JPH06114351A - 電子部品又は精密部品類の洗浄方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電子部品又は精密部品類の洗浄において、破
損することなく、簡便に、かつ短時間で効率よく複数枚
の被洗浄物を洗浄することを可能にする電子部品又は精
密部品類の洗浄方法及びその装置を提供すること。 【構成】 本発明の電子部品又は精密部品類の洗浄方法
は、洗浄液による一回以上の洗浄工程及び／又はすすぎ
液による一回以上のすすぎ工程を有する、電子部品又は
精密部品類の洗浄方法において、上記洗浄液又はすすぎ
液を仕込んだ洗浄槽内に、被洗浄物保持治具を装備した
回転軸を配設すると共に、被洗浄物を上記被洗浄物保持
治具により保持し、邪魔板を、上記被洗浄物保持治具の
回転面に対して略平行に且つ少なくとも該邪魔板の一部
が上記被洗浄物の回転半径内に入るように設置し、上記
回転軸を回転させることにより被洗浄物を回転させて洗
浄することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子部品又は精密部品
類の洗浄方法及びその装置、詳しくは、油脂、機械油、
切削油、グリース、液晶及びフラックス等の汚染物質が
付着した電子部品又は精密部品類の洗浄方法及びその装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
精密部品又は治工具類等の固体表面に存在する、油脂、
機械油、切削油、グリース、液晶及びフラックス等の有
機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼ
ン、キシレン等の炭化水素系溶剤；トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤；トリクロロ
トリフルオロエタン等のフロン系溶剤；界面活性剤やビ
ルダーを配合した水系の洗浄液等が使用されている。特
に、電子、電気、機械等の部品には、その高洗浄性、難
燃性という特性を生かしてフロン系溶剤又は塩素系溶剤
が使用されてきた。

【０００３】しかしながら、上記塩素系溶剤及びフロン
系溶剤を用いる洗浄液は、安全性、毒性、環境汚染性等
に大きな問題を有していることが明らかにされ、国際レ
ベルでその廃止が進められている。

【０００４】この様な背景から塩素系溶剤やフロン系溶
剤に替わる洗浄液として、テルペン系溶剤、炭化水素系
溶剤、アルコール系溶剤等の溶剤系代替洗浄液や界面活
性剤等を含有する水系の洗浄液が開発され、これらの洗
浄液を用いた洗浄方法は、通常、被洗浄物を洗浄液中に
浸漬すること又はシャワーノズルを用いて洗浄液を被洗
浄物に噴射すること等による洗浄工程とこれらの洗浄工
程と同様にして実施されるすすぎ工程とを有する。

【０００５】上記の被洗浄物を洗浄液中に浸漬すること
による洗浄工程又はすすぎ工程において適用される洗浄
方法としては、超音波振動法、揺動法、液中シャワー法
及び液中回転法等が挙げられる。また、シャワーノズル
を用いて洗浄液又はすすぎ液を被洗浄物に噴射すること
等による洗浄工程又はすすぎ工程において適用される洗
浄方法としては、シャワーノズルとして回転ノズルを用
いる方法及び被洗浄物を回転させながら洗浄液又はすす
ぎ液を被洗浄物に噴射する方法等が挙げられる。

【０００６】しかし、上記超音波振動法は、被洗浄物自
体が破損する場合があるという問題があり、上記揺動
法、上記液中シャワー法、及び上記シャワーノズルを用
いて洗浄液を被洗浄物に噴射すること等による方法は、
被洗浄物が単数の場合には効果的であるが、治具に複数
の被洗浄物がセットされた場合には全ての被洗浄物を効
率よく均一に洗浄することが困難となるという問題があ
った。また、上記液中回転法（実開昭６１−１０９１３
６号公報参照）は、上記の問題を解決する比較的良好な
手段であるが、この場合にも治具に複数の被洗浄物がセ
ットされた場合には被洗浄物間の液が共回りすることに
よって被洗浄物周辺の液の更新が行われ難いため洗浄性
が低下するという問題があった。

【０００７】従って、本発明の目的は、電子部品又は精
密部品類の洗浄において、被洗浄物を破損することな
く、簡便に、かつ短時間で効率よく複数枚の被洗浄物を
洗浄することを可能にする電子部品又は精密部品類の洗
浄方法及びその装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意研究した結果、被洗浄物保持治具によ
り被洗浄物を保持し、液中回転法により複数の被洗浄物
を洗浄する際に、該被洗浄物保持治具の間に邪魔板を挿
入することにより洗浄性が向上することを知見した。本
発明は、上記知見に基づいてなされたもので、洗浄液に
よる一回以上の洗浄工程及び／又はすすぎ液による一回
以上のすすぎ工程を有する、電子部品又は精密部品類の
洗浄方法において、上記洗浄液又はすすぎ液を仕込んだ
洗浄槽内に、被洗浄物保持治具を装備した回転軸を配設
すると共に、被洗浄物を上記被洗浄物保持治具により保
持し、邪魔板を、上記被洗浄物保持治具の回転面に対し
て略平行に且つ少なくとも該邪魔板の一部が上記被洗浄
物の回転半径内に入るように設置し、上記回転軸を回転
させることにより被洗浄物を回転させて洗浄することを
特徴とする電子部品又は精密部品類の洗浄方法を提供す
るものである。また、本発明は、本発明の洗浄方法に用
いられる好ましい洗浄装置として、被洗浄物の入出口を
備えた洗浄槽と、該洗浄槽内に配設され、複数の被洗浄
物保持治具を装備した回転軸と、該被洗浄物の間に該被
洗浄物保持治具の回転面に対して略平行に挿入可能な複
数枚の邪魔板と、上記回転軸を回転させる回転手段とを
具備することを特徴とする電子部品又は精密部品類の洗
浄装置を提供するものである。

