JPH06120122A - X線リソグラフィ装置 - Google Patents

X線リソグラフィ装置

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Publication number
JPH06120122A
JPH06120122A JP4270205A JP27020592A JPH06120122A JP H06120122 A JPH06120122 A JP H06120122A JP 4270205 A JP4270205 A JP 4270205A JP 27020592 A JP27020592 A JP 27020592A JP H06120122 A JPH06120122 A JP H06120122A
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JP
Japan
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window
sor
ray
light
swing
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Application number
JP4270205A
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English (en)
Inventor
Kenji Igarashi
健二 五十嵐
Kazuyuki Furuse
一幸 古瀬
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP4270205A priority Critical patent/JPH06120122A/ja
Publication of JPH06120122A publication Critical patent/JPH06120122A/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、X線ミラーの揺動にともなうSOR
光の走査に対して、完全に一致した同期をとるよう補正
制御をなし、外乱の影響を抑制して露光むらの低減を図
り、補正信頼性の向上を得られるX線リソグラフィ装置
を提供する。 【構成】SORリング1と、ビームライン2と、X線ミ
ラー3と、Be窓4と、露光装置5とを具備し、X線ミ
ラーの揺動に同期して、上記Be窓を揺動駆動するBe
窓駆動機構10を備え、Be窓に、Be窓と一体に揺動
しながら、Be窓に導かれるSOR光をリアルタイムで
検出する複数の検出器11a…を備え、送られるSOR
光検出信号に基づいた制御信号をフィードバックして、
SOR光の走査と同期した揺動補正を行わせる制御回路
7を具備した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、SOR(シンクロトロ
ン放射)光を用いてパターン転写をなすX線リソグラフ
ィ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】SOR(シンクロトロン放射)光は、光
速に近い速さをもった電子(一般には荷電粒子)が円軌
道のような加速度を受ける運動を行う際に放出する電磁
波である。
【0003】このようなSOR光は、はじめ、原子核実
験用のシンクロトロンにおいて観測された。その後、電
子を数時間安定に周回させることができる電子蓄積リン
グが作られて、物性実験用の極端紫外線や軟X線領域の
光源として利用されている。そして、近時、X線リソグ
ラフィ装置の線源としても注目されるようになってい
る。
【0004】この種の装置は、SORリングからSOR
光を超高真空のビームラインに取出し、SOR光から短
波長のX線成分をX線ミラーが除去して反射し、ビーム
ライン側の超高真空領域と露光装置側の大気圧領域ない
し減圧雰囲気とを区分してX線を取出し、露光させるX
線透過膜であるBe(ベリリウム)窓とからなる。
【0005】上記ビームラインにおけるX線は、軌道面
に対して垂直方向に指向性が高く、露光に用いるには、
露光面積拡大のため、垂直方向に拡大する必要があり、
それには、上記X線ミラーを垂直方向に揺動して、SO
R光ビームを走査する手段が多く採用されている。
