JPH06120161A - ランプアニール装置 - Google Patents
ランプアニール装置Info
- Publication number
- JPH06120161A JPH06120161A JP29078092A JP29078092A JPH06120161A JP H06120161 A JPH06120161 A JP H06120161A JP 29078092 A JP29078092 A JP 29078092A JP 29078092 A JP29078092 A JP 29078092A JP H06120161 A JPH06120161 A JP H06120161A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating
- wafer
- lamp
- stages
- heating stages
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 ウエハを効率的にアニール処理することが可
能であると共に設備コストが高騰化することのないラン
プアニール装置を提供する。 【構成】 搬送用のロボット１を複数のアニール装置３
に対して兼用する構成とすることで、ウエハの搬送時間
がアニール処理時間に比較して短いことから、総処理時
間を短くすることができると共に搬送ロボットの可動効
率が向上する。また、加熱ステージ４を多段配置し、そ
の上下端及び各加熱ステージ間にヒートランプ５を設け
ることで、ヒートランプの数を少なくできると共に装置
全体を小さくすることができ、設備コスト及びスペース
効率が向上する。加えて、複数のウエハを順番に搬送
し、その搬送順に加熱、冷却するような制御を行うこと
で、搬送ロボットの稼働効率を一層向上することができ
ると共に１サイクルの処理が終了する前に次サイクルの
処理に移れることから、装置全体の稼働効率も向上す
る。
能であると共に設備コストが高騰化することのないラン
プアニール装置を提供する。 【構成】 搬送用のロボット１を複数のアニール装置３
に対して兼用する構成とすることで、ウエハの搬送時間
がアニール処理時間に比較して短いことから、総処理時
間を短くすることができると共に搬送ロボットの可動効
率が向上する。また、加熱ステージ４を多段配置し、そ
の上下端及び各加熱ステージ間にヒートランプ５を設け
ることで、ヒートランプの数を少なくできると共に装置
全体を小さくすることができ、設備コスト及びスペース
効率が向上する。加えて、複数のウエハを順番に搬送
し、その搬送順に加熱、冷却するような制御を行うこと
で、搬送ロボットの稼働効率を一層向上することができ
ると共に１サイクルの処理が終了する前に次サイクルの
処理に移れることから、装置全体の稼働効率も向上す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置に関し、
特に半導体ウエハをヒートランプにより加熱処理するた
めのランプアニール装置に関するものである。
特に半導体ウエハをヒートランプにより加熱処理するた
めのランプアニール装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、イオン注入装置などによりイ
オン注入されたウエハを加熱することにより、安定化す
るアニール処理が行われている。このようなアニール処
理に用いられる装置として、炉内に複数のウエハを入
れ、炉を昇温させることにより各ウエハを加熱するもの
があったが、炉による加熱は昇温及び降温時間が長くな
り、アニール処理の効率が低下しがちであることから、
加熱ステージ上にウエハを載置し、上下からハロゲンラ
ンプなどのヒートランプにより、ウエハを個々に急速加
熱するランプアニール装置が注目されている。このよう
なランプアニール装置によれば、炉による加熱装置に比
較して処理速度が向上する。
オン注入されたウエハを加熱することにより、安定化す
るアニール処理が行われている。このようなアニール処
理に用いられる装置として、炉内に複数のウエハを入
れ、炉を昇温させることにより各ウエハを加熱するもの
があったが、炉による加熱は昇温及び降温時間が長くな
り、アニール処理の効率が低下しがちであることから、
加熱ステージ上にウエハを載置し、上下からハロゲンラ
ンプなどのヒートランプにより、ウエハを個々に急速加
熱するランプアニール装置が注目されている。このよう