【０００９】以下、本発明の洗浄方法について詳細に説
明する。本発明の洗浄方法における洗浄工程は、洗浄液
により洗浄を行う工程である。上記洗浄工程における洗
浄方法としては、特に限定はなく、浸漬法（被洗浄物を
洗浄槽に浸漬させる方法）、例えば、超音波法、揺動
法、液中シャワー法、液中回転法等が挙げられ、又、シ
ャワー法（シャワーノズルを用いて洗浄液を被洗浄物に
噴射する方法）、例えば、シャワーノズルとして回転ノ
ズルを用いる方法、被洗浄物を回転させながら洗浄液を
被洗浄物に噴射する方法等が挙げられ、該洗浄工程は適
宜これらを組み合わせて実施される。

【００１０】本発明の洗浄方法におけるすすぎ工程は、
すすぎ液により、被洗浄物表面に残留する洗浄液や汚染
物質等をすすぎ落とす工程である。上記すすぎ工程にお
けるすすぎ方法としては、特に限定はなく、上記洗浄工
程における洗浄方法と同様に、例えば、シャワー法、浸
漬法等が挙げられ、該すすぎ工程は、適宜これらを組み
合わせて実施される。

【００１１】また、上記洗浄槽としては、通常の浸漬法
による洗浄工程に用いられる洗浄槽が挙げられる。

【００１２】本発明の洗浄方法において、上記洗浄槽内
に配設される回転軸に装備される上記被洗浄物保持治具
としては、被洗浄物を保持し、邪魔板を、上記被洗浄物
保持治具の回転面に対して略平行に且つ少なくとも該邪
魔板の一部が上記被洗浄物の回転半径内に入るように設
置できるものであれば、特に制限されないが、好ましい
ものとしては、例えば、図１〜図４に示されるものが挙
げられる。

【００１３】図１に示す被洗浄物保持治具３は、回転軸
２に鉛直に固定された２つの保持杆４と該保持杆４それ
ぞれの先端に設けられ被洗浄物１を挟持する保持部５と
からなり、該保持部５は、挟持用ネジ６を備えている。
上記被洗浄物保持治具３は、上記回転軸２の軸回り及び
軸方向に、適宜な数を設けることができる。尚、上記保
持杆４は、回転軸２に、実質的に直交しておればよく、
多少の傾きがあってもよい。図１に示す被洗浄物保持治
具による場合、上記被洗浄物１は、図１に示す如く、上
記保持部５に、上記挟持用ネジ６で該保持部５を締めつ
けることにより挟持される。

【００１４】図２に示す被洗浄物保持治具１３は、回転
軸２に直交させ且つ該回転軸２を貫通させて該回転軸２
に嵌装された保持板１４と、該保持板１４の外部に設け
られた被洗浄物１を保持する保持部１５とを具備してい
る。尚、上記保持板１４は、上記回転軸２に実質的に直
交しておればよく、多少の傾きがあってもよい。そし
て、該保持部１５は、図２に示すように留め具１６、留
め具固定棒１７及び留め具固定ネジ１８を備えており、
該留め具１６、該留め具固定棒１７及び該留め具固定ネ
ジ１８により被洗浄物１を保持するようになしてある。
上記被洗浄物保持治具１３は、上記回転軸２の軸方向
に、適宜な数を設けることができる。尚、上記留め具１
６及び上記保持板１４には、上記被洗浄物１との接触部
に、該被洗浄物１を安定状態に保持するために該被洗浄
物１の形状に応じた凹部（図示せず）等を設けてある。
図２に示す被洗浄物保持治具１３による場合、上記被洗
浄物１は、図２に示す如く、上記留め具１６を上記回転
軸２の中心方向に移動させ、該留め具１６と上記保持板
１４との間に上記留め具固定ネジ１８で締めつけること
により両側から把持される。

【００１５】図３に示す被洗浄物保持治具２３は、回転
軸２に直交させ且つ該回転軸２を貫通させて該回転軸２
に嵌装された保持板２４と、該保持板２４の内部に設け
られた被洗浄物１を保持する保持部２５とを具備してい
る。尚、上記保持板２４は、上記回転軸２に実質的に直
交しておればよく、多少の傾きがあってもよい。上記保
持部２５は、図３に示すように、保持板２４の内部に、
保持する被洗浄物１の形状に合わせて移動可能に設けら
れている。即ち、上記保持部２５は、上記回転軸２の半
径方向外側２５ａを固定し、上記回転軸２の半径方向内
側２５ｂを可動とし、スプリング（図示せず）を用いて
被洗浄物１を締めつけるようになしてある。図３に例示
した保持板２４は矩形板状体であるが、上記保持板２４
としては、円板、又はその他の形状の板状体が挙げら
れ、上記被洗浄物保持治具２３は、上記回転軸２の軸方
向に、適宜な数を設けることができる。図３に示す被洗
浄物保持治具２３による場合、上記被洗浄物１は、図３
に示す如く、上記保持部２５により、各頂点部分を固定
されて保持される。

【００１６】図４に示す被洗浄物保持治具３３は、図３
に示した被洗浄物保持治具２３と同様の被洗浄物保持治
具であり、保持板３４が円形状である他は被洗浄物保持
治具２３と同じである。図４に示す被洗浄物保持治具３
３による場合、被洗浄物１は、図４に示す如く、保持部
３５により、各頂点部分を固定されて保持される。

【００１７】本発明の洗浄方法において使用される邪魔
板は、上記被洗浄物保持治具の回転面に対して略平行に
且つ少なくとも該邪魔板の一部が上記被洗浄物の回転半
径内に入るように設置される。

【００１８】上記邪魔板の形状としては、矩形状、わん
曲した形状等が挙げられるが、板状体が好ましい。

【００１９】上記邪魔板の好ましい設置位置について図
５を参照しながら説明する。

【００２０】被洗浄物１は、回転させることにより、図
５に示すように、軌跡として回転円Ｃ₁ を描く。上記回
転円Ｃ₁ の円周と被洗浄物１の内側に接する円Ｃ₂ の円
周との間の距離（回転円の半径方向の距離）をＬ₁ と
し、邪魔板４５の先端部と該邪魔板４５を横切る上記回
転円Ｃ₁ の円周との間の距離をＬとする。上記邪魔板４
５の一部が上記被洗浄物１の回転半径内に入るように設
置することが好ましく、Ｌ≧０．５Ｌ₁ となるように設
置することが洗浄の効果を向上する観点からより好まし
く、Ｌ≧Ｌ₁ となるように設置することが更に好まし
い。

【００２１】上記邪魔板４５の先端が上記被洗浄物１の
回転半径内に入らない場合には、洗浄性に及ぼす邪魔板
の効果は小さくなる。

【００２２】上記邪魔板４５の幅Ｂ（図５参照）は、被
洗浄物の幅をｂ（図５参照）とすると、強度的に問題が
なければ特に限定されないが、０．０５ｂ≦Ｂ≦１．０
ｂとすることが好ましい。上記邪魔板４５の回転軸２の
軸方向の長さＤ（被洗浄物回転面に対する垂直な方向の
長さ）は、被洗浄物１の種類、形状等によるが、通常、
１ｍｍ以上とされ、この長さＤが大きいほど洗浄性向上
の効果が発揮されるが、被洗浄物１が複数の場合には、
被洗浄物保持治具４４，４４間の間隔から被洗浄物１の
厚さを引いた間隔をＤ₁ とすると、０．１Ｄ₁ ≦Ｄ≦
０．９Ｄ₁ とするのが好ましい。

【００２３】本発明の洗浄方法は、回転軸２に装備した
複数の被洗浄物保持治具４４の各々に被洗浄物１を保持
して洗浄する場合に特に有効である。

【００２４】本発明において用いられる上記回転軸の回
転方法としては、回転軸の一方の端をモーター等を駆動
源とする回転駆動装置に接続させる方法等が挙げられ
る。この場合、安定のため回転軸の他方の端をベアリン
グ等の機構で保持することが好ましい。

【００２５】上記回転軸の回転速度は、被洗浄物の大き
さ及び形状等により異なるが、被洗浄物の中心における
速度（線速度）が、好ましくは０．１ｍ／ｓ〜３０ｍ／
ｓ、さらに好ましくは１ｍ／ｓ〜３０ｍ／ｓとなるよう
な回転速度とすればよい。上記被洗浄物の中心における
速度（線速度）が０．１ｍ／ｓ未満であると、洗浄効果
が小さく、３０ｍ／ｓ超としても洗浄効果の向上が少な
く、また動力面において経済的に不利である。

【００２６】尚、上記回転速度は、被洗浄物の中心を基
準とせずに、例えば、部品を搭載したプリント配線基板
等であれば、その部品の位置を基準としてもよく、ま
た、特に汚れを落としたい部位を基準にするなど、目的
に合わせて適宜な部位を基準として設定すればよい。

【００２７】また、該回転軸の回転方向は、一方向のみ
でもよく、所定時間ごとに反転させてもよく、被洗浄物
の形状及び汚れの性状により適宜選択すればよい。

【００２８】本発明の洗浄方法に使用される洗浄液とし
ては、特に限定はないが、動植物から得られるｄ−リモ
ネン等のテルペン類を有効成分とするテルペン系溶剤、
ケロシン、ベンゼン、キシレン等の炭化水素を有効成分
とする炭化水素系溶剤、イソプロピルアルコール、エチ
ルアルコール、メチルアルコール等の低級アルコールを
有効成分とするアルコール系溶剤等の溶剤系代替洗浄
液、界面活性剤、及び水酸化ナトリウム、オルソケイ酸
ナトリウム等のアルカリ剤を含有する水系代替洗浄液あ
るいはこれらの希釈液があげられる。

【００２９】上記界面活性剤としては、アニオン性、カ
チオン性、両イオン性、非イオン性界面活性剤等が用い
られるが電子部品等の部材への影響を考慮すると非イオ
ン性界面活性剤が好ましく、例えばアルキルエーテル
型、アルキルアリルエーテル型、アルキルチオエーテル
型等のエーテル型；アルキルエステル型、ソルビタンア
ルキルエステル型等のエステル型；ポリオキシアルキレ
ンアルキルアミン等のアミンとの縮合型；ポリオキシア
ルキレンアルキルアマイド等のアミドとの縮合型；ポリ
オキシエチレンとポリオキシプロピレンをランダム又は
ブロック縮合させたプルロニック又はテトロニック型；
ポリエチレンイミン系等の界面活性剤が挙げられる。こ
れらのうち、特に炭素数４〜２２の炭化水素基を有する
ものが好ましい。

【００３０】上述のような非イオン性界面活性剤を含有
する洗浄液組成物は、これが混入したすすぎ洗い後のす
すぎ廃液が明瞭な曇点を示し、すすぎ廃液中の油状汚れ
及び洗浄液等の有機物を容易に分離除去することができ
るので排水処理の負荷が軽減され、排水処理性が特に良
好である。

【００３１】また、上記水系代替洗浄液としては、界面
活性剤と、炭化水素化合物、難水溶性のアルキルエステ
ル類及びアルキルケトン類から選ばれる化合物とを含有
する洗浄液等も用いることができる。

【００３２】上記炭化水素化合物としては、例えば洗浄
又はリンス工程の温度で液状である炭素数６〜３０の直
鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和結合を有するパラフィン
類、オレフィン類、あるいは芳香族炭化水素、脂環式炭
化水素を含む炭化水素化合物が挙げられる。上記アルキ
ルエステル類としては、例えば、洗浄又はリンス工程の
温度で液状である炭素数６〜４０のモノエステル、ジエ
ステル、トリエステルが挙げられ、特に炭素数６〜１８
の高級脂肪酸と炭素数１〜１８のアルコールのエステ
ル；炭素数６〜１８の高級脂肪酸と炭素数２〜８のジオ
ール又はトリオールとのエステル；炭素数１〜１８のア
ルコールと炭素数２〜８のジカルボン酸又はトリカルボ
ン酸とのエステルが好ましい。また、上記アルキルケト
ン類としては、炭素数６〜４０のジアルキルケトンが好
ましい。

【００３３】本発明の洗浄方法に用いられる洗浄液（洗
浄液組成物）としては、上記の成分のほか、必要に応じ
てビルダー、キレート剤、防錆剤、消泡剤等を含有する
ものを使用することもでき、また、上記の様な化合物を
用途に応じて任意に２種以上組み合わせて使用してもよ
い。

【００３４】尚、被洗浄物の汚れが、水道水、脱イオン
水、純水等により除去可能な性質の汚れである場合に
は、これらの水を洗浄液として使用してもよい。

【００３５】また、本発明の洗浄方法に使用されるすす
ぎ液は、被洗浄物上の汚れ及び／又は洗浄液組成物をす
すぎ洗うための液である。上記すすぎ液としては、特に
制限はないが、例えば、水道水、脱イオン水、純水ある
いは数％程度洗浄液を含む液が用途に応じて用いられ
る。上記すすぎ液は、浄化処理をした後、放流又は再利
用される。上記浄化処理は、例えば凝集沈殿、加圧浮
上、活性汚泥、活性炭、イオン交換、膜処理方法等の一
般的な排水処理法を単独あるいは適宜組み合わせて行う
ことができる。

【００３６】本発明による洗浄の対象となる電子部品又
は精密部品類としては、電子部品又は精密部品類の組
立、加工又は洗浄時の保持に使用される治工具（治具）
等を包含する。

【００３７】上記電子部品としては、例えば、電算機及
びその周辺機器、家電機器、通信機器、ＯＡ機器、その
他電子応用機器等に用いられるプリント配線基板；ＩＣ
リードフレーム、抵抗器、コンデンサー、リレー等接点
部材に用いられるフープ材；ＯＡ機器、時計、電算機
器、玩具、家電機器等に用いられる液晶表示器（液晶表
示デバイス）；映像・音声記録／再生部品、その関連部
品等に用いられる磁気記録部品；シリコンやセラミック
スのウェハ等の半導体材料；水晶振動子等の電歪用部
品；ＣＤ、ＰＤ、複写機器、光記録機器等に用いられる
光電変換部品等が挙げられる。

【００３８】上記精密部品類としては、例えば、電機部
品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品等が挙げら
れる。上記電機部品としては、例えば、ブラシ、ロー
タ、ステータ、ハウジング等の電動機部品；販売機や各
種機器に用いられる発券用部品；販売機、キャッシュデ
ィスペンサ等に用いられる貨幣検査用部品などが挙げら
れる。上記精密機械部品としては、例えば、精密駆動機
器、ビデオレコーダー等に用いられるベアリング；超硬
チップ等の加工用部品などが挙げられる。上記樹脂加工
部品としては、例えば、カメラ、自動車等に用いられる
精密樹脂加工部品などが挙げられる。更に、上記光学部
品としては、例えば、カメラ、眼鏡、光学機器等に用い
られるレンズ等が挙げられ、その他、上記精密部品とし
て、例えばメガネフレーム、時計ケース、時計ベルト等
が挙げられる。