【0006】なお説明すれば、SORリングから露光装
置までの距離を10mとした場合において、取出された
SOR光は上下方向に5mm程度のスリット状にしかなら
ないので、広い面積を露光するのに、機構的に簡素です
む、上記X線ミラーの揺動が行われる。
【0007】一方、上記Be窓を構成するBe材は、X
線の透過率が高いために一般的に使われる素材であり、
スループットを上げるために、膜厚を薄くすることで対
処されている。しかるにその反面、膜厚を薄くすると、
強度的に低下することが避けられない。
【0008】上記Be窓を固定とする限り、X線ミラー
の揺動にともなう全露光面積を確保するような大きな面
積が必要となり、その強度保持のため膜厚を厚くせざる
を得ないし、スループットに悪影響があるので、Be窓
の膜厚を薄くしても、所定の強度が得られるような補強
をなす工夫が、従来よりなされている。
【0009】たとえば、特開平2−184799号公報
には、Be窓を取付けたビームラインを、X線ミラーの
揺動に同期して揺動させる技術が開示されている。この
場合、Be窓の有効面積を露光面積をより小さくでき
て、Be窓の膜厚をより薄くできることとなる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】この種の装置において
は、X線ミラーの揺動機構と、Be窓の揺動機構とを機
械的に連結して、これらX線ミラーとBe窓の揺動運動
を同期させる。もしくは、X線ミラーの揺動機構と、B
e窓の揺動機構とを、それぞれ独立して備え、それぞれ
1つの制御装置からの信号を受けて作動する。
【0011】しかるに、前者の構成では、ビームライン
は必要最低限の全長がかなり長く、しかもX線ミラーは
SORリング建屋の遮蔽壁の内部に配置され、Be窓は
上記SORリング建屋の遮蔽壁の外部に配置されるの
で、互いの揺動機構を機械的に連結することは、コスト
的に膨大なものとなり、かつ精度の保持の上で悪影響が
ある。
【0012】後者の構成では、それぞれの揺動源とし
て、サーボモータを使用し、エンコーダ、タコジェネレ
ータを備えることとなる。しかるに、Be窓は制御装置
からの指令に対して、いかに精度よく駆動されるかが問
題ではなく、SOR光に対して一致する(同期する)よ
うに揺動されなければならず、その間の、外乱を含む誤
差をキャンセルすることができない。
【0013】そしてまた、Be窓を揺動する機構を備え
た装置であっても、Be窓は真空フランジの保持部に接
合もしくは接着等の手段によって、取付け固定されてい
ることは、Be窓を固定した装置と変わりがない。
【0014】これに対して、X線ミラーで反射されたS
OR光ビームは、先に述べたように垂直方向には僅かの
寸法でしかないが、水平方向には充分な幅をもって形成
される。
【0015】したがって、このSOR光ビームの両側端
部が、Be窓の真空フランジの保持部に当り、その結
果、保持部が熱をもったり、化学的に変質し、あるいは
耐機械的強度が低下し、耐リーク性低下の恐れがある。
【0016】逆に、SOR光ビームの両側端部にかから
ない程度の、充分に余裕をもった大きな面積の真空フラ
ンジを備えて、ビームが保持部に掛からないようにする
ことも考えられるが、今度は、Be窓寸法が過大になっ
て、この機械強度を保持するために膜厚を厚くしなけれ
ばならない。
【0017】一方、上記ビームライン最終端と露光装置
との間である、ビームラインの超高真空領域と露光装置
の露光雰囲気との間に、He(ヘリウム)ガス雰囲気を
形成したHeチャンバを介在するX線リソグラフィ装置
がある。
【0018】このHeチャンバ内に上記Be窓が、べロ
ーズなど可撓部材を介して収容される。Heチャンバ外
部には揺動源が配置されていて、上記Be窓と機械的に
連結される。揺動源は、Heチャンバ外部から上記X線
ミラーに同期して、Be窓を揺動駆動する。
【0019】上記揺動源は、たとえば偏心カムを備えて
いて、ここに揺動アームが連結され、Heチャンバ内に
突出させて、Be窓に連結する構成である。上記揺動ア
ームのチャンバ内突出部にはベローズが設けられ、アー
ムの上下動にともなって伸縮する。すなわち、チャンバ
のガスリークを阻止して、アームの揺動を可能としてい
る。
【0020】しかるに、このような構成では、上記揺動
アームのHeチャンバ貫通箇所およびべローズの位置
