JPH0611701A - 多孔性高分子膜とその製造方法およびそれを用いた高分子複合膜とその製造方法 - Google Patents

多孔性高分子膜とその製造方法およびそれを用いた高分子複合膜とその製造方法

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JPH0611701A
JPH0611701A JP19140292A JP19140292A JPH0611701A JP H0611701 A JPH0611701 A JP H0611701A JP 19140292 A JP19140292 A JP 19140292A JP 19140292 A JP19140292 A JP 19140292A JP H0611701 A JPH0611701 A JP H0611701A
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porous polymer
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Daisaku Nakada
大作 中田
Tomohisa Goto
智久 五藤
Goro Saito
悟郎 斉藤
Hideya Murai
秀哉 村井
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 空孔の存在量およびその粒径が制御された多
孔性高分子膜を作成する。 【構成】 重合性官能基を有する架橋性の高分子前駆体
に可溶性高分子化合物からなる粒径および分布の制御さ
れた微小粒子を分散させ、薄膜を形成したのち紫外線を
照射して高分子前駆体を硬化させ、次いで微小粒子を溶
解できかつ光重合化高分子膜を溶解し得ない溶剤で処理
することにより微小粒子のみを除去し、多孔性高分子膜
を作成する。またこの空孔内に液晶材料を注入し、2枚
の電極付き透明基板で挟持させることで液晶粒径の制御
された液晶光学素子が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、多孔性高分子膜、その
製造方法およびそれを用いた高分子複合膜に関し、この
高分子複合膜は、文字、図形等を表示する表示装置、入
射光の透過−遮断を制御する調光ガラス、光シャッター
等に利用される液晶光学素子に用いられるものである。
【0002】
【従来の技術】液晶光学素子は、従来ネマチック液晶を
使用したTN型や、STN型のものが実用化されてい
る。しかしこれらは偏光板を要するため、明るさ、コン
トラストにおいて制限を受けるという欠点を有してい
る。一方、特開昭58−501631号公報に開示され
た、液晶材料をカプセル化し、高分子物質中に分散する
方法では、偏光板を要しないため光の減衰が少ないとい
う利点を有している。この開示技術においては、カプセ
ル内の液晶の屈折率が電界の有無によって変化すること
を利用し、カプセル材の屈折率を電圧印加下の液晶材料
の屈折率と等しく設定することによって、電圧印加下で
は透明に、電圧を除いた時には、光を散乱し不透明にな
る光学素子が得られている。液晶材料の屈折率の変化を
利用した同様の素子として、液晶材料を熱硬化性のエポ
キシ樹脂に分散したもの(特開昭61−502128号
公報)、紫外線硬化樹脂中に分散したもの(特開昭62
−2231号公報)等が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の高分
子−液晶複合膜では、その光学素子としての機能が、分
散されている液晶微小滴の大きさおよび粒径分布に大き
く依存することが知られており、それらの制御が機能向
上に極めて重要であるにも拘わらず、高分子物質中に分
散する液晶粒子の粒径やその分布を制御することは、そ
の基本原理から困難であった。例えば紫外線硬化法を用
いた高分子複合膜では微妙な温度変化に基づく相分離変
化を粒径制御に利用するため、狭い面積の膜以外の膜で
は膜全体の温度を均一に制御することが実質的に困難で
あり、且つ硬化する前に液晶化合物と高分子前駆体とを
均一に混合させる必要があるため、使用できる液晶材料
および高分子前駆体の組み合わせに大きな制限があっ
