JPH06130341A - 表示装置の欠陥修正方法 - Google Patents
表示装置の欠陥修正方法Info
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- JPH06130341A JPH06130341A JP5011191A JP1119193A JPH06130341A JP H06130341 A JPH06130341 A JP H06130341A JP 5011191 A JP5011191 A JP 5011191A JP 1119193 A JP1119193 A JP 1119193A JP H06130341 A JPH06130341 A JP H06130341A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 表示面の透光性を損なうことなく、修正部分
が陰として視認されない表示装置の欠陥修正方法を提供
する。 【構成】 透明板からなる表示面１上の欠陥部２に、Ａ
ｒＦエキシマレーザービーム８を照射する。ＡｒＦレー
ザーは、短波長のレーザー光が照射できるため、表示面
の透光性を損なわない加工を行うことができる。レーザ
ービーム８の照射中に、ステージ９およびステージ１０
を移動させて、ピントの変動と照射部分の位置移動とを
行うと、照射部分の輪郭が不明瞭になり、表面からの観
察で陰として視認されない。
が陰として視認されない表示装置の欠陥修正方法を提供
する。 【構成】 透明板からなる表示面１上の欠陥部２に、Ａ
ｒＦエキシマレーザービーム８を照射する。ＡｒＦレー
ザーは、短波長のレーザー光が照射できるため、表示面
の透光性を損なわない加工を行うことができる。レーザ
ービーム８の照射中に、ステージ９およびステージ１０
を移動させて、ピントの変動と照射部分の位置移動とを
行うと、照射部分の輪郭が不明瞭になり、表面からの観
察で陰として視認されない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置などの表示
装置において、その表示面上に生じた微少なキズを除去
する欠陥修正方法に関する。
装置において、その表示面上に生じた微少なキズを除去
する欠陥修正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、表示装置の表示面に欠陥が生じた
場合には、微粉末の研磨材をバフなどに塗布してバフを
回転させることにより、欠陥部を機械的に摩擦して研磨
し、欠陥の除去を行うことが行われていた。
場合には、微粉末の研磨材をバフなどに塗布してバフを
回転させることにより、欠陥部を機械的に摩擦して研磨
し、欠陥の除去を行うことが行われていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のような研磨方法
では、以下のような問題点がある。
では、以下のような問題点がある。
【０００４】（１）ガラス板などからなる表示面が削り
取られることにより発生する加工カスや研磨材の粉末が
飛散し、作業環境上のクリーン度に問題が生じる。
取られることにより発生する加工カスや研磨材の粉末が
飛散し、作業環境上のクリーン度に問題が生じる。
【０００５】（２）表示面にＬＳＩなどが実装されてい
る場合には、研磨の際の振動などにより、これらが破壊
される事態もある。
る場合には、研磨の際の振動などにより、これらが破壊
される事態もある。
【０００６】（３）研磨の際の摩擦により静電気が発生
し、上記ＬＳＩなどを破壊させる虞れがある。
し、上記ＬＳＩなどを破壊させる虞れがある。
【０００７】（４）研磨に要する時間が長く、欠陥修正
のコストが高くなる。
のコストが高くなる。
【０００８】（５）研磨により表示面の凹凸が粗い面と
なり、透光性が失われる。
なり、透光性が失われる。
【０００９】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであり、その目的は表示面の透光性を損なうこ
となく、短時間の加工で表示装置の欠陥部を除去でき、
加工の際の加工カスの発生を防止できる表示装置の欠陥
修正方法を提供することにある。
れたものであり、その目的は表示面の透光性を損なうこ
となく、短時間の加工で表示装置の欠陥部を除去でき、
加工の際の加工カスの発生を防止できる表示装置の欠陥
修正方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の表示装置の欠陥
修正方法は、表示面が透明板からなる表示装置におい
て、該表示面上の欠陥部に、該欠陥部の形状に応じた開
口を有するマスクを使用して、ＡｒＦエキシマレーザー
ビームを照射して該欠陥部を除去し、そのことにより上
記目的が達成できる。
修正方法は、表示面が透明板からなる表示装置におい
て、該表示面上の欠陥部に、該欠陥部の形状に応じた開
口を有するマスクを使用して、ＡｒＦエキシマレーザー
ビームを照射して該欠陥部を除去し、そのことにより上
記目的が達成できる。
【００１１】前記ＡｒＦエキシマレーザービームの照射
中に、ピントを変動させると共に、照射部分の位置を移
動させてもよい。
中に、ピントを変動させると共に、照射部分の位置を移
動させてもよい。
【００１２】前記マスクが、前記欠陥部の形状よりも大
きい開口を有する虹彩絞りマスクであってもよい。
きい開口を有する虹彩絞りマスクであってもよい。
【００１３】前記ＡｒＦエキシマレーザービームの照射
中に、前記虹彩絞りマスクの開口径を連続的に変化させ
てもよい。
中に、前記虹彩絞りマスクの開口径を連続的に変化させ
てもよい。
【００１４】
【作用】本発明においては、表示装置の表示面上の欠陥
部に、欠陥部の形状に応じた開口を有するマスクを使用
して、ＡｒＦエキシマレーザービームを照射する。この
ことにより、照射部分の底面が平滑な面となり、表示面
の透光性を損なわない加工を行うことができる。
部に、欠陥部の形状に応じた開口を有するマスクを使用
して、ＡｒＦエキシマレーザービームを照射する。この
ことにより、照射部分の底面が平滑な面となり、表示面
の透光性を損なわない加工を行うことができる。
【００１５】さらに、レーザービームの照射中に、投影
パターンのピント移動と、照射される部分の位置移動と
を行うと、レーザービームが照射された部分の輪郭を不
明瞭にすることができる。よって、輪郭が陰として視認
されにくい良好な加工面を得ることができる。
パターンのピント移動と、照射される部分の位置移動と
を行うと、レーザービームが照射された部分の輪郭を不
明瞭にすることができる。よって、輪郭が陰として視認
されにくい良好な加工面を得ることができる。
【００１６】また、上記マスクとして虹彩絞りマスクを
用いた場合には、虹彩絞りマスクの開口径を連続的に変
化させて、レーザービームが照射された部分の輪郭を不
明瞭にすることができる。
用いた場合には、虹彩絞りマスクの開口径を連続的に変
化させて、レーザービームが照射された部分の輪郭を不
明瞭にすることができる。
【００１７】
【実施例】以下に、本発明の実施例について図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【００１８】（実施例１）ガラス板などからなる透明板
表面の欠陥には、点状および線状のものがある。これら
の修正は、具体的には、欠陥の深さ方向が消滅するまで
ＡｒＦエキシマレーザービームを照射することにより行
われる。
表面の欠陥には、点状および線状のものがある。これら
の修正は、具体的には、欠陥の深さ方向が消滅するまで
ＡｒＦエキシマレーザービームを照射することにより行
われる。
【００１９】エキシマレーザービームは、高エネルギー
を有する紫外光である。このエキシマレーザーを用いた
加工の特徴としては、 （１）光化学的に物質の分子結合を切ることにより瞬間
的に照射表面層を分解除去できるため、熱的な影響を受
けない。
を有する紫外光である。このエキシマレーザーを用いた
加工の特徴としては、 （１）光化学的に物質の分子結合を切ることにより瞬間
的に照射表面層を分解除去できるため、熱的な影響を受
けない。
【００２０】（２）加工用に用いられる各種レーザーの
内、最も短波長であるので、ミクロン単位の精密加工を
行うことができる。
内、最も短波長であるので、ミクロン単位の精密加工を
行うことができる。
【００２１】などが挙げられる。
【００２２】本発明において、加工に用いるエキシマレ
ーザーとして、ＡｒＦエキシマレーザーを用いる理由は
以下の通りである。
ーザーとして、ＡｒＦエキシマレーザーを用いる理由は
以下の通りである。
【００２３】ガラス板等の透明物質を加工する場合にお
いて、２４８ｎｍの発振波長をもつＫｒＦエキシマレー
ザーと、１９３ｎｍの発振波長をもつＡｒＦエキシマレ
ーザーがある。
いて、２４８ｎｍの発振波長をもつＫｒＦエキシマレー
ザーと、１９３ｎｍの発振波長をもつＡｒＦエキシマレ
ーザーがある。
【００２４】この２種類のエキシマレーザービームをガ
ラス板表面に照射して得られる加工特性を、図１２およ
び図１３に示す。図１３はＫｒＦエキシマレーザーを用
いた場合の加工断面を示す図であり、図１２はＡｒＦエ
キシマレーザーを用いた場合の加工断面を示す図であ
る。
ラス板表面に照射して得られる加工特性を、図１２およ
び図１３に示す。図１３はＫｒＦエキシマレーザーを用
いた場合の加工断面を示す図であり、図１２はＡｒＦエ
キシマレーザーを用いた場合の加工断面を示す図であ
る。
【００２５】この図から理解されるように、ＫｒＦレー
ザーを用いた場合には、照射ビームの届く底面３の凹凸
が大きい粗い面となり、表示面の透光性が損なわれる。
ザーを用いた場合には、照射ビームの届く底面３の凹凸
が大きい粗い面となり、表示面の透光性が損なわれる。
【００２６】これに対して、ＡｒＦレーザーを用いた場
合には、ＫｒＦレーザーよりも短波長のレーザー光が照
射できるため、照射部分の底面４が平滑な面を呈し、表
示面の透光性を損なわない加工を行うことができる。
合には、ＫｒＦレーザーよりも短波長のレーザー光が照
射できるため、照射部分の底面４が平滑な面を呈し、表
示面の透光性を損なわない加工を行うことができる。
【００２７】上記ガラス板などからなる透明板表面の欠
陥部に、ＡｒＦレーザービームを照射する方法として
は、図１に示すような装置によるマスクイメージング方
法を用いることができる。
陥部に、ＡｒＦレーザービームを照射する方法として
は、図１に示すような装置によるマスクイメージング方
法を用いることができる。
【００２８】この照射方法においては、金属板などから
なるパターンマスク６をエキシマレーザー発振器５より
出射されるレーザービーム８の光路に配置する。レーザ
ービーム８は、このパターンマスク６を通過し、さらに
縮小レンズ７により縮小されて、透明板１表面のキズ部
分にパターン投影され、照射される。このパターンマス
ク６としては、例えば、金属板などに所定のパターンを
エッチングして形成したものを用いることができる。
なるパターンマスク６をエキシマレーザー発振器５より
出射されるレーザービーム８の光路に配置する。レーザ
ービーム８は、このパターンマスク６を通過し、さらに
縮小レンズ７により縮小されて、透明板１表面のキズ部
分にパターン投影され、照射される。このパターンマス
ク６としては、例えば、金属板などに所定のパターンを
エッチングして形成したものを用いることができる。
【００２９】このレーザービームの縮小率および照射面
でのレーザービームの照射エネルギーは、下記のように
して求められる。
でのレーザービームの照射エネルギーは、下記のように
して求められる。
【００３０】パターンマスク６から縮小レンズ７までの
配置距離をＡ、縮小レンズ７から照射面２までの配置距
離をＢ、縮小レンズ７の焦点距離をｆとした場合、上記
Ａ、Ｂ、ｆの関係は、ガウスの定理より、下記式（１）
で表される。
配置距離をＡ、縮小レンズ７から照射面２までの配置距
離をＢ、縮小レンズ７の焦点距離をｆとした場合、上記
Ａ、Ｂ、ｆの関係は、ガウスの定理より、下記式（１）
で表される。
【００３１】 レーザービームの縮小率Ｍは、 となり、エキシマレーザー発振器５の出射口でのエネル
ギー密度をＥ1とすると、照射面２におけるエネルギー
密度Ｅ2は、 Ｅ2 ＝ Ｍ2 ・ Ｅ1 式（３） となる。
ギー密度をＥ1とすると、照射面２におけるエネルギー
密度Ｅ2は、 Ｅ2 ＝ Ｍ2 ・ Ｅ1 式（３） となる。
【００３２】上記Ａ、Ｂ、ｆの距離関係を調整、管理す
ることにより、照射面２における縮小率およびパターン
投影が正確に行われる。
ることにより、照射面２における縮小率およびパターン
投影が正確に行われる。
【００３３】さらに、上記距離関係を厳密にすることに
より、照射面２におけるエネルギー密度Ｅ2の変動も少
なくなり、欠陥の深さ方向における加工精度を安定させ
ることができる。
より、照射面２におけるエネルギー密度Ｅ2の変動も少
なくなり、欠陥の深さ方向における加工精度を安定させ
ることができる。
【００３４】このように光学系の距離関係を調整して固
定した場合、照射された箇所を表面から観察すると、照
射部分の輪郭が視認される虞れがある。例えば、レーザ
ービームの投影パターンが長方形の場合には、図５に示
すように、長方形の輪郭がくっきりと投影され、投影パ
ターンが円形の場合には、図６に示すように、円形の輪
郭がくっきりと投影されて、輪郭部分１１は陰として視
認される。このため、照射部分の底面４が平滑面とな
り、透光性を損なわないキズ修正がなされても、この陰
が表示面の欠陥となる虞がある。
定した場合、照射された箇所を表面から観察すると、照
射部分の輪郭が視認される虞れがある。例えば、レーザ
ービームの投影パターンが長方形の場合には、図５に示
すように、長方形の輪郭がくっきりと投影され、投影パ
ターンが円形の場合には、図６に示すように、円形の輪
郭がくっきりと投影されて、輪郭部分１１は陰として視
認される。このため、照射部分の底面４が平滑面とな
り、透光性を損なわないキズ修正がなされても、この陰
が表示面の欠陥となる虞がある。
【００３５】このため、本実施例においては、照射部分
の輪郭を不明瞭にして、陰の視認をされにくくする方法
を用いている。
の輪郭を不明瞭にして、陰の視認をされにくくする方法
を用いている。
【００３６】この方法においては、図１に示す、縮小レ
ンズ７と透明板１表面との間隔を連続的に移動させる。
例えば、図１のＡ−Ａ’方向に移動が可能とされたステ
ージ９を移動させて、照射面を投影パターンの輪郭のピ
ントが合う位置から輪郭のピントが不明瞭で広がる位
置、つまり、照射面が縮小レンズ７から離れる方向に移
動させる。このことにより、ピントを変動させることが
できる。照射面の移動はレンズに近付く方向にされても
良い。さらに、この動作と同期して、図１のＢ−Ｂ’方
向に移動が可能とされたステージ１０により照射部分の
位置移動も同時に行う。このことにより照射部分の輪郭
は不明瞭になり、表面からの観察で陰として視認されな
いようにすることができる。
ンズ７と透明板１表面との間隔を連続的に移動させる。
例えば、図１のＡ−Ａ’方向に移動が可能とされたステ
ージ９を移動させて、照射面を投影パターンの輪郭のピ
ントが合う位置から輪郭のピントが不明瞭で広がる位
置、つまり、照射面が縮小レンズ７から離れる方向に移
動させる。このことにより、ピントを変動させることが
できる。照射面の移動はレンズに近付く方向にされても
良い。さらに、この動作と同期して、図１のＢ−Ｂ’方
向に移動が可能とされたステージ１０により照射部分の
位置移動も同時に行う。このことにより照射部分の輪郭
は不明瞭になり、表面からの観察で陰として視認されな
いようにすることができる。
【００３７】また、照射部分の断面は、図２に示すよう
に、透明板１表面から底面にかけて凹凸のないなめらか
な曲線４ａになっており、透光性を損なうことなく修正
ができる。
に、透明板１表面から底面にかけて凹凸のないなめらか
な曲線４ａになっており、透光性を損なうことなく修正
ができる。
【００３８】この欠陥修正方法におけるピントの変動と
照射部分の移動との最適な条件を以下に示す。
照射部分の移動との最適な条件を以下に示す。
【００３９】図３は、レーザービーム照射中（Ｔ1〜
Ｔ2）におけるピントの変動および照射部分の移動のタ
イミングチャートの一例である。
Ｔ2）におけるピントの変動および照射部分の移動のタ
イミングチャートの一例である。
【００４０】この例において、ピントの変動は、まず、
照射面が縮小レンズ７と離れている位置Ｂ0からスター
トして縮小レンズ７に近付いて、ピントが合う位置Ｂま
で移動し、再び位置Ｂ0へ戻る。
照射面が縮小レンズ７と離れている位置Ｂ0からスター
トして縮小レンズ７に近付いて、ピントが合う位置Ｂま
で移動し、再び位置Ｂ0へ戻る。
【００４１】この時、照射部分の位置移動も同時に行
う。このＳ1〜Ｓ2間の移動量は欠陥の大きさに応じて設
定することができる。
う。このＳ1〜Ｓ2間の移動量は欠陥の大きさに応じて設
定することができる。
【００４２】この実施例において、照射部分は、輪郭周
辺部が浅く、中央付近がやや深い滑らかな曲面となり、
良好な修正面を得ることができた。
辺部が浅く、中央付近がやや深い滑らかな曲面となり、
良好な修正面を得ることができた。
【００４３】また、修正時間は平均１分／１箇所であ
り、従来の研磨方法では１０〜２０分／１箇所を要する
ことから、修正コストを低減できる。
り、従来の研磨方法では１０〜２０分／１箇所を要する
ことから、修正コストを低減できる。
【００４４】さらに、加工カスが殆ど発生せず、従来の
研磨方法で問題点になった研磨粉の飛散による弊害が皆
無であった。
研磨方法で問題点になった研磨粉の飛散による弊害が皆
無であった。
【００４５】図４は、レーザービーム照射中（Ｔ1〜
Ｔ4）におけるピントの変動および照射部分の移動のタ
イミングチャートの他の例である。
Ｔ4）におけるピントの変動および照射部分の移動のタ
イミングチャートの他の例である。
【００４６】この例は、比較的深い欠陥修正に用いるも
ので、レーザービーム照射を、照射部分がＳ1位置から
中間点Ｓcまで移動する間と、Ｓ2位置から中間点Ｓ0ま
で移動する間との合計２回行わせ、ピントの変動もこれ
に合わせて２回行わせる。
ので、レーザービーム照射を、照射部分がＳ1位置から
中間点Ｓcまで移動する間と、Ｓ2位置から中間点Ｓ0ま
で移動する間との合計２回行わせ、ピントの変動もこれ
に合わせて２回行わせる。
【００４７】この例において、照射部分は、輪郭周辺部
が浅く、中央付近がやや深い滑らかな曲面となり、良好
な修正面を得ることができた。
が浅く、中央付近がやや深い滑らかな曲面となり、良好
な修正面を得ることができた。
【００４８】尚、レーザービーム照射中におけるピント
の変動と照射部分の移動とのタイミングは上記に示した
ものに限られず、またピントの変動と照射部分の移動と
の組み合わせも上記に示したものに限られない。
の変動と照射部分の移動とのタイミングは上記に示した
ものに限られず、またピントの変動と照射部分の移動と
の組み合わせも上記に示したものに限られない。
【００４９】（実施例２）この実施例では、図７に示す
ような装置を用いて、欠陥部にＡｒＦエキシマレーザー
ビームを照射した。この図において、同一の機能を有す
る部分は、図１と同じ番号で示している。
ような装置を用いて、欠陥部にＡｒＦエキシマレーザー
ビームを照射した。この図において、同一の機能を有す
る部分は、図１と同じ番号で示している。
【００５０】パターンマスクとしては、図８に示すよう
な虹彩絞りマスク６１を用いた。この虹彩絞りマスク６
１において、中央位置に円形の開口を形成する虹彩絞り
（羽根）６ｃは、ハウジング６ａの側部に設けられたピ
ン６ｂで開閉される。ピン６ｂは、虹彩絞り６ｃの最少
開口径に対応する位置Ｄmax〜最大開口径に対応する位
置Ｄminまで約９０°動いて、虹彩絞り６ｃの開口径を
変化させる。
な虹彩絞りマスク６１を用いた。この虹彩絞りマスク６
１において、中央位置に円形の開口を形成する虹彩絞り
（羽根）６ｃは、ハウジング６ａの側部に設けられたピ
ン６ｂで開閉される。ピン６ｂは、虹彩絞り６ｃの最少
開口径に対応する位置Ｄmax〜最大開口径に対応する位
置Ｄminまで約９０°動いて、虹彩絞り６ｃの開口径を
変化させる。
【００５１】ピン６ｂの駆動は、例えば、以下のように
して行うことができる。図９に示すように、虹彩絞りマ
スク６１のハウジング６ａ底面をベース板６２に接着な
どにより固定し、回転プーリー６３をハウジング６ａ外
周面にはめ込む。駆動源としてモーター（図示せず）を
用い、ベルト６４によりプーリー６３を回転させる。プ
ーリー６３が回転すると、ピン６ｂが動いて、虹彩絞り
６ｃの開口径が連続的に変化する。ここで、モーターを
リバーシブルタイプとすると、ピン６ｂの回転方向を正
逆両方向にすることができる。
して行うことができる。図９に示すように、虹彩絞りマ
スク６１のハウジング６ａ底面をベース板６２に接着な
どにより固定し、回転プーリー６３をハウジング６ａ外
周面にはめ込む。駆動源としてモーター（図示せず）を
用い、ベルト６４によりプーリー６３を回転させる。プ
ーリー６３が回転すると、ピン６ｂが動いて、虹彩絞り
６ｃの開口径が連続的に変化する。ここで、モーターを
リバーシブルタイプとすると、ピン６ｂの回転方向を正
逆両方向にすることができる。
【００５２】この実施例の装置においても、光学系の距
離関係を調整して固定した場合、照射された箇所を表面
から観察すると、図６に示すように照射部分の輪郭が視
認される虞れがある。よって、照射部分の輪郭を不明瞭
にして陰が視認されにくくするために、以下のようにＡ
ｒＦエキシマレーザービームの照射を行った。
離関係を調整して固定した場合、照射された箇所を表面
から観察すると、図６に示すように照射部分の輪郭が視
認される虞れがある。よって、照射部分の輪郭を不明瞭
にして陰が視認されにくくするために、以下のようにＡ
ｒＦエキシマレーザービームの照射を行った。
【００５３】上記のようにして開口径Ｄを修正すべき欠
陥部よりも大きくすることができる虹彩絞りマスク６１
を、レーザービーム８の光路に配置する。そして、図１
０に示すように、レーザービーム８の照射中（Ｔ1〜
Ｔ2）に、虹彩絞りマスク６１の開口径ＤをＤ1からＤ2
まで連続的に大きくしていく。
陥部よりも大きくすることができる虹彩絞りマスク６１
を、レーザービーム８の光路に配置する。そして、図１