が、ともに、Heチャンバの一側部であり、Be窓の揺
動駆動にともない、Heチャンバ内部に体積変化が生
じ、ガス圧力が変化し易い。さらに、上記Be窓を保持
する真空フランジは、その周面が角張っており、揺動に
ともなってチャンバ内の雰囲気を乱す。このような悪条
件が重なって、チャンバの側面を形成する極く薄膜のX
線マスクもしくはX線取出し窓に対する負荷を増大さ
せ、歪み変化を招く。
【0021】本発明は、このような事情によりなされた
ものであり、その第1の目的とするところは、X線ミラ
ーの揺動にともなうSOR光の走査に対して、完全に一
致した同期をとる補正制御をなすことにより、外乱の影
響を抑制して露光むらの低減を図り、補正信頼性の向上
を得られるX線リソグラフィ装置を提供することにあ
る。
【0022】第2の目的とするところは、Be窓に照射
されるSOR光ビームの、特に水平方向の両側端縁をリ
アルタイムで成形することにより、Be窓保持部に対す
る悪影響を除去したX線リソグラフィ装置を提供するこ
とにある。
【0023】第3の目的とするところは、Be窓の揺動
にともなうHeチャンバ内の雰囲気の乱れを確実に阻止
して、X線マスクもしくはX線取出し窓の歪みを阻止
し、より精度の高い露光を可能にしたX線リソグラフィ
装置を提供することにある。
【0024】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
第1の発明は、SOR(シンクロトロン放射)光発生源
としてのSORリング、超高真空のビームライン、露光
面積拡大のため揺動するX線ミラー、X線を取出すBe
(ベリリウム)窓、および露光装置とを具備したX線リ
ソグラフィ装置において、
【0025】上記X線ミラーの揺動に同期して、上記B
e窓を揺動駆動するBe窓駆動手段を備え、上記Be窓
に、Be窓と一体に揺動しながら、Be窓に導かれるS
OR光をリアルタイムで検出する複数の検出手段を備
え、これら検出手段から送られるSOR光検出信号に基
づいた制御信号を、上記Be窓駆動手段にフィードバッ
クして、SOR光の走査を対象とした揺動補正を行わせ
る制御手段を具備したことを特徴とするX線リソグラフ
ィ装置である。
【0026】第2の発明は、同X線リソグラフィ装置に
おいて、上記X線ミラーの揺動に同期して、上記Be窓
を揺動駆動するBe窓駆動手段を備え、上記ビームライ
ンに、Be窓に照射されるSOR光ビームの両側縁が、
露光領域の両側端縁とBe窓の両側端縁との間になるよ
う、SOR光ビームの両側縁を遮断規制して、Be窓の
両側部が照射されることを阻止するビームカット手段を
備えた。
【0027】第3の発明は、同X線リソグラフィ装置に
おいて、上記ビームライン最終端と露光装置との間に、
He(ヘリウム)ガス雰囲気を形成するとともにBe窓
を収容するHeチャンバを介在し、上記Be窓に、He
チャンバ外部から上記X線ミラーの揺動に同期して上記
Be窓を揺動駆動するBe窓駆動手段を連結し、このB
e窓駆動手段はBe窓の揺動を原因とするHeチャンバ
内の体積変化およびガス圧変化のない構造とした。
【0028】
【作用】第1の発明では、検出手段からの信号に基づい
て、SOR光の走査に同期するようBe窓を揺動駆動
し、揺動補正を行うこととなり、外乱の影響を抑制して
露光むらが低減する。第2の発明では、ビームカット手
段がBe窓に照射されるSOR光ビームを成形して、特
にBe窓保持部に対する悪影響を阻止する。
【0029】第3の発明では、Heチャンバ外部からB
e窓を揺動駆動し、かつこのBe窓揺動を原因とするH
eチャンバ内の体積変化およびガス圧変化のないように
して、X線マスクもしくはX線取り出し窓の歪みを阻止
する。
【0030】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面にもとづいて
説明する。図1は、X線リソグラフィ装置の概略構成を
模式的に示し、図2は、同装置の一部省略した概略構成
を、斜視的に示す。
【0031】図中1はSORリングであり、高強度のS
OR(シンクロトロン放射)光の発生源である。これ
は、図示しない加速器から入射される電子を、偏向電磁
石で軌道を曲げながら真空パイプ内を周回させ、電子の
1周期に同期してここに備えられる加速器で所定のエネ
ルギに加速維持する。さらに、電子ビームを収束して偏