なランプアニール装置によれば、炉による加熱装置に比
較して処理速度が向上する。
【０００３】しかしながら、このようなランプアニール
装置では、加熱ステージの中央と縁部近傍とで加熱条件
が異なることが考えられることから、例えば大きな加熱
ステージを用いて同時に複数のウエハを加熱することが
できず、従来はウエハを１つずつ加熱していた。従っ
て、各ウエハ毎の処理時間は短くなるが、多数のウエハ
を処理する場合にはその総処理時間は余り短くすること
ができず、作業効率を改善することが困難であった。
装置では、加熱ステージの中央と縁部近傍とで加熱条件
が異なることが考えられることから、例えば大きな加熱
ステージを用いて同時に複数のウエハを加熱することが
できず、従来はウエハを１つずつ加熱していた。従っ
て、各ウエハ毎の処理時間は短くなるが、多数のウエハ
を処理する場合にはその総処理時間は余り短くすること
ができず、作業効率を改善することが困難であった。
【０００４】また、上記したようなランプアニール装置
を同時に複数使用して多数のウエハを短い時間でアニー
ル処理することが考えられるが、ウエハを収納するキャ
リヤから各ランプアニール装置に搬送する作業が厄介で
あるばかりでなく、ランプアニール装置に於けるヒート
ランプは、加熱ステージの上下に設けられていることか
ら、１つのウエハを加熱するのに２ヶ所にヒートランプ
を用いる必要があり、スペース効率が低下すると共に設
備コストが高騰化する心配があった。
を同時に複数使用して多数のウエハを短い時間でアニー
ル処理することが考えられるが、ウエハを収納するキャ
リヤから各ランプアニール装置に搬送する作業が厄介で
あるばかりでなく、ランプアニール装置に於けるヒート
ランプは、加熱ステージの上下に設けられていることか
ら、１つのウエハを加熱するのに２ヶ所にヒートランプ
を用いる必要があり、スペース効率が低下すると共に設
備コストが高騰化する心配があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記したよう
な従来技術の問題点に鑑みなされたものであり、その主
な目的は、ウエハを効率的にアニール処理することが可
能であると共に設備コストが高騰化することのないラン
プアニール装置を提供することにある。
な従来技術の問題点に鑑みなされたものであり、その主
な目的は、ウエハを効率的にアニール処理することが可
能であると共に設備コストが高騰化することのないラン
プアニール装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記した目的は本発明に
よれば、ウエハを搭載するための複数の加熱ステージ
と、前記加熱ステージに搭載されたウエハを加熱するた
めのヒートランプと、前記各加熱ステージと外部との間
でウエハを搬送可能な搬送ロボットとを有し、前記各加
熱ステージに前記搬送ロボットをもってウエハを搭載
し、同時に若しくは順番に加熱した後、前記搬送ロボッ
トをもって搬出することを特徴とするランプアニール装
置を提供することにより達成される。特に、前記アニー
ルユニットの前記各加熱ステージが、上下方向に多段配
置され、前記ヒートランプが、前記各加熱ステージ間に
配置されると共にその上下の前記加熱ステージを加熱可
能な複数のヒートランプからなると良い。
よれば、ウエハを搭載するための複数の加熱ステージ
と、前記加熱ステージに搭載されたウエハを加熱するた
めのヒートランプと、前記各加熱ステージと外部との間
でウエハを搬送可能な搬送ロボットとを有し、前記各加
熱ステージに前記搬送ロボットをもってウエハを搭載
し、同時に若しくは順番に加熱した後、前記搬送ロボッ
トをもって搬出することを特徴とするランプアニール装
置を提供することにより達成される。特に、前記アニー
ルユニットの前記各加熱ステージが、上下方向に多段配
置され、前記ヒートランプが、前記各加熱ステージ間に
配置されると共にその上下の前記加熱ステージを加熱可
能な複数のヒートランプからなると良い。
【０００７】
【作用】加熱時間などに比較して、各ウエハの搬送時間
は極めて短いことから、各ウエハを搬送するタイミング
を調整すれば、効率的に各ウエハを搬送し、加熱するこ
とができるためロボットの稼働効率を高めることができ
る。また、加熱ステージを多段配置し、その間及び上下
端にヒートランプを設けることにより、ヒートランプの
数を加熱ステージと略同じ程度にすることができる。