た。本発明は、上記の如き高分子複合膜において、液晶
材料が封入される孔の粒径が制御された高分子複合膜お
よびその製造方法を提供し、併せてこの高分子複合膜の
製造を可能とする多孔性高分子膜とその製造方法を提供
することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、重合性官能基
を有する架橋性の高分子前駆体に微小粒子を分散させ薄
膜を作成した後、紫外光を照射して重合させ、次いで前
記微小粒子を溶解できかつ光重合化により得られる高分
子膜を溶解し得ない溶剤で処理することにより前記微小
粒子を除去して得られることを特徴とする多孔性高分子
膜である。またその製造方法は重合性官能基を有する架
橋性の高分子前駆体に微小粒子を分散させ薄膜を作成し
た後、紫外光を照射して重合させ、次いで前記微小粒子
を溶解できかつ光重合化により得られる高分子膜を溶解
し得ない溶剤で処理することにより前記微小粒子を除去
して多孔性高分子膜を製造することを特徴とする。
【0005】さらに本発明は、上記の多孔性高分子膜の
空孔に分散材料が充填されていることを特徴とする高分
子複合膜である。またその製造方法は、重合性官能基を
有する架橋性の高分子前駆体に微小粒子を分散させ薄膜
を作成した後、紫外光を照射して重合させ、次いで前記
微小粒子を溶解できかつ光重合化により得られる高分子
膜を溶解し得ない溶剤で処理することにより前記微小粒
子を除去して多孔性高分子膜を製造し、次いで該多孔性
高分子膜の空孔に分散材料を充填することを特徴とす
る。
【0006】架橋性の高分子前駆体としては、重合性官
能基を有するモノマーまたはオリゴマー、あるいはこれ
らの混合物が利用できる。重合性官能基としては、例え
ばアクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基など
のビニル基あるいはエポキシ基などが挙げられる。重合
性官能基を有するモノマーとしては、上記重合性官能基
を1個あるいは複数個有する重合性化合物、さらに具体
的には、例えばアクリル酸およびメタクリル酸のアルキ
ルエステル(炭素数1〜10)やエピクロロヒドリンな
どを用いることができ、重合性官能基を有するオリゴマ
ーとしては、上記重合性官能基を1個あるいは複数個有
する分子量5百〜3万、より好ましくは1千〜1万の重
合性オリゴマーなどを利用することができる。
【0007】微小粒子は、その構成物質が有機溶剤、純
水あるいは各種pHの水に可溶性であり、かつ微粒子を
製造できる材料なら何でも構わない。例えば、それらは
可溶性高分子化合物、さらに詳しくはポリ(スチレ
ン)、ポリ(メタクリル酸メチル)などからなる。可溶
性高分子化合物の平均分子量は5千〜100万である。
また、微小粒子の大きさは製造しようとする高分子膜の
厚み以下の粒径であればいくらでも構わない。一般には
平均粒径は0.01μm〜1mm、より好ましくは0.
1μm〜100μmである。高分子膜の厚みは一般に
0.1μm〜3mm程度である。本発明で用いられる微
小粒子の形状は、用途によって必ずしも球形である必要
はないが、一般には球形に近いことが望ましい。
【0008】モノマー、オリゴマー、微小粒子の割合
は、重量比で(モノマー+オリゴマー):微小粒子=
1:0.01〜5、より好ましくは1:0.03〜2で
ある。モノマーとオリゴマーの割合は重量比でモノマ
ー:オリゴマー=1:0〜10、より好ましくは1:
0.03〜2ではあるが、オリゴマー単独であっても構
わない。但し、重合性官能基を複数個有する化合物を用
いた場合には、この化合物の割合が高いほど得られる高
分子膜の架橋度が高く、より安定な架橋膜を与える。
【0009】モノマー、オリゴマー、微小粒子混合膜
は、例えば平面基板に、ディップコーター法、スピンコ
ーター法、バーコーター法等の一般的な塗布手法を利用
して行うことができる。その際、混合物の溶液粘度を調
節するため適当な溶剤を添加しても構わない。ただし用
いる溶剤は微小粒子を溶解しない溶剤、すなわち貧溶剤
であることが必要である。ただし、上記溶剤を使用する
場合には、以下に述べる重合反応処理に先だって、当該
溶媒を完全に除去することが必要である。
【0010】上記のようにして調製されたモノマー/オ
リゴマー/微小粒子からなる混合膜を重合する方法は、
使用した高分子前駆体の重合性官能基に依存する。例え
ば、ビニル基を有するモノマー、オリゴマーの場合、高
圧水銀などのような紫外線ランプ全光あるいはフィルタ
ーにより波長を限定した紫外線、および波長200〜3
00nmのレーザなどが利用できる。重合条件として
は、重合温度は氷冷〜50℃、重合時間は照射光強度、
材料重量、膜厚などに大きく依存するが、通常10秒〜
1時間程度である。また重合反応促進のため適当な光分
解性重合開始剤などを0.01〜5重量%程添加しても
よい。また、エポキシ基を有するモノマー、オリゴマー
の場合には、加熱(50〜100℃)により重合させる
ことができる。
【0011】上記のようにして製造した微小粒子を含有
する高分子膜から微小粒子を除去することにより多孔性
高分子膜を得ることができる。微小粒子の除去には、微
小粒子を溶解でき、かつ光重合で作成される高分子膜を
溶解しない溶剤を用い上記高分子膜を処理すれば良い。
重合性官能基を複数個有するオリゴマーを含有するモノ
マー・オリゴマー・微小粒子混合膜の場合には、光照射
によりモノマーとオリゴマーからなる架橋重合膜が生成
する。従って得られる高分子膜部は通常の有機溶媒ある
いは水に不溶であるため、通常の溶媒でかつ微小粒子を
溶解できる溶剤であれば何でも使用できる。微小粒子の
構成物質がポリ(メタクリル酸メチル)、ポリ(スチレ
ン)の場合には、例えばベンゼン、トルエン、クロロホ
ルム、塩化メチレンなどで処理することにより微小粒子
を高分子膜から除去できる。
【0012】上記のようにして製造された多孔性高分子
膜の空孔に、液晶化合物、液晶混合物あるいは二色性色
素を含有する液晶材料を封入することにより高分子−液
晶複合膜を製造できる。液晶光学素子は、例えば高分子
−液晶複合膜を2枚の基板間に挟持することにより形成
される。この液晶光学素子作成方法として、例えばあら
かじめ1枚の基板上に高分子複合膜をキャストした状態
で作成し、もう1枚の基板で挟むことにより作成する方
法が利用できる。また基板から剥がし、別の2枚の基板
間に挟持しても構わない。
【0013】本発明に用いられる基板は、ITO等の透
明性の高い電極層を表面に有する少なくとも一方が透明
な基板であり、ガラス、プラスチック、金属等が使用で
きる。2枚の基板は、電極が高分子複合膜側になるよう
に設置する。電極層は基板に一様に形成されても良い
が、対向基板間で短冊状に構成されたそれぞれの電極が
直交するように配置した単純マトリックス構成や、画素
単位でアクティブ素子を付加したアクティブマトリック
ス構成としてもよい。本発明に用いられる液晶材料とし
ては、液晶材料であれば特に限定されず、ネマチック液
晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶等いずれを
用いることもできる。また単一または複数の色素を混入
したゲスト−ホスト型液晶によりカラー化することもで
きる。
【0014】
【作用】高分子−液晶複合膜を作成する際、液晶材料を
高分子物質中に分散させる手法として、熱硬化性エポキ
シ樹脂中に分散させる方法、紫外線硬化性樹脂中に分散
させる方法、水溶性高分子と液晶材料との相分離で分散
させる方法等がある。しかし、いずれの方法も高分子物
質と液晶材料とをあらかじめ均一に混合した後に液晶材
料を相分離させることが必要であるので、使用できる
材料の組み合わせが制限される、相状態の微妙な制御
技術が必須である、液晶滴の粒径の制御が困難であ
る、という問題があった。
【0015】これに対して、本発明は微小粒子を用いて
高分子複合膜を作成することにより上記問題を解決しよ
うとするものである。すなわち「粒径および分布が制御
され既知である」微小粒子と架橋性の高分子前駆体、例
えば重合性官能基を有するモノマー、オリゴマーの混合
物からなる未重合混合膜をあらかじめ作成後、適当な重
合法、例えば紫外線照射などにより高分子前駆体部を重
合させた後、微小粒子を除去することにより、孔の粒径
が制御された多孔性高分子膜が得られる。またこのよう
にして作成した多孔性高分子膜を用いて、さらに必要に
応じ適当な液晶材料を空の多孔部に封入することによ
り、あらかじめ規定した任意の粒度分布に相応する液晶
滴粒径を持つ高分子−液晶複合膜が提供される。
【0016】
【実施例】次に本発明の実施例について説明する。 実施例1 2−エチルヘキシルアクリレート1部、アクリレートオ
リゴマー(根上工業株式会社製、UN-9000PEP)1部及び
ポリ(メチルメタクリレート)微小粒子MP-1600(綜研
化学株式会社製、粒径0.6〜0.8μm)1部をよく
攪拌し、均一な混合液を調製した。混合液を一枚の電極
付きガラス基板上に滴下し、ドクターブレードYD−5
(ヨシミツ精機株式会社製)にて膜厚10μmの薄膜を
調製した。室温にて紫外線ランプを10分間照射後、こ
の薄膜付き基板をトルエンに漬け、室温にて超音波攪拌
処理を15分間行い、ポリメチルメタクリレート微小粒
子を溶出させた後、減圧下で溶媒を除去した。SEM観
察で、得られた高分子膜中に平均直径0.7μmの空孔
を確認した。得られた多孔性高分子膜の厚さは10μm
であった。この多孔性高分子膜を真空中にて液晶E−8
(BDH社製)中に基板ごと浸漬させ、空孔中に該液晶
を分散材料として充填し、図1に示すように多孔性高分
子膜1の中に分散材料2が均一に充填されたものを得
た。この後、図2に示すように透明電極4が設けられた
透明基板3で挟み込み、液晶材料5を多孔性高分子膜1
に充填した液晶光学素子を作製した。得られた液晶セル
の光の透過率は1%であった。この液晶セルを20℃に
保ち、100Hz、50Vの矩形波の交流電圧を印加す
ると、光の透過率は97%となった。電圧の印加を除く
と、この透過率は1%に戻った。この時の液晶光学素子
に印加する矩形交流電圧と光透過率を図3に示す。この
操作を多数回繰り返しても同様な結果を示した。
【0017】実施例2 2−エチルヘキシルアクリレート1部、アクリレートオ
リゴマー(根上工業株式会社製、UN-9000PEP)0.5
部、ポリ(メチルメタクリレート)微小粒子MP-1450
(綜研化学株式会社製、粒径0.25μm)1部および
光重合開始剤(2,2−ジエトキシアセトフェノン)
0.03部をよく攪拌し均一な混合液を調製した。混合
液を一枚の電極付きガラス基板上に滴下し、ドクターブ
レードYD−5(ヨシミツ精機株式会社製)にて膜厚1
0μmの薄膜を調製した。この薄膜付き基板に紫外線ラ
ンプを室温で5分照射し重合を行った後、基板をクロロ
ホルムに漬け、室温にて超音波攪拌処理を15分間行
い、ポリメチルメタクリレート微小粒子を溶出させた。
減圧下で残存溶媒を除去した。SEM観察で、膜中に平
均直径0.25μmの空孔を確認した。得られた多孔性
高分子膜の厚さは8μmであった。この多孔性高分子膜
を真空中で液晶E−8(BDH社製)中に基板ごと浸漬
させたのち、もう1枚の基板と重ね合わせた。得られた
液晶セルの光の透過率は0%でった。この液晶セルを2
0℃に保ち、100Hz、60Vの矩形波の交流電圧を
印加すると、光の透過率は99%となった。電圧の印加
を除くと、この透過率は0%に戻った。この操作を多数
回繰り返しても同様な結果を示した。
【0018】実施例3 2−エチルヘキシルアクリレート1部、アクリレートオ
リゴマー(根上工業株式会社製、UN-9000PEP)1部およ
びポリ(スチレン)微小粒子SP-20(綜研化学株式会社
製、粒径1.5〜2.5μm)1部をよく攪拌し、均一
な混合液を調製した。混合液を一枚の電極付きガラス基
板上に滴下し、ドクターブレードYD−5(ヨシミツ精
機株式会社製)にて膜厚20μmの薄膜を調製した。室
温にて8時間乾燥させた後、40℃にて3時間減圧乾燥
させた。紫外線ランプで10分間照射した。この薄膜付
き基板をベンゼンに漬け、室温にて超音波攪拌処理を1
5分間行い、ポリスチレン微小粒子を溶出させたのち、
減圧下で溶媒を完全に除去した。SEM観察で、膜中に
平均直径2μmの空孔を確認した。得られた多孔性高分
子膜の厚さは10μmであった。この多孔性膜を真空中
で液晶E−8(BDH社製)中に基板ごと浸漬させたの
ち、もう一枚の基板と重ね合わせ、液晶セルを作成し
た。得られた液晶セルの光の透過率は0%であった。こ
の液晶セルを20℃に保ち、100Hz、50Vの矩形
