2548665B2 (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 吸着処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2548665B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010016158A (ko) * | 2000-11-15 | 2001-03-05 | 김성근 | 광분해 및 열분해 복합형 대기 정화장치 및 정화방법 |
| KR20020033355A (ko) * | 2000-10-31 | 2002-05-06 | 김동현 | 활성탄 흡착 장치 |
| KR100424507B1 (ko) * | 2000-05-27 | 2004-03-26 | (주)백년기술 | 휘발성 유기화합물 처리방법 |
| US6814875B2 (en) | 2000-10-06 | 2004-11-09 | Yamaha Corporation | Method and device for treating waste liquid, solvent separator, and cleaning device using thereof |
| ES2307458A1 (es) * | 2008-05-07 | 2008-11-16 | Universidad De Oviedo | Metodo para la eliminacion compuestos organoclorados en emisiones gaseosas mediante adsorcion y regeneracion reductiva del adsorbente. |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56150620A (en) * | 1980-04-25 | 1981-11-21 | Fuji Electric Co Ltd | Vertical shaft rotary electric machine |
| JPH02290217A (ja) * | 1990-02-09 | 1990-11-30 | Taikisha Ltd | 吸脱着装置 |
-
1992
- 1992-10-29 JP JP4312663A patent/JP2548665B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56150620A (en) * | 1980-04-25 | 1981-11-21 | Fuji Electric Co Ltd | Vertical shaft rotary electric machine |
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|---|---|---|---|---|
| KR100424507B1 (ko) * | 2000-05-27 | 2004-03-26 | (주)백년기술 | 휘발성 유기화합물 처리방법 |
| US6814875B2 (en) | 2000-10-06 | 2004-11-09 | Yamaha Corporation | Method and device for treating waste liquid, solvent separator, and cleaning device using thereof |
| KR20020033355A (ko) * | 2000-10-31 | 2002-05-06 | 김동현 | 활성탄 흡착 장치 |
| KR20010016158A (ko) * | 2000-11-15 | 2001-03-05 | 김성근 | 광분해 및 열분해 복합형 대기 정화장치 및 정화방법 |
| ES2307458A1 (es) * | 2008-05-07 | 2008-11-16 | Universidad De Oviedo | Metodo para la eliminacion compuestos organoclorados en emisiones gaseosas mediante adsorcion y regeneracion reductiva del adsorbente. |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2548665B2 (ja) | 1996-10-30 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |