JP2600206B2 - 縦型熱処理装置 - Google Patents
縦型熱処理装置Info
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- JP2600206B2 JP2600206B2 JP62261435A JP26143587A JP2600206B2 JP 2600206 B2 JP2600206 B2 JP 2600206B2 JP 62261435 A JP62261435 A JP 62261435A JP 26143587 A JP26143587 A JP 26143587A JP 2600206 B2 JP2600206 B2 JP 2600206B2
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- Japan
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- heat treatment
- wafer
- vertical heat
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、縦型熱処理装置に関する。
本発明では、被熱処理物を支持するために用いる縦型
熱処理装置用ボートにおいて、この縦型熱処理装置用ボ
ートが複数のボートにより構成され、これによって縦型
熱処理装置の高さを小さくすることができる。
熱処理装置用ボートにおいて、この縦型熱処理装置用ボ
ートが複数のボートにより構成され、これによって縦型
熱処理装置の高さを小さくすることができる。
近年、半導体製造装置として、縦型拡散炉や縦型低圧
CVD装置（LPCVD装置）が用いられるようになった。これ
らの縦型拡散炉及び縦型LPCVD装置は、半導体ウエハの
出し入れを炉口の上側から行う下部ヒータ方式と、半導
体ウエハの出し入れを炉口の下側から行う上部ヒータ方
式とに大別される。
CVD装置（LPCVD装置）が用いられるようになった。これ
らの縦型拡散炉及び縦型LPCVD装置は、半導体ウエハの
出し入れを炉口の上側から行う下部ヒータ方式と、半導
体ウエハの出し入れを炉口の下側から行う上部ヒータ方
式とに大別される。
第６図は、従来の上部ヒータ方式の縦型熱処理装置を
示す。この第６図に示すように、従来の上部ヒータ方式
の縦型熱処理装置は、ヒータ11によって加熱された石英
管12の中に、下側から、多数の半導体ウエハ13が支持さ
れたウエハボート14を上記石英管12の蓋15とともにボー
ト搬送機構16によって上昇させることにより収容し、不
純物拡散、CVD等を行うようになっている。上記蓋15
は、上記ボート搬送機構16の軸16aの回りに回転可能か
つこの軸16aに沿って昇降可能に設けられているボート
搬送板16bの上に載置されている。
示す。この第６図に示すように、従来の上部ヒータ方式
の縦型熱処理装置は、ヒータ11によって加熱された石英
管12の中に、下側から、多数の半導体ウエハ13が支持さ
れたウエハボート14を上記石英管12の蓋15とともにボー
ト搬送機構16によって上昇させることにより収容し、不
純物拡散、CVD等を行うようになっている。上記蓋15
は、上記ボート搬送機構16の軸16aの回りに回転可能か
つこの軸16aに沿って昇降可能に設けられているボート
搬送板16bの上に載置されている。
上述の従来の上部ヒータ方式の縦型熱処理装置は、半
導体ウエハ13のローディング／アンローディングのため
の高さ方向のスペースを少なくともウエハボート長以上
取らなければならないので、装置全体の高さは最低でも
ヒータ長＋ウエハボート長となり、例えば2.5〜3mと高
くなってしまうという問題があった。この問題は、下部
ヒータ方式の縦型熱処理装置でも同様である。
導体ウエハ13のローディング／アンローディングのため
の高さ方向のスペースを少なくともウエハボート長以上
取らなければならないので、装置全体の高さは最低でも
ヒータ長＋ウエハボート長となり、例えば2.5〜3mと高
くなってしまうという問題があった。この問題は、下部
ヒータ方式の縦型熱処理装置でも同様である。
従って本発明の目的は、その高さを小さくすることが
できる縦型熱処理装置を提供することにある。
できる縦型熱処理装置を提供することにある。
本発明は、被熱処理物を熱処理するための熱処理管
と、熱処理管を加熱するための加熱手段と、熱処理管に
対するボートの搬入及び搬出を熱処理管の下側の管口か
ら行うためのボート搬入及び搬出手段とを有する縦型熱
処理装置において、ボート搬入及び搬出手段はボート搬
送機構と補助アーム機構とを有し、補助アーム機構は、
フレームとこのフレームに対して水平方向に移動可能か
つ上下方向に昇降可能に設けられている補助アームとか
らなり、ボートとして複数のボートにより構成されるも
のを用いるようにしている。
と、熱処理管を加熱するための加熱手段と、熱処理管に
対するボートの搬入及び搬出を熱処理管の下側の管口か
ら行うためのボート搬入及び搬出手段とを有する縦型熱
処理装置において、ボート搬入及び搬出手段はボート搬
送機構と補助アーム機構とを有し、補助アーム機構は、
フレームとこのフレームに対して水平方向に移動可能か
つ上下方向に昇降可能に設けられている補助アームとか
らなり、ボートとして複数のボートにより構成されるも
のを用いるようにしている。
上記した手段によれば、被熱処理物のローディング／
アンローディングのための高さ方向のスペースとして
は、複数のボートを構成する各ボートのローディング／
アンローディングに必要なスペースを取ればよいので、
被熱処理物のローディング／アンローディングのための
高さ方向のスペースを小さくすることができ、従って縦
型熱処理装置の高さを小さくすることができる。
アンローディングのための高さ方向のスペースとして
は、複数のボートを構成する各ボートのローディング／
アンローディングに必要なスペースを取ればよいので、
被熱処理物のローディング／アンローディングのための
高さ方向のスペースを小さくすることができ、従って縦
型熱処理装置の高さを小さくすることができる。
以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明
する。
する。
第１図は、本発明の一実施例によるウエハボートを用
いた上部ヒータ方式の縦型熱処理装置を示す断面図であ
り、第２図は、本発明の一実施例によるウエハボートを
示す斜視図である。
いた上部ヒータ方式の縦型熱処理装置を示す断面図であ
り、第２図は、本発明の一実施例によるウエハボートを
示す斜視図である。
第１図に示すように、本実施例による縦型熱処理装置
は、石英管１と、ヒータ２と、石英管１のための例えば
スレンレス鋼板の蓋３と、ボート搬送機構４と、補助ア
ーム機構５とにより主として構成されている。
は、石英管１と、ヒータ２と、石英管１のための例えば
スレンレス鋼板の蓋３と、ボート搬送機構４と、補助ア
ーム機構５とにより主として構成されている。
上記蓋３の上には例えば石英製の台６が取り付けられ
ている。そして、この台６の上に、半導体ウエハ７が支
持された例えば石英製のウエハボート８が複数個（本実
施例においては６個）積み重ねられている。このように
台６の上にこれらのウエハボート８を載せたのは、これ
らのウエハボート８をヒータ２の均熱域に入れるためで
ある。これらのウエハボート８の全長は、例えば、従来
用いられている単一の長いウエハボートの全長と同程度
である。また、これらのウエハボート８のうち上下の２
個のウエハボートは、ダミーの半導体ウエハ７を収納す
るためのものであり、その他のウエハボート８は、製品
の半導体ウエハ７を収納するためのものである。なお、
このようにダミーの半導体ウエハ７を設けるのは、石英
管１内に配列される半導体ウエハ７のうち両端の半導体
ウエハは、熱放射の影響で温度が不均一となること等に
より、不純物拡散やCVDが均一に行われないためであ
る。製品の半導体ウエハ７を収納するためのウエハボー
ト８は、半導体製造ラインでは通常１キャリア25枚単位
で取り扱われるので、半導体ウエハ７を例えば25枚収納
することができる長さとする。また、ダミーの半導体ウ
エハ７を収納するためのウエハボート８は、例えば10枚
程度の半導体ウエハを収納することができる長さとす
る。
ている。そして、この台６の上に、半導体ウエハ７が支
持された例えば石英製のウエハボート８が複数個（本実
施例においては６個）積み重ねられている。このように
台６の上にこれらのウエハボート８を載せたのは、これ
らのウエハボート８をヒータ２の均熱域に入れるためで
ある。これらのウエハボート８の全長は、例えば、従来
用いられている単一の長いウエハボートの全長と同程度
である。また、これらのウエハボート８のうち上下の２
個のウエハボートは、ダミーの半導体ウエハ７を収納す
るためのものであり、その他のウエハボート８は、製品
の半導体ウエハ７を収納するためのものである。なお、
このようにダミーの半導体ウエハ７を設けるのは、石英
管１内に配列される半導体ウエハ７のうち両端の半導体