向電磁石で電子軌道が曲げられる部分から接線方向に、
ビームライン2に沿ってSOR光を取出すようになって
いる。
【0032】上記SORリング1は、電子運動の減衰を
極力避けるために高真空に保たれており、上記ビームラ
イン2は、SORリング1よりSOR光を取出すため超
高真空に形成され、かつ真空破壊防御のための、フェイ
ルセーフシステムを備えている。上記ビームライン2に
は、後述するビームカット手段である可動スリット8を
介して、トロイダルX線ミラー3が配置される。
【0033】このX線ミラー3は、ビームライン2を導
かれるSOR光を集光し、短波長のX線成分を除去す
る。そして、ミラー揺動機構9に機械的に連結されてい
て、露光面積拡大のため揺動する。
【0034】また、ミラー揺動機構9は、制御手段を構
成する制御回路7に電気的に接続されており、ここから
の指令信号を受けてX線ミラー3に対する揺動駆動の制
御を受けるようになっている。
【0035】このX線ミラー3のSOR光反射側で、か
つビームライン2の終端部には、X線透過膜としてのB
e(ベリリウム)窓4が配置される。これは、超高真空
に形成されるビームライン2と、大気圧領域ないし減圧
雰囲気とを区分していて、ビームライン2を導かれるX
線を大気圧領域ないし減圧雰囲気中に透過させるもので
ある。
【0036】上記Be窓4は、Be窓駆動手段であるB
e窓揺動機構10に機械的に連結されている。またこの
揺動機構10は、上記制御回路7に電気的に接続されて
おり、ここからの指令信号を受けてBe窓4を揺動駆動
し、かつこの補正制御を行うようになっている。
【0037】Be窓4のX線取出し側には、大気圧領域
ないし減圧雰囲気に形成され、所定のパターンを備えた
マスク5およびレジストが塗布されたウエハ6などを備
えた露光装置Rが配置される。
【0038】上記ビームライン2におけるSOR光取出
し部とX線ミラー3との間に、上記可動スリット8が設
けられる。この可動スリット8は、上記X線ミラー3の
揺動位置で決まるSOR光ビームとBe窓4の水平方向
最小寸法に一致するよう同期して可動するものである。
【0039】一方、上記Be窓4には検出手段11が設
けられていて、Be窓4の揺動にともなって一体に移動
しながら、SOR光をリアルタイムで検出して、上記制
御回路7にその検出信号を送るようになっている。
【0040】基本的に、このようにして構成されるX線
リソグラフィ装置であって、SORリング1からビーム
ライン2に取出されたSOR光を、X線ミラー3が揺動
しながら集光反射し、ビームライン2の終端に配置され
たBe窓4を透過させて露光装置Rに導き、露光作用を
なす。このとき、上記Be窓4は、ここに直接連結され
る揺動機構10に駆動されて、X線ミラー3の揺動に同
期して揺動する。
【0041】図3に示すように、ここでは矩形状に表さ
れる必要な露光領域Sに対して、SOR光ビームaが垂
直方向に走査され、これと同期してBe窓4は垂直方向
に揺動する。
【0042】SOR光ビームaは、X線ミラー3に照射
された状態で、垂直方向にわずかの幅でしかなく、かつ
水平方向には充分な幅を有する矩形状のビーム形状であ
る。そして、上記トロイダルX線ミラー3の反射によっ
て、ビームの曲率が見た目で変化し、図示するように湾
曲状をなす。さらに、照射位置の上部から下部に亘って
水平方向の幅寸法が徐々に狭まり、垂直方向に多少大き
くなる、小さな曲率半径になるのが特徴である。いずれ
の状態であっても、Be窓4の水平方向幅寸法よりも、
SOR光ビームaの幅寸法が充分に大きくなるよう、B
e窓4の寸法設定がなされる。
【0043】図4に示すように、上記可動スリット8
は、左右一対の遮蔽体8a,8aからなり、上記X線ミ
ラー3の揺動に同期して垂直方向に同時に揺動するよ
う、上記制御回路7から制御信号を受ける。その結果、
Be窓4に照射されるSOR光ビームaの水平方向両側
端部を遮蔽する。
【0044】すなわち、上記Be窓4は、図において垂
直方向に揺動するので、必要な露光領域Sに対して、垂
直方向には短い寸法であるが、水平方向には充分に余裕
を持った大なる寸法に形成される。これは、上記X線ミ
ラー3で反射された状態で、SOR光ビームaが垂直方
向に僅かの幅でしかなく、水平方向に充分な長さのスリ
ットになることによる。
【0045】実際に、SOR光ビームaは、Be窓4の
