JPH06104224B2 - バー型洗浄ノズル及び洗浄装置 - Google Patents

バー型洗浄ノズル及び洗浄装置

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JPH06104224B2
JPH06104224B2 JP2297169A JP29716990A JPH06104224B2 JP H06104224 B2 JPH06104224 B2 JP H06104224B2 JP 2297169 A JP2297169 A JP 2297169A JP 29716990 A JP29716990 A JP 29716990A JP H06104224 B2 JPH06104224 B2 JP H06104224B2
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康之 原田
健男 萩原
裕 天野
一彦 柴
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、バー型洗浄ノズル及び洗浄装置に関し、特に
高清浄度が要求される半導体ウェハ、金属製磁気ディス
ク、マスク、液晶表示素子用ガラス基板等の洗浄に適し
たバー型洗浄ノズル及び洗浄装置に係わる。
[従来の技術及び課題] 例えば半導体装置の製造工程においては、エッチングを
終了した半導体ウェハを次の工程へ搬送する前にエッチ
ング時に使用した薬液や付着した微細なゴミなどの汚染
物を洗浄することが行われている。かかる洗浄工程で
は、高周波振動を伴う洗浄ノズルを使用することが有効
であることが知られれている。特に、洗浄液を線状に噴
射させるバー型洗浄ノズルは生産性に優れている。この
バー型洗浄ノズルは、基本的には洗浄液を吐出する細長
状で突起したノズル部を有するノズル本体と、このノズ
ル部から前記本体の一部にかけて形成された洗浄液滞留
室と、この滞留室の本体部分に前記ノズル部の噴射口と
対向するように配設された矩形状の振動板と、前記滞留
室と反対側の前記振動板の表面に接着された音波振動さ
れる矩形状の振動子と、この振動子を駆動するための発
振器と、前記本体に連結され、前記滞留室に洗浄液を導
入するための洗浄液導入管とを具備した構造になってい
る。
しかしながら、上述したバー型洗浄ノズルでは洗浄液を
鉛直下方向に向けて噴射させるため、水平に配置される
振動板の下にエアーが停滞し易くなる。振動板の下にエ
アーが停滞すると、高周波振動が振動板より洗浄液に伝
幡し難くなるばかりか、振動板を振動させる振動子や発
振器を破損させる恐れがある。
このようなことから、従来、振動板自体に孔を開口し、
この孔に上方に延ばしたチューブを差し込んでエアー抜
きすることが行われているる。しかしながら、かかる構
造のバー型洗浄ノズルでは次のような問題があった。
振動板に配管加工を行うためにノズルの小型化の妨
げとなる。
振動板の材質及び厚さは、洗浄性能に多大に影響
し、特に洗浄性能を高める目的でメガオーダの高周波振
動を行うためには該振動板を極薄にする必要があるが、
かかる振動板に前記配管加工を施すことは技術的に困難
であり、洗浄性能を犠牲にしなければならない。
本発明は、上記従来の課題を解決するためになされたも
ので、振動板自体への加工を行うことなく該振動板下へ
のエアーの停滞を防止したバー型洗浄ノズル、並びにか
かるバー型洗浄ノズルを備え、板状の被処理物の表裏面
を良好に洗浄し得る洗浄装置を提供しようとするもので
ある。
[問題点を解決するための手段] 本発明に係わるバー型洗浄ノズルは、洗浄液を吐出する
細長状で突起したノズル部を有するノズル本体と、 前記本体内に配設されたアスピレータと、 前記アルピレータの後端に連結された洗浄液導入管と、 前記ノズル部から前記本体の一部にかけて形成された洗
浄液滞留室と、 前記本体内に形成され、前記導入管から前記アスピレー
タに導入された洗浄液を前記滞留室に導くための第1流
路と、 前記滞留室の本体部分に前記ノズル部の噴射口と対向す
るように配設された矩形状の振動板と、 前記滞留室と反対側の前記振動板の表面に接着された矩
形状の振動子と、 前記振動子を駆動するための発振器と、 前記本体内に形成され、一端側が前記振動板近傍の前記