ウエハは、熱放射の影響で温度が不均一となること等に
より、不純物拡散やCVDが均一に行われないためであ
る。製品の半導体ウエハ７を収納するためのウエハボー
ト８は、半導体製造ラインでは通常１キャリア25枚単位
で取り扱われるので、半導体ウエハ７を例えば25枚収納
することができる長さとする。また、ダミーの半導体ウ
エハ７を収納するためのウエハボート８は、例えば10枚
程度の半導体ウエハを収納することができる長さとす
る。
第２図に示すように、上記ウエハボート８は、例えば
４本の支持棒8aと、これらの支持棒8aを連結するための
連結棒8bとから成る。各支持棒8aの一端部（下端部）8c
はその他の部分に比べて径が大きくなっており、この一
端部8cにこの支持棒8aの径よりも少し大きい径の穴8dが
設けられている。そして、これらの穴8dを他のウエハボ
ートの支持棒の先端にはめることにより、第１図に示す
ようにウエハボート８を積み重ねることができるように
なっている。また、各支持棒8aには、半導体ウエハ８を
収容するための溝8eが設けられている。
４本の支持棒8aと、これらの支持棒8aを連結するための
連結棒8bとから成る。各支持棒8aの一端部（下端部）8c
はその他の部分に比べて径が大きくなっており、この一
端部8cにこの支持棒8aの径よりも少し大きい径の穴8dが
設けられている。そして、これらの穴8dを他のウエハボ
ートの支持棒の先端にはめることにより、第１図に示す
ようにウエハボート８を積み重ねることができるように
なっている。また、各支持棒8aには、半導体ウエハ８を
収容するための溝8eが設けられている。
第１図に示すように、上記蓋３は、ボート搬送機構４
の軸4aの周りに回転可能かつこの軸4aに沿って昇降可能
に設けられているボート搬送板4bの上に載置されてい
る。また、補助アーム機構５の補助アーム5aは、フレー
ム5bに対して水平方向に移動可能かつ上下方向に昇降可
能に設けられている。
の軸4aの周りに回転可能かつこの軸4aに沿って昇降可能
に設けられているボート搬送板4bの上に載置されてい
る。また、補助アーム機構５の補助アーム5aは、フレー
ム5bに対して水平方向に移動可能かつ上下方向に昇降可
能に設けられている。
次に、上述のように構成された本実施例による縦型熱
処理装置に半導体ウエハ７をローディングする方法につ
いて説明する。
処理装置に半導体ウエハ７をローディングする方法につ
いて説明する。
第３図に示すように、まずボート搬送板4bを石英管１
から十分に離れた位置に下降及び回転させ、その位置で
台６の上に１番目のウエハボート８を図示省略したロー
ディング機構により載置した後、このボート搬送板4bを
軸4aの回りに回転させてこのウエハボート８を石英管１
の真下に位置させる。なお、ボート搬送板4bを石英管１
の真下に位置させた状態で台６の上にウエハボート８を
直接載置するようにしてもよい。
から十分に離れた位置に下降及び回転させ、その位置で
台６の上に１番目のウエハボート８を図示省略したロー
ディング機構により載置した後、このボート搬送板4bを
軸4aの回りに回転させてこのウエハボート８を石英管１
の真下に位置させる。なお、ボート搬送板4bを石英管１
の真下に位置させた状態で台６の上にウエハボート８を
直接載置するようにしてもよい。
次に第４図に示すように、補助アーム機構５の補助ア
ーム5aを上記ウエハボート８側に移動させてその先端部
をこのウエハボート８の下方に差し込んだ後、この補助
アーム5aを上昇させてウエハボート８を持ち上げる。次
に、この状態で１番目のウエハボート８と同様にして２
番目のウエハボート８を石英管１から離れた位置で台６
の上に載置した後、ボート搬送板4bを回転させてこの２
番目のウエハボート８を１番目のウエハボート８の真下
に位置させる。
ーム5aを上記ウエハボート８側に移動させてその先端部
をこのウエハボート８の下方に差し込んだ後、この補助
アーム5aを上昇させてウエハボート８を持ち上げる。次
に、この状態で１番目のウエハボート８と同様にして２
番目のウエハボート８を石英管１から離れた位置で台６
の上に載置した後、ボート搬送板4bを回転させてこの２
番目のウエハボート８を１番目のウエハボート８の真下
に位置させる。
次に、補助アーム5aを下降させることにより、第５図
に示すように、この補助アーム5aにより持ち上げられて
いる１番目のウエハボート８を２番目のウエハボート８
の上に積み重ねる。その後、補助アーム5aをウエハボー
ト８と反対側に移動させて最初の位置に戻す。