両側端からはみだす状態で導かれ、そのままでは、Be
窓4に当たる部分のビームaだけがここを透過し、Be
窓4の両側端部に当たるビームaは部分的にカットされ
る。本発明においては、可動スリット8を設けて、上記
X線ミラー3の揺動位置で決まるSOR光ビームaとB
e窓4の揺動動作と同期して揺動する。
【0046】具体的には、SOR光ビームaの両側端縁
で、かつ露光領域Sの両側端縁から外れ、しかもBe窓
4の両側端縁を透過しようとするビームa部分を、リア
ルタイムで遮断する。
【0047】したがって、Be窓4を必要最小限の大き
さに形成し、かつこの周囲に設けられ、Be窓4を保持
する、ここでは図示しない真空フランジの少なくとも両
側端部にSOR光ビームaが照射されることはなく、長
期の運転に亘っても、上記真空フランジの耐機械的強度
が低下することがない。
【0048】図5に示すように、Be窓4には、Be窓
4を透過するSOR光ビームaの露光強度を検出する検
出手段11を構成する、たとえば電子増倍管からなる複
数のX線検出器11a…が設けられる。
【0049】ここでは、各X線検出器11a…はSOR
光ビームaがわずかに掛かる位置の左右上下部を選択し
ており、左右両側の検出器11a,11aは、それぞれ
補助処理装置12へ検出信号を送るようになっており、
これら処理装置12,12から上記制御回路7へ補助処
理信号を送るよう、電気的な接続がなされる。
【0050】なお説明すれば、図6に示すように、露光
領域Sに対して、SOR光の垂直方向のビームプロファ
イルは、ガウシアン状を示している。複数のX線検出器
11a…は、信号出力がゼロに近い対称位置である、両
すそ野の部分にあたる露光にほとんど寄与しない部分の
強度を検出する。
【0051】再び図5に示すように、Be窓に設けられ
る各X線検出器11a…は、照射されるSOR光ビーム
aをリアルタイムで検出して、左右両側のX線検出器1
1a…が同じ補助処理装置12に検出信号を送る。
【0052】それぞれの補助処理装置12,12は、信
号を整理して制御回路7に送る。制御回路7は、左右の
補助処理装置12,12からの信号を受け、信号量に差
があった場合、SOR光の走査に対してBe窓4の位置
とSOR光の位置とにずれがあると判断する。その差信
号を、補正の制御信号とする処理をなし、上記Be窓揺
動機構10にフィードバックする。
【0053】したがって、Be窓揺動機構10はBe窓
4に対して、SOR光の走査を対象とした揺動補正をな
す。Be窓4は、走査されるSOR光の透過位置および
揺動速度が制御され、X線ミラー3との相対位置をずら
す外乱誤差がなくなって、露光装置5では露光むらのな
い均一な露光をなすことができる。
【0054】なお、上記実施例においては、4組のX線
検出器11a…を配置し、ほとんど露光に寄与しないガ
ウシアン状のビームプロファイルのすそ野の部分に当た
る露光強度を検出するようにしたが、これに限定される
ものではない。
【0055】たとえば、図7に示すように、Be窓4の
左右両側端における、垂直方向の中央部に、一対のX線
検出器11b,11bを設けてなる検出手段11Bであ
ってもよい。
【0056】この場合は、図8に示すように、垂直方向
に示されるガウシアン状のビームプロファイルの最大光
量の位置に相当し、すなわち、SOR光ビームaの強度
の最大位置でもある。
【0057】すなわち、実際の補正制御は、Be窓4を
透過するSOR光ビームaを各X線検出器11b,11
bが検出して、その検出信号を制御回路7によって常に
SOR光の最大光量位置に追従するように制御される。
【0058】このことによって、X線ミラー3によって
揺動されるSOR光の位置とBe窓窓4の中心位置とを
一致させることができる。結果的には、先に説明したも
のと全く同様に、外乱などを補償して、露光むらの発生
を阻止する。
【0059】なおX線検出器として、一対のラインセン
サに換えてもよい。これらラインセンサは、垂直方向に
長く、Be窓4に対して垂直方向にX線が走査されると
き、その受光範囲内に存在する位置にある。
【0060】各ラインセンサは、ビーム強度を連続して
検出し、その検出信号を制御回路7にリアルタイムで送
り、Be窓揺動機構10にフィードバックする。このこ
とにより、X線ミラー3でBe窓4を走査すると同時
