JPH06115155A - スキャナ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 複数の光ビームの内少なくとも一つの強度が
変えられ、帯電感光性表面上の複合スポットの面積の中
心の位置を調節する。 【構成】 選択的に帯電感光性表面を放電するために適
用されるスキャナが、その上に電荷を放電するため複合
光スポット１６を形成する帯電感光性表面に衝突する複
数の光ビームを曲線Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４で示される
強度分布になるように放射する。全体の電力供給を一定
に保持しながら複合光スポット１６が図中（Ｂ）及び
（Ｃ）に示されるようにＤ１及びＤ４を必要に応じて変
化させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば電子写真プリン
ターにおいてディジタルデータから光受容体（例えば、
感光体）に潜像を作り出す際に使用される光学スキャナ
用制御システムに関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】レーザ
ー走査線が光導電表面に投射される電子写真プリンター
が良く知られている。レーザープリンター、ファクシミ
リ装置等の場合、ゼログラフィック印刷のために既帯電
光受容体（感光板、感光ベルト、または感光ドラム）に
結像される信号源としてラスター出力スキャナー（ＲＯ
Ｓ）を使用することが一般的に行われている。ＲＯＳ
は、それが光受容体を横切って移動するかまたは走査す
る時に、変調される（スイッチを切ったり入れたり、ま
たは選択的に制御される）レーザー光線を出す。通例、
光受容体の表面は、光受容体に望ましい画像を形成する
ために、白く印刷されるべき位置にレーザーによって結
像方向（画像形成するよう）に選択的に放電される。光
受容体に望ましい潜像を作るための光線の変調は、レー
ザー光源を制御するディジタル電子データによって促進
される。光受容体を横切るビームによる走査を実施する
ための通常の技術は、回転する多角形（ポリゴン）表面
を使用する。ＲＯＳからのレーザービームは多角形の切
小面に反射し、光線の掃引動作を生じさせ、それにより
光受容体を横切る走査線を形成する。光受容体上の多数
の走査線が一緒になって望ましい潜像のラスターを形成
する。一度潜像が光受容体上に形成されると、潜像はそ
の後トナーで現像され、現像された画像は公知のゼログ
ラフィーの方法と同様にコピーシートに転写される。

【０００３】図１は、例えば電子写真プリンターあるい
はファクシミリ装置において使用される走査システムの
基本的な構成を示している。印刷されるべき望ましい画
像のピクセルに相応するディジタルデータは、順次レー
ザー光源１０に入力され、ディジタルデータの流れに応
じて変調される（スイッチのオン、オフ）。レーザービ
ーム１０は回転する多角形１４の切子面から反射される
コリメートされたレーザービーム１２を生み出す。多角
形１４の各切子面１３は、次に結像（イメージング）レ
ンズ１５を通してコリメート化レーザー光線１２を偏向
し、光受容体１８の既帯電表面に照射ビームスポット１
６を作り出す。望ましい画像の画素（ピクセル）に相応
する、光受容体１８の表面の特定位置上のビームスポッ
ト１６のエネルギーは白く印刷されるべき予定画像のピ
クセルのため表面を放電する。黒く印刷されるべきピク
セルを含む位置において、レーザー光源１０は、ピクセ
ルに相応する光受容体１８の表面上の位置が光線１２に
よって放電されないように、走査が瞬間遮断される。グ
レイレベルがオン及びオフレベルの中間の露出レベルを
利用することによって同様の方法でイメージ（画像形
成）されることが理解されるであろう。このように、レ
ーザー光源１０に入力されるディジタルデータは、光受
容体１８上に静電潜像として走査線の一本づつ（ライン
単位で）表現される。レーザー光源１０に入力される結
像方向（画像形成）のデータの流れと、多角形１４及び
光受容体１８の動きとの間に正確な調整が必要なことは
もちろんである。

【０００４】このような走査システムのうち商業上実用
的な具体例では、光受容体上の画像はインチ当り６００
ラインというように典型的に高い解像度を有する。従っ
て、光受容体上の各走査線２０の幅はおよそ42.3ミクロ
ンである。この小規模の個々の走査線２０は、光受容体
１８の表面及びそれを横切るスポット１６の動きを調節
する際に、必然的に非常に正確な公差を必要とする。ド
ラム型光受容体の速度調節用フィードバック制御を備え
たサーボモーターを使用する典型的な結像（イメージン
グ）システムにおいて、低周波速度エラーがサーボシス
テムの調節作用によって一般的に取り除かれるが、フィ
ードバックの帯域幅が限られているので、ドライブモー
ター及びドラム慣性からの受動的な減衰は高周波エラー
を抑制することに依存している。その結果、約１％のオ
ーダーで残留する速度エラーでミリメーター当り約0.5
から2サイクルの空間的な周波数で存在し、その規模で
は目が微妙な変動に最も敏感である。カラーシステムに
おいてこの速度エラーが印刷されたドキュメント（文
書）に及ぼす結果を、「バンディング」、「ストロービ
ング」あるいは「色相レインボー」と称する。

【０００５】これらの通常のエラー源と関連する動く光
受容体に実際に起こる位置的エラーは典型的に数ミクロ
ンかそれ以下のオーダーであり、それは典型的な走査線
２０の横断面よりはるかに小さなものである。従って、
その償いにスポット１６の実効中心を移すことによる残
留運動エラーの補正は微量必要である。そのプロセス方
向でのラスター線２２の非常に均一なスペーシングを確
実にするために、動く光受容体１８に相対するスポット
１６のこの移動（変位）は一般的に「ビームステアリン
グ」として知られている。

【０００６】

【課題を解決するための手段及び作用】本発明の一態様
は、選択的に帯電感光性表面を放電するために使用され
るスキャナであって、帯電感光性表面の電荷を放電する
ため複合光スポットを形成する帯電感光性表面に衝突す
る複数の光ビームを放射する手段と；複数の光ビームの
内少なくとも一つのビームの強度を変化させ、帯電感光
性表面の複合スポットの面積の中心の位置を調節する手
段と；を備えている。本発明は、電荷を放電するために
複合光スポットを形成する帯電感光性表面に衝突する複
数の光ビームエレメントを放射することによって、帯電
感光性表面を選択的に放電するために適用されるスキャ
ナである。複数の光ビームエレメントの内の少なくとも
一つのビームの強度が、プロセス（処理）方向での帯電
感光性表面上の複合スポットの露光の実行中心の相対的
位置を調節するために変えられる。

【０００７】

【実施例】図１に戻って、光受容体１８（この場合は回
転ドラム）はドラムの端に矢印によって示されているプ
ロセス（処理）方向に動くことが解るであろう。多角形
（ポリゴン）１４の回転はビーム１２によって作られる
スポット１６を、プロセス方向を横断する方向に光受容
体１８の幅を横切るように移動させる。図１に示される
ようなスキャナの実際的な応用において、静電画像を作
る際の決定的なエラー源は、走査線２０の配置に不規則
を生じさせる光受容体１８の運動における異常である。
光受容体１８の運動におけるかかる異常は、光受容体を
回転させるモーターからの振動、光受容体１８のための
駆動トレイン（列）における不正確さ（ギアシステムか
ら等）、あるいは外部的な振動等多くの要素によって生
じるものであり、その結果周期的あるいは非周期的な変
動をスポット１６の通路に生じさせる。一般的に、移動
スポット１６と動く光受容体１８の相互作用は、ラスタ
ー２２を形成する様々な走査線２０が均一に間隔を保つ
ように、円滑で連続的な光受容体１８の定速運動の仮定
の上に成り立っている。光受容体１８の運動中の異常に
より、スポット１６が光受容体１８に沿った正確な並列
ラスター通路からはずれるか、あるいはラスター２２中
の走査線２０全体が隣接するラスター２２中の走査線と
一致しないような間隔を空けられる。光受容体１８の運
動におけるエラーにより光受容体１８のプロセス方向に
沿った不適切なスペーシングが生じるので、こうしたエ
ラーを補正するためにプロセス方向に沿ってスポット１
６の配置を調節しなければならない。つまり、これらの
異常の補正は、光受容体１８の時間的に依存する位置的
エラーを償うために、光受容体１８のプロセス方向の
「上流」及び「下流」へスポット１６をほんの少し動的
に移動させることによって行われる。

【０００８】（本発明の好適態様を示す以下の記述にお
いては、その基本的な光源として複数の半導体レーザー
を使用しているが、本発明を実施するための添付請求の
例に従い他の種類の光源も使用できることが明らかであ
ろう。例えば、レーザー走査システムを使用する代わり
に、光受容体１８の近くに置かれたプリンターの上に光
源を置くこともできることが考えられる。典型的にこの
ようなプリントバーはレーザー光を必要としない。同様
に、半導体レーザーの代わりに、光源は単一のガスレー
ザーの形であっても良く、そのビームは本発明の目的の
ために多数のビームに光学的に割り込むことが考えられ
る。）

【０００９】図２（Ａ），２（Ｂ）及び２（Ｃ）は図１
の線２−２を通る断面において走査線２２を形成するス
ポット１６の強度プロファイルを示し、本発明が「ビー
ムステアリング」、つまりスポット１６の強度プロファ
イルの微小距離による調節を如何に実施するかを描写し
ている。本発明においては、スポット１６は複数のオー
バーラッピング（重なり合い）の複合物、図においてＤ
１−Ｄ４で示される収束エレメント（より小さなスポッ
ト）として作られる。（以下の記述において、エレメン
トＤ１−Ｄ４は多くのエレメントの組合せである「スポ
ット」１６と区別するために称され、またスポット１６
も時には、「スポット」は光受容体上のビームの現れに
すぎないので、ビーム１６と称する。）スポット１６を
形成するエレメントＤ１−Ｄ４は図中、水平軸が光受容
体１８のプロセス方向に沿う光受容体１８の表面上の位
置に関連し、垂直軸が表面上の位置に対する任意の規模
の光強度を示すように描かれたグラフで表される。各エ
レメントＤ１−Ｄ４はレーザー光源１０の単一の個々に
制御可能なレーザーダイオードに一致する。図に示され
た好適実施例において、４つのエレメントＤ１−Ｄ４は
光受容体のプロセス方向に沿ってオーバーラップするよ
うに一列に並んでいる。図中、エレメントＤ１は複合ス
ポット１６の中心に関して「上流」に位置し、エレメン
トＤ４は「下流」に位置している。図２（Ａ）、２
（Ｂ）、２（Ｃ）に示される具体例では、４つの構成エ
レメントが複合スポット１６全体を形成し、外側エレメ
ントＤ１とＤ４は光受容体１８上に形成される時に、ラ
スター２２を形成する隣接する走査線２０における外側
エレメントとオーバーラップするよう指定されている。

【００１０】４つの収束ビームエレメントＤ１−Ｄ４は
共に、単一の複合スポット１６を光受容体１８上に形成
するようオーバーラップスペーシング（間隔）で焦点が
合わせられ、個々のエレメントＤ１−Ｄ４は少なくとも
通常「正規」である、つまり最大強度の単一モードで中
心モードから離れると強度が次第に衰退する光強度分布
を光受容体１８の表面に作り上げる。これらの正規分布
が図２（Ａ）−図２（Ｃ）において曲線で示されてい
る。図中、エレメントＤ１−Ｄ４のための特定強度曲線
は、先端を切られたあるいは「切り取られた」ガウス分
布の性質を帯びており、各分布曲線の外側部分が特定の
レーザー光源の性質の故に欠如している。しかしなが
ら、この一般的な正規分布の変形も可能である。複合ス
ポット１６を形成するスポットエレメントＤ１−Ｄ４の
強度の合計を表す点線によって示されるように、これら
４つの正規分布が光受容体１８の表面でオーバーラップ
する時、その合計は「面積の中心（図心）」として知ら
れる中心の対称点と関係がある。図心は複合スポット１
６の強度の「重心」として最も良く理解されよう。図心
はエレメントＤ１−Ｄ４を合計することによって生じる
そのプロファイルに沿ったリップルの故に、露光パター
ンにおける最大強度点と一致しなくても良い。

【００１１】複合スポット１６のステアリングを必要と
するエラーがない基本的なケースから始めると、図２
（Ａ）の比較的高モードのエレメントによって示される
ようにエレメントＤ２及びＤ３は全電力（フルパワー）
で作られる一方、エレメントＤ１及びＤ４は比較的低モ
ードのビームＤ１及びＤ４により示されるように、平均
して全電力の５０％で補足的なモードで駆動される。こ
れら４つのオーバーラッピングエレメントＤ１−Ｄ４を
合計する時、図２（Ａ）で点線で示される複合スポット
１６の全分布は、複合ビーム１６の正確な中心に位置す
る面積の中心を持っているように見える。更に、外側の
エレメントＤ１とＤ４は、ラスター２２を形成する隣接
線２０中の外側のビームで光受容体１８上に形成される
潜像の中でオーバーラップすることを覚えておく必要が
ある。このように、図示されたスポット中のＤ４の５０
％の電力が隣接スポット１６のビームＤ１の相応する値
とオーバーラップする時、二つのオーバーラッピングビ
ームは（画像上の両方の隣接点は光源がオンされること
を必要とすると仮定して）ラスター２２に沿った実質的
に連続した強度水準のため合計されて１００％の力にな
る。

【００１２】図２（Ｂ）及び図２（Ｃ）は図２（Ａ）の
場合と同じエレメントＤ１−Ｄ４を示しているが、複合
スポット１６の面積の中心を移動させるためビームのス
テアリングを含んでいる。図２（Ｂ）においては、エレ
メントＤ１の強度（または電力）水準が減少され、エレ
メントＤ４の最大値がそれに相応して増加しているのが
解るであろう。中心のエレメントＤ２及びＤ３はしばら
くの間全電力のままである。個々の４エレメントが合計
されて複合スポット１６を形成する時、複合スポット１
６の面積の中心（重みを付けられた露光中心）がエレメ
ントＤ３に向けて空間的に変位されているのが解るであ
ろう。しかしながら、複合スポット１６の全幅が図２
（Ａ）で示された基本的ケースでの全幅と同じであり、
またエレメントＤ４の強度がエレメントＤ１の犠牲によ
り増加するので、ひとまとめにして考慮される全てのエ
レメントＤ１−Ｄ４の全露光電力が不変であることに注
目すべきである。このように、スポット１６の全幅とス
ポット１６の全体の電力が不変のままであるが、スポッ
ト１６の面積の中心は走査線２０の中で空間的に移動
し、図中ページの外まで広がる。図２（Ｃ）は反対の場
合を示し、エレメントＤ１の強度はＤ４の犠牲により増
加し、複合スポット１６の面積の中心（図心）をエレメ
ントＤ２のモードに近付けるように移動させる。この場
合もまた、複合ビーム１６の全体の幅と全体の電力は不
変のままである。図２（Ｂ）において、複合スポット１
６の面積の中心は光受容体１８のプロセス方向の「下
流」に移動したが、図２（Ｃ）のスポットでは面積の中
心は「上流」へ移動したと言える。複合スポット１６の
最初と最後のエレメントの相対的な強度値の操作によ
り、複合スポットの面積の中心を非常に正確に再生可能
に走査線２０の幅内に向けることができる。

【００１３】図２（Ａ）−図２（Ｃ）で示された場合で
はＤ１とＤ４と名称付けられている複合スポットにおけ
る最初と最後のエレメントの相対値は、駆動電流をエレ
メントＤ１及びＤ４に相応する各々のダイオードに制御
することにより変化される。本発明の好適実施例におい
て、エレメントＤ１及びＤ４と関連する正味光学電力
は、複合スポット１６の不変の全体電力を面積の中心の
空間的な位置に関係なく維持するために、不変の全体値
を有している。所定の時間でのＤ１のＤ４に対する比率
の値は、光受容体１８の運動における異常探知により必
要に応じて変えられる。典型的に、Ｄ１のＤ４の電力に
対する割合は、その「理想的な」タイミングに関する
（つまり、一定速度での連続的な運動を仮定した）エン
コーダパルスの遅れの尺度である制御語次第である。光
学電力の出力が入力駆動電流と直線であると概算する
と、一定の正味出力の電力の必要条件は一定の正味駆動
電流の等価な必要条件により満たされる。

【００１４】本発明のビームステアリングの原則は以下
のように法則化することができる。本発明の上記４エレ
メントのディジタルデータ実施例にとって、各々エレメ
ントＤ１−Ｄ４のためのＰ1−Ｐ4で示される電力は以下
の様に与えられる：Ｐ1＝ａ［Ｌ］；Ｐ2＝Ｐ3＝
［Ｌ］；Ｐ4＝（１−ａ）［Ｌ］；ａ≦１式中、［Ｌ］
は露光される（オンまたはオフ）ピクセル用データ次第
で論理上１か０を示し、ビームは必要に応じてａを調節
することにより電子的に操縦される。ａ＝0.5でダイオ
ードＤ１及びＤ４が一つの電力単位を共有する時、ビー
ムは公称上中心に置かれる。単一の中心ダイオードを使
用し、光受容体１８上に比例上狭い強度プロファイルを
形成する３エレメントヴァージョン用には：Ｐ1＝ａ
［Ｌ］；Ｐ2＝［Ｌ］；Ｐ3＝（１−ａ）［Ｌ］；ａ≦１
である。

【００１５】図３は回転式光受容体のエラー補正のた
め、本発明のビームステアリング原則を実施する一方法
を示す簡略化された一般的なシステム線図である。エン
コーダ３０は光受容体の物理的な運動を公知の方法で監
視するため、動く光受容体１８に機能的に取り付けられ
ている。エンコーダはモーター制御フィードバックルー
プに使用されるものと同一のものであると仮定するが、
必ずしも同一でなくても良い。エンコーダ３０は光受容
体１８の増分運動に相応して、交流ディジタル信号のよ
うな信号を生成する。エンコーダ３０の出力はフェイズ
ロックループ３２に送られ、更に直接アンドゲート３４
に分岐される。フェイズロックループ３２は、光受容体
１８の理想的な運動を表す平均化された理想周波数を得
るために、はずみ車の手法で周波数をエンコーダにロッ
クし、約９０゜遅らせた整合方形波を放出する。フェイ
ズロックループ３２の時定数は、フェイズロックループ
３２の出力周波数がロックされた時にエンコーダ３０を
通して公称システムスピードを追跡するが、残留高周波
運動雑音がないように、残留雑音スペクトルに対する主
寄与より長く、つまり５０から１００ミリセカンドにな
るように選択する。利得と時定数が適切に調節されて、
露光位置がエンコーダ３０からの波連によって表される
瞬間的な信号よりむしろ、フェイズロックループ３２か
らの相対的に安定した周波数の写像（マッピング）にな
る。

【００１６】エラー補正システムに関連する波形の典型
的な同時存在例が図４に示されている。ここではＡで示
されているエンコーダ３０からの直接の信号が、アンド
ゲート３４のフェイズロックループ３２からの信号Ｂと
比較されている。フェイズロックループ３２からの波形
Ｂのパルスは波形Ａのパルスに約９０゜遅れている。し
かしながら、波形Ａのパルスの継続時間は波形Ｂのパル
スが一定であるのに対して一定ではない。波形Ａのパル
ス持続時間の不一致は波形Ｃのパルス持続時間において
明らかである。図３に示されているシステムにおいて、
波形Ｃの各パルスの継続時間は、本例において図示され
た８MHzの周波数を持つ外部発振器３６がカウンター３
８及び４０を駆動し、２５６の等しく割り当てられた時
間ユニットの解像度を持つエラー信号Ｃの測定を得るよ
うな配置により測定される。図示されているシステムに
おいて、カウンター３８と４０は波形Ｃの変化する持続
時間を持ったパルスの各々リード（先端）エッジとトレ
イル（後端）エッジによって起動されたり停止され、こ
のようにしてエラー信号Ｃのパルスの長さを正確に測定
し、次にＤ１及びＤ４からのビームの相対的強度を制御
するように適用され、次に光受容体１８上のスポット１
６の面積の中心位置に直接的な影響を与える。このよう
に、光受容体１８の運動の時機を合わせた異常がエンコ
ーダ３０の出力信号として現れ、複合スポット１６の上
流・下流位置が補償のために調節される。

【００１７】図３に示されている実施例では、各エラー
信号Ｃの時を指定した持続時間値が８ビットカウンター
４０からラッチ４２にロードされ、ラッチ４２はディジ
タルアナログ（Ｄ／Ａ）変換器４４に送られるスポット
１６の面積の中心位置の必要な補償に対応するディジタ
ル語を保持する。ディジタルアナログ変換器４４は２つ
の相補的な出力を有しており、一方はダイオードＤ１の
出力強度を制御し、他方はダイオードＤ４を制御し、ひ
とまとめで考えられるダイオードＤ１とＤ４の電力出力
強度の合計が常に不変であるような方法で配置されてい
る。エラー信号Ｃの持続時間を測定するために８ビット
カウンター４０を使用し、Ｄ１及びＤ４の相対値が２５
６ユニットの一部の解像度に調節される。このＤ１及び
Ｄ４の電力間の鮮明な解像度は、複合ビーム１６の面積
の中心位置の比較的正確な調節に移る。図３で示される
ように、ステアリング回路４６はビームＤ２及びＤ３用
ダイオードに一定の全電力駆動を提供し、Ｄ１及びＤ４
用ダイオードに供給される相補的電力を提供する。（な
ぜなら、例示されているような簡単な形態では、エレメ
ントＤ１−Ｄ４の結果として光受容体表面上の電力放射
はダイオードＤ１−Ｄ４と関連する電力出力に対して一
対一の関係を持ち、同じ参照番号が結果として生じるス
ポットエレメントとその対応するソースダイオードに適
用される。）ステアリング回路４６は示されているよう
に、各々の外側ダイオードＤ１及びＤ４と関連するトラ
ンジスター（または等しい電流源）を備えた一組の並列
レーザーダイオードＤ１−Ｄ４を持つ。ディジタルアナ
ログ（Ｄ／Ａ）変換器４４は相対的電流を制御し、それ
により上記の関係において外側ダイオード間に望ましい
電力関係を作り上げるために、相補的アナログ電圧レベ
ルを持った二つのトランジスターの基礎を提供すること
により、外側ダイオードの出力光学力を制御する。広い
操作範囲に亙って使用される時に、正確に装置のしきい
値を調整し、傾斜効率を調和させ、実際の商業的レーザ
ーダイオード装置に存在するであろう二次的影響を補正
するために、図３のディジタルアナログ変換器４４の種
々の出力電圧と、外側レーザーダイオードＤ１及びＤ４
によって出される相応する光学強度との間に正確に一対
一の関係を提供するためには、図３に示されたものとは
異なるより精巧な特注回路ネットワークを必要とするこ
とは電子工学に関係する業者にとっては自明のことであ
ろう。しかしながら、多くの商業的に利用可能な装置に
とって、駆動電流を持った出力強度の線形性が優れてお
り、しきい値が公称操作点の近くでは精巧なネットワー
クを必要としない程度に充分調和している。

【００１８】回路４６に示された各々のダイオードは光
受容体に直接光を放射するレーザーダイオードである。
ダイオードＤ１−Ｄ４への最終的な入力はトランジスタ
ー４８から行われ、望ましい画像の走査において所定の
点で望ましい画像の特定のピクセルが活性化されている
か（つまり、白く印刷されている）、または不活性化さ
れている（つまり、黒く印刷されている）かによって、
入力が行われたり、行われなかったりする。所定の時間
に光受容体１８に写される特定ピクセルが黒く印刷され
ている場合、ステアリング回路４６のトランジスターか
ら如何なる電流も流されない。

【００１９】ラッチ４２からディジタルアナログ変換器
４４に送られる制御語は、理想的なタイミングに関する
エンコーダパルスの遅れの尺度である。スポット１６の
面積の中心の最大下流限度に相応するエンコーダ信号の
エラーのため、ダイオードＤ１はＤ４をオフにした状態
で、電力全開の状態になる。エンコーダ信号の上流限度
に相応する信号で、ダイオードＤ１は完全にオフになり
Ｄ４が電力全開になる。エンコーダ３０の解像度とカウ
ンター４０の予負荷値は、ディジタルアナログ変換器４
４の出力がエラーのない場合のためほぼ平均化される。
ダイオードＤ１−Ｄ４に適用される補正度合を制御する
補正回路の利得、及び信号Ｃにおける所定のタイミング
エラーのための光受容体１８上のスポット１６の複合ビ
ーム面積の中心の位置における効果的な移動は、ディジ
タルアナログ変換器４４に供給される基準電圧を変化さ
せるか、もしくはその代わりに、カウンター４０の予負
荷値に適当な変更を加えて発振器３６の公称操作周波数
を変えることによって調整することができる。ディジタ
ルアナログ変換器４４の基準電圧の変更により、アナロ
グ出力電圧が比例的に概算され、それに従って面積の中
心の位置が所定のタイミングエラーのため多少移動され
る。代わりに発振器３６の操作周波数の変更は、全体の
感度を増減させ、そのため信号Ｃにおける所定のタイミ
ングエラーがカウンター４０の終了点において、またデ
ィジタルアナログ変換器４４を制御するラッチ４２の内
容において多少の微分変更を生じさせる。

【００２０】図５は駆動電流の相対値を示し、またそれ
によりディジタルアナログ変換器４４にロードされるデ
ィジタルエラー信号の関数としてＤ１及びＤ４によって
放射される光学力を示すグラフである。詳細に示される
ように、入力がディジタルで行われるので、グラフの対
角線は実際のところ連続のユニタリーステップである。
ディジタルアナログ変換器の出力を制御するラッチ４２
のディジタル内容はエラー信号Ｃの持続時間と直線的に
関係し、従って光受容体の時間的遅れ、つまり光受容体
１８の正味の位置と直線的に関係する。

【００２１】光受容体１８の純粋な位置的エラーがピク
セルの一部分（つまり、複合スポット１６の幅の一部
分）を決して越えない場合、フェイズロックループ３２
は光受容体の速度制御サーボモーターのための（およそ
概算された）基準として使用される同じ周波数の電源と
置き換えても良い。フェイズロックループ３２はエンコ
ーダ３０の平均または中間の周波数を自動的に追跡し、
比較的寛大なロック周波数帯を有する安定化周波数を提
供するための簡単な方法である。