に示すように、この補助アーム5aにより持ち上げられて
いる１番目のウエハボート８を２番目のウエハボート８
の上に積み重ねる。その後、補助アーム5aをウエハボー
ト８と反対側に移動させて最初の位置に戻す。
このように、台６の上に載置したウエハボート８を補
助アーム5aにより持ち上げては次のウエハボート８を台
６の上に載置するという一連の動作を繰り返すことによ
り全てのウエハボート８を積み重ねた後、ボート搬送板
4bを蓋３が石英管１の下部に当たるまで上昇させる。こ
れによって、第１図に示すように、全てのウエハボート
８が石英管１の中に収納される。その後、不純物拡散、
CVD等を行う。
助アーム5aにより持ち上げては次のウエハボート８を台
６の上に載置するという一連の動作を繰り返すことによ
り全てのウエハボート８を積み重ねた後、ボート搬送板
4bを蓋３が石英管１の下部に当たるまで上昇させる。こ
れによって、第１図に示すように、全てのウエハボート
８が石英管１の中に収納される。その後、不純物拡散、
CVD等を行う。
半導体ウエハ７のアンローディングは、上述のローデ
ィングと逆の手順で行うことができる。すなわち、積み
重ねられたウエハボート８を下から順次アンローディン
グすればよい。
ィングと逆の手順で行うことができる。すなわち、積み
重ねられたウエハボート８を下から順次アンローディン
グすればよい。
上述のように、本実施例によれば、ウエハボートがボ
ート長の小さい複数のウエハボート８により構成されて
いるので、半導体ウエハ７のローディング／アンローデ
ィングのために必要な高さ方向のスペースは各ウエハボ
ート８のローディング／アンローディングに必要なスペ
ースだけでよい。従って、縦型熱処理装置全体の高さ
を、従来の一体型のウエハボートを用いた縦型熱処理装
置に比べて極めて小さくすることができる。
ート長の小さい複数のウエハボート８により構成されて
いるので、半導体ウエハ７のローディング／アンローデ
ィングのために必要な高さ方向のスペースは各ウエハボ
ート８のローディング／アンローディングに必要なスペ
ースだけでよい。従って、縦型熱処理装置全体の高さ
を、従来の一体型のウエハボートを用いた縦型熱処理装
置に比べて極めて小さくすることができる。
以上、本発明の実施例につき具体的に説明したが、本
発明は、上述の実施例に限定されるものではなく、本発
明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
発明は、上述の実施例に限定されるものではなく、本発
明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
例えば、ウエハボート８の個数は必要に応じて適宜選
定することができる。また、上述の実施例においては、
半導体ウエハ７を収納するためのウエハボート８につい
て説明したが、本発明は半導体ウエハ以外の被熱処理物
を収納する各種のボートに適用することができる。
定することができる。また、上述の実施例においては、
半導体ウエハ７を収納するためのウエハボート８につい
て説明したが、本発明は半導体ウエハ以外の被熱処理物
を収納する各種のボートに適用することができる。
本発明によれば、ボート搬入及び搬出手段はボート搬
送機構と補助アーム機構とを有し、補助アーム機構は、
フレームとこのフレームに対して水平方向に移動可能か
つ上下方向に昇降可能に設けられている補助アームとか
らなり、ボートとして複数のボートにより構成されるも
のを用いるようにしているので、被熱処理物のローディ
ング／アンローディングのための高さ方向のスペースを
小さくすることでき、従って縦型熱処理装置の高さを小
さくすることができる。
送機構と補助アーム機構とを有し、補助アーム機構は、
フレームとこのフレームに対して水平方向に移動可能か
つ上下方向に昇降可能に設けられている補助アームとか
らなり、ボートとして複数のボートにより構成されるも
のを用いるようにしているので、被熱処理物のローディ
ング／アンローディングのための高さ方向のスペースを
小さくすることでき、従って縦型熱処理装置の高さを小
さくすることができる。
第１図は本発明の一実施例によるウエハボートを用いた
上部ヒータ方式の縦型熱処理装置を示す断面図、第２図
は本発明の一実施例によるウエハボートを示す斜視図、
第３図〜第５図は第１図に示す縦型熱処理装置に半導体
ウエハをローディングする方法を説明するための断面
図、第６図は従来のウエハボートを用いた上部ヒータ方