波の交流電圧を印加すると、光の透過率は98%となっ
た。電圧の印加を除くと、この透過率は0%に戻った。
この操作を多数回繰り返しても同様な結果を示した。
【0019】実施例4 実施例1で得られた多孔性高分子膜を用い、液晶E−8
(BDH社製)に代えて、黒色色素S−344(三井東
圧化学株式会社製)を液晶E−8(BDH社製)に溶解
した色素−液晶溶液を用いた以外は実施例1と全く同様
の方法により、色素含有液晶セルを作成した。得られた
液晶セルの光の透過率は2%であった。この液晶セルを
20℃に保ち、100Hz、80Vの矩形波の交流電圧
を印加すると、光の透過率は95%となった。電圧の印
加を除くと、この透過率は2%に戻った。この操作を多
数回繰り返しても同様な結果を示した。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による多孔
性高分子膜を用いれば、孔の粒径やその分布を制御する
ことが容易となる。したがって、多孔部に適当な液晶材
料を封入することにより、あらかじめ規定した任意の粒
度分布に相応する液晶滴粒径を持つ高分子−液晶複合膜
とすることができる。また色素を液晶材料中に含有させ
たゲスト−ホスト型の高分子複合膜を形成する際、色素
が高分子物質中に分散し、コントラストが低下すること
を防ぐことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による高分子複合膜の一実施例の断面図
である。
【図2】本発明による高分子複合膜を用いて作製した液
晶光学素子の一例の断面図である。
【図3】図2記載の液晶光学素子の矩形交流電圧および
液晶光学素子の光透過率を示す図である。
【符号の説明】
1 多孔性高分子膜 2 分散材料 3 透明基板 4 透明電極 5 液晶材料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村井 秀哉 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 重合性官能基を有する架橋性の高分子前
    駆体に微小粒子を分散させ薄膜を作成した後、紫外光を
    照射して重合させ、次いで前記微小粒子を溶解できかつ
    光重合化により得られる高分子膜を溶解し得ない溶剤で
    処理することにより前記微小粒子を除去して得られるこ
    とを特徴とする多孔性高分子膜。
  2. 【請求項2】 微小粒子の粒径が0.01μmないし1
    mmである請求項1記載の多孔性高分子膜。
  3. 【請求項3】 請求項1または2に記載の多孔性高分子
    膜の製造方法であって、重合性官能基を有する架橋性の
    高分子前駆体に微小粒子を分散させ薄膜を作成した後、
    紫外光を照射して重合させ、次いで前記微小粒子を溶解
    できかつ光重合化により得られる高分子膜を溶解し得な
    い溶剤で処理することにより前記微小粒子を除去して多
    孔性高分子膜を製造することを特徴とする多孔性高分子
    膜の製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項1または2に記載された多孔性高
    分子膜の空孔に分散材料が充填されていることを特徴と
    する高分子複合膜。
  5. 【請求項5】 分散材料が液晶化合物である請求項4記
    載の高分子複合膜。
  6. 【請求項6】 分散材料が液晶化合物と二色性色素の均
    一混合物である請求項4記載の高分子複合膜。
  7. 【請求項7】 請求項4〜6のいずれかに記載の高分子
    複合膜の製造方法であって、重合性官能基を有する架橋
    性の高分子前駆体に微小粒子を分散させ薄膜を作成した
    後、紫外光を照射して重合させ、次いで前記微小粒子を
    溶解できかつ光重合化により得られる高分子膜を溶解し
    得ない溶剤で処理することにより前記微小粒子を除去し
    て多孔性高分子膜を製造し、次いで該多孔性高分子膜の
    空孔に分散材料を充填することを特徴とする高分子複合
    膜の製造方法。
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