滞留室部分に連通され、他端側が前記アスピレータの洗
浄液の流速が高められた中空部側面に連通するエアー除
去用の第2流路とを具備したことを特徴とするものであ
る。
前記洗浄液としては、例えば超純水、又はフッ酸水溶
液、塩酸水溶液、硝酸水溶液などの各種の強酸水溶液、
或いは水酸化ナトリウム水溶液などの各種の強アルカリ
水溶液等を挙げることができる。
前記ノズル本体は、例えばポリテトラフルオロエチレン
等のフッ素樹脂、サファイアガラス、石英ガラス、ポリ
エーテルエーテルケトン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ステンレス等から形成される。
前記振動板は、タンタル、モリブデン、チタン、タング
ステンなどの高融点金属、又は白金、金、サファイアガ
ラス、ステンレス等から形成される。かかる振動板の厚
さは、0.01〜1.5mmの範囲とすればよい。
なお、洗浄液としてフッ酸水溶液を用いた場合には、ノ
ズル本体をフッ酸に対して耐食性を有する例えばフッ素
樹脂、サファイアガラス等の材料で形成し、かつ振動板
を前記フッ酸水溶液に対して良好な耐食性を有する白
金、金、サファイアガラスで形成することが好適であ
る。
本発明に係わる洗浄装置は、上下に対向して配置した上
記構成のバー型洗浄ノズルと、板状の被処理物を前記対
向して配置したバー型ノズルの間に搬送させるための搬
送機構とを具備したことを特徴とするものである。かか
る洗浄装置においては、更に上下に対向して配置したバ
ー型ノズルの前段に一対の回転するブラシを配設し、後
段に乾燥手段を配設した構成がとられる。
[作用] 本発明に係わるバー型洗浄ノズルによれば、ノズル本体
に洗浄液導入管が後端に連結されるアスピレータを設
け、前記アスピレータを通して洗浄液を滞留室に導くた
めの第1流路を形成し、かつ前記本体にエアー除去用の
第2流路を形成すると共に、前記第2流路の一端側を振
動板近傍の前記滞留室部分に連通させ、他端側を前記ア
スピレータの洗浄液の流速が高められた中空部側面に連
通させることによって、前記第2流路と前記アスピレー
タの中空部側面との連通部において前記中空部を流通す
る洗浄液の流速によるベンチュリ効果により負圧とな
る。このため、前記振動板からの高周波振動により滞留
室内の洗浄液をノズル部から鉛直方向に噴射させる際、
該振動板下に停滞するエアーを該振動板近傍の滞留室と
連通する前記第2流路側に吸引して前記アスピレータの
中空部を通して前記第1流路側に排出できる。その結
果、振動板の下にエアーが停滞するのを防止できるた
め、常に振動板から高周波振動を洗浄液に伝幡でき、ノ
ズル部より線状の洗浄液流を噴射できると共に、振動板
を振動させる振動子や発振器を破損を防止できる。ま
た、従来のように振動板自体に孔を開口せずに前記エア
ー除去用の第2流路をノズル本体に形成することによっ
て振動板下にエアーが停滞するのを防止できるため、極
薄の振動板を用いることが可能で、メガオーダ(1〜4M
Hz)の孔周波振動を洗浄液に付与でき、洗浄性能の高い
バー型洗浄ノズルを実現できる。
また、本発明に係わるバー型洗浄ノズルにおいては前記
洗浄液としてフッ酸水溶液を用い、かつ前記ノズル本体
を前記フッ酸に対して耐食性を有する例えばフッ素樹
脂、サファイフガラス等の材料で形成し、かつ前記振動
板を前記フッ酸水溶液に対して良好な耐食性を有する白
金、金、サファイアガラスで形成することによって、前
記フッ酸水溶液により前記ノズル本体及び前記振動板が
腐食されることなく、メガオーダ(1〜4MHz)の高周波
振動をフッ酸水溶液からなる洗浄液に付与でき、フッ酸
による一層優れた洗浄性能と高寿命のバー型洗浄ノズル
を実現できる。
更に、本発明に係わる洗浄装置によれば上記構成のバー
型洗浄ノズルを上下に対向して配置し、これらノズルの
間に搬送機構により板状の被処理物を搬送させることに
よって、被処理物の表裏面を極めて良好に洗浄できる。
即ち、1つのバー型洗浄ノズルを用いて被処理物の片面
(通常は上面)に高周波振動により線状の洗浄液流を噴
射させると、被処理物の噴射面は+に帯電し、反対側の
面(下面)は−に帯電する。このため、洗浄中に被処理
物の下面ではコミ等の汚染物が付着する。しかるに、本
発明の洗浄装置ではバー型洗浄ノズルを上下に対向して