は極めて短いことから、各ウエハを搬送するタイミング
を調整すれば、効率的に各ウエハを搬送し、加熱するこ
とができるためロボットの稼働効率を高めることができ
る。また、加熱ステージを多段配置し、その間及び上下
端にヒートランプを設けることにより、ヒートランプの
数を加熱ステージと略同じ程度にすることができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の好適実施例を添付の図面につ
いて詳しく説明する。
いて詳しく説明する。
【０００９】図１は、本発明が適用されたランプアニー
ル装置の構成を示す模式的な斜視図であり、図２はその
平面図、図３は本実施例に於けるランプアニール装置の
タイムチャートである。
ル装置の構成を示す模式的な斜視図であり、図２はその
平面図、図３は本実施例に於けるランプアニール装置の
タイムチャートである。
【００１０】ウエハＷを搬送するための搬送ロボット１
は、軸回転型の多関節ロボットからなり、その可動範囲
には、ウエハＷを多数収納するキャリアＣを配置するた
めのポート２が設けられている。また、ロボット１を中
心とするポート２と略同一円周上のややポート２と離間
する位置には加熱ユニット３が設けられている。この加
熱ユニット３は、上下に多段配置された５つの加熱ステ
ージ４と、各加熱ステージ４の間及び上下端に配置され
たハロゲンランプからなる６つの環状ヒートランプ５と
から構成されている。ここで、各ヒートランプ５は保護
用の石英板６によりその上下を覆われている。
は、軸回転型の多関節ロボットからなり、その可動範囲
には、ウエハＷを多数収納するキャリアＣを配置するた
めのポート２が設けられている。また、ロボット１を中
心とするポート２と略同一円周上のややポート２と離間
する位置には加熱ユニット３が設けられている。この加
熱ユニット３は、上下に多段配置された５つの加熱ステ
ージ４と、各加熱ステージ４の間及び上下端に配置され
たハロゲンランプからなる６つの環状ヒートランプ５と
から構成されている。ここで、各ヒートランプ５は保護
用の石英板６によりその上下を覆われている。
【００１１】また、ロボット１を中心とする上記ポート
２と同一円周上に於ける加熱ユニット３とやや離間する
位置には、加熱ステージ４と同数の冷却ステージ７が多
段配置されている。
２と同一円周上に於ける加熱ユニット３とやや離間する
位置には、加熱ステージ４と同数の冷却ステージ７が多
段配置されている。
【００１２】尚、本実施例に於ては、アニール処理前の
ウエハＷを収納するキャリアＣとアニール処理後のウエ
ハＷを収納するキャリアとに同一のキャリアを用いてい
ると共に搬入ポートと搬出ポートとを兼用しているが、
別々のキャリアを用いて別々のポートにて搬入／搬出を
行っても良い。
ウエハＷを収納するキャリアＣとアニール処理後のウエ
ハＷを収納するキャリアとに同一のキャリアを用いてい
ると共に搬入ポートと搬出ポートとを兼用しているが、
別々のキャリアを用いて別々のポートにて搬入／搬出を
行っても良い。
【００１３】次に、本実施例の作動要領について説明す
る。まず、キャリアＣに収納されたウエハＷ（Ｎｏ．１
〜Ｎｏ．５）を順番に搬送ロボット１により各加熱ステ
ージ４に搭載し、ヒートランプ５を点灯して全てのウエ
ハＷに対して行う。そして、再びロボット１により各冷
却ステージ７にウエハＷを搬送し、所定時間冷却させた
後、再びキャリアＣに各ウエハＷを収納する。このと
き、図３に示すように、加熱ステージ４からウエハＷを
順番に搬送する際にも、先に搬送されたウエハＷは徐々
に冷却されていることから、全てのウエハＷを冷却ステ
ージに搬送しつつ、若しくは搬送後すぐ、所定時間経過
後に次の作業、即ち冷却ステージ７からキャリアＣにウ
エハＷを搬送する作業に移ることができる。従って、総
処理時間を短くすることができると共に搬送ロボット１
の稼働効率を向上することが可能となる。また、本実施
例の加熱ユニット３の構成によれば、ヒートランプ５を
その上下の加熱ステージ４上のウエハＷの加熱に用いる
ことができることから、ヒートランプの数を加熱ステー
ジの数＋２と少なくすることができ、また占有スペース
も小さくすることができる。
る。まず、キャリアＣに収納されたウエハＷ（Ｎｏ．１
〜Ｎｏ．５）を順番に搬送ロボット１により各加熱ステ
ージ４に搭載し、ヒートランプ５を点灯して全てのウエ
ハＷに対して行う。そして、再びロボット１により各冷
