JPH06110073A - Terminal lead-out structure of display element - Google Patents

Terminal lead-out structure of display element

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JPH06110073A
JPH06110073A JP4261713A JP26171392A JPH06110073A JP H06110073 A JPH06110073 A JP H06110073A JP 4261713 A JP4261713 A JP 4261713A JP 26171392 A JP26171392 A JP 26171392A JP H06110073 A JPH06110073 A JP H06110073A
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film
transparent conductive
terminal lead
display element
conductive layer
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孝志 南
Hiroaki Muroya
宏明 室屋
Toshiro Motomura
敏郎 本村
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Abstract

PURPOSE:To provide the terminal lead-out structure which can increase the adhesive strength of a connection part between a transparent conductive layer and a metallic conductive layer laminated thereupon. CONSTITUTION:On a substrate 21, the transparent conductive film 23 which is led out of a liquid crystal display element 22 is formed, a chromium film 24 is formed thereupon, and an aluminum film 25 is formed further thereupon. The peripheral edges of the aluminum film 25 and chromium film 24 are inside the transparent conductive film 23. The terminal lead-out part of the liquid crystal display element 22 and the terminal part of an IC are electrically connected by wire bonding.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、たとえば液晶表示素子
などの表示素子において、ワイヤボンディングによる電
気的接続を行うために、透明導電膜から引出される端子
部の構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a structure of a terminal portion drawn out from a transparent conductive film in a display device such as a liquid crystal display device for electrical connection by wire bonding.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は、従来の液晶表示素子の端子引出
部の斜視図である。このような端子引出構造は、たとえ
ば実公平4−25729号公報において開示されてい
る。図5図示の端子引出部において、基板1上に液晶表
示素子2を外部に接続するため、酸化スズを含む酸化イ
ンジウム(ITO)などの透明導電膜3が形成され、そ
の上にクロム膜4が形成され、さらにその上にアルミ膜
5が形成されている。液晶表示素子2はコンパクト化お
よび高信頼性を図る目的で、液晶表示素子2を駆動する
ための集積回路(IC)を基板1の一方に搭載してい
る。液晶表示素子2の端子引出部とICの端子部とは、
ワイヤボンディングによって電気的に接続される。この
ように接続する方式をCOG方式と称する。このワイヤ
ボンディングによって接続を行う場合、液晶表示素子2
の端子引出部の表面は、ボンディングワイヤとの密着強
度の強い材料が必要であるので、アルミ膜5が形成され
ている。また透明導電膜3とアルミ膜5との間は密着強
度が不充分なため、クロム膜4などの中間層を介在さ
せ、密着強度の強化を図っている。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is a perspective view of a terminal lead portion of a conventional liquid crystal display element. Such a terminal lead-out structure is disclosed in, for example, Japanese Utility Model Publication No. 4-25729. In the terminal lead-out portion shown in FIG. 5, in order to connect the liquid crystal display element 2 to the outside on the substrate 1, a transparent conductive film 3 such as indium oxide (ITO) containing tin oxide is formed, and a chromium film 4 is formed thereon. It is formed, and the aluminum film 5 is further formed on it. The liquid crystal display element 2 has an integrated circuit (IC) for driving the liquid crystal display element 2 mounted on one side of the substrate 1 for the purpose of downsizing and high reliability. The terminal lead-out portion of the liquid crystal display element 2 and the IC terminal portion are
It is electrically connected by wire bonding. The method of connecting in this way is called the COG method. When connecting by this wire bonding, the liquid crystal display element 2
The surface of the terminal lead-out portion is required to be made of a material having a high adhesion strength with the bonding wire, so that the aluminum film 5 is formed. Since the adhesion strength between the transparent conductive film 3 and the aluminum film 5 is insufficient, an intermediate layer such as the chromium film 4 is interposed to enhance the adhesion strength.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】液晶表示素子は、高機
能化および小形化に伴い、配線パターンのピッチが狭く
なってきている。これによって、液晶表示素子の透明導
電膜上に形成された端子引出部の表面積も小さくなり、
充分な密着力が得られなくなる。このため、図6に示す
ようにワイヤボンディング10を行う場合、液晶表示素
子の端子引出部の一部が、透明導電膜3とクロム膜4と
の界面から剥離してしまうことがある。ここで図6
(a)は端子引出部のワイヤボンディングによる剥離状
態の側面図を示し、図6(b)はその斜視図を示したも
のである。このような端子引出部の剥離の原因は、端子
引出部の表面積の減少による密着力の低下もその1つで
あるけれども、この密着力は端子引出部の表面積だけで
決定されるものではない。すなわち、端子引出部の密着
力は、透明導電膜3、クロム膜4、およびアルミ膜5な
どの積層物の密着状態によって大きく影響を受ける。
In the liquid crystal display device, the pitch of the wiring pattern is becoming narrower as the function and size of the liquid crystal display device are made smaller. As a result, the surface area of the terminal lead-out portion formed on the transparent conductive film of the liquid crystal display element also becomes small,
Sufficient adhesion cannot be obtained. Therefore, when wire bonding 10 is performed as shown in FIG. 6, a part of the terminal lead-out portion of the liquid crystal display element may be separated from the interface between the transparent conductive film 3 and the chromium film 4. Figure 6
FIG. 6A is a side view of the terminal lead-out portion in a peeled state by wire bonding, and FIG. 6B is a perspective view thereof. One of the causes of the peeling of the terminal lead-out portion is a decrease in the adhesive force due to the reduction of the surface area of the terminal lead-out portion, but the adhesive force is not determined only by the surface area of the terminal lead-out portion. That is, the adhesion of the terminal lead-out portion is greatly affected by the adhesion state of the laminated layers such as the transparent conductive film 3, the chrome film 4 and the aluminum film 5.