式の縦型熱処理装置を示す断面図である。 図面における主要な符号の説明 1:石英管、2:ヒータ、4:ボート搬送機構、5:補助アーム
機構、7:半導体ウエハ（被熱処理物）、8:ウエハボー
ト。
上部ヒータ方式の縦型熱処理装置を示す断面図、第２図
は本発明の一実施例によるウエハボートを示す斜視図、
第３図〜第５図は第１図に示す縦型熱処理装置に半導体
ウエハをローディングする方法を説明するための断面
図、第６図は従来のウエハボートを用いた上部ヒータ方
式の縦型熱処理装置を示す断面図である。 図面における主要な符号の説明 1:石英管、2:ヒータ、4:ボート搬送機構、5:補助アーム
機構、7:半導体ウエハ（被熱処理物）、8:ウエハボー
ト。
Claims (1)
- 【請求項１】被熱処理物を熱処理するための熱処理管
と、 上記熱処理管を加熱するための加熱手段と、 上記熱処理管に対するボートの搬入及び搬出を上記熱処
理管の下側の管口から行うためのボート搬入及び搬出手
段とを有する縦型熱処理装置において、 上記ボート搬入及び搬出手段はボート搬送機構と補助ア
ーム機構とを有し、 上記補助アーム機構は、フレームとこのフレームに対し
て水平方向に移動可能かつ上下方向に昇降可能に設けら
れている補助アームとからなり、 上記ボートとして複数のボートにより構成されるものを
用いるようにした ことを特徴とする縦型熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62261435A JP2600206B2 (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 縦型熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62261435A JP2600206B2 (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 縦型熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01103833A JPH01103833A (ja) | 1989-04-20 |
| JP2600206B2 true JP2600206B2 (ja) | 1997-04-16 |
Family
ID=17361846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62261435A Expired - Fee Related JP2600206B2 (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 縦型熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2600206B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02167216A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-06-27 | Kao Corp | 入浴剤 |
| US20050188923A1 (en) * | 1997-08-11 | 2005-09-01 | Cook Robert C. | Substrate carrier for parallel wafer processing reactor |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60249335A (ja) * | 1984-05-24 | 1985-12-10 | Fujitsu Ltd | 縦型加熱炉 |
| JPS6112025A (ja) * | 1984-06-27 | 1986-01-20 | Fujitsu Ltd | 縦型加熱炉 |
| JPS63161610A (ja) * | 1986-12-25 | 1988-07-05 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ウエ−ハボ−ト |
-
1987
- 1987-10-16 JP JP62261435A patent/JP2600206B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01103833A (ja) | 1989-04-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |