JPH06114724A - 磁気ヘッドの研磨方法 - Google Patents
磁気ヘッドの研磨方法Info
- Publication number
- JPH06114724A JPH06114724A JP26040392A JP26040392A JPH06114724A JP H06114724 A JPH06114724 A JP H06114724A JP 26040392 A JP26040392 A JP 26040392A JP 26040392 A JP26040392 A JP 26040392A JP H06114724 A JPH06114724 A JP H06114724A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface plate
- polishing
- magnetic head
- ferrite core
- silicic anhydride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/048—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces of sliders and magnetic heads of hard disc drives or the like
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 加工面の傷、角部に発生する縁だれを低減
して加工歪を低減し、高精度な研磨方法を提供する。 【構成】 コアの突合せ面を、弾性変形が小さく耐薬品
性の優れている樹脂製の定盤面にコロイダルシリカ液を
滴下しながら、押圧しつつ揺動自在に密着させ研磨をす
る磁気ヘッドの研磨方法。
して加工歪を低減し、高精度な研磨方法を提供する。 【構成】 コアの突合せ面を、弾性変形が小さく耐薬品
性の優れている樹脂製の定盤面にコロイダルシリカ液を
滴下しながら、押圧しつつ揺動自在に密着させ研磨をす
る磁気ヘッドの研磨方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドの製造過程
における加工歪を低減し、フェライトの磁気特性の低下
を防ぎ、磁気ヘッドの記録再生特性を向上させるための
研磨方法に関し、特に磁気ヘッドのギャツプを形成する
突合せ面の研磨方法に関する。
における加工歪を低減し、フェライトの磁気特性の低下
を防ぎ、磁気ヘッドの記録再生特性を向上させるための
研磨方法に関し、特に磁気ヘッドのギャツプを形成する
突合せ面の研磨方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来例−１として軟質金属製の定盤上
へ、ダイヤモンド砥粒を有するラップ液を定期的に塗布
しながら研磨加工する方法がある。従来例−２として
は、定盤材に研磨布または、研磨紙を用いその定盤上に
コロイダルシリカ液を滴下し化学反応を利用したケミカ
ルラップを行う方法がある。更には、従来例−３とし
て、特開昭−７２１８号公報には、硫酸と燐酸を主成分
とした溶液を用いて電解研摩をするという開示がある。
へ、ダイヤモンド砥粒を有するラップ液を定期的に塗布
しながら研磨加工する方法がある。従来例−２として
は、定盤材に研磨布または、研磨紙を用いその定盤上に
コロイダルシリカ液を滴下し化学反応を利用したケミカ
ルラップを行う方法がある。更には、従来例−３とし
て、特開昭−７２１８号公報には、硫酸と燐酸を主成分
とした溶液を用いて電解研摩をするという開示がある。
【０００３】従来例−１のものは、軟質金属製の定盤に
埋め込まれているダイヤモンド砥粒により微小な切削加
工をしているので、加工面に歪が深く残留し、磁気特性
が低下する。従来例−２のものは、化学反応を利用する
ために加工歪は低減できるが、定盤が軟らかいために角
部に縁だれを生じ、記録再生特性が低下する。従来例−
３のもは単結晶フェライトコア全体に施され、不必要な
部分まで研磨される。また面荒れを生じやすい。
埋め込まれているダイヤモンド砥粒により微小な切削加
工をしているので、加工面に歪が深く残留し、磁気特性
が低下する。従来例−２のものは、化学反応を利用する
ために加工歪は低減できるが、定盤が軟らかいために角
部に縁だれを生じ、記録再生特性が低下する。従来例−
３のもは単結晶フェライトコア全体に施され、不必要な
部分まで研磨される。また面荒れを生じやすい。
【０００４】本発明は、磁気ヘッドのギャップを形成す
る単結晶フェライトコア突合せ面の加工歪を低減し、加
工面の傷、角部に発生する縁だれを低減し、高精度な研
磨方法を提供することを目的とする。
る単結晶フェライトコア突合せ面の加工歪を低減し、加
工面の傷、角部に発生する縁だれを低減し、高精度な研
磨方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】磁気ヘッドのギャツプを
形成する単結晶フェライトコアの突合せ面を、弾性変形
が小さく耐薬品性の優れている樹脂製の定盤面に無水珪
酸の微粒子をコロイド溶液としたコロイダルシリカ液を
滴下しながら、押圧し回転させながら密着させて研磨を
することを特徴とする磁気ヘッドの研磨方法。
形成する単結晶フェライトコアの突合せ面を、弾性変形
が小さく耐薬品性の優れている樹脂製の定盤面に無水珪
酸の微粒子をコロイド溶液としたコロイダルシリカ液を
滴下しながら、押圧し回転させながら密着させて研磨を
することを特徴とする磁気ヘッドの研磨方法。
【０００６】
【実施例】以下、本発明の実施例について図１から図４
に基づいて説明する。図１には本発明の実施例の斜視
図、図２には加工状態の断面図、図３には磁気ヘッドの
概略図、図４には再生出力の記録電流依存性を示す。
に基づいて説明する。図１には本発明の実施例の斜視
図、図２には加工状態の断面図、図３には磁気ヘッドの
概略図、図４には再生出力の記録電流依存性を示す。
【０００７】図１に示すラップ盤３０の定盤２は曲弾性
率が２００〜５００ｋｇ／ｃｍ２、硬度ＨＲ３０〜１０
０の耐薬品性の優れている合成樹脂とし、図２に示すよ
うに定盤２の上面には、渦巻状または同心円状の６０〜
９０°のＶ溝を設ける。溝のピッチＰは０．１〜０．５
ｍｍとし溝上面の平坦部の長さＷは０．０３〜０．１ｍ
ｍとする。平坦部は少なくともフェライトコア１の加工
面ａまたはｂの範囲に２山以上接するようにし、フェラ
イトコア１を安定させることで、加工時のロ−リングを
防ぎ角部ｃの縁だれを低減する。また、この溝により研
磨液６を定盤２ヘ全体に均一に供給し、異物及び切り粉
の排出をさせる。
率が２００〜５００ｋｇ／ｃｍ２、硬度ＨＲ３０〜１０
０の耐薬品性の優れている合成樹脂とし、図２に示すよ
うに定盤２の上面には、渦巻状または同心円状の６０〜
９０°のＶ溝を設ける。溝のピッチＰは０．１〜０．５
ｍｍとし溝上面の平坦部の長さＷは０．０３〜０．１ｍ
ｍとする。平坦部は少なくともフェライトコア１の加工
面ａまたはｂの範囲に２山以上接するようにし、フェラ
イトコア１を安定させることで、加工時のロ−リングを
防ぎ角部ｃの縁だれを低減する。また、この溝により研
磨液６を定盤２ヘ全体に均一に供給し、異物及び切り粉
の排出をさせる。
【０００８】研磨液６には、無水珪酸（Ｓｉｏ2）の超
微粒子をコロイド溶液としたコロイダルシリカ液で、無
水珪酸の粒子径は３０〜１００ｎｍ、含有量は２０〜４
０％、水素イオン濃度はＰＨ９〜１１のアルカリ液とす
る。この研磨液６を定盤２へポンプにより、毎時５０〜
１００ｍｌ滴下させる。
微粒子をコロイド溶液としたコロイダルシリカ液で、無
水珪酸の粒子径は３０〜１００ｎｍ、含有量は２０〜４
０％、水素イオン濃度はＰＨ９〜１１のアルカリ液とす
る。この研磨液６を定盤２へポンプにより、毎時５０〜
１００ｍｌ滴下させる。
【０００９】また、フェライトコア１は接着剤により治
具５に接着する。この治具５を加工面が定盤２へ当接
し、定盤２の所定の位置で回転可能になる回転案内用の
ア−ム４により保持させる。治具５の重量は、加工面の
面圧が０．０２〜０．０７Ｍｐａとなるようにする。
具５に接着する。この治具５を加工面が定盤２へ当接
し、定盤２の所定の位置で回転可能になる回転案内用の
ア−ム４により保持させる。治具５の重量は、加工面の
面圧が０．０２〜０．０７Ｍｐａとなるようにする。
【００１０】次に、定盤２をモ−タ３により矢印Ａの方
向に５０ｒｐｍで回転させる。定盤２が回転することに
より、定盤２の内外周の回転速度に差が生じ治具５が矢
印Ｂの方向に自転し、加工面は定盤２の上面に押圧しつ
つ回転する。このことにより定盤２と加工面の間隙に研
磨液６が侵入し、粒子と加工物の接触点で熱による化学
的活性化と、力学的応力による微小反応部分が摩擦力に
よって脱落し研磨する。
向に５０ｒｐｍで回転させる。定盤２が回転することに
より、定盤２の内外周の回転速度に差が生じ治具５が矢
印Ｂの方向に自転し、加工面は定盤２の上面に押圧しつ
つ回転する。このことにより定盤２と加工面の間隙に研
磨液６が侵入し、粒子と加工物の接触点で熱による化学
的活性化と、力学的応力による微小反応部分が摩擦力に
よって脱落し研磨する。
【００１１】このようにフェライトコア１より軟質で、
フェライトコア１との化学反応に富む粒子により研磨を
するために、加工面に傷を残さない研磨ができる。その
結果、面粗度がＲａ０．３ｎｍになり加工歪層の深さは
０．１μｍ以下となった、また平面度は０．０２μｍと
加工面性状が向上した。
フェライトコア１との化学反応に富む粒子により研磨を