【0004】図7は、従来の端子引出部の断面図であ
る。透明導電膜3、クロム膜4、およびアルミ膜5など
の層は、全て同一面積および同一形状で積層されて、揃
った状態になっている。このような端子引出部を製造す
る場合、基板1に透明導電膜3、クロム膜4およびアル
ミ膜5の3層をスパッタと称する薄膜作成方法によって
成膜する。次にその成膜した上にポジレジストを塗布
し、所定のパターンのマスクを介して露光し、現像を行
い、さらにそれぞれの層のエッチングを行う。このと
き、まず最上層のアルミ膜5用のエッチング液を通して
エッチングを行い、洗浄し、次にクロム膜4用のエッチ
ング液を通してエッチングを行い洗浄する。さらに透明
導電膜3用のエッチング液を通してエッチングを行い、
洗浄する。このようにして、エッチングの工程が完了す
ると、レジスト剥離工程によってポジレジストを剥離
し、所望の端子引出部のパターンを形成することができ
る。ここで注目すべきは、一連の工程の中で、透明導電
膜3のエッチングのとき、エッチング液が透明導電膜3
とクロム膜4の界面に入り込み、その結果、図7のよう
にパターンエッジ部12がめくれることである。これに
よって、透明導電膜3とクロム膜4との密着力が低下
し、端子引出部全体の密着力の低下をもたらす。
FIG. 7 is a sectional view of a conventional terminal lead portion. The layers such as the transparent conductive film 3, the chrome film 4, and the aluminum film 5 are all laminated in the same area and the same shape, and are in a uniform state. When manufacturing such a terminal lead portion, three layers of the transparent conductive film 3, the chromium film 4 and the aluminum film 5 are formed on the substrate 1 by a thin film forming method called sputtering. Next, a positive resist is applied on the formed film, exposed through a mask having a predetermined pattern, developed, and each layer is etched. At this time, first, etching is performed by passing through the etching solution for the uppermost aluminum film 5, and cleaning is performed, and then etching is performed through the etching solution for the chromium film 4 and cleaning is performed. Further, etching is performed by passing through an etching solution for the transparent conductive film 3,
To wash. In this way, when the etching process is completed, the positive resist can be peeled off by the resist peeling process to form a desired pattern of the terminal lead portion. It should be noted here that, in the series of steps, when the transparent conductive film 3 is etched, the etching solution is
And the chrome film 4 and the pattern edge portion 12 is turned over as shown in FIG. As a result, the adhesion between the transparent conductive film 3 and the chrome film 4 is reduced, and the adhesion of the entire terminal lead-out portion is reduced.

【0005】本発明の目的は、透明導電層と、それに積
層される金属導電層との接合部の密着力を強化すること
ができる端子引出構造を提供することである。
An object of the present invention is to provide a terminal lead-out structure capable of strengthening the adhesion of a transparent conductive layer and a metal conductive layer laminated on the transparent conductive layer.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、透明導電層上
に少なくとも1つの金属導電層を積層して、ワイヤボン
ディング用パターンが形成されて成る表示素子の端子引
出構造において、前記金属導電層の周縁が透明導電層の
周縁よりも内側であることを特徴とする表示素子の端子
引出構造である。
According to the present invention, there is provided a terminal lead-out structure for a display element, comprising a transparent conductive layer and at least one metal conductive layer laminated on the transparent conductive layer to form a wire bonding pattern. The terminal lead-out structure of the display element is characterized in that the peripheral edge of is inside the peripheral edge of the transparent conductive layer.

【0007】[0007]

【作用】本発明に従えば、表示素子の端子引出部である
ワイヤボンディング用パターンにおいて、金属導電層の
周縁は、透明導電層の周縁よりも内側となるように形成
される。たとえば、透明導電膜のパターン製造工程と金
属導電層のパターン製造工程とを別にして、各層を形成
する。このような製法が可能であるので、透明導電層と
金属導電層の界面に透明導電層のエッチング液が染み込
まないため、ワイヤボンディン用パターンエッジ部のめ
くれを防止することができる。したがって、透明導電層
とそれに積層されている金属導電層との接合部の密着強
度の強化を図ることができる。
According to the present invention, in the wire bonding pattern which is the terminal lead-out portion of the display element, the peripheral edge of the metal conductive layer is formed inside the peripheral edge of the transparent conductive layer. For example, each layer is formed separately from the pattern manufacturing process of the transparent conductive film and the pattern manufacturing process of the metal conductive layer. Since such a manufacturing method is possible, since the etching solution for the transparent conductive layer does not soak into the interface between the transparent conductive layer and the metal conductive layer, it is possible to prevent the edge portion of the wire bondin pattern from being turned up. Therefore, it is possible to enhance the adhesion strength of the bonding portion between the transparent conductive layer and the metal conductive layer laminated thereon.

【0008】[0008]

【実施例】図1は、本発明の一実施例における液晶表示
素子の端子引出部の斜視図である。基板21上に液晶表
示素子22から引出された透明導電膜23が形成され、
その上にクロム膜24が形成され、さらにその上にアル
ミ膜25が形成されている。液晶表示素子22は、この
端子引出部と透明導電膜23を介して、電気的に接続さ
れている。液晶表示素子22は、コンパクト化および高
信頼性を図る目的で、液晶表示素子22を駆動するため
のICをこの基板21の一方に搭載している。液晶表示
素子22の端子引出部とICの端子部とは、ワイヤボン
ディングによって電気的に接続されている。このワイヤ
ボンディングによって接続を行う場合、液晶表示素子2
2の端子引出部の表面は、ボンディングワイヤとの密着
強度の強い材料が必要であるため、アルミ膜25が形成
されている。また透明導電膜23とアルミ膜25との間
の密着強度が不充分なため、クロム膜24などの中間層
を介在させ、密着強度の強化を図っている。また、クロ
ム膜24のパターンエッジは透明導電膜用のパターンエ
ッジより内側に形成されており、製造工程におけるエッ
チング液の染み込みによるパターンエッジ部のめくれを
防止している。
1 is a perspective view of a terminal lead-out portion of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. A transparent conductive film 23 drawn from the liquid crystal display element 22 is formed on the substrate 21,
A chrome film 24 is formed thereon, and an aluminum film 25 is further formed thereon. The liquid crystal display element 22 is electrically connected to this terminal lead portion through the transparent conductive film 23. The liquid crystal display element 22 has an IC for driving the liquid crystal display element 22 mounted on one side of the substrate 21 for the purpose of achieving compactness and high reliability. The terminal lead portion of the liquid crystal display element 22 and the terminal portion of the IC are electrically connected by wire bonding. When connecting by this wire bonding, the liquid crystal display element 2
An aluminum film 25 is formed on the surface of the terminal lead-out portion 2 because a material having high adhesion strength with the bonding wire is required. Further, since the adhesion strength between the transparent conductive film 23 and the aluminum film 25 is insufficient, an intermediate layer such as the chromium film 24 is interposed to enhance the adhesion strength. Further, the pattern edge of the chrome film 24 is formed inside the pattern edge for the transparent conductive film to prevent the pattern edge portion from being turned up due to the penetration of the etching solution in the manufacturing process.

【0009】図2は、図1図示の実施例における液晶表
示素子の端子引出部の製造工程を示す。図2(a)図示
の工程は、基板21上に、ITOによる透明導電膜(2
000A)23、クロム膜(500A)24およびアル
ミ膜(10000A)25を順次、スパッタと称する薄
膜作成方法によって成膜する。なお、「A」はオングス
トロームを表すものとする。次に図2(b)図示の工程
で、成膜したアルミ膜25上に、ポジレジスト26を塗
布し、所定のパターンのマスク27を介して露光し、図
2(c)図示の工程において現像を行う。次に図2
(d)図示の工程において、現像された所定のパターン
に基づいて、エッチングを行う。まず最上層のアルミ膜
25に、リン酸を含む混酸溶液などのアルミ用エッチン
グ液を通し、エッチングを行い洗浄する。その後、クロ
ム膜24に、硝酸第2セリウムアンモニウム溶液などの
クロム用エッチング液を通しエッチングを行い洗浄す
る。次に図2(e)図示の工程では、レジスト剥離を行
い、ポジレジスト26を剥離し、アルミ膜25およびク
ロム膜24を所望のパターンに形成することができる。
図2(f)〜(i)図示の工程は、透明導電膜23のパ
ターンエッジを、前の工程で形成されたアルミ膜25お
よびクロム膜24のパターンエッジよりも5〜10μm
外側に形成するための工程である。図2(f)図示の工
程において、図2(e)図示の工程で形成されたパター
ンに、再度ポジレジスト30を塗布し、透明導電膜23
のパターンを形成するためのマスク31を介して、露光
し、図2(g)図示の工程で現像を行う。図2(h)図
示の工程において、塩酸系混酸などのITO透明導電膜
用のエッチング液を通してエッチングを行い、洗浄を行
う。ここで注目すべきは、透明導電膜用のエッチング液
を通すときに、クロム膜24は、ポジレジスト30によ
って保護されているため、エッチング液が透明導電膜2
3とクロム膜24との界面に染み込むことはない。した
がって、クロム膜24のパターンエッジ部のめくれを防
止することができる。図2(i)図示のレジスト剥離の
工程では、ポジレジスト30の剥離が行われ、所望のパ
ターンを形成することができる。したがって、アルミや
クロムといった金属導電膜のパターンエッジが透明導電
膜23のパターンエッジより内側にある引出端子部を形
成することができる。またこの後、透明導電膜の低抵抗
化のために、300℃で焼成することもできる。
FIG. 2 shows a manufacturing process of a terminal lead portion of the liquid crystal display element in the embodiment shown in FIG. 2A, a transparent conductive film (2) made of ITO is formed on the substrate 21.
000A) 23, a chromium film (500A) 24, and an aluminum film (10000A) 25 are sequentially formed by a thin film forming method called sputtering. In addition, "A" shall represent angstrom. Next, in the step shown in FIG. 2B, a positive resist 26 is applied on the formed aluminum film 25, exposed through a mask 27 having a predetermined pattern, and developed in the step shown in FIG. I do. Next in FIG.
(D) In the illustrated step, etching is performed based on the developed predetermined pattern. First, an aluminum etching solution such as a mixed acid solution containing phosphoric acid is passed through the uppermost aluminum film 25 to perform etching and cleaning. After that, the chromium film 24 is cleaned by passing an etching liquid for chromium such as a ceric ammonium nitrate solution or the like through the etching. Next, in a step shown in FIG. 2E, the resist is peeled off, the positive resist 26 is peeled off, and the aluminum film 25 and the chromium film 24 can be formed into a desired pattern.
In the steps shown in FIGS. 2F to 2I, the pattern edge of the transparent conductive film 23 is 5 to 10 μm larger than the pattern edges of the aluminum film 25 and the chromium film 24 formed in the previous step.
This is a process for forming on the outside. In the step shown in FIG. 2F, the positive resist 30 is applied again to the pattern formed in the step shown in FIG.
2 is exposed through a mask 31 for forming the pattern and developed in the step shown in FIG. In the step shown in FIG. 2H, etching is performed by passing through an etching solution for the ITO transparent conductive film, such as hydrochloric acid-based mixed acid, and cleaning is performed. It should be noted here that when the etching solution for the transparent conductive film is passed, the chromium film 24 is protected by the positive resist 30, so that the etching solution is used as the transparent conductive film 2.
3 and the chrome film 24 do not soak into the interface. Therefore, it is possible to prevent the pattern edge portion of the chrome film 24 from being turned up. In the resist stripping step shown in FIG. 2I, the positive resist 30 is stripped, and a desired pattern can be formed. Therefore, it is possible to form the lead terminal portion in which the pattern edge of the metal conductive film such as aluminum or chrome is inside the pattern edge of the transparent conductive film 23. Further, thereafter, in order to reduce the resistance of the transparent conductive film, it may be fired at 300 ° C.

【0010】図3は、本発明の他の実施例における液晶
表示素子の端子引出部の製造工程を示す。本実施例は図
2の実施例に類似し、対応する部分には同一の参照符を
付す。図3(a)図示の工程は、基板21上に、透明導
電膜(2000A)23、クロム膜(500A)24お
よびアルミ膜(10000A)25を順次スパッタと称
する薄膜作成方法で成膜する。次に図3(b)図示の工
程では、成膜したアルミ膜25上に、ポジレジスト26
を塗布し、所定のパターンのマスク40を介して露光
し、図3(c)図示の工程において現像を行う。次に図
3(d)図示の工程において、現像された所定のパター
ンに基づいてエッチングを行う。まず最上層のアルミ膜
25に、アルミ用エッチング液を通し、エッチングを行
い洗浄する。その後、クロム膜24に、クロム用エッチ
ング液を通しエッチングを行い洗浄する。さらに透明導
電膜23に、透明導電膜用エッチング液を通しエッチン
グを行い洗浄する。参照符41の部分は、透明導電膜2
3のエッチングのときに、エッチング液が透明導電膜2
3とクロム膜24との界面に入り込み、めくれが生じ、
密着力が低下している部分である。次に図3(e)図示
の工程では、レジストを剥離を行い、ポジレジスト26
を剥離する。このときの形成されたパターンは、完成さ
れた透明導電膜21のパターンに各層が全て揃えられた
状態であり、同一形状になる。次に図3(f)図示の工
程では、パターンが形成された基板21に、再度ポジレ
ジスト42を塗布する。この後、すでにパターンが形成
されている透明導電膜23のパターンエッジよりも少し
内側に、アルミ膜25およびクロム膜24を形成するよ
うにパターンのマスク43を行い、露光し、図3(g)
図示の工程で現像を行う。これは、図3(d)図示の工
程で形成された密着力の低下している部分41を除去す
るためである。次に図3(h)図示の工程において、現
像された所定のパターンに基づいてエッチングを行う。
まず最上層のアルミ膜25に、アルミ用エッチング液を
通し、エッチングを行い洗浄する。その後、クロム膜2
4に、クロム用エッチング液を通し、エッチングを行い
洗浄する。したがって、この工程において図3(d)図
示の工程で形成された密着力の低下している部分41を
除去することができる。図3(i)図示の工程では、レ
ジスト剥離を行い、ポジレジスト42を剥離し、所望の
パターンを形成することができる。したがって、アルミ
およびクロムといった金属導電層のパターンエッジが透
明導電膜のパターンエッジより内側にある端子引出部を
形成することができる。
FIG. 3 shows a manufacturing process of a terminal lead portion of a liquid crystal display element in another embodiment of the present invention. This embodiment is similar to the embodiment of FIG. 2, and the corresponding parts are designated by the same reference numerals. In the step shown in FIG. 3A, a transparent conductive film (2000A) 23, a chromium film (500A) 24, and an aluminum film (10000A) 25 are sequentially formed on the substrate 21 by a thin film forming method called sputtering. Next, in the step shown in FIG. 3B, the positive resist 26 is formed on the formed aluminum film 25.
Is applied, exposed through a mask 40 having a predetermined pattern, and developed in the step shown in FIG. Next, in the step shown in FIG. 3D, etching is performed based on the developed predetermined pattern. First, an aluminum etching solution is passed through the uppermost aluminum film 25 to perform etching and cleaning. After that, the chromium film 24 is etched by passing an etching liquid for chromium and washed. Further, the transparent conductive film 23 is washed by passing an etching liquid for the transparent conductive film through etching. The reference numeral 41 indicates the transparent conductive film 2.
At the time of the etching of 3, the etching liquid is the transparent conductive film 2.
3 enters the interface between the chrome film 24 and the chrome film 24, causing swelling,
This is the part where the adhesion is reduced. Next, in a step shown in FIG. 3E, the resist is peeled off to remove the positive resist 26.
Peel off. The formed pattern at this time is a state in which all layers are aligned with the pattern of the completed transparent conductive film 21 and has the same shape. Next, in the step illustrated in FIG. 3F, the positive resist 42 is applied again to the substrate 21 on which the pattern is formed. Thereafter, a pattern mask 43 is formed so as to form the aluminum film 25 and the chrome film 24 slightly inside the pattern edge of the transparent conductive film 23 on which the pattern has already been formed, and then exposed, as shown in FIG.
Development is performed in the illustrated process. This is to remove the portion 41 formed in the step shown in FIG. 3D and having a reduced adhesion. Next, in a step shown in FIG. 3H, etching is performed based on the developed predetermined pattern.
First, an aluminum etching solution is passed through the uppermost aluminum film 25 to perform etching and cleaning. After that, chrome film 2
An etching solution for chromium is passed through 4 to etch and wash. Therefore, in this step, it is possible to remove the portion 41 formed in the step shown in FIG. 3D and having a reduced adhesion. In the step shown in FIG. 3I, the resist can be stripped off to remove the positive resist 42 to form a desired pattern. Therefore, it is possible to form the terminal lead-out portion in which the pattern edge of the metal conductive layer such as aluminum and chromium is inside the pattern edge of the transparent conductive film.

【0011】図4は、以上の各実施例における液晶表示
素子の端子引出部のパターン構成図である。この端子引
出部において実際にICとのワイヤボンディングを行
い、そのときの条件は、九州松下電器株式会社製ワイヤ
ボンディンダHW2200を使用し、接続は32μm金
線を使用して行った。この場合の端子引出部のパターン
の状態は、従来品と比較した結果、従来品より良好な密
着性を示した。すなわち図6図示のような剥離状態は発
生しなかった。
FIG. 4 is a pattern configuration diagram of a terminal lead portion of the liquid crystal display element in each of the above embodiments. Wire bonding with an IC was actually performed in this terminal lead portion, and the conditions at that time were using a wire bonder HW2200 manufactured by Kyushu Matsushita Electric Co., Ltd., and connection was performed using a 32 μm gold wire. The state of the pattern of the terminal lead-out portion in this case showed better adhesion than the conventional product as a result of comparison with the conventional product. That is, the peeled state as shown in FIG. 6 did not occur.

【0012】また、本発明の実施例では、導電層として
アルミを使用し、中間層としてクロムを使用した場合に
ついて説明したけれども、導電層として、金、銀などの
ボンディングワイヤとの密着力のよい材料、また中間層
としてニッケル、チタンなどの材料を使用してもよいの
は勿論である。また製造工程を増やして、中間層と最上
層との形状を異なったものとしてもよい。さらに、導電
層と透明導電層のエッチング工程を分けた製造方法にお
いては、透明導電層のエッチング液がアルミなどの導電
層に接触しないため、透明導電層の膜質の選択自由度は
大きくなる。
In the embodiment of the present invention, the case where aluminum is used as the conductive layer and chromium is used as the intermediate layer has been described. However, the conductive layer has good adhesion to a bonding wire such as gold or silver. As a matter of course, a material such as nickel or titanium may be used as the intermediate layer. Further, the number of manufacturing steps may be increased so that the shape of the intermediate layer and the shape of the uppermost layer may be different. Furthermore, in the manufacturing method in which the etching steps of the conductive layer and the transparent conductive layer are separated, since the etching solution for the transparent conductive layer does not contact the conductive layer such as aluminum, the degree of freedom in selecting the film quality of the transparent conductive layer is increased.

【0013】[0013]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、ワイヤボ
ンディング用パターンが形成される表示素子の端子引出
構造において、金属導電層の周縁が透明導電層の周縁よ
りも内側となるように形成することによって、金属導電
層と透明導電層との接合部の密着力を強化することがで
きる。これによって、ワイヤボンディング時の配線パッ
ドの剥がれを防止することができ、信頼性および製造歩
留りを向上させることができる。また本発明は、製造工
程においてマスク変更の必要性はあるけれども、従来の
工程を組合わせるだけで容易に実施することができる。
As described above, according to the present invention, in the terminal lead-out structure of the display element on which the wire bonding pattern is formed, the metal conductive layer is formed so that the peripheral edge thereof is inside the peripheral edge of the transparent conductive layer. By doing so, it is possible to strengthen the adhesive force at the joint between the metal conductive layer and the transparent conductive layer. As a result, peeling of the wiring pad during wire bonding can be prevented, and reliability and manufacturing yield can be improved. Further, although the present invention requires a mask change in the manufacturing process, it can be easily implemented only by combining conventional processes.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例における液晶表示素子の端子
引出部の斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a terminal lead portion of a liquid crystal display element according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1図示の実施例における液晶表示素子の端子
引出部の製造工程を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a terminal lead-out portion of the liquid crystal display element in the embodiment shown in FIG.

【図3】本発明の他の実施例における液晶表示素子の端
子引出部の製造工程を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a terminal lead portion of a liquid crystal display element according to another embodiment of the present invention.

【図4】図1および図3図示の実施例における液晶表示
素子の端子引出部のパターン構成を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a pattern configuration of a terminal lead-out portion of the liquid crystal display element in the embodiment shown in FIGS. 1 and 3.

【図5】従来の液晶表示素子の端子引出部の斜視図であ
る。
FIG. 5 is a perspective view of a terminal lead portion of a conventional liquid crystal display element.

【図6】従来のワイヤボンディング時の端子引出部にお
ける導電層の剥離例を示す断面図および斜視図である。
6A and 6B are a cross-sectional view and a perspective view showing an example of peeling a conductive layer in a terminal lead-out portion during conventional wire bonding.

【図7】従来の端子引出部の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of a conventional terminal lead portion.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21 基板 22 液晶表示素子 23 透明導電膜 24 クロム膜 25 アルミ膜 21 substrate 22 liquid crystal display element 23 transparent conductive film 24 chrome film 25 aluminum film

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明導電層上に少なくとも1つの金属導
電層を積層して、ワイヤボンディング用パターンが形成
されて成る表示素子の端子引出構造において、 前記金属導電層の周縁が透明導電層の周縁よりも内側で
あることを特徴とする表示素子の端子引出構造。
1. A terminal lead-out structure for a display device, comprising a transparent conductive layer and at least one metal conductive layer laminated on the transparent conductive layer, and a wire bonding pattern is formed on the transparent conductive layer. A terminal lead-out structure for a display element, which is located inside.
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