【００２２】光受容帯１８の運動における異常に加え
て、ラスター２２を形成する走査線２０の配置における
エラーの他の二つの主要原因は、光受容体１８を横切っ
てビームスポット１６を移動させる際の多角形１４の運
動における不完全性、主に切子面のサインと称されるエ
ラー及びぐらつきとして知られる不完全性から生じてい
る。

【００２３】製造段階での小さなエラーのため、多角形
１４の異なった切子面１３は、多角形の回転軸に関して
一様に必ずしも全てが正確に整列しているとは限らな
い。このように、多角形１４上の連続した切子面１３か
らの反射により生じたスポット１６が光受容体１８のプ
ロセス方向に横断して移動するので、かかる不完全性に
よって、プロセス方向に関する公称通路から上流及び下
流への、結果的に生じた走査線２０の意図しない転置が
生じる。一般的に回転式多角形１４の「サイン」と称さ
れるかかる切子面対切子面エラーの補正は、ビームステ
アリング計画に包含することができるが、但し、そのサ
インが充分小さく、つまりビーム幅の一部分より小さく
て、運動特性プラス切子面エラーの補正のための混合ス
テアリングがピクセルの３分の１より小さくなければな
らない。これは動的走査ごとの基準でルックアップ表か
らカウンター４０に適切な数値を予めロードすることに
より最も簡単に実施できる。

【００２４】ぐらつきとして知られる不完全性は、多角
形集団の回転及びその軸受けのモーター駆動軸に関連す
る小さく非周期的な幾何学的エラーである。実際的な応
用において、多角形は必然的にかなり速い速度で回転し
なければならないことを理解しておく必要がある。軸受
けの種類及びデザインによって、示差加熱及び運転荷重
にもかかわらず、かなりの軸受け寿命と円滑な操作に矛
盾しない最小の間隙がある。結果として、小さな機械的
不整、動的不均衡、及びジャイロ力の相互作用により軸
受けの圧力内で多角形軸アセンブリの効果的な回転軸の
不規則な極微方向付けが起こる。該かるエラーを一般的
に「ぐらつき」と称し、性質上非周期的でありがちであ
る。切子面サインとぐらつきエラーの両方をひとまとめ
にして、「ビームぐらつき」と称することが一般的であ
る。どちらの異常も光受容体自体の運動におけるエラー
によって生じるものと同じ結果を生じるが、かかるエラ
ーの原因が実際には、光受容体の運動における変化より
むしろ多角形１４の幾何学における不整によるものであ
ることに注目する必要がある。

【００２５】図６（Ａ）−図６（Ｄ）は多角形１４の無
作為のぐらつきにより生じる異常を、多角形１４と光受
容体１８の間に配置された円筒レンズと共に、本発明の
マルチスポット・システムを使用してどのように補正す
るかを示している。図６（Ａ）はかかる円筒レンズ７０
の一般的な機能を示している。多角形１４の切子面１３
の表面上の定点からの拡散光が光受容体１８の表面に収
束されるように、円筒レンズ７０の曲率及び位置を決め
る。この構成では、物体距離Ｌと画像距離Ｆは円筒レン
ズ７０の光学的共役である。ここで述べている好適実施
例では、円筒レンズ７０の物体距離Ｌは画像距離Ｆに比
べて非常に大きく、Ｌ対Ｆの割合は約３０：１の縮小と
なる。図６（Ａ）−図６（Ｄ）において、通路Ｌはまっ
すぐに示されているが、当業者にとっては、効果的な物
体距離Ｌは硬質平面鏡の単純配列の数によるコンパクト
マシン構造物内に収容されることが自明であろう。

【００２６】図６（Ｂ）は多角形１４の回転につれて、
多角形１４の切子面の表面方位が如何に変化しあるいは
ぐらつくかを示している。通常、このようなぐらつきは
多角形１４の切子面からのビームの反射によって生じる
スポット１６を誤配置するという結果を生み出す。しか
しながら、図６（Ｂ）に示すように、システムにこのよ
うに配置された時、円筒レンズ７０の影響により多角形
１４の幾何学における小さな角エラーが妨げられ、その
結果多角形１４からレンズ７０を貫通する狭ビームがレ
ンズ７０の中心に向けて収束され、かかる狭ビームが実
際にレンズ７０を貫通する場所に関係なく、スポット１
６がレンズ７０の軸に平行な線に沿って光受容体１８上
に形成される。シリンダー（レンズ）７０の最適形状は
横断面において完全に円形の弓形からわずかにはずれて
いることが当業者には理解できるであろう。

【００２７】図６（Ｃ）は本発明のマルチスポット・コ
ンセプトの４スポット例が、如何にしてビームのぐらつ
き補正のために円筒レンズを使用する光学スキャナ構造
物に具体化されるかを示す概略線図である。多角形の切
子面で拡散する連続したビームを生じさせ、光受容体１
８上の共通の線に再収束させ、それによってぐらつきを
取り消すことに加えて、円筒レンズ７０は多角形の切子
面に位置する虚像源Ｄ１−Ｄ４により放射される光の個
々に拡散する波面を再配向し、一般的に焦点またはビー
ムウエストと称される収束波面を光受容体１８の表面に
形成させるためにも使用される。図６（Ｃ）に示されて
いるように、多角形１４の表面のぐらつき平面で垂直に
転置された４つの虚像源は、光受容体１８上に４つの垂
直に隣接して集められたスポットまたはビームウエスト
を投射する。３０：１という好ましいＬ対Ｆの割合で、
円筒レンズ７０は虚像源Ｄ１−Ｄ４の１：３０の間隔で
光受容体上に４スポットを構成する光学的に縮小された
画像を形成する。図６（Ｄ）は円筒レンズ７０のぐらつ
き補正特性が如何にして個々の光源のために同時に保た
れるかを示している。

【００２８】典型的な多角形ビームは１アーク分あるい
は0.29ミリラジアンのオーダーの残留ぐらつきを示す。
商業的に実用的な寸法のスキャナーでは、これは円筒レ
ンズ７０の表面で約１０ミル上下するビームのぐらつき
を意味する。シリンダーで結合されるビームのぐらつき
及びビーム幅は約３０ミルで、シリンダーのほんのわづ
かな部分だけが実際に使用されていることを示唆してい
る。円筒レンズ７０の適正な幅は約５ミリであることが
解っている。ぐらつきが無ければ、被写界深度はビーム
ウエストの範囲によって決定される。ぐらつきが加えら
れると、ビーム収束の極端な状態が効果的な焦点深度に
寄与する。