０に示すように、レーザービーム８の照射中（Ｔ1〜
Ｔ2）に、虹彩絞りマスク６１の開口径ＤをＤ1からＤ2
まで連続的に大きくしていく。
【００５４】このことにより、照射部分の断面を、図１
１に示すような、透明板１表面から底面にかけて凹凸の
無いなめらかな曲線４ｂにすることができ、透光性を損
なうことなく欠陥修正ができた。また、輪郭部分になる
ところではＡｒＦエキシマレーザービーム照射時間が最
も短いので、輪郭が不明瞭になり、表面からの観察で陰
として視認されない良好な修正面が得られた。
１に示すような、透明板１表面から底面にかけて凹凸の
無いなめらかな曲線４ｂにすることができ、透光性を損
なうことなく欠陥修正ができた。また、輪郭部分になる
ところではＡｒＦエキシマレーザービーム照射時間が最
も短いので、輪郭が不明瞭になり、表面からの観察で陰
として視認されない良好な修正面が得られた。
【００５５】
【発明の効果】上記の説明で明らかなように、本発明に
よれば、レーザービーム照射部分の底面が凹凸の無いな
めらかな面となり、表示面の透光性を損なわない加工を
行うことができる。レーザービームの照射中に、ピント
の変動と、照射部分の位置移動とを行うと、レーザービ
ーム照射部分の輪郭が陰として視認されにくい良好な加
工面を得ることができる。マスクとして虹彩絞りマスク
を用いた場合には、レーザービームの照射中にマスクの
開口径を連続的に変化させることにより、照射部分の輪
郭が陰として視認されにくい良好な加工面を得ることが
できる。また、修正時間が短縮されるので、コストの低
減が実現される。さらに、加工カスがほとんど発生しな
いため、良好な加工面を歩留りよく得ることができる。
よれば、レーザービーム照射部分の底面が凹凸の無いな
めらかな面となり、表示面の透光性を損なわない加工を
行うことができる。レーザービームの照射中に、ピント
の変動と、照射部分の位置移動とを行うと、レーザービ
ーム照射部分の輪郭が陰として視認されにくい良好な加
工面を得ることができる。マスクとして虹彩絞りマスク
を用いた場合には、レーザービームの照射中にマスクの
開口径を連続的に変化させることにより、照射部分の輪
郭が陰として視認されにくい良好な加工面を得ることが
できる。また、修正時間が短縮されるので、コストの低
減が実現される。さらに、加工カスがほとんど発生しな
いため、良好な加工面を歩留りよく得ることができる。
【図１】本発明の表示装置の欠陥修正方法に用いられる
レーザービーム照射のための装置の一例を示す図であ
る。
レーザービーム照射のための装置の一例を示す図であ
る。
【図２】実施例１における透明板の修正加工後の断面図
である。
である。
【図３】実施例１の修正加工におけるタイミングチャー
トの一例である。
トの一例である。
【図４】実施例１の修正加工におけるタイミングチャー
トの他の例である。
トの他の例である。
【図５】レーザービームが照射された透明板において、
照射部分の輪郭が陰として視認される場合の例を示す模
式図である。
照射部分の輪郭が陰として視認される場合の例を示す模
式図である。
【図６】レーザービームが照射された透明板において、
照射部分の輪郭が陰として視認される場合の他の例を示
す模式図である。
照射部分の輪郭が陰として視認される場合の他の例を示
す模式図である。
【図７】本発明の表示装置の欠陥修正方法に用いられる
レーザービーム照射のための装置の一例を示す図であ
る。
レーザービーム照射のための装置の一例を示す図であ
る。
【図８】実施例２に用いた虹彩絞りマスクの平面図であ
る。
る。
【図９】実施例２に用いた虹彩絞りマスクの開口径を変
化させる手段を示す断面図である。
化させる手段を示す断面図である。
【図１０】実施例２の修正加工におけるタイミングチャ
ートである。
ートである。
【図１１】実施例２における透明板の修正加工後の断面
図である。
図である。
【図１２】ＡｒＦエキシマレーザーを用いた場合におけ
る透明板の修正加工後の断面図である。
る透明板の修正加工後の断面図である。
【図１３】ＫｒＦエキシマレーザーを用いた場合におけ
る透明板の修正加工後の断面図である。
る透明板の修正加工後の断面図である。
１ 透明板表面 ２ レーザービーム照射面 ３、４、４ａ、４ｂ 加工面 ５ エキシマレーザー発振器 ６ パターンマスク ７ 縮小レンズ ８ レーザービーム ９、１０ ステージ ６１ 虹彩絞りマスク
Claims (4)
- 【請求項１】 表示面が透明板からなる表示装置におい