に、Be窓揺動速度10の補正制御をリアルタイムでな
し、高い補正精度を保持する。
【0061】図9に示すように、上記ビームライン2最
終端と露光装置Rとの間である、ビームライン2の超高
真空領域と露光装置Rの大気圧領域ないし減圧雰囲気と
の間に、He(ヘリウム)ガス雰囲気を形成するHeチ
ャンバ20が介在されるタイプのX線リソグラフィ装置
がある。
【0062】すなわち、Heチャンバ20の図において
左側端部には超高真空域のビームライン2が隣設され、
逆の、右側端部には、X線マスク5とウエハ6とを備
え、大気圧領域ないし減圧雰囲気に形成される露光装置
Rが配置される。
【0063】上記ビームライン2の終端部は、Heチャ
ンバ20内に突出する、ベローズ部21と支持筒体22
およびBe窓部23とからなる。上記支持筒体22に
は、後述するBe窓揺動機構24が連結され、Be窓部
23とともに図において垂直方向に揺動駆動させられ
る。そして、Be窓部23の揺動にともなって、上記ベ
ローズ部21が変形する。
【0064】上記Be窓揺動機構24は、駆動源として
の一軸テーブル25が、Heチャンバ20の外部であ
る、図において下方部位に配置される。ここに直結され
る作動杆26aは、Heチャンバ20に設けられる開口
部20aを介して、この内部に突出する。
【0065】上記支持筒体22の外周部には、断面を太
鼓状に膨出させた取付けフランジ27が嵌着されてい
て、この下端周面に上記作動杆26a端部が連結され
る。上記フランジ27の上端周面には、別の作動杆26
b端部が連結されていて、上方に延出される。すなわ
ち、環状の取付けフランジ27に対して、この上下端部
から一対の作動杆26a,26bが突設され、上下垂直
方向に延出されることとなる。
【0066】上記Heチャンバ20の各作動杆26a,
26bが貫通する部分には開口部20a,20bが設け
られていて、この開口部20a,20bにベローズ28
a,28bの一端部が取着される。下部側ベローズ28
aにおける他端部は、この下方部位の作動杆26a周面
に設けられる閉塞フランジ29aに取着される。
【0067】上部側ベローズ28bにおける他端部は、
チャンバ20の開口部20bを貫通して、さらにこの上
方部位に突出する作動杆26bの端部に設けられる閉塞
フランジ29bに取着される。さらにまた、上記Be窓
部23は、その端面にBe窓4を備えているが、少なく
とも上下端部は断面尖鋭状に形成しなければならない。
【0068】このような構成であるので、一軸テーブル
25が上記X線ミラー3の揺動に同期するようBe窓4
を垂直方向に揺動駆動し、露光装置RにSOR光を透過
させて露光作用が行われる。
【0069】実際に、一軸テーブル25がBe窓部23
を上方に移動せしめた場合には、下部側のベローズ28
aが収縮し、上部側ベローズ28bが伸長する。換言す
れば、下部側ベローズ28a内部の体積が減少し、上部
側ベローズ28b内部の体積が増大する。
【0070】この移動が終わって、一軸テーブル25が
逆に、Be窓部23を下方に移動せしめた場合には、下
部側ベローズ28aが伸長して、ベローズ28a内部の
体積が増大し、上部側ベローズ28bが収縮して、ベロ
ーズ28b内部の体積が減少する。
【0071】結果として、Be窓4の揺動駆動源25が
Heチャンバ20外部にあって、Be窓4を常時、揺動
駆動しているが、一対のベローズ28a,28bが伸縮
動作を相対的に繰り返すので、Heチャンバ20内の体
積変化をともなわない。
【0072】さらに、取付けフランジ27は断面太鼓状
とし、Be窓部23の少なくとも上下端部は断面尖鋭状
になっているので、Heチャンバ20内部のHeガスに
顕著な流れが発生しないとともに、ガス圧力が変動する
要素が全て除去され、ここに直接さらされるX線マスク
5の歪み変動がなく、常に、安定した露光作用が行われ
る。
【0073】なお、上記実施例においては、Be窓部2
3の少なくとも上下端部を断面尖鋭状に形成したが、こ
れに限定されるものではなく、図10に示すように、少
なくとも上下端部を、角部のない、断面円弧状にした形
状のBe窓部23Aであってもよい。この場合も、Be
窓部23Aの揺動にともなうHeガスに対する影響を最
小限に抑制することができる。
【0074】要は、上記Heチャンバ20内でBe窓部
23,23Aを揺動した状態で、チャンバ20内の体積
変化がなく、ガス圧変動のないような、抵抗の少ない形
状にすればよい。
【0075】また、図11に示すように、ビームライン
2に隣接した位置にBe窓4を備え、露光装置Rに隣接
した位置にX線取出し窓30を備えたHeチャンバ20
Aの場合でも、ここでは図示しないが、先に説明したB
e窓揺動機構24を備えることにより、チャンバ20A
内の体積変化がなく、特にX線取出し窓30の歪み発生
の恐れがない。
【0076】
【発明の効果】以上説明したように、第1の発明によれ
ば、X線ミラーの揺動に同期してBe窓を揺動駆動し、
このBe窓に導かれるSOR光をリアルタイムで検出
し、この検出信号に基づいた制御信号をBe窓駆動手段
にフィードバックして、SOR光の走査と同期する揺動
補正を行わせるようにしたから、外乱の影響を抑制して
露光むらの低減を図り、補正信頼性の向上を得られる効
果を奏する。
【0077】第2の発明によれば、X線ミラーの揺動に
同期してBe窓を揺動駆動し、Be窓に照射されるSO
R光ビームの両側端縁が、露光領域の両側端縁とBe窓
の両側端縁との間になるよう、SOR光ビームの両側端
縁を遮断規制したから、SOR光ビームの、特に水平方
向の両側端部をリアルタイムで成形して、Be窓保持部
に対する悪影響を除去し、耐機械強度の増大を図れる効
果を奏する。
【0078】第3の発明によれば、ビームライン最終端
と露光装置との間に、Heガス雰囲気を形成するととも
にBe窓を収容するHeチャンバを介設し、このHeチ
ャンバ外部からBe窓を揺動駆動し、しかも、Be窓の
揺動を原因とするHeチャンバ内の体積変化およびガス
圧変化のない構造としたから、Be窓の揺動にともなう
Heチャンバ内の雰囲気の乱れを確実に阻止して、X線
マスクもしくはX線取出し窓の歪みを阻止し、より精度
の高い露光を可能とする効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の発明および第2の発明の一実施例を示
す、X線リソグラフィ装置の概略構成図。
【図2】同実施例の、X線リソグラフィ装置の概略構成
の斜視図。
【図3】同実施例の、露光領域に対するBe窓とSOR
光ビームの変化を示す図。
【図4】同実施例の、SOR光ビームに対するカッティ
ング状態を説明する図。
【図5】同実施例の、Be窓と、SOR光ビームに対す
る検出状態を説明する図。
【図6】同実施例の、SOR光ビームのビームプロファ
イルと、このビームに対する検出位置を説明する図。
【図7】他の実施例の、Be窓と、このBe窓を透過す
るSOR光ビームに対する検出状態を説明する図。
【図8】同実施例の、SOR光ビームのビームプロファ
イルと、このビームに対する検出位置を説明する図。
【図9】第3の発明の一実施例を示す、Heチャンバと
Be窓揺動機構の構成図。
【図10】他の実施例の、Be窓部の構成図。
【図11】さらに他の実施例の、X線リソグラフィ装置
の概略構成図。
【符号の説明】
1…SOR光リング、2…ビームライン、3…X線ミラ
ー、4…Be窓、5…露光装置、10…Be窓駆動手
段、11…検出手段、7…制御回路。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】指向性が強く高強度のSOR(シンクロト
    ロン放射)光発生源としてのSORリングと、 このSORリングよりSOR光を取出す、超高真空のビ
    ームラインと、 このビームライン中に設置されSOR光を反射し、かつ
    短波長のX線成分を除去して、露光面積拡大のため揺動
    するX線ミラーと、 上記ビームライン終端部に配置されビームライン側の超
    高真空領域と大気圧領域ないし減圧雰囲気とを区分して
    X線を取出すBe(ベリリウム)窓と、 このBe窓を透過したX線を受け露光される露光装置と
    を具備したX線リソグラフィ装置において、 上記X線ミラーの揺動に同期して、上記Be窓を揺動駆
    動するBe窓駆動手段と、 上記Be窓に設けられ、Be窓と一体に揺動しながら、
    Be窓に導かれるSOR光をリアルタイムで検出する複
    数の検出手段と、 これら検出手段から送られるSOR光検出信号に基づい
    た制御信号を、上記Be窓駆動手段にフィードバックし
    て、SOR光の走査と同期した揺動補正を行わせる制御