【００２９】図７はラスター２２の走査線２０であるか
のように、空間的に一緒に結ばれた多数の複合スポット
１６の補外である。複合スポット１６の個々のエレメン
トが５０％の点でスポット内でオーバーラップするよう
計画され、複合スポット１６の外側エレメントが連続す
る走査の外側エレメントにオーバーラップするよう意図
されている場合、公称条件は外側スポットが５０％の電
力で操作されることであり、その結果各複合スポット１
６の効果的なビーム幅は各々個々のダイオードＤ１−Ｄ
４から放出される単一エレメントの公称幅の３倍とな
る。示されている隣接走査線中のピクセルが黒く印刷さ
れる（光受容体の放電がない）場合、該ピクセルの４つ
のエレメント全ては隣接走査の該部分で切られる（オフ
にされる）。このような条件下では、黒くなるよう意図
されている前の走査のエレメントＤ４が、白くなるよう
意図されている次の走査のエレメントＤ１とオーバーラ
ップする光受容体上の点が、隣接走査の黒と白のピクセ
ル間の境界を限定する５０％レベルで露光される。次の
走査において両方のピクセルが黒か白のどちらかである
場合、次の走査でエレメントＤ１及びＤ４からの２つの
類似した半露光をオーバーラップさせることにより、隣
接走査において連続する露光レベルを指示する０％（Ｄ
１黒＋Ｄ４黒＝黒）か１００％（Ｄ１白＋Ｄ４白＝白）
の光受容体の放電を生じさせる。全ての場合において、
均一の露光のための唯一の必要条件は、電力レベルＤ１
＋Ｄ４が常に一定であるように複合スポットのエレメン
トが駆動されることである。

【００３０】本発明の前述の記述は、複合スポット１６
が定義され、３つか４つのエレメントによって満足でき
る解像度に舵取りされる具体例に適用される。光受容体
１８の運動における欠陥を全体として装置のデザインに
よって制限することができれば、上記デザインは最も効
果的であり、各スポット１６の配置におけるエラーがわ
ずかにピクセルの幅の３分の１に抑えられる。言い替え
ると、面積の中心の舵取り（ステアリング）範囲が光受
容体上の複合スポット１６の幅よりかなり小さく制限さ
れているので、より大きなエラーの度合いは簡単には補
償できない。しかしながら、本発明をより大きな範囲の
異常の補正のために更に修正することができる。

【００３１】本発明が光受容体１８の運動におけるエラ
ーを補償する方法であるビームステアリングは、上述し
たように、複合ビーム１６の面積の中心を光受容体が動
くプロセス方向の「上流」または「下流」にわずかに移
動させる。ビームスポット１６が複数の線２０を通して
走査されラスター２２を形成し、運動エラーを補償する
ために露光する４エレメントスポットの効果的中心をそ
の幅の３分の１以上移動させる必要がある時、効果的な
複合光源とそれによって生じる露光スポットの中心の変
位範囲を伸ばすために追加的な光源エレメントなしに
は、適切に「補正された」ビームスポット１６を生み出
すことができない。つまり、光受容体表面の機械的位置
エラーにより必要とされるビームスポット１６の効果的
な変位が、ラスター２２を形成する走査線２０の細かさ
に匹敵する場合、補正システムの修正が必要となる。

【００３２】大規模な光学補正の問題を解決するための
技術の一つは、ラスター２２の複数の走査線２０を光受
容体１８の表面に同時に搬送するために応用されるエレ
メントを広範囲に配列した形態のレーザー光源１０を提
供することである。本発明のビームステアリング技術を
このようなマルチラインシステムに具体化する（組み込
む）ことができる。マルチラインシステムで、例えば複
数の個々のしかしオーバーラップした３エレメント走査
線を光受容体１８に同時に適用することができる。本発
明のビームステアリングは、この広ビーム配列の効果的
位置を各々の個々の線の外側ビームエレメントの相対強
度を同時に制御することにより必要に応じて移動できる
やり方で具体化できる。多数の線が一度に露光されるの
で、（光受容体１８または多角形１４のぐらつきの運動
によって生じた）運動特性エラーは、全ての線に露光時
に同様に影響を与え、線２０の間の異常からの目に見え
る欠点を避ける。

【００３３】図８−図１０は走査線２０の複数配列のス
テアリングを実施するためのサーキットリーの部分を示
している。図８では、この場合は３エレメントによって
形成された単一の複合ビームスポットを作り上げるサー
キットリーが示されている。ステアリング回路は図３で
描かれたステアリング回路４６の３スポットバージョン
にすぎないので、４６’で示されている。同様に、ディ
ジタルアナログ変換器４４’も、図３の回路の機能と同
様に機能するので、そうした番号が付けられている。こ
の実施例における複数（多重）走査線の個々の走査線は
かかる３スポットステアリング回路４６’により制御さ
れる。各ピクセルのための画像形成データはオン・オフ
制御（ここではトランジスタースイッチの形態である）
４８’により提供される。

【００３４】図９は複数の入力（データ０、データ１、
その他でマークされている線として示されている）から
のデータを複数の並列ダイオードの出力に変換するた
め、複数のステアリング回路４６’が並列形態で配列さ
れる様子を示している。図９において、スイッチ４８’
により制御される異なったデータ線が各々のステアリン
グ回路４６’に各々接続されており、それらは各グルー
プの外側ダイオードが隣接のステアリング回路４６’に
より共有されるように配列されているのが解るであろ
う。各ステアリング回路４６’には、ａ、ｂ、ｃとマー
クされ、並列した３つのトランジスターが含まれてい
る。各出力回路４６’の外側のトランジスターは隣接線
の隣接する外側トランジスターで並列回路を形成してい
る。これらの隣接走査線の隣接外側トランジスターは一
つのダイオードを共有し、それは隣接線の外側ダイオー
ドのための出力の相補性を付与する。一組の走査線の全
てが同じ量を操作するので、一つの走査線のＤ１への電
力と隣接走査線の（３スポットシステムでは）Ｄ３への
電力が常に合計されて全電力になる。望ましい画像を描
く際に所定の点で一つかそれ以上の線がオフの（つまり
黒く印刷される）場合、隣接する「オン」の線のスポッ
トＤ１及びＤ３がステアリングの程度に一致する部分電
力の必要レベルで作動する。

【００３５】図１０は図９の各出力回路４６’に重ねら
れる光学回路を示しており、それによってトランジスタ
ーｃの制御値が各出力回路４６’用隣接トランジスター
ａ及びｂへの出力平均から引き出される。図１０の回路
は、全てのダイオードが同じ様に共通の尺度を持ち、デ
ィジタルアナログ変換器４４’への単一の基準電圧入力
により制御されるように、ダイオードへの全体の電流を
調節する簡単な方法を提供する。画像表面の走査速度が
特種なプロジェクターレンズを用いるような走査角の関
数である場合、これは動的露光調節を提供するための有
効な配列である。