却ステージ７にウエハＷを搬送し、所定時間冷却させた
後、再びキャリアＣに各ウエハＷを収納する。このと
き、図３に示すように、加熱ステージ４からウエハＷを
順番に搬送する際にも、先に搬送されたウエハＷは徐々
に冷却されていることから、全てのウエハＷを冷却ステ
ージに搬送しつつ、若しくは搬送後すぐ、所定時間経過
後に次の作業、即ち冷却ステージ７からキャリアＣにウ
エハＷを搬送する作業に移ることができる。従って、総
処理時間を短くすることができると共に搬送ロボット１
の稼働効率を向上することが可能となる。また、本実施
例の加熱ユニット３の構成によれば、ヒートランプ５を
その上下の加熱ステージ４上のウエハＷの加熱に用いる
ことができることから、ヒートランプの数を加熱ステー
ジの数＋２と少なくすることができ、また占有スペース
も小さくすることができる。
【００１４】尚、上記本実施例では全てのウエハＷを同
時に加熱したが、搬送した順に加熱するようにすれば、
図４に示すタイムチャートにより明らかなように、総処
理時間を短くすることができると共に搬送ロボット１の
可動効率を一層向上することが可能となる。
時に加熱したが、搬送した順に加熱するようにすれば、
図４に示すタイムチャートにより明らかなように、総処
理時間を短くすることができると共に搬送ロボット１の
可動効率を一層向上することが可能となる。
【００１５】
【発明の効果】上記した説明により明らかなように、本
発明によるランプアニール装置によれば、搬送用のロボ
ットを複数のアニール装置に対して兼用する構成とする
ことで、ウエハの搬送時間がアニール処理時間に比較し
て短いことから、総処理時間を短くすることができると
共に搬送ロボットの可動効率が向上する。また、加熱ス
テージを多段配置し、その上下端及び各加熱ステージ間
にヒートランプを設けるようにすることで、ヒートラン
プの数を少なくすることができると共に装置全体のスペ
ースを小さくすることができ、設備コスト及びスペース
効率が向上する。加えて、複数のウエハを順番に搬送
し、その搬送順に加熱し、冷却するような制御を行うこ
とで、搬送ロボットの稼働効率を一層向上することがで
きると共に１サイクルの処理が終了する前に次サイクル
の処理に移れることから、装置全体の稼働効率も向上す
る。以上のことから本発明の効果は極めて大である。
発明によるランプアニール装置によれば、搬送用のロボ
ットを複数のアニール装置に対して兼用する構成とする
ことで、ウエハの搬送時間がアニール処理時間に比較し
て短いことから、総処理時間を短くすることができると
共に搬送ロボットの可動効率が向上する。また、加熱ス
テージを多段配置し、その上下端及び各加熱ステージ間
にヒートランプを設けるようにすることで、ヒートラン
プの数を少なくすることができると共に装置全体のスペ
ースを小さくすることができ、設備コスト及びスペース
効率が向上する。加えて、複数のウエハを順番に搬送
し、その搬送順に加熱し、冷却するような制御を行うこ
とで、搬送ロボットの稼働効率を一層向上することがで
きると共に１サイクルの処理が終了する前に次サイクル
の処理に移れることから、装置全体の稼働効率も向上す
る。以上のことから本発明の効果は極めて大である。
【図１】本発明が適用された好適実施例の要部構成斜視
図である。
図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】図１の構成のランプアニール装置の作動要領を
示すタイムチャートである。
示すタイムチャートである。
【図４】図３に示す実施例の変形実施例を示すタイムチ
ャートである。
ャートである。
１ 搬送ロボット ２ ポート ３ 加熱ユニット ４ 加熱ステージ ５ ヒートランプ ６ 石英板 ７ 冷却ステージ Ｃ キャリア Ｗ ウエハ
Claims (3)
- 【請求項１】 ウエハを搭載するための複数の加熱ス
テージと、 前記加熱ステージに搭載されたウエハを加熱するための
ヒートランプと、 前記各加熱ステージと外部との間でウエハを搬送可能な
搬送ロボットとを有し、 前記各加熱ステージに前記搬送ロボットをもってウエハ
を搭載し、同時に若しくは順番に加熱した後、前記搬送
ロボットをもって搬出することを特徴とするランプアニ
ール装置。 - 【請求項２】 前記アニールユニットの前記各加熱ス
テージが、上下方向に多段配置され、 前記ヒートランプが、前記各加熱ステージ間に配置され
ると共にその上下の前記加熱ステージを加熱可能な複数