配置することによって、洗浄中でのゴミ等の再付着を防
止して被処理物の表裏面を極めて良好に洗浄できる。更
に、上下に対向して配置したバー型ノズルの前段に一対
の回転するブラシを配設し、後段に乾燥手段を配設する
ことによって、被処理物をより一層清浄化できる。
[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明す
る。
実施例1 第1図は、本実施例1のバー型洗浄ノズル1を示す斜視
図、第2図は第1図の洗浄ノズル1のII-II線に沿う断面
図、第3図は第1図の洗浄ノズル1の縦断面図である。
図中の2は、例えばポリテトラフルオロエチレンからな
るノズル本体である。このノズル本体2は、上部ブロッ
ク21、中間ブロック22、下部ブロック23から構成されて
いる。
前記上部ブロック21には、長手方向に沿う側面から穿設
された大円筒状穴3a、3b、小円筒状穴4が形成されてい
る。大円筒状穴3a、3bは、前記側面の両側から穿設さ
れ、小円筒状穴4は同側面の中央から穿設されている。
前記ブロック21の底部は大矩形状凹部5が座ぐり加工さ
れ、かつ該大矩形状凹部5の底には前記小円筒状穴4の
先端と連通する小矩形状凹部6が座ぐり加工されてい
る。前記大円筒状穴3a、3bには、アスピレータ7a、7bが
それぞれ挿着されている。前記アスピレータ7a、7bの後
端には、洗浄液(例えば超純水)を導入するための導入
管8a、8bがジョイント9a、9bを介して連結されている。
前記小円筒状穴4には、ケーブル10を挿着したジョイン
ト11が螺着されている。前記ケーブル10の一端は、前記
ブロック21の小円筒状穴4、小矩形状凹部5及び大矩形
状凹部5を通して後述する振動子に接続されており、か
つ他端は超音波発振器(図示せず)に接続されている。
前記中間ブロック22は、下部周縁に枠12が形成された板
状をなし、かつ中央付近に矩形状の開口部13が形成され
ている。前記中間ブロック22の底面の枠12内には前記下
部ブロック23が嵌合され、中間ブロック22は該下部ブロ
ック23から螺着された複数本のネジ14により前記上部ブ
ロック21の底部に固定されている。なお、前記上部ブロ
ック21と中間ブロック22の間にはパッキン(図示せず)
が介装されている。前記開口部13周辺の前記中間ブロッ
ク22の上面(上部ブロック21側の面)には、例えば厚さ
0.05mmのタンタル薄板からなる矩形状の振動板15がネジ
16を介して固定されている。この振動板15の前記上部ブ
ロック21側の面には、振動子17が接着されており、かつ
該振動子17には前記ケーブル10が接続されている。
前記下部ブロック23の底面には、矩形状のノズル部18が
前記中間ブロック22の矩形状の開口分13と対向する突出
しており、これらノズル部18内及び開口部13により洗浄
液の滞留室19が形成されている。前記下部ブロック23
前記中間ブロック22との固定にあたっては、それらの間
にパッキン20が介在される。このパッキン20の介在によ
り、下部ブロック23と前記中間ブロック22の間に3側部
が該パッキン20で区画され、他の側部が開口して前記滞
留室19と連通する帯状の層流室21が形成される。また、
同パッキン20の介在により、前記滞留室19を挟んで反対
側の下部ブロック23と前記中間ブロック22の間に4側部
が該パッキン20で区画された帯状のエアー除去室22が形
成される。
前記帯状の層流室21は、前記アスピレータ7a、7bの中空
部23a、23b先端と、前記上部ブロック21及び中間ブロッ
ク22を上下貫通した穴24a、2bを通してそれぞれ連通さ
れている。こうした穴24a、24b及び帯状の層流室21によ
り洗浄液の第1流路が形成される。また、前記エアー除
去室22の一端側は前記中間ブロック22の矩形状開口部13
の内周面から該中間ブロック22の下面にかけて貫通した
複数の傾斜穴25を通して前記滞留室19に連通され、かつ
他端側は前記中間ブロック22及び上部ブロック21を貫通
する2つの穴26a、26bを通して前記アスピレータ7a、7b
の中空部23a、23b側面にそれぞれ連通されている。こう
した複数の傾斜穴24、エアー除去室22及び2つの穴26
a、26bによりエアー除去用の第2流路が形成される。
このような構成によれば、2本の導入管8a、8bから洗浄