て、該表示面上の欠陥部に、該欠陥部の形状に応じた開
口を有するマスクを使用して、ＡｒＦエキシマレーザー
ビームを照射して該欠陥部を除去する表示装置の欠陥修
正方法。 - 【請求項２】 前記ＡｒＦエキシマレーザービームの照
射中に、ピントを変動させると共に、照射部分の位置を
移動させる請求項１に記載の表示装置の欠陥修正方法。 - 【請求項３】 前記マスクが、前記欠陥部の形状よりも
大きい開口を有する虹彩絞りマスクである請求項１に記
載の表示装置の欠陥修正方法。 - 【請求項４】 前記ＡｒＦエキシマレーザービームの照
射中に、前記虹彩絞りマスクの開口径を連続的に変化さ
せる請求項３に記載の表示装置の欠陥修正方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5011191A JPH06130341A (ja) | 1992-09-01 | 1993-01-26 | 表示装置の欠陥修正方法 |
| US08/064,275 US5514850A (en) | 1992-06-30 | 1993-05-19 | Defect compensation method for smoothing a surface of a transparent plate with an ArF excimer laser beam |
| EP93303943A EP0577260B1 (en) | 1992-06-30 | 1993-05-20 | A defect compensation method for smoothing a surface of a transparent plate |
| DE69312814T DE69312814T2 (de) | 1992-06-30 | 1993-05-20 | Fehlerkompensationsverfahren zum Glätten einer Fläche einer durchsichtigen Platte |
| KR1019930009035A KR970005523B1 (ko) | 1992-06-30 | 1993-05-22 | 투명판 표면의 결함 수정 방법 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23395092 | 1992-09-01 | ||
| JP4-233950 | 1992-09-01 | ||
| JP5011191A JPH06130341A (ja) | 1992-09-01 | 1993-01-26 | 表示装置の欠陥修正方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06130341A true JPH06130341A (ja) | 1994-05-13 |
Family
ID=26346594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5011191A Withdrawn JPH06130341A (ja) | 1992-06-30 | 1993-01-26 | 表示装置の欠陥修正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06130341A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6097462A (en) * | 1996-08-22 | 2000-08-01 | Sony Corporation | Defect compensation method and apparatus for liquid crystal display apparatus |
-
1993
- 1993-01-26 JP JP5011191A patent/JPH06130341A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6097462A (en) * | 1996-08-22 | 2000-08-01 | Sony Corporation | Defect compensation method and apparatus for liquid crystal display apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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