    手段とを具備したことを特徴とするX線リソグラフィ装
    置。
  2. 【請求項2】上記各検出手段は、ガウシアン状のビーム
    プロファイルを示すSOR光を、Be窓を透過する状態
    で信号出力がゼロに近いすその部分の対称位置で、それ
    ぞれ検出し、 上記制御手段は、各検出手段から送られる検出信号に差
    があったときに、Be窓の位置とSOR光の位置にずれ
    が生じると判断して、上記Be窓揺動手段に補正信号を
    送ることを特徴とする請求項1記載のX線リソグラフィ
    装置。
  3. 【請求項3】上記各検出手段は、ガウシアン状のビーム
    プロファイルを示すSOR光を、Be窓を透過する状態
    で信号出力がピーク値を示す位置で、それぞれ検出し、 上記制御手段は、各検出手段から送られる検出信号がピ
    ーク値でないときに、Be窓の位置とSOR光の位置に
    ずれが生じていると判断して上記Be窓揺動手段に補正
    信号を送ることを特徴とする請求項1記載のX線リソグ
    ラフィ装置。
  4. 【請求項4】指向性が強く高強度のSOR(シンクロト
    ロン放射)光発生源としてのSORリングと、 このSORリングよりSOR光を取出す、超高真空のビ
    ームラインと、 このビームライン中に設置されSOR光を反射し、かつ
    短波長のX線成分を除去して、露光面積拡大のため揺動
    するX線ミラーと、 上記ビームライン終端部に配置されビームライン側の超
    高真空領域と大気圧領域ないし減圧雰囲気とを区分して
    X線を取出すBe(ベリリウム)窓と、 このBe窓を透過したX線を受け露光される露光装置と
    を具備したX線リソグラフィ装置において、 上記X線ミラーの揺動に同期して、上記Be窓を揺動駆
    動するBe窓駆動手段と、 上記ビームラインに設けられ、Be窓に照射されるSO
    R光ビームの両側端縁が、露光領域の両側端縁とBe窓
    の両側端縁との間に位置するよう、SOR光ビームの両
    側端縁を遮断規制するビームカット手段とを具備したこ
    とを特徴とするX線リソグラフィ装置。
  5. 【請求項5】指向性が強く高強度のSOR(シンクロト
    ロン放射)光発生源としてのSORリングと、 このSORリングよりSOR光を取出す、超高真空のビ
    ームラインと、 このビームライン中に設置されSOR光を反射し、かつ
    短波長のX線成分を除去して、露光面積拡大のため揺動
    するX線ミラーと、 上記ビームライン終端部に配置されビームライン側の超
    高真空領域と大気圧領域ないし減圧雰囲気とを区分して
    X線を取出すBe(ベリリウム)窓と、 このBe窓を透過したX線を受け露光される露光装置と
    を具備したX線リソグラフィ装置において、 上記ビームライン最終端と露光装置との間に介在され、
    内部にHe(ヘリウム)ガス雰囲気を形成するとともに
    上記Be窓を収容するHeチャンバと、 このHeチャンバ内の上記Be窓に連結され、Heチャ
    ンバ外部から上記X線ミラーの揺動に同期するととも
    に、Heチャンバ内に体積変化およびガス圧変化が生ず
    ることなく、Be窓を揺動駆動するBe窓駆動手段とを
    具備したことを特徴とするX線リソグラフィ装置。
  6. 【請求項6】上記Be窓は、Heチャンバ内で揺動した
    状態で、内部雰囲気に対する流れが生じないように、少
    なくとも揺動方向に対向する部位を、抵抗の少ない断面
    形状としたBe窓部に支持したことを特徴とする請求項
    5記載のX線リソグラフィ装置。
JP4270205A 1992-10-08 1992-10-08 X線リソグラフィ装置 Pending JPH06120122A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100474590B1 (ko) * 1998-12-31 2005-05-24 주식회사 하이닉스반도체 리소그래피정렬오차보정방법

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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