【００３６】２ｎ＋１の接触ダイオードのストリングを
各々異なるデータを持ったｎ本の並列露光ビームを操縦
（ステアー）するために使用することができる。全ての
データラインに影響を及ぼす同時的な運動エラーの故
に、単一のステアリングパラメーターを全ての露光に同
時に適用することができる、つまりダイオードＤ１−Ｄ
ｎと各々関連する電力Ｐ0−Ｐnが次のように配列され
る： Ｐ0＝ａ［Ｌ0］；Ｐ1＝［Ｌ0］；Ｐ2＝（１−ａ）［Ｌ
0］＋ａ［Ｌ1］； Ｐ3＝［Ｌ1］；Ｐ4＝（１−ａ）［Ｌ1］＋ａ［Ｌ2］；
Ｐ5＝［Ｌ2］； Ｐ6＝（１−ａ）［Ｌ2］＋ａ［Ｌ3］；．．．． Ｐn＝［Ｌm］；Ｐn-1＝（１−ａ）［Ｌm-1］＋ａ［Ｌ
m］； Ｐn+1＝（１−ａ）［Ｌm］＋ａ［Ｌm+1］； この並列データは左からの（１−ａ）及び右の隣接デー
タ源からの（ａ）と比例した中間ダイオードと共に全て
の他のダイオードに直接供給される。前述の例における
ように、ビームはａ＝0.5の時に公称上平均化されてい
る。

【００３７】並列した複数走査線の同時結像（イメージ
ング）用光源配列を使用する構造物は、各々４エレメン
ト及び３エレメント複合スポットの場合で論じた、３分
の１及び２分の１のピクセル限度を越える運動エラー補
正用の直線的技術に有益である。延長された光源配列は
ラスター２２を形成する走査線２０の内で様々な隣接エ
レメントに一定手順に従って送られる実際のデータ出力
を取り替えることによりビームステアリングを可能にす
る。即ち、走査線２０を形成するために送られる画像用
データは事実上、同時に書き込まれた並列走査線内のビ
ームステアリングの延長になるように処理される。図１
１、１２において、各ダイオードが光受容体上の単一ス
ポットエレメント用の位置に相応するダイオードの配列
は、連続のダイオードの中の３つの隣接ダイオードの選
択されたサブセットが操縦された３エレメント複合ビー
ムを、多くを上述した発明の３エレメントの実施例にお
ける複合ビーム１６として、作るために使用できるよう
に制御される。３つの選択されたダイオードの位置が光
受容体上のビームの位置に影響を及ぼすので、図１１の
回路を必要なだけのダイオードで延長することによりビ
ーム位置とステアリングの範囲を簡単に増加させること
ができる。回路の各ダイオードと関連して一組の３トラ
ンジスタースイッチがあり、ここでは下記に於て論じら
れる回路の端子と一致するよう１から１５まで番号付け
られており、望ましい位置に複合スポットのエレメント
を形成するよう活性化される３つの隣接ダイオードのサ
ブセットのダイオード配列に沿った位置を選択するよう
選択的に作動される。例えば、図１１の回路の左端の３
つのダイオードから３つのエレメントスポットを形成す
ることが望ましい場合、図１１において「０」とマーク
されたトランジスターだけが活性化される。この条件下
で、駆動電流が線図の左端の３つのダイオードにだけ供
給される。動く光受容体の位置的エラーが非常に大きく
て、この第一セットの３ダイオードのステアリングで可
能な面積の中心の転置（変位）では不十分である場合、
回路の中で「０」とマークされたスィッチが切られ、例
えば「１」とマークされたスィッチが入れられる。図１
１の回路から、「０」から「１」への変更が図の中の左
から二番目、三番目、四番目のダイオードを活性化させ
（作動し）、その結果最初のセットと比較してダイオー
ド間の間隔に等しい長さだけ右へ転置（変位）された新
しい３エレメントスポットが現れることが理解されるで
あろう。３ダイオードのどのセットが選ばれようと、該
セットの外側２つのエレメントに供給される駆動電流を
割り当てることによりビームを操縦する３つのトランジ
スターａ、ｂ、ｃと直列に、活動的な（作動）ダイオー
ドが配置され、該方法は上述の本発明の実施例にまさし
く類似している。

【００３８】本配置の利点は、３エレメントスポット
（３つの活性化された隣接ダイオードにより形成される
複合スポットの面積の中心）の転置（変位）が単なるビ
ームステアリングによって可能な転置より大きくなけれ
ばならない場合、ビーム制御のためのデータが最初のも
のに関連して次に隣接する位置にある３つのダイオード
の別のセットに単に移されるだけであることである。望
ましい転置をするために適切なスイッチを入れることに
より、より大きな直線配列の中の３つの隣接ダイオード
のサブセットが必要に応じて選ばれる。もっと入り組ん
だスイッチング網では、並列データの一つ以上の線が図
１１に示されたダイオードの直線アンテナ列に入り込む
ことが当業者には自明であろう。例えば、それに関連す
る３つのダイオードを持つ１つのデータ線だけを受け入
れるのではなく、例えば３つか４つの隣接走査線２０に
相応し、３つか４つの並列データ線と関連する多数のエ
レメントの活性化のためにアンテナ列に充分な数のダイ
オード源を必要とする、３つか４つの隣接データ線をも
受け入れるように回路を拡張することができる。Ｎ本の
並列データ線システムは予期される最大補正範囲を満足
させる追加的な端エレメントに加えて、３エレメントデ
ザインでは２Ｎ＋１個のダイオードを必要とし、３エレ
メントデザインでは３Ｎ＋１個のダイオードを必要とす
る。

【００３９】図１２は図１１の配置が上記図３に示され
たような運動エラー補正システムに含まれることを示す
システム線図である。図３及び図１２において、同型の
エレメントには同様の参照番号が与えられている。図３
の基本的システムと図１２の拡張システムとの間の主な
相違点は、図３において４０で示された（図１２におい
ては４０’で示されている）８ビットカウンターがオー
バーフローカウンターを含んでおり、それはつまりカウ
ンター４０’が図３の対応するシステムより長い持続期
間のタイミングエラーをカウントできることである。同
様に、余分のカウント能力は、タイミングデータの多く
のバイナリーディジット用規定はあるが、図３のラッチ
４２と機能においては同じであるラッチ４２’のために
余分なビット数を必要とする。例示された実施例におい
て、カウントにおいて大きなバイナリーディジットであ
るラッチ４２’からのタイミングデータの最重要部分
は、ディジタルアナログ変換器４４にはロードされず、
１５０で示されるデコーダーにロードされる。このよう
にしてタイミングエラーの空間的補正のための目盛りが
得られる。活性化（作動）されるべき回路の隣接ダイオ
ードのグループ選択を制御するために、大きなバイナリ
ーディジットがデコーダー１５０に送られ（即ち、ビー
ムスポットの大きな目盛りの転置）、一方タイミングデ
ータの「正確な部分」と呼ばれる、複合ビームの細かい
転置に相応する小さなディジットがディジタルアナログ
変換器４４に送られ、そこで選択されたダイオードの電
力配分によって複合ビームを操縦する際に使用される。
デコーダー１５０のアドレス入力として適用される「大
きな目盛りの」データビットが１６の出力線の一つを選
択的に活性化させ、各出力線が一組の３ダイオードと関
連する。図１２において０−１５でマークされている出
力線が、図１１の回路においてダイオードを制御する等
しい番号が付けられたスイッチに相応する。