【００３９】また、上記治工具類としては、上述の各種
部品例で示したような電子部品又は精密部品類の製造、
成形、加工、組立、仕上げ等を行う各種工程において取
り扱う治具、工具の他、これらの電子部品又は精密部品
類を取り扱う各種機器、その部品等が挙げられる。

【００４０】本発明の洗浄方法は、上述の電子部品又は
精密部品類の中で、特に、フラックスの残存したプリン
ト配線基板やガラス基板に付着した液晶等の洗浄時に好
適な性能を発揮する。尚、本発明の対象となる電子部品
又は精密部品類は、これらの例に限定されるものではな
く、組立加工工程において各種の加工油やフラックス等
の後の工程の妨害物質、又は製品の特性を低下させる各
種の油性汚染物質が付着している電子部品又は精密部品
類であれば、本発明の洗浄方法を適用することができ
る。

【００４１】更に、本発明の洗浄方法は、上記汚染物質
が、例えば、油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、
ロジン系フラックス等の、主として有機成分の汚れであ
る場合、本発明の洗浄方法の特徴が特に発揮され、これ
らに金属粉、無機物粉等が混入した汚染物質であっても
有効である。

【００４２】本発明の洗浄方法は、上述のように被洗浄
物の形状には制限されないが、プリント配線基板のよう
な板状体の洗浄方法として特に有効である。

【００４３】以下に、本発明の洗浄方法を、その一実施
態様に基づいて説明する。先ず、被洗浄物を前述のよう
な回転軸に装備した被洗浄物保持治具を介して保持す
る。上記被洗浄物保持治具により被洗浄物を保持する際
の向きとしては、通常、被洗浄物が板状体の場合には、
該板状体の面が、上記回転軸に対して垂直になるような
向きとする。次いで、邪魔板を、上記被洗浄物保持治具
の回転面に対して略平行に且つ少なくとも該邪魔板の一
部が上記被洗浄物の回転半径内に入るように設置した
後、洗浄液を被洗浄物が浸漬される様に仕込む。次に、
被洗浄物を上記被洗浄物保持治具により保持した状態
で、上記回転軸を回転させることにより被洗浄物を回転
させて洗浄する洗浄方法により洗浄工程を行った後、被
洗浄物が液相に浸漬しない状態にして回転による液切り
を行う。被洗浄物が液相に浸漬しない状態にする方法と
しては、回転軸の回転駆動装置及び回転軸を上方に移動
させる方法、及び液相を槽底部等から排除する方法など
が挙げられる。

【００４４】次に、上記洗浄工程と同様にしてすすぎ工
程を行った後、すすぎ液に浸漬しない状態にして回転に
よる液切りを行う。すすぎ工程は、通常、１回以上行わ
れるが、洗浄工程のみの場合もある。このように、被洗
浄物を液相に浸漬しない状態で回転させることによる液
切りは、排水負荷の低減に効果的であり、また最終すす
ぎ終了後には被洗浄物の乾燥にも効果的である。

【００４５】更に、本発明の洗浄方法は、空気等の気体
を被洗浄物に吹き付ける方法等の、周知の液切り促進方
法を併用することができる。

【００４６】また、本発明の電子部品又は精密部品類の
洗浄方法の上述した洗浄方法と共に通常の洗浄方法を適
宜併用することができる。

【００４７】次に、本発明の電子部品又は精密部品類の
洗浄方法において用いられる好ましい洗浄装置の一実施
例について、図面を参照しながら説明する。図６（ａ）
は、本発明の洗浄装置を示す縦断面図、図６（ｂ）は、
図６（ａ）の洗浄装置における洗浄時の一要部を示す平
面図、図６（ｃ）は、図６（ａ）の洗浄装置における被
洗浄物入出時の一要部を示す平面図、図７は、本発明の
洗浄装置の別の例を示す縦断面図である。

【００４８】図６に示す本発明の洗浄装置４０は、被洗
浄物の入出口を備えた洗浄槽４１と、該洗浄槽４１内に
配設され、複数の被洗浄物保持治具４４を装備した回転
軸４２と、該被洗浄物保持治具４４，４４の間に該被洗
浄物保持治具４４の回転面に対して略平行に挿入可能な
複数枚の邪魔板４５と、上記回転軸４２を回転させる回
転手段とを具備する。本実施例においては、上記回転軸
４２は上記洗浄槽４１内に鉛直に配されている。上記洗
浄槽４１には、その底部に該洗浄槽４１内の液相の排出
孔４３が設けられ、該排出孔４３は、先端に弁４７を具
備し、また、該洗浄槽４１は、上部に蓋５０が装着でき
るようになしてある。上記洗浄槽４１の底部には、複数
の被洗浄物保持治具４４を装備した回転軸４２を回転さ
せる軸受け４８が設けられている。上記軸受け４８は、
上記洗浄槽４１の外部でモーター等を駆動源とする回転
駆動装置４９に接続されている。上記邪魔板４５は、図
６（ｃ）に示す状態から、邪魔板回転軸４６を中心とし
て回転移動させることにより、図６（ｂ）に示すように
上記被洗浄物保持治具４４，４４間に挿入できるように
なしてあり、洗浄槽の蓋５０を開けて被洗浄物保持治具
４４を装備した回転軸４２と共に被洗浄物１の入出を行
うことが可能になっている。

【００４９】図６に示した洗浄装置を用いて洗浄を行う
際は、回転軸４２に装備された被洗浄物保持治具４４に
被洗浄物１を保持させると共に、邪魔板４５を図６
（ｃ）の状態に移動させた後、該回転軸４２を軸受け４
８に接続固定し、該邪魔板４５を図６（ｂ）に示すよう
に被洗浄物保持治具４４，４４間に挿入して固定ネジ等
（図示せず）により所定位置に固定し、蓋５０を閉じ
る。次に、洗浄槽４１の底部の弁４７を開いて洗浄液を
供給し、供給終了後、弁４７を閉じ、回転駆動装置４９
により軸受け４８を駆動させ、回転軸４２及び被洗浄物
１を回転させることにより、洗浄工程を実施する。洗浄
工程終了後は、弁４７を開き、排出孔４３から洗浄液を
排出する。洗浄液排出後は、回転の遠心力を利用して液
切りを行うことができる。洗浄工程終了後は、邪魔板４
５を再び図６（ｃ）の位置に移動させ、蓋５０を開けて
回転軸４２及び被洗浄物１を取り出すことができる。ま
た、必要に応じて上記洗浄工程終了後に同様の操作によ
りすすぎ工程を行ったのち回転軸４２及び被洗浄物１を
取り出すこともできる。

【００５０】尚、上記回転軸４２は、水平に設置しても
よい。また、必要に応じてシャワーノズル、超音波発振
装置、さらに乾燥用電熱器又は乾燥用熱風を導入できる
ようなノズルを上記洗浄槽４１内に設置してもよい。

【００５１】また、邪魔板４５の挿入枚数は、図６に示
した洗浄装置においては被洗浄物保持治具４４一枚あた
りに二枚挿入されるが、一枚あるいは三枚以上挿入する
形式であってもよく、必要に応じて枚数を増やすことが
可能である。

【００５２】図７に示した洗浄装置は、本発明の洗浄装
置の別の例である。図７に示した洗浄装置６０は、邪魔
板６５を、邪魔板駆動装置６６により平行移動させて被
洗浄物保持治具６４，６４間に挿入できるようになして
ある他は、図６に示した洗浄装置と同様に構成してな
る。

【００５３】

【作用】上記洗浄液又はすすぎ液を仕込んだ洗浄槽内
に、被洗浄物保持治具を装備した回転軸を配設すると共
に、被洗浄物を上記被洗浄物保持治具により保持し、邪
魔板を、上記被洗浄物保持治具の回転面に対して略平行
に且つ少なくとも該邪魔板の一部が上記被洗浄物の回転
半径内に入るように設置し、上記回転軸を回転させるこ
とにより被洗浄物を回転させて洗浄する場合において、
被洗浄物が回転により邪魔板へ接近する際、被洗浄物に
対して液相から及ぼされるせん断力が一時的に増大し、
該被洗浄物の表面に付着した汚れ又は残留洗浄液を該表
面から剥離させる作用が増大し、洗浄及び／又はすすぎ
を促進する。

【００５４】このことは、被洗浄物が回転により邪魔板
に接近する際、該被洗浄物付近の圧力上昇が起こり、ま
た、該被洗浄物が邪魔板から遠ざかる場合には該被洗浄
物付近の圧力降下が起こることに起因する。

【００５５】このため、被洗浄物に部品等が搭載されて
いる場合、該部品の搭載部分が邪魔板に接近する際に
は、上記の圧力上昇により該部品の周囲（外側）から該
部品裏（内側）への液の流れが発生し、逆に該部品の搭
載部分が邪魔板から遠ざかる際には、上記の圧力降下に
より該部品裏（内側）から該部品の周囲（外側）への液
の流れが発生する。その結果、該部品裏（内側）におい
ても液の更新が確実に行われ、洗浄及び／又はすすぎが
促進される。

【００５６】上記のように、回転により被洗浄物が邪魔
板に接近することと邪魔板から遠ざかることが周期的に
繰り返されることによって、単なる液中回転法に比べ
て、被洗浄物の洗浄／すすぎ効果が向上する。

【００５７】上記のように、邪魔板を、上記被洗浄物保
持治具の回転面に対して略平行に且つ少なくとも該邪魔
板の一部が上記被洗浄物の回転半径内に入るように設置
して、被洗浄物を回転させて洗浄を行うことにより、被
洗浄物が複数で、且つその保持間隔が狭い場合でも洗浄
性及び／又はすすぎ性が低下することなく、効率よく洗
浄を行うことができ、同一空間内での被洗浄物処理量を
増大させることができる。

【００５８】

【実施例】次に、実施例を挙げて本発明の洗浄方法を更
に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。 実施例１ 図８に示すような大きさ３０ｍｍ×５０ｍｍ、厚さ２ｍ
ｍのガラスエポキシ樹脂８１上に大きさ２５ｍｍ×２５
ｍｍ、厚さ１ｍｍのガラス８２を、そのクリアランスが
１００μｍとなるように該ガラスの中心部８３を接着剤
により該ガラスエポキシ樹脂上に一点で保持するように
固定し、その隙間に汚れ物質として、フラックス８４
（日本はんだＲＸ３６３−２０７Ｂテトラヒドロフラン
抽出分）を充填した試料（被洗浄物）８５を作製した。

【００５９】上記試料（被洗浄物）を、図６に示す洗浄
装置において、図３に示す被洗浄物保持治具で図３に示
す如く保持し、被洗浄物の表面と、該被洗浄物に対向す
る保持板との間隔が２０ｍｍの状態とし、該被洗浄物が
液面に対して水平になるようにセットした。なおＬ₁ は
３５ｍｍ、被洗浄物の内側に接する円の半径は３０ｍｍ
であった。次いで、邪魔板を、上記被洗浄物保持治具間
に挿入して図６（ｂ）の位置で固定した。上記邪魔板
は、前記Ｌが５０ｍｍ、前記回転円の接線方向の長さＢ
が１０ｍｍ、回転軸の軸方向の長さＤが１０ｍｍの矩形
板であり、被洗浄物表面と該邪魔板（被洗浄物に対向す
る邪魔板）との距離ａ＝５ｍｍであった。次に、洗浄槽
中に、上記被洗浄物及び被洗浄物保持治具が完全に浸漬
するように洗浄液を満たし、上記回転軸を、被洗浄物の
ガラス中心部において１．５ｍ／ｓとなるように回転さ
せて６０℃で１０分間洗浄を行った。また、洗浄液とし
ては、非イオン界面活性剤４０ｗｔ％、Ｃ１４オレフィ
ン４０ｗｔ％、水２０ｗｔ％の混合物を用いた。更に、
被洗浄物の表面と、該被洗浄物に対向する保持板との間
隔を３０ｍｍ（ａ＝１０ｍｍ）及び４０ｍｍ（ａ＝１５
ｍｍ）とした他は、上記と同様にして洗浄を行った。洗
浄後の試料におけるフラックス除去率を下記〔表１〕に
示す。

【００６０】比較例１ 邪魔板を用いなかった他は、実施例１と同様にして、被
洗浄物の表面と、該被洗浄物に対向する保持板との間隔
を２０ｍｍ、３０ｍｍ及び４０ｍｍとして洗浄を行っ
た。洗浄後の試料におけるフラックス除去率を下記〔表
１〕に示す。

【００６１】尚、上記フラックス除去率は、洗浄前のフ
ラックス充填部分の面積に対する、洗浄後のフラックス
の除去されていた部分の面積の比として算出した。

【００６２】

【表１】

【００６３】また上記実施例１及び比較例１におけるフ
ラックス除去率の、被洗浄物の表面と該被洗浄物に対向
する保持板との間隔に対する依存性を表すグラフを図９
に示す。

【００６４】上記表１及び図９からわかるように、本発
明の洗浄方法によれば、フラックス除去率は邪魔板のな
い場合に比べて洗浄性が高く、しかも邪魔板がない場合
には被洗浄物の表面と、該被洗浄物に対向する保持板と
の間隔が狭くなると液の共回りによる洗浄性の低下が起
こるが、邪魔板を用いることによってこれを防ぐことが
できる。従って、本発明の洗浄方法によれば、高洗浄性
により洗浄時間の短縮がなされ、更に、同一空間内で被
洗浄物を多く処理することができ、生産性の向上が期待
できる。

【００６５】実施例２ 被洗浄物保持治具の形式以外は図６に示したものと同様
の洗浄装置において、大きさ１４０ｍｍ×１００ｍｍの
ロジン系フラックスで処理したプリント基板を図１に示
す被洗浄物保持治具でＬ₁ が１１０ｍｍ、被洗浄物の内
側に接する円の半径が１４０ｍｍの状態で保持し、被洗
浄物の間隔を２０ｍｍとなるように図１に示す如く保持
し、該被洗浄物が液面に対して水平になるようにセット
した。次いで、邪魔板を、上記被洗浄物間に挿入して図
６（ｂ）の位置で固定した。上記邪魔板は、前記Ｌが１
２０ｍｍ、前記回転円の接線方向の長さが１０ｍｍ、回
転軸の軸方向の長さが１０ｍｍの矩形板であり、被洗浄
物表面と該邪魔板（被洗浄物に対向する邪魔板）との距
離ａ＝５ｍｍであった。次いで、水道水を用いて上記洗
浄工程と同様にしてすすぎ工程（予備すすぎ）を実施
し、最後に純水を用いて上記洗浄工程と同様にしてすす
ぎ工程（最終すすぎ）を実施した。その後、洗浄の効果
を調べるため、ＭＩＬ−Ｐ−２８８０９に従って洗浄性
試験を行い、オメガメータ（日本メタル製、６００Ｒ−
ＳＣ）により、イオン残渣の測定を行った結果、その測
定値は、０．６μｇ／ｉｎ² であり、イオン残渣の許容
値１４μｇ／ｉｎ² を大幅にクリアする良好な洗浄性が
発揮されたことがわかった。

【００６６】

【発明の効果】本発明の電子部品又は精密部品類の洗浄
方法によれば、被洗浄物の汚れを短時間で、簡便に且つ
効率よく除去でき、また、多くの被洗浄物の処理が可能
である。更に洗浄工程またはすすぎ工程において効率よ
く簡便に液切りがなされるため、洗浄剤の使用量、排水
負荷の低減及び乾燥時間の短縮化を図ることができる。
従って、経済的且つ生産性の高い洗浄を行うことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の洗浄方法において用いられる
被洗浄物保持治具の一例を示す斜視図である。

【図２】図２は、本発明の洗浄方法において用いられる
被洗浄物保持治具の別の例を示す斜視図である。

【図３】図３は、本発明の洗浄方法において用いられる
被洗浄物保持治具の更に別の例を示す斜視図である。

【図４】図４は、本発明の洗浄方法において用いられる
被洗浄物保持治具の更に別の例を示す斜視図である。

【図５】図５は、本発明の洗浄方法において用いられる
邪魔板の好ましい設置位置を説明するための概略図であ
る。

【図６】図６（ａ）は、本発明の洗浄装置の一例を示す
縦断面図、図６（ｂ）は、図６（ａ）の洗浄装置におけ
る洗浄時の一要部を示す平面図、図６（ｃ）は、図６
（ａ）の洗浄装置における被洗浄物入出時の一要部を示
す平面図である。

【図７】図７は、本発明の洗浄装置の別の例を示す縦断
面図である。

【図８】図８（ａ）は、実施例１及び比較例１で用いた
試料を示す平面図であり、図８（ｂ）は、その側面図で
ある。

【図９】図９は、実施例１及び比較例１におけるフラッ
クス除去率の、被洗浄物の表面と該被洗浄物に対向する
保持板との間隔ａに対する依存性を表すグラフである。

【符号の説明】

１ 被洗浄物 ２ 回転軸 ３ 被洗浄物保持治具 ４ 保持杆 ５ 保持部 ６ 挟持用ネジ １３ 被洗浄物保持治具 １４ 保持板 １５ 保持部 １６ 留め具 １７ 留め具固定棒 １８ 留め具固定ネジ ２３ 被洗浄物保持治具 ２４ 保持板 ２５ａ保持部 ２５ｂ保持部 ３３ 被洗浄物保持治具 ３４ 保持板 ３５ａ保持部 ３５ｂ保持部 ４０ 洗浄装置 ４１ 洗浄槽 ４２ 回転軸 ４３ 排出孔 ４４ 被洗浄物保持治具 ４５ 邪魔板 ４６ 邪魔板回転軸 ４７ 弁 ４８ 軸受け ４９ 回転駆動装置 ５０ 蓋 ６０ 洗浄装置 ６１ 洗浄槽 ６２ 回転軸 ６３ 排出孔 ６４ 被洗浄物保持治具 ６５ 邪魔板 ６６ 邪魔板駆動装置 ６７ 弁 ６８ 軸受け ６９ 回転駆動装置 ７０ 蓋 ８１ ガラスエポキシ樹脂 ８２ ガラス ８３ 中心部 ８４ フラックス ８５ 試料

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄液による一回以上の洗浄工程及び／
   又はすすぎ液による一回以上のすすぎ工程を有する、電
   子部品又は精密部品類の洗浄方法において、上記洗浄液
   又はすすぎ液を仕込んだ洗浄槽内に、被洗浄物保持治具
   を装備した回転軸を配設すると共に、被洗浄物を上記被
   洗浄物保持治具により保持し、邪魔板を、上記被洗浄物
   保持治具の回転面に対して略平行に且つ少なくとも該邪
   魔板の一部が上記被洗浄物の回転半径内に入るように設
   置し、上記回転軸を回転させることにより被洗浄物を回
   転させて洗浄することを特徴とする電子部品又は精密部
   品類の洗浄方法。
2. 【請求項２】 上記被洗浄物保持治具を装備した上記回
   転軸が、垂直に配設されていることを特徴とする請求項
   １記載の電子部品又は精密部品類の洗浄方法。
3. 【請求項３】 上記被洗浄物が板状体である請求項１又
   は２記載の電子部品又は精密部品類の洗浄方法。
4. 【請求項４】 上記板状体がプリント基板である請求項
   ３記載の電子部品又は精密部品類の洗浄方法。
5. 【請求項５】 被洗浄物の入出口を備えた洗浄槽と、該
   洗浄槽内に配設され、複数の被洗浄物保持治具を装備し
   た回転軸と、該被洗浄物の間に該被洗浄物保持治具の回
   転面に対して略平行に挿入可能な複数枚の邪魔板と、上
   記回転軸を回転させる回転手段とを具備することを特徴
   とする電子部品又は精密部品類の洗浄装置。