するために、加工面に傷を残さない研磨ができる。その
結果、面粗度がＲａ０．３ｎｍになり加工歪層の深さは
０．１μｍ以下となった、また平面度は０．０２μｍと
加工面性状が向上した。
【００１２】図４に実施結果を示す、この図はフェライ
トコア１とフェライトコア１１を本発明の方法と従来方
法で加工し、磁気ヘッド２０を試作したときの再性出力
の記録電流の依存性を示す。従来の錫定盤とダイヤ砥粒
の加工方法では、再性出力がＤであるのに対して、本発
明の加工方法では加工歪層が低減できたことにより、再
生出力はＣと１５％以上向上する。
トコア１とフェライトコア１１を本発明の方法と従来方
法で加工し、磁気ヘッド２０を試作したときの再性出力
の記録電流の依存性を示す。従来の錫定盤とダイヤ砥粒
の加工方法では、再性出力がＤであるのに対して、本発
明の加工方法では加工歪層が低減できたことにより、再
生出力はＣと１５％以上向上する。
【発明の効果】本発明の研磨方法を行うことにより、フ
ェライトブロックのギャップ突き合わせ面の傷、角部の
だれはなくなり加工歪を低減できた。その結果、フェラ
イトコアの磁気特性が向上し、磁気ヘッドの再生出力が
向上した。
ェライトブロックのギャップ突き合わせ面の傷、角部の
だれはなくなり加工歪を低減できた。その結果、フェラ
イトコアの磁気特性が向上し、磁気ヘッドの再生出力が
向上した。
【図１】本発明の実施例の斜視図
【図２】加工状態の断面図
【図３】磁気ヘッドの概略図
【図４】再生出力の記録電流依存性
１ フェライトコア ２ 定盤 ３ モ−タ ５ 治具 ６ 研磨液 ８ ギャツプ ２０ 磁気コア ３０ ラップ盤
Claims (1)
- 【請求項１】 磁気ヘッドのギャツプを形成する単結晶
フェライトコアの突合せ面を、弾性変形が小さく耐薬品
性の優れている樹脂製の定盤面に無水珪酸の微粒子をコ
ロイド溶液としたコロイダルシリカ液を滴下しながら、
押圧し回転させながら密着させて研磨をすることを特徴
とする磁気ヘッドの研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26040392A JPH06114724A (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | 磁気ヘッドの研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26040392A JPH06114724A (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | 磁気ヘッドの研磨方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06114724A true JPH06114724A (ja) | 1994-04-26 |
Family
ID=17347433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26040392A Pending JPH06114724A (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | 磁気ヘッドの研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06114724A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6802761B1 (en) | 2003-03-20 | 2004-10-12 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Pattern-electroplated lapping plates for reduced loads during single slider lapping and process for their fabrication |
-
1992
- 1992-09-30 JP JP26040392A patent/JPH06114724A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6802761B1 (en) | 2003-03-20 | 2004-10-12 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Pattern-electroplated lapping plates for reduced loads during single slider lapping and process for their fabrication |
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