液(例えば超純水)をアスピレータ7a、7bに導入する
と、超純水はアスピレータ7a、7bの中空部23a、23b、第
1流路である穴24a、24b及び帯状の層流室2を通してノ
ズル部18と中間ブロック22の矩形状開口部13により形成
される滞留室19に導入されて該滞留室19内に満たされ
る。この時、超純水は帯状の層流室21を流通することに
よって滞留室19に乱れのない超純水を満たすことが可能
となる。こうした状態で、図示しない超音波発振器より
ケーブル10を通して矩形状の振動子17に例えば1.8MHzの
高周波を与えると、振動子17が振動し、該振動子17が接
着された矩形状をなすタンタル製振動板15が良好に振動
し、前記と略同様な高周波を発生する。これにより、該
振動板15と接触する滞留室19内の超純水に振動が伝達さ
れ、該振動板15と対向するノズル部18の矩形状噴射樹口
から鉛直下方向に線状の超純水が噴射される。
上述した超純水の噴射に際し、アスピレータ7a、7bの中
空部23a、23bの側面と連通する穴26a、26bは該中空部23
a、23bを流通する超純水の流速によるベンチュリー効果
によって負圧となり、エアー除去用の第2流路である穴
26a、26b、これらと連通するエアー除去室22、複数の傾
斜穴25内の流体は該中空部23a、23b側に吸引される。こ
のため、前記第1流路を通して滞留室19内を超純水で満
たす際、振動板15底面にエアーが停滞した場合、該振動
板15近傍の滞留室19と連通する前記複数の傾斜穴25を通
してエアー除去室22に吸引され、前記穴26a、26bからア
スピレータ7a、7bの中空部23a、23bに排出され、再び第
1流路を通して滞留室19内に流入する。超純水中に含ま
れるエアーは、その大半がノズル部18の噴射口から外部
に押し出されるため、結果的には振動板15下面のエアー
は減少して除去される。
従って、振動板15の下にエアーが停滞するのを防止でき
るため、常に振動板15から高周波振動を超純水に伝幡で
き、ノズル部18より線状の洗浄液流を噴射できると共
に、振動板15を振動させる振動子17や発振器を破損を防
止できる。また、従来のように振動板自体に孔を開口せ
ずに前記エアー除去用の第2流路をノズル本体2に形成
することによって振動板15下にエアーが停滞するのを防
止できるため、極薄の振動板を用いることが可能で、メ
ガオーダの高周波振動を洗浄液に付与でき、洗浄性能の
高いバー型洗浄ノズルを実現できる。
また、前記ノズル本体2をポリテトラフルオロエチレン
で形成すると共に、前記振動板15を例えばサファイアガ
ラス薄板から形成し、前記2本の導入管8a、8bからフッ
酸水溶液よりなる洗浄液を導入して上述した作用により
洗浄液の噴射を行なうことによって、前記フッ酸水溶液
により前記ノズル本体2及び前記振動板15自体が腐食さ
れることなく、シリコンウェハ等を洗浄能力の高いフッ
酸水溶液により短時間で極めて良好に洗浄することが可
能となる。
実施例2 第4図は、本実施例2の洗浄装置を示す平面図、第5図
は第4図の側面図である。図中の31は、ローダ機構であ
る。このローダ機構31の後段には、該ローダ機構31にセ
ットされたカセット32内のウェハ33は搬送機構34に受け
渡すための第1の移載機351が配設されている。前記搬
送機構34は、互いに平行して配置された一対のボールネ
ジ36a、36bと、これらボールネジ36a、36bにより水平方
向に移動され、前記ウェハ33の両面を洗浄できるような
厚さ、形状を持つチャック部37とから構成されている。
前記搬送機構34のボールネジを36a、36bの間にはロール
状ブラシ38a、38bが配設され、更に該ブラシ38a、38bの
の後段には前述した第1図〜第3図に示す構造のカバー
型洗浄ノズル39a、39bが上下に対向して配設されてい
る。なお、上下のバー型洗浄ノズル39a、39bはそれらの
ノズル部を例えば10mmずらして配置してある。前記バー
型洗浄ノズル39a、39bの後段には、超音波洗浄後のウェ
ハ38をスピン乾燥機40に受け渡すための第2の移載機35
2が配設されている。前記スピン乾燥機40の後段には、
乾燥後のウェハ33をアンロード機構41にセットされたカ
セット32に収納するための第3の移載機353が配設され
る。
次に、前述した洗浄装置の動作を説明する。ローダ機構
31にセットされたカセット32内のウェハ33は、第1の移
載機351により搬送機構34のチャックブ37に受け渡され
る。ウェハ33は、搬送機構34によりロール状ブラシ38
a、38bを通過し、更に上下に配置したバー型洗浄ノズル
39a、39bの洗浄領域を通過し、更に第2の移載機352
よりスピン乾燥機40に受け渡される。ここで、乾燥され
たウェハ33は第3の移載機353によりアンロード機構41
にセットされたカセット32内に収納されて一連の洗浄が
完了される。
このような洗浄工程において、ウェハ33はロール状ブラ
シ38a、38bにより比較的大きなゴミ等の汚染物が除去さ
れ、更に上下に配置したバー型洗浄ノズル39a、39bの洗
浄領域を通過させることによって、1つのバー型洗浄ノ
ズルを用いて洗浄する際の洗浄液噴射面と反対側の面が
帯電してゴミの再付着を生じるという問題を招くことな
く、ウェハ33の両面の微細なゴミ等を除去できるためウ
ェハ33両面を高清浄化できる。また、バー型洗浄ノズル
39a、39bをそのノズル部をずらして上下に配置すること
によって、一方のバー型洗浄ノズルの高周波振動動作が
他方のバー型洗浄ノズルの振動干渉により乱されるのを
防止できる。
なお、上記実施例では第1流路の構成部材であるアスピ
レータを2つ設けた構造としたが、これに限定されな
い。例えば、アスピレータを1つ設けた構造にしてもよ
いし、ノズル本体を大型化する場合には3つ以上設けて
もよい。
上記実施例2では、上下のバー型洗浄ノズルをそれらの
ノズル部10mmずらして配置したが、これに限定されな
い。通常、それらのノズル部を3mm以上ずらして配置す
ることが望ましい。
上記実施例2では、ウェハ段階での洗浄に適用した例を
説明したが、ウェハ表面に素子を形成する工程でも同様
に適用できる。この場合、溝型キャパシタや溝型フィー
ルド領域を形成するための溝部を設けたウェハに適用し
た場合、該微細な溝部に洗浄液を充分に導入できるた
め、良好な洗浄、エッチングが可能となる。また、ウェ
ハに限らず、III-V族化合物半導体ウェハ、Alなどの金
属製磁気ディスク、マスク、液晶表示用ガラス基板の洗
浄にも同様に適用できるものである。
更に、前述したバー型ノズルにおいて洗浄液としてフッ
酸水溶液を用い、かつノズル本体をフッ素樹脂等のフッ
酸に対して耐食性を有する材料で形成すると共に、振動
板をサファイアガラス(その他に白金、金で形成するこ
とも可能)で形成する形態について説明したが、かかる
形態は先端が砲弾形状の円筒をなすノズル本体を備えた
通常の円筒型洗浄ノズルにも適用することも可能であ
る。
[発明の効果] 以上詳述した如く、本発明によれば従来のように振動板
自体に孔を開口せずにエアー除去用の第2流路をノズル
本体に形成することによって振動板の下にエアーが停滞
するのを防止でき、常に振動板から高周波振動を洗浄液
に伝幡でき、ノズル部より線状の洗浄液流を噴射できる
と共に、振動板を振動させる振動子や発振器を破損を防
止でき、更に極薄の振動板を用いることが可能で、メガ
オーダ(1〜4MHz)の高周波振動を洗浄液に付与して高
い洗浄性能を有するバー型洗浄ノズルを提供できる。ま
た、洗浄中でのゴミ等の再付着を防止して被処理物の表
裏面を極めて良好に洗浄できる洗浄装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1のバー型洗浄ノズルを示す斜
視図、第2図は第1図の洗浄ノズルのII-II線に沿う断
面図、第3図は第1図の洗浄ノズルの縦断面図、第4図
は本実施例2の洗浄装置を示す平面図、第5図は第4図
の側面図である。1 、39a、39b……バー型洗浄ノズル、2……ノズル本
体、21〜23……ブロック、7a、7b……アスピレータ、8
a、8b……導入管、10……ケーブル、13……矩形状の開
口部、15……振動板、17……振動子、18……矩形状のノ
ズル部、19……滞留室、20……パッキン、21……層流
室、22……エアー除去室、24a、24b、26a、26b……穴、
25……傾斜穴、31……ロード機構、33……ウェハ、34…
…搬送機構、38a、38b……ロール状ブラシ、40……スピ