【００４０】図８−図１０あるいは図１１−図１２の修
正されたシステムは、画像書き込み速度またはデータ帯
域幅を増大させ、大きな範囲の絶対的転置に拡張するた
めに、基本的ビームステアリングメカニズムの複数走査
線への拡張を示す例として使用されている。該システム
は光受容体１８の運動により生じる位置的エラーを補正
するために必要な転置の範囲もしくは正確度を拡張する
ためだけでなく、多角形１４の欠点により生じるエラー
の補正のためにも使用でき、その上ページからページへ
の画像表示のためにラスター２０を形成する走査線２２
の正確な軌跡を再位置決めし、走査線の歪みを取り除
き、タンデムカラー構造物のような精密イメージング）
システムにおける重要な問題である走査線の弓形をまっ
すぐにするような静的及び偽静的補正にも適用される。

【００４１】提案できる本発明のシステムの別の変形
は、単一走査線２０における走査中のビームステアリン
グ技術である。この技術は「歪み」及び「弓形」として
知られる走査装置の共通の光学的問題を解決するのに効
果的である。歪みは光受容体に関する走査線の回転方位
におけるエラーである。図１に戻って、走査線２０は光
受容体１８の軸と平行な線に相関してわずかに回転され
る。光受容体が平面あるいはベルトである場合、走査線
２０はベルトの端に垂直な線のように、重要な基準線に
相関して歪むことがある。更に、多くのラスター２２が
カラードキュメント・プリンターにおけるように重複す
る場合、異なるラスターの異なる歪みがドキュメント上
の点から点にカラーの帯模様や色相変化を導く顕著な干
渉結果を生じさせ、コピーの品質に重大な損害を与え
る。弓形は光受容体上にまっすぐな線ではなく、中心の
中点付近でたわむ線を形成する走査線の特性である。単
色プリンターでは、ラスター内の線のわずかな弓形は通
常顕著なものではない。しかしながら、カラープリンタ
ーあるいは複写機では、各々の重複したカラーラスター
にとって弓形の異なる程度及び／または方向が、ドキュ
メント上に顕著なカラーの帯模様を生じさせる重大な原
因となる。製造状態では、走査線２０に明白な歪み及び
弓形の両方が同時に生じることも一般的である。

【００４２】歪み及び弓形の問題は、スポット１６の面
積の中心が装置の光学的配置に固有の歪みや弓形を妨げ
るために操縦されるような方法で、各々の走査線２０を
走査中のビームステアリングによって解決される。画像
表示の目的のための静的リーディングエッジ調整を、例
えば、粗雑な画像の一列整列のための走査線の再編成を
少量の補正のためのビームステアリングと組み合わせる
ことによって実施することができる。歪みを正すために
は、スポットを形成するエレメントが動的に調節され
て、歪んだ方位に起因して走査に沿って直線的に変化す
る本来の転置エラーを妨げる方向に、光受容体の上流ま
たは下流方向へと面積の中心を移動させる。スポットが
走査の始めから終わりまで移動するにつれて、面積の中
心は予定通路の中の中心に保たれるように量を変化させ
ることによって再位置決めされる。このように、相入れ
ない感覚の固有の歪みを妨げるため、スポットが走査の
始めには上流に、そして走査の終わりには下流に配置さ
れても良く、それによって未補正及び補正された通路が
交差するために如何なる転置も適用されない走査の中心
近くの点を必然的に通る。弓形も装置の固有の弓形を妨
げる補正転置を行うために同様の方法で、走査線の終わ
りにスポット１６をある方向に操縦し、ゆっくりと連続
した方法で走査線の中間に向けて反対の方向に操縦する
ことにより正される。

【００４３】歪み及び／または弓形補正にふさわしいラ
イン間ビームステアリングを行う可能性のある方法の一
つは、走査線２０に沿ったスポット１６の位置に反応す
るビームステアリング制御を、いつ何時でも印刷される
ピクセルのアドレスから簡単に決定される所定の時に提
供することであろう。スポット１６が光受容体を横切っ
て移動するにつれて、ステアリングの範囲を微妙に変化
させるビームステアリング・ルーチンは、多角形１４の
切子面及びピクセルアドレスに示されたディジタルルッ
クアップ表で制御され、各切子面１３が通る度に循環さ
れる。このような配置は、各走査線２０、つまり各切子
面１３にとって同じであることが期待される歪み及び弓
形の補正、及び使用中の切子面に依存する切子面サイン
エラーの補正を可能にする。

【図面の簡単な説明】

【図１】走査システムのエレメントの簡易化された正面
図である。

【図２】（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）は、図１の線２−２
の横断面を通して見られるように、光受容体上の個々の
走査線の強度プロファィル図である。

【図３】走査システムにおいて運動エラー補正に使用さ
れるような、本発明のビームステアリング原則の一例を
示すシステム線図である。

【図４】図３に示された本発明の一例の操作を示す一連
の波形線図である。

【図５】図３に示された本発明の一例の操作において、
二つの半導体レーザー光源に供給される電力の関係を示
すグラフである。

【図６】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）は、本発明
のビームステアリング原則を具体化する走査システムに
おいて円筒レンズの操作を示す一連の平面図である。

【図７】本発明の実施例により作られる一連の収束ビー
ムエレメントを示す線図である。

【図８】本発明の他の実施例を示す一連の回路の内の一
回路図である。

【図９】本発明の他の実施例を示す一連の回路の内の一
回路図である。

【図１０】本発明の他の実施例を示す一連の回路の内の
一回路図である。

【図１１】本発明の他の実施例を示す回路の線図であ
る。

【図１２】本代替例の別の局面を示すシステム線図であ
る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 選択的に帯電感光性表面を放電するため
   に使用されるスキャナであって、 帯電感光性表面の電荷を放電するため複合光スポットを
   形成する帯電感光性表面に衝突する複数の光ビームを放
   射する手段と；複数の光ビームの内少なくとも一つのビ
   ームの強度を変化させ、帯電感光性表面の複合スポット
   の面積の中心の位置を調節する手段と、 を備えたスキャナ。