のヒートランプからなることを特徴とする請求項１に記
載のランプアニール装置。 - 【請求項３】 前記搬送ロボットが、軸回転型のロボ
ットからなることを特徴とする請求項１若しくは請求項
２に記載のランプアニール装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29078092A JPH06120161A (ja) | 1992-10-05 | 1992-10-05 | ランプアニール装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29078092A JPH06120161A (ja) | 1992-10-05 | 1992-10-05 | ランプアニール装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06120161A true JPH06120161A (ja) | 1994-04-28 |
Family
ID=17760418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29078092A Withdrawn JPH06120161A (ja) | 1992-10-05 | 1992-10-05 | ランプアニール装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06120161A (ja) |
-
1992
- 1992-10-05 JP JP29078092A patent/JPH06120161A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2969034B2 (ja) | 搬送方法および搬送装置 | |
| US7371998B2 (en) | Thermal wafer processor | |
| EP1345256A3 (en) | Method and apparatus for batch processing of wafers in a furnace | |
| KR100535714B1 (ko) | 기판처리장치 | |
| JPH0729963A (ja) | 半導体製造装置 | |
| CN111048444A (zh) | 加热板冷却方法和基板处理装置及方法 | |
| JPS61198735A (ja) | フラツシユランプアニ−ル装置 | |
| JP3869499B2 (ja) | 基板処理方法 | |
| JPH06120161A (ja) | ランプアニール装置 | |
| JP3320753B2 (ja) | マルチチャンバ型真空処理装置 | |
| JPH10270307A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2929260B2 (ja) | 塗布膜形成方法及びその装置 | |
| JPH1022189A (ja) | 基板熱処理装置 | |
| JP3468651B2 (ja) | 基板熱処理装置 | |
| JP2662982B2 (ja) | 加熱装置 | |
| JP3246890B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| JP2020145329A (ja) | 基板収容装置 | |
| JP3688098B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH04278561A (ja) | 処理装置 | |
| JPH09148238A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP3340956B2 (ja) | 塗布現像処理装置 | |
| JP2600206B2 (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| KR0161872B1 (ko) | 에스오지 건조용 가열로 | |
| JP3266843B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| JP2000161858A (ja) | ガラス基板の熱処理方法および熱処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000104 |