ン乾燥機、41……アンロード機構。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柴 一彦 静岡県焼津市大島1143番地 株式会社プレ テック静岡製作所内 (56)参考文献 特開 昭63−305517(JP,A) 特開 昭57−174611(JP,A) 特開 昭63−7889(JP,A) 特開 昭62−281431(JP,A) 特開 昭63−224332(JP,A) 特開 平2−240926(JP,A) 特開 平2−257632(JP,A) 特開 昭57−174612(JP,A) 実開 昭63−90488(JP,U) 実開 平3−9901(JP,U)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】洗浄液を吐出する細長状で突起したノズル
    部を有するノズル本体と、 前記本体内に配設されたアスピレータと、 前記アルピレータの後端に連結された洗浄液導入管と、 前記ノズル部から前記本体の一部にかけて形成された洗
    浄液滞留室と、 前記本体内に形成され、前記導入管から前記アスピレー
    タに導入された洗浄液を前記滞留室に導くための第1流
    路と、 前記滞留室の本体部分に前記ノズル部の噴射口と対向す
    るように配設された矩形状の振動板と、 前記滞留室と反対側の前記振動板の表面に接着された矩
    形状の振動子と、 前記振動子を駆動するための発振器と、 前記本体内に形成され、一端側が前記振動板近傍の前記
    滞留室部分に連通され、他端側が前記アスピレータの洗
    浄液の流速が高められた中空部側面に連通するエアー除
    去用の第2流路と を具備したことを特徴とするバー型洗浄ノズル。
  2. 【請求項2】前記洗浄液がフッ酸水溶液で、前記ノズル
    本体がフッ酸に対して耐食性を有する材料から形成され
    ると共に前記振動板が白金、金、サフアイガラスから形
    成されることを特徴とする請求項1記載のバー型洗浄ノ
    ズル。
  3. 【請求項3】上下に対向して配置した請求項1又は2記
    載のバー型洗浄ノズルと、板状の被処理物を前記対向し
    て配置したバー型ノズルの間に搬送させるための搬送機
    構とを具備したことを特徴とする洗浄装置。
  4. 【請求項4】対向して配置したバー型ノズルの前段に一
    対の回転するブラシを配置し、後段に乾燥手段を配置し
    たことを特徴とする請求項3記載の洗浄装置。
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JP5060860B2 (ja) * 2007-07-26 2012-10-31 パナソニック株式会社 外装建具材洗浄装置
WO2009085250A2 (en) * 2007-12-20 2009-07-09 Lam Research Corporation Methods of configuring a proximity head that provides uniform fluid flow relative to a wafer

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57174611A (en) * 1981-04-20 1982-10-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electronic atomizing device
JPS62281431A (ja) * 1986-05-30 1987-12-07 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 超音波洗浄方法および装置
JPS637889A (ja) * 1986-06-26 1988-01-13 株式会社 三社電機製作所 超音波洗浄機
JPS63224332A (ja) * 1987-03-13 1988-09-19 Nec Corp 半導体ウエハの両面洗浄装置
JP2643150B2 (ja) * 1987-06-05 1997-08-20 株式会社 プレテック バー型洗